JPH06267117A - 光ディスク用原盤の製造方法 - Google Patents
光ディスク用原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPH06267117A JPH06267117A JP4921193A JP4921193A JPH06267117A JP H06267117 A JPH06267117 A JP H06267117A JP 4921193 A JP4921193 A JP 4921193A JP 4921193 A JP4921193 A JP 4921193A JP H06267117 A JPH06267117 A JP H06267117A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- plating
- stamper
- master
- optical disk
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ディスク用原盤となるスタンパーの信号の
形状を、後からの再修正で信号の形状を微妙に制御する
ことにより、常に一定の信号形状をした光ディスク用原
盤を作製する。 【構成】 光ディスク用原盤の作製工程において、スタ
ンパー完成後に電解メッキあるいは無電解メッキ等のメ
ッキ法によりスタンパー表面に補正用のメッキ皮膜２０
を設け、この補正用メッキ皮膜２０の厚みで信号形状を
制御するものである。 【効果】 常に一定の信号形状を有した光ディスク用原
盤を作製することが出来るため、信頼性の非常に高い光
ディスク用原盤を作製出来、従って光ディスクの品質を
著しく向上することが出来た。
形状を、後からの再修正で信号の形状を微妙に制御する
ことにより、常に一定の信号形状をした光ディスク用原
盤を作製する。 【構成】 光ディスク用原盤の作製工程において、スタ
ンパー完成後に電解メッキあるいは無電解メッキ等のメ
ッキ法によりスタンパー表面に補正用のメッキ皮膜２０
を設け、この補正用メッキ皮膜２０の厚みで信号形状を
制御するものである。 【効果】 常に一定の信号形状を有した光ディスク用原
盤を作製することが出来るため、信頼性の非常に高い光
ディスク用原盤を作製出来、従って光ディスクの品質を
著しく向上することが出来た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオディスク、ディ
ジタルオーディオディスク、静止画、文書ファイルなど
の光ディスクを作製するための光ディスク用原盤の製造
方法に関するものである。
ジタルオーディオディスク、静止画、文書ファイルなど
の光ディスクを作製するための光ディスク用原盤の製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に光ディスクは、その情報密度が極
めて大きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きくノイズが少ないこ
と等から情報媒体として有望視され、ビデオディスクと
して商品化され、ディジタル信号記録および再生する光
ディスクとしても近年研究開発が行なわれている。
めて大きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きくノイズが少ないこ
と等から情報媒体として有望視され、ビデオディスクと
して商品化され、ディジタル信号記録および再生する光
ディスクとしても近年研究開発が行なわれている。
【０００３】以下、図面を参照しながら上述した従来の
光ディスク用原盤およびその製造方法について説明す
る。図５に従来の一般的な光ディスクの概要を示す。こ
れはディジタル信号が樹脂基板にピットあるいは溝状に
記録され、半導体レーザにより再生されるものである。
図５において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹脂
基板２に刻まれたディジタル信号部、４はその表面に形
成された反射膜、５は反射膜４にコーティングされた保
護膜、６は再生用のレーザ光である。樹脂基板２は一般
的に射出成形や射出・圧縮成形などの成形法で量産され
る。光ディスク原盤は樹脂基板２を成形法で製造するた
めに必要なものであり成形金型に取り付けられる。
光ディスク用原盤およびその製造方法について説明す
