JPH06256298A - Phenyldiazoformamide derivative - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain a new derivative consisting of a specific phenyldiazoformamide derivative obtained from a readily available raw material, having antimicrobial activity and antitumor activity and useful as a medicine such as hemostatic agent, anti-inflammatory agent or antitumor agent. CONSTITUTION:A cyclohexanonde derivative expressed by formula I [R<1>' and R<2>' are H or lower alkylthio, with the proviso that at least one of R<1>' and R<2>' is lower alkylthio; R<3a> is H or (protected)hydroxyl group] is made to react with semicarbazide hydrochloride in a solvent such as ethanol in the presence of a base to afford a formamide derivative expressed by formula II and this compound is subjected to oxidation reaction using an oxidizing agent such as iodoxybenzene and the reactional product is as necessary, subjected to protecting group-removing reaction to provide the new phenyldiazofomamide derivative expressed by formula III (R<1> and R<2> are H or lower alkylthio; R<3> is H or OH), having antimicrobial activity and antitumor activity and useful as a medicine such as a hemostatic agent, an anti-inflammatory agent or an antitumor agent.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はフエニルジアゾホルムア
ミド誘導体に関し、より詳細には、止血剤、抗炎症剤、
抗菌剤、抗腫瘍剤などの医薬品として使用することが期
待されるフエニルジアゾホルムアミド誘導体、その製造
法および合成中間体に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a phenyldiazoformamide derivative, and more particularly, a hemostatic agent, an anti-inflammatory agent,
The present invention relates to a phenyldiazoformamide derivative which is expected to be used as a medicine such as an antibacterial agent and an antitumor agent, a production method thereof and a synthetic intermediate.

【０００２】[0002]

【従来の技術およびその課題】天然に産する菌類から、
医薬品として有用な新規化合物が見出されることが屡々
ある。例えば、天然キノコであるノウタケ（Calvatia c
ramiformis）からは下記式（Ａ）2. Description of the Related Art From naturally occurring fungi,
Frequently, new compounds useful as pharmaceuticals are found. For example, the natural mushroom Noutake (Calvatia c
ramiformis) from the following formula (A)

【０００３】[0003]

【化５】 [Chemical 5]

【０００４】で示されるカルバチン酸が抽出され、この
化合物が抗菌活性および抗腫瘍活性を有することが報告
されている（特開昭５０−５２２９０号公報）。また、
本発明者らは先に、同じノウタケから下記式（Ｂ）It has been reported that carbamic acid represented by the following formula was extracted and that this compound has antibacterial activity and antitumor activity (Japanese Patent Laid-Open No. 52902/1975). Also,
The present inventors first calculated the following formula (B) from the same mushroom.

【０００５】[0005]

【化６】 [Chemical 6]

【０００６】で示される化合物および下記式（Ｃ）A compound represented by the following formula (C)

【０００７】[0007]

【化７】 [Chemical 7]

【０００８】で示される化合物を抽出し、これらの化合
物が抗腫瘍活性を有していることを見出し、特許出願し
た（特願平４−８２９９８号）。The compounds represented by the formula (1) were extracted, and it was found that these compounds have antitumor activity, and a patent application was filed (Japanese Patent Application No. 4-82998).

【０００９】一方、ある化合物を医薬品として開発した
り、またその構造変換を行なつて薬理活性の増強を検討
しようとする場合には、その化合物を大量に入手する必
要がある。しかしながら、上記式（Ａ）ないし（Ｃ）の
化合物については未だ全合成による製造法が完成されて
おらず、これらの化合物を医薬品として開発検討するた
めには、大量のノウタケを集め、煩雑な抽出作業を繰り
返して目的とする化合物を入手しなければならないとい
う問題がある。On the other hand, in order to develop a certain compound as a medicine or to study the enhancement of the pharmacological activity by changing its structure, it is necessary to obtain the compound in a large amount. However, for the compounds of the above formulas (A) to (C), the production method by total synthesis has not been completed yet, and in order to develop and study these compounds as pharmaceuticals, a large amount of agaricus is collected and complicated extraction is performed. There is a problem that the target compound must be obtained by repeating the work.