る。図５に従来の一般的な光ディスクの概要を示す。こ
れはディジタル信号が樹脂基板にピットあるいは溝状に
記録され、半導体レーザにより再生されるものである。
図５において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹脂
基板２に刻まれたディジタル信号部、４はその表面に形
成された反射膜、５は反射膜４にコーティングされた保
護膜、６は再生用のレーザ光である。樹脂基板２は一般
的に射出成形や射出・圧縮成形などの成形法で量産され
る。光ディスク原盤は樹脂基板２を成形法で製造するた
めに必要なものであり成形金型に取り付けられる。
【０００４】図６（ａ）〜（ｆ）に従来の光ディスク用
原盤およびその製造方法を示す。図６において、７はガ
ラス基板、８はレジスト膜、９は記録用レーザ光、１０
は記録された信号部、１１は導電薄膜、１２は電鋳メッ
キ膜、１３は光ディスク用原盤となるスタンパーであ
る。光ディスク用原盤となるスタンパー１３を作製する
には、図６に示すようにまず工程（ａ）で基台となるガ
ラス基板７の洗浄を行い、その上にスピン法によりレジ
スト膜８を形成し、工程（ｂ）で記録用のレーザ光９で
信号を露光記録し、工程（ｃ）で現像を行うことにより
信号部１０を形成する。次に工程（ｄ）でスパッタ法等
によりニッケルの導電薄膜１１を５０〜１００ｎｍの厚
みで形成し、工程（ｅ）でその上から電鋳メッキにより
ニッケルメッキ皮膜１２を０．２〜０．４ｍｍの厚みで
形成し、工程（ｆ）でこれをガラス基板から剥離し洗浄
等でレジスト膜を取り除くことｆにより、スタンパーと
呼ばれる光ディスク用原盤１３が出来る。
原盤およびその製造方法を示す。図６において、７はガ
ラス基板、８はレジスト膜、９は記録用レーザ光、１０
は記録された信号部、１１は導電薄膜、１２は電鋳メッ
キ膜、１３は光ディスク用原盤となるスタンパーであ
る。光ディスク用原盤となるスタンパー１３を作製する
には、図６に示すようにまず工程（ａ）で基台となるガ
ラス基板７の洗浄を行い、その上にスピン法によりレジ
スト膜８を形成し、工程（ｂ）で記録用のレーザ光９で
信号を露光記録し、工程（ｃ）で現像を行うことにより
信号部１０を形成する。次に工程（ｄ）でスパッタ法等
によりニッケルの導電薄膜１１を５０〜１００ｎｍの厚
みで形成し、工程（ｅ）でその上から電鋳メッキにより
ニッケルメッキ皮膜１２を０．２〜０．４ｍｍの厚みで
形成し、工程（ｆ）でこれをガラス基板から剥離し洗浄
等でレジスト膜を取り除くことｆにより、スタンパーと
呼ばれる光ディスク用原盤１３が出来る。
【０００５】この光ディスク用原盤１３を図７に示すよ
うに再生用レーザ光で信号を再生すると、図８に示すよ
うな信号再生波形が得られる。図８の信号再生波形にお
いて、上限が信号の無い箇所での再生レーザ光の反射光
量を示す無信号レベル１５、下限が信号上での反射光量
を示す信号上のレベル１６、波形の交差位置が信号波形
の対称性を示すシンメトリー１７と呼ばれるものであ
る。ここで、図８に示した信号波形の対称性を示すシン
メトリー１７は、図９に示すように実際に記録された信
号部１８と無信号部１９の長さの比を表すものである。
すなわち図８において再生波形の上限１５は、再生レー
ザ光が信号のない位置１９にきたときの再生波形であ
り、数値としては−５０％で表される。また、再生波形
の下限１６は、再生レーザ光が信号上の位置１８にきた
ときの再生波形であり、数値としては＋５０％で表され
る。従って、シンメトリー１７は波形の中心を０％とし
−５０％から＋５０％の間の比例配分した数値で表示さ
れる。このシンメトリー１７は、信号部と無信号部の長
さの比を表すため、通常０％から＋５％程度の時が最も
良く、従って光ディスク用原盤は、このシンメトリーが
０％から＋５％の内に入るように作られている。
うに再生用レーザ光で信号を再生すると、図８に示すよ
うな信号再生波形が得られる。図８の信号再生波形にお
いて、上限が信号の無い箇所での再生レーザ光の反射光
量を示す無信号レベル１５、下限が信号上での反射光量
を示す信号上のレベル１６、波形の交差位置が信号波形
の対称性を示すシンメトリー１７と呼ばれるものであ
る。ここで、図８に示した信号波形の対称性を示すシン
メトリー１７は、図９に示すように実際に記録された信
号部１８と無信号部１９の長さの比を表すものである。
すなわち図８において再生波形の上限１５は、再生レー
ザ光が信号のない位置１９にきたときの再生波形であ