【００１０】そのため、上記式（Ａ）ないし（Ｃ）の化
合物と同等又はそれ以上の薬理活性を有し、かつ入手し
易い簡単な原料から工業的に製造し得る新規化合物を開
発することが望まれる。Therefore, it is desired to develop a novel compound having a pharmacological activity equivalent to or higher than that of the compounds of the above formulas (A) to (C) and which can be industrially produced from a readily available raw material. Be done.

【００１１】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、今回、前記式
（Ａ）ないし（Ｃ）の化合物に共通する下記式Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the following formulas common to the compounds of the above formulas (A) to (C) are shown.

【００１２】[0012]

【化８】 [Chemical 8]

【００１３】で示されるフエニルジアゾホルムアミド構
造を基本骨格として有する特定の化合物を、比較的簡単
な原料化合物から効率良く合成することに成功し、本発
明を完成するに至つた。A specific compound having a phenyldiazoformamide structure represented by as a basic skeleton has been successfully synthesized from a relatively simple starting material compound, and the present invention has been completed.

【００１４】かくして、本発明は、下記式（Ｉ）Thus, the present invention provides the following formula (I)

【００１５】[0015]

【化９】 [Chemical 9]

【００１６】式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素
原子又は低級アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ¹及び
Ｒ²の少なくとも一方は低級アルキルチオ基であり、Ｒ³
は水素原子又は水酸基を表わす、で示される新規フエニ
ルジアゾホルムアミド誘導体、および該化合物の合成中
間体として有用な下記式（ＩＩ）In the formula, R ¹ and R ² each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that at least one of R ¹ and R ² is a lower alkylthio group, and R ³
Represents a hydrogen atom or a hydroxyl group, and a novel phenyldiazoformamide derivative represented by the following formula (II) useful as a synthetic intermediate for the compound:

【００１７】[0017]

【化１０】 [Chemical 10]

【００１８】式中、Ｒ¹′およびＲ²′はそれぞれ独立に
水素原子又は低級アルキルチオ基を表わし、但し、
Ｒ¹′及びＲ²′の少なくとも一方は低級アルキルチオ基
であり、Ｒ^3aは水素原子又は保護されていてもよい水酸
基を表わす、で示されるホルムアミド誘導体を提供する
ものである。In the formula, R ¹ 'and R ² ' each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that
At least one of R ¹ ′ and R ² ′ is a lower alkylthio group, and R ^3a represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group.

【００１９】さらにまた、本発明は、上記式（ＩＩ）の
化合物を酸化反応に付し、得られる下記式（ＩＩＩ）Furthermore, the present invention provides a compound of the following formula (III) obtained by subjecting a compound of the above formula (II) to an oxidation reaction.

【００２０】[0020]

【化１１】 [Chemical 11]

【００２１】式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素
原子又は低級アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ¹及び
Ｒ²の少なくとも一方は低級アルキルチオ基であり、Ｒ
^3a′は水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表わ
す、で示される化合物を、必要に応じて、脱保護基反応
に付すことを特徴とする前記式（Ｉ）の化合物の製造法
を提供するものである。In the formula, R ¹ and R ² each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that at least one of R ¹ and R ² is a lower alkylthio group, and R
^3a ′ represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group, and a method for producing a compound of the above formula (I), which is characterized by subjecting the compound represented by To do.

【００２２】本発明によれば、式（ＩＩ）の合成中間体
から、効率よく式（Ｉ）の化合物を製造することができ
る。式（Ｉ）の化合物は、前記式（Ａ）ないし（Ｃ）の
化合物と共通するフエニルジアゾホルムアミド骨格を有
しており、これら化合物と同様に止血剤、抗炎症剤、抗
菌剤、抗腫瘍剤等の医薬品として使用することが期待さ
れる。According to the present invention, the compound of formula (I) can be efficiently produced from the synthetic intermediate of formula (II). The compound of the formula (I) has a phenyldiazoformamide skeleton common to the compounds of the above formulas (A) to (C), and similar to these compounds, a hemostatic agent, an anti-inflammatory agent, an antibacterial agent, an antitumor agent. It is expected to be used as a drug such as a drug.

【００２３】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。The present invention will be described in more detail below.

【００２４】本明細書において、「低級アルキルチオ
基」は、アルキル部分の炭素数が１〜６、好ましくは１
〜４で且つ直鎖状または分岐鎖状であるアルキル−Ｓ−
基を意味し、具体的には例えば、メチルチオ、エチルチ
オ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチル
チオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ
−ブチルチオ基などが挙げられる。In the present specification, the "lower alkylthio group" has an alkyl moiety having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 carbon atom.
~ 4 and linear or branched alkyl-S-
Group, specifically, for example, methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio, n-butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert.
-Butylthio group and the like.

【００２５】また「保護されていてもよい水酸基」にお
ける水酸基の保護基としては、例えば、トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル−ジフエニルシリル等のシリル
基、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオ
キシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル
等の置換または未置換のベンジルオキシカルボニル基、
その他通常使用される水酸基の保護基が包含される。Examples of the hydroxyl-protecting group in the "optionally protected hydroxyl group" include silyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, tert-butyl-diphenylsilyl, benzyloxycarbonyl, 4- A substituted or unsubstituted benzyloxycarbonyl group such as nitrobenzyloxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl,
Other commonly used hydroxyl protecting groups are included.

【００２６】本発明により提供される前記式（Ｉ）の化
合物の代表例を示せば次のとおりである。Typical examples of the compound of formula (I) provided by the present invention are as follows.

【００２７】２−メチルチオベンゼンジアゾカルボキサ
ミド、２−プロピルチオベンゼンジアゾカルボキサミ
ド、２−ｔｅｒｔ−ブチルチオベンゼンジアゾカルボキ
サミド、４−ヒドロキシ−２−メチルチオベンゼンジア
ゾカルボキサミド、２−エチルチオ−４−ヒドロキシベ
ンゼンジアゾカルボキサミド、２−ｓｅｃ−ブチルチオ
−４−ヒドロキシベンゼンジアゾカルボキサミド、４−
ヒドロキシ−２−ｉｓｏ−プロピルチオベンゼンジアゾ
カルボキサミド、４−ヒドロキシ−２−ｉｓｏ−プロピ
ルチオベンゼンジアゾカルボキサミド、２,６−ジメチ
ルチオベンゼンジアゾカルボキサミド、２,６−ジエチ
ルチオベンゼンジアゾカルボキサミド、２,６−ジ−ｉ
ｓｏ−ブチルチオベンゼンジアゾカルボキサミド、４−
ヒドロキシ−２,６−ジメチルチオベンゼンジアゾカル
ボキサミド、２,６−ジエチルチオ−４−ヒドロキシベ
ンゼンジアゾカルボキサミド、２−エチルチオ−４−ヒ
ドロキシ−６−メチルチオベンゼンジアゾカルボキサミ
ド、４−ヒドロキシ−２−メチルチオ−６−ｉｓｏ−プ
ロピルチオベンゼンジアゾカルボキサミド、４−ヒドロ
キシ−２,６−ｔｅｒｔ−ブチルチオベンゼンジアゾカ
ルボキサミドなど。2-methylthiobenzenediazocarboxamide, 2-propylthiobenzenediazocarboxamide, 2-tert-butylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy-2-methylthiobenzenediazocarboxamide, 2-ethylthio-4-hydroxybenzenediazocarboxamide, 2-sec-butylthio-4-hydroxybenzenediazocarboxamide, 4-
Hydroxy-2-iso-propylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy-2-iso-propylthiobenzenediazocarboxamide, 2,6-dimethylthiobenzenediazocarboxamide, 2,6-diethylthiobenzenediazocarboxamide, 2,6- Ji
so-Butylthiobenzenediazocarboxamide, 4-
Hydroxy-2,6-dimethylthiobenzenediazocarboxamide, 2,6-diethylthio-4-hydroxybenzenediazocarboxamide, 2-ethylthio-4-hydroxy-6-methylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy-2-methylthio-6- iso-propylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy-2,6-tert-butylthiobenzenediazocarboxamide and the like.

【００２８】また、本発明により提供される前記式（Ｉ
Ｉ）の化合物の代表例を示せば次のとおりである。In addition, the above formula (I
The representative examples of the compounds of I) are as follows.