り、数値としては−５０％で表される。また、再生波形
の下限１６は、再生レーザ光が信号上の位置１８にきた
ときの再生波形であり、数値としては＋５０％で表され
る。従って、シンメトリー１７は波形の中心を０％とし
−５０％から＋５０％の間の比例配分した数値で表示さ
れる。このシンメトリー１７は、信号部と無信号部の長
さの比を表すため、通常０％から＋５％程度の時が最も
良く、従って光ディスク用原盤は、このシンメトリーが
０％から＋５％の内に入るように作られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、光ディスク用原盤の作製工程において、
温度や湿度等の環境の変化ならびに材料の感度や記録レ
ーザパワーの変化により、出来上がる信号（凹凸）の形
が微妙に違ってくる。すなわち、スタンパー毎に信号再
生時のシンメトリーの値が変動し、同じ信号のものが得
られず、シンメトリーの値を０％から＋５％の内に入れ
た光ディスク用原盤を作製することは、非常に難しい。
このシンメトリーの値が小さ過ぎたり大き過ぎたりする
と、ディスクでの再生時に信号の読み取りエラーを起こ
す。また、この信号の形はスタンパーが完成するまで分
からず、光ディスク用原盤を作製する上で最も注意しな
ければならないことである。
うな構成では、光ディスク用原盤の作製工程において、
温度や湿度等の環境の変化ならびに材料の感度や記録レ
ーザパワーの変化により、出来上がる信号（凹凸）の形
が微妙に違ってくる。すなわち、スタンパー毎に信号再
生時のシンメトリーの値が変動し、同じ信号のものが得
られず、シンメトリーの値を０％から＋５％の内に入れ
た光ディスク用原盤を作製することは、非常に難しい。
このシンメトリーの値が小さ過ぎたり大き過ぎたりする
と、ディスクでの再生時に信号の読み取りエラーを起こ
す。また、この信号の形はスタンパーが完成するまで分
からず、光ディスク用原盤を作製する上で最も注意しな
ければならないことである。
【０００７】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、光デ
ィスク用原盤の信号の形をスタンパー完成後に再メッキ
することにより、簡単に常に一定の信号を得ることがで
き再現性も高く、非常に信頼性の高い光ディスク用原盤
を作製することが出来る製造方法を提供するものであ
る。
ィスク用原盤の信号の形をスタンパー完成後に再メッキ
することにより、簡単に常に一定の信号を得ることがで
き再現性も高く、非常に信頼性の高い光ディスク用原盤
を作製することが出来る製造方法を提供するものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の光ディスク用原盤の製造方法は、スタンパー
完成後に、スタンパー表面に最適な量だけメッキ法にて
ニッケルやクロム等の金属皮膜を設けることにより、ス
タンパー表面の信号形状を微妙に制御するものである。
に本発明の光ディスク用原盤の製造方法は、スタンパー
完成後に、スタンパー表面に最適な量だけメッキ法にて
ニッケルやクロム等の金属皮膜を設けることにより、ス
タンパー表面の信号形状を微妙に制御するものである。
【０００９】
【作用】本発明は上記した構成により、スタンパー表面
の信号形状を微妙に制御できるため、常に安定な形状を
した信号を有した光ディスク用原盤を供給でき、従って
光ディスクの品質を著しく向上することが出来る。
の信号形状を微妙に制御できるため、常に安定な形状を
した信号を有した光ディスク用原盤を供給でき、従って
光ディスクの品質を著しく向上することが出来る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の光ディスク用原盤の製造方法
の一実施例について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。図１（ａ）〜（ｇ）は本発明の第１の実施例におけ
る光ディスク用原盤の製造方法を示したものであり、図
２は本発明の第１の実施例における光ディスク用原盤の
表面断面図である。図３は本発明の第１の実施例におけ
るメッキ液温４０度で電流密度が１５Ａ／dm2 でスタン
パー表面に電解メッキを施した場合のメッキ時間とメッ
キ皮膜の厚みの関係を示した表であり、図４はメッキ時
間と信号再生波形のシンメトリーの増加量との関係を示
した表である。図１（ａ）はガラス基板７上へのレジス