【００２９】２−メチルチオシクロヘキサノンセミカル
バゾン、２−プロピルチオシクロヘキサノンセミカルバ
ゾン、２−ｔｅｒｔ−ブチルチオシクロヘキサノンセミ
カルバゾン、４−ヒドロキシ−２−メチルチオシクロヘ
キサノンセミカルバゾン、２−エチルチオ−４−ヒドロ
キシシクロヘキサノンセミカルバゾン、２−ｓｅｃ−ブ
チルチオ−４−ヒドロキシシクロヘキサノンセミカルバ
ゾン、４−（ｔｅｒｔ−ブチル−ジフエニルシリル）オ
キシ−２−エチルチオシクロヘキサノンセミカルバゾ
ン、４−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ−２−
ｉｓｏ−プロピルチオシクロヘキサノンセミカルバゾ
ン、２,６−ジメチルチオシクロヘキサノンセミカルバ
ゾン、２,６−ジエチルチオシクロヘキサノンセミカル
バゾン、２,６−ジ−ｉｓｏ−ブチルチオシクロヘキサ
ノンセミカルバゾン、２,６−ジメチルチオ−４−（４
−ニトロベンジルオキシカルボニル）オキシシクロヘキ
サノンセミカルバゾン、４−ヒドロキシ−２,６−ジメ
チルチオシクロヘキサノンセミカルバゾン、２,６−ジ
エチルチオ−４−トリエチルシリルオキシシクロヘキサ
ノンセミカルバゾン、２,６−ジエチルチオ−４−ヒド
ロキシシクロヘキサノンセミカルバゾン、２−エチルチ
オ−４−ヒドロキシ−６−メチルチオシクロヘキサノン
セミカルバゾン、２,６−ジメチルチオ−４−トリメチ
ルシリルオキシシクロヘキサノンセミカルバゾン、４−
ベンジルオキシカルボニルオキシ−２,６−ジエチルチ
オシクロヘキサノンセミカルバゾン、４−（ｔｅｒｔ−
ブチル−ジメチルシリル）オキシ−２,６−ｔｅｒｔ−
ブチルチオシクロヘキサノンセミカルバゾンなど。2-Methylthiocyclohexanone semicarbazone, 2-propylthiocyclohexanone semicarbazone, 2-tert-butylthiocyclohexanone semicarbazone, 4-hydroxy-2-methylthiocyclohexanone semicarbazone, 2-ethylthio-4-hydroxy Cyclohexanone semicarbazone, 2-sec-butylthio-4-hydroxycyclohexanone semicarbazone, 4- (tert-butyl-diphenylsilyl) oxy-2-ethylthiocyclohexanone semicarbazone, 4-nitrobenzyloxycarbonyloxy-2-
Iso-propylthiocyclohexanone semicarbazone, 2,6-dimethylthiocyclohexanone semicarbazone, 2,6-diethylthiocyclohexanone semicarbazone, 2,6-di-iso-butylthiocyclohexanone semicarbazone, 2,6- Dimethylthio-4- (4
-Nitrobenzyloxycarbonyl) oxycyclohexanone semicarbazone, 4-hydroxy-2,6-dimethylthiocyclohexanone semicarbazone, 2,6-diethylthio-4-triethylsilyloxycyclohexanone semicarbazone, 2,6-diethylthio-4 -Hydroxycyclohexanone semicarbazone, 2-ethylthio-4-hydroxy-6-methylthiocyclohexanone semicarbazone, 2,6-dimethylthio-4-trimethylsilyloxycyclohexanone semicarbazone, 4-
Benzyloxycarbonyloxy-2,6-diethylthiocyclohexanone semicarbazone, 4- (tert-
Butyl-dimethylsilyl) oxy-2,6-tert-
Butylthiocyclohexanone semicarbazone etc.

【００３０】前記式（ＩＩ）の化合物には、シクロヘキ
サン環上に存在する置換基Ｒ¹′、Ｒ²′及びＲ^3aの立体
配置により種々の立体異性体が存在するが、本発明はそ
れら異性体のいずれをも包含するもんである。The compound of the formula (II) has various stereoisomers depending on the configurations of the substituents R ¹ ′, R ² ′ and R ^3a existing on the cyclohexane ring. It is a cancer that includes all of the body.