ト膜８の形成を示し、図１（ｂ）はディジタル信号に対
応したレーザ光９で露光記録する工程を示す。図１
（ｃ）は現像工程にてレーザ光９により形成されたディ
ジタル信号部１０が設けられたガラス原盤を示す。図１
（ｄ）は上記ガラス原盤上にメッキ処理を施すための導
電膜であるニッケルの金属薄膜１１をスパッタ法にて形
成する工程を示す。図１（ｅ）は上記金属薄膜１１上に
電鋳メッキ法にてニッケルメッキ膜１２を形成する工程
であり、この状態で上記ガラス原盤から剥離し洗浄すれ
ば図１（ｆ）に示すようにその表面がニッケルの導電膜
１１とニッケルメッキ膜１２との複合層より構成される
スタンパー１３が得られる。図１（ｇ）は、上記スタン
パー１３の信号面である金属薄膜１１上に、電解メッキ
あるいは無電解メッキにてニッケルあるいはクロム等の
補正用メッキ皮膜２０を必要な最適量だけ設けたもので
ある。
の一実施例について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。図１（ａ）〜（ｇ）は本発明の第１の実施例におけ
る光ディスク用原盤の製造方法を示したものであり、図
２は本発明の第１の実施例における光ディスク用原盤の
表面断面図である。図３は本発明の第１の実施例におけ
るメッキ液温４０度で電流密度が１５Ａ／dm2 でスタン
パー表面に電解メッキを施した場合のメッキ時間とメッ
キ皮膜の厚みの関係を示した表であり、図４はメッキ時
間と信号再生波形のシンメトリーの増加量との関係を示
した表である。図１（ａ）はガラス基板７上へのレジス
ト膜８の形成を示し、図１（ｂ）はディジタル信号に対
応したレーザ光９で露光記録する工程を示す。図１
（ｃ）は現像工程にてレーザ光９により形成されたディ
ジタル信号部１０が設けられたガラス原盤を示す。図１
（ｄ）は上記ガラス原盤上にメッキ処理を施すための導
電膜であるニッケルの金属薄膜１１をスパッタ法にて形
成する工程を示す。図１（ｅ）は上記金属薄膜１１上に
電鋳メッキ法にてニッケルメッキ膜１２を形成する工程
であり、この状態で上記ガラス原盤から剥離し洗浄すれ
ば図１（ｆ）に示すようにその表面がニッケルの導電膜
１１とニッケルメッキ膜１２との複合層より構成される
スタンパー１３が得られる。図１（ｇ）は、上記スタン
パー１３の信号面である金属薄膜１１上に、電解メッキ
あるいは無電解メッキにてニッケルあるいはクロム等の
補正用メッキ皮膜２０を必要な最適量だけ設けたもので
ある。
【００１１】この場合、まずスタンパー１３をレーザ光
を用いた再生装置にて信号を再生し、その時の再生信号
波形の対称性を示すシンメトリーの値を読み取る。ここ
で、読み取ったシンメトリーの値と図４に示す表から、
シンメトリーを０％〜＋５％にするためのスタンパー表
面にメッキを施す最適な時間が分かる。例えば、信号再
生波形のシンメトリーが−８％の場合、図４より１２０
秒メッキすればシンメトリーが＋８％増加し、最終的に
シンメトリーが０％になる。従って、ここで設定した時
間だけスタンパー表面に電解メッキあるいは無電解メッ
キによりメッキ皮膜を設け、信号形状を修正すれば、常
に一定の信号形状になる。メッキ時間に対する信号の形
状の増加の関係を示すと、図３のように表される。この
時、スタンパー信号面上にメッキ皮膜を均一に設けるた
めに、メッキ中にメッキ液を充分撹拌するとともに循環
する必要がある。
を用いた再生装置にて信号を再生し、その時の再生信号
波形の対称性を示すシンメトリーの値を読み取る。ここ
で、読み取ったシンメトリーの値と図４に示す表から、
シンメトリーを０％〜＋５％にするためのスタンパー表
面にメッキを施す最適な時間が分かる。例えば、信号再
生波形のシンメトリーが−８％の場合、図４より１２０
秒メッキすればシンメトリーが＋８％増加し、最終的に
シンメトリーが０％になる。従って、ここで設定した時
間だけスタンパー表面に電解メッキあるいは無電解メッ
キによりメッキ皮膜を設け、信号形状を修正すれば、常
に一定の信号形状になる。メッキ時間に対する信号の形
状の増加の関係を示すと、図３のように表される。この
時、スタンパー信号面上にメッキ皮膜を均一に設けるた
めに、メッキ中にメッキ液を充分撹拌するとともに循環
する必要がある。
【００１２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、スタンパ
ー信号面上にスタンパー完成後に必要な最適時間だけ電
解メッキあるいは無電解メッキにてニッケルやクロム等
のメッキ皮膜を設けることにより、スタンパー表面の信
号形状を微妙に制御することにより、常に安定な形状を
した信号を有した信頼性の非常に高い光ディスク用原盤
を作製でき、従って光ディスクの品質を著しく向上する
ことが出来る。
ー信号面上にスタンパー完成後に必要な最適時間だけ電
解メッキあるいは無電解メッキにてニッケルやクロム等
のメッキ皮膜を設けることにより、スタンパー表面の信
号形状を微妙に制御することにより、常に安定な形状を
した信号を有した信頼性の非常に高い光ディスク用原盤
を作製でき、従って光ディスクの品質を著しく向上する
ことが出来る。
【図１】本発明の一実施例における光ディスク用原盤の
製造方法を示す工程の断面図
製造方法を示す工程の断面図
【図２】本発明の一実施例における製造方法で作製した
光ディスク用原盤の表面断面図
光ディスク用原盤の表面断面図
【図３】本発明の一実施例におけるメッキ時間とメッキ
皮膜の厚みの関係を示す図
皮膜の厚みの関係を示す図
【図４】本発明の一実施例におけるメッキ時間とシンメ
トリーの増加量の関係を示す図
トリーの増加量の関係を示す図
【図５】一般的な光ディスクの断面図
【図６】従来の光ディスク用原盤の製造方法を示す工程
の断面図
の断面図
【図７】光ディスク用原盤の再生を示す断面図
【図８】光ディスク用原盤の信号再生波形
【図９】光ディスク用原盤の信号部と無信号部を示す正
面図
面図
７ ガラス基板 ８ レジスト膜 ９ 記録用レーザ光 １０ 信号部 １１ 導電膜（金属薄膜） １２ 電鋳メッキ膜 １３ 表面が金属薄膜のスタンパー ２０ 補正用メッキ皮膜
Claims (2)
- 【請求項１】 スタンパーの信号表面上に、電解メッキ
あるいは無電解メッキ等のメッキ法にてニッケル皮膜あ
るいはクロム皮膜を設けることにより、信号の形状を微
妙に制御することを特徴とする光ディスク用原盤の製造
方法。 - 【請求項２】 スタンパーの信号面上に設けるメッキ皮
膜の厚みで信号の形状を制御する請求項１記載の光ディ
スク用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4921193A JPH06267117A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 光ディスク用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4921193A JPH06267117A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 光ディスク用原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06267117A true JPH06267117A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=12824651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4921193A Pending JPH06267117A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 光ディスク用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06267117A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100136468A1 (en) * | 2007-03-02 | 2010-06-03 | Josephus Marinus Wijn | Diffraction order measurement |
-
1993
- 1993-03-10 JP JP4921193A patent/JPH06267117A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100136468A1 (en) * | 2007-03-02 | 2010-06-03 | Josephus Marinus Wijn | Diffraction order measurement |
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