【００３１】本発明の式（Ｉ）および式（ＩＩ）で示さ
れる化合物は、例えば下記反応式に示される方法に従つ
て製造することができる。The compounds of formula (I) and formula (II) of the present invention can be produced, for example, according to the method shown in the following reaction scheme.

【００３２】[0032]

【化１２】 [Chemical 12]

【００３３】上記各式中、Ｒ⁵は水素原子又は水酸基の
保護基を表わし、Ｒ¹、Ｒ¹′、Ｒ²、Ｒ²′、Ｒ³、Ｒ^3a
およびＲ^3a′は前記定義のとおりである。In the above formulas, R ⁵ represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and R ¹ , R ¹ ′, R ² , R ² ′, R ³ and R ^3a
And R ^3a ′ is as defined above.

【００３４】以下、上記反応式の各工程について説明す
る。Each step of the above reaction formula will be described below.

【００３５】工程（ａ）：この工程は、式（ＩＶ）で示
されるケトン体をセミカルバジツドと縮合させて、式
（ＩＩ）で示される化合物を得る工程である。 Step (a) : This step is a step of condensing a ketone body represented by the formula (IV) with a semicarbazide to obtain a compound represented by the formula (II).

【００３６】反応は、式（ＩＶ）で示される化合物とセ
ミカルバジツド塩、たとえば塩酸セミカルバジツドを反
応に関与しない適当な溶媒、たとえば、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類
または水、好ましくはエタノール中で、塩基の存在下に
撹拌することにより行なうことができる。The reaction is carried out by using a compound of the formula (IV) and a semicarbazide salt, for example, semicarbazide hydrochloride in a suitable solvent which does not participate in the reaction, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol or water, preferably ethanol. And can be carried out by stirring in the presence of a base.

【００３７】上記塩基としては弱塩基性塩、例えば酢酸
ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸アルカリ塩、または
クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム等のクエン酸ア
ルカリ塩を用いることができ、特に酢酸アルカリ塩が好
ましい。As the base, a weakly basic salt such as sodium acetate, potassium acetate and other alkali acetate salts, or sodium citrate, potassium citrate and other citric acid alkali salts can be used, and the alkali acetate salts are particularly preferred. .

【００３８】セミカルバジツド塩の使用量は、特に厳密
に制限される必要はないが、一般に、式（ＩＶ）で示さ
れる化合物１モルに対して１〜３モル、好ましくは１〜
１.５モルの範囲内で用いることができる。The amount of the semicarbazide salt used is not particularly limited, but is generally 1 to 3 mol, preferably 1 to 1 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (IV).
It can be used within a range of 1.5 mol.

【００３９】塩基の使用量は、特に厳密に制限される必
要はないが、一般に、式（ＩＶ）で示される化合物１モ
ルに対して１〜３モル、好ましくは１〜１.５モルの範
囲内で用いることができる。The amount of the base used is not particularly limited, but is generally in the range of 1 to 3 mol, preferably 1 to 1.5 mol, per 1 mol of the compound represented by the formula (IV). Can be used in.

【００４０】反応温度は特に厳密に制限されるものでは
なく、使用する原料化合物の種類等に応じて変えること
ができ、例えば、０℃ないし使用する溶媒の沸点程度の
温度を用いることができ、反応は、好ましくは室温程度
で撹拌することにより、数分間から数時間で終らせるこ
とができる。The reaction temperature is not particularly limited and can be changed according to the kind of the starting material compound used, and for example, a temperature of 0 ° C. to the boiling point of the solvent used can be used. The reaction can be completed in a few minutes to a few hours, preferably by stirring at about room temperature.

【００４１】本工程で得られる式（ＩＩ）の化合物が保
護された水酸基を有している場合には、必要に応じて、
当該化合物を脱保護基反応に付すことにより、基Ｒ^3aが
水酸基である式（ＩＩ）の化合物を得ることもできる。When the compound of formula (II) obtained in this step has a protected hydroxyl group, if necessary,
By subjecting the compound to a deprotecting group reaction, it is also possible to obtain a compound of the formula (II) in which the group R ^3a is a hydroxyl group.

【００４２】上記の脱保護基反応は、それ自体既知の水
酸基保護基の離脱反応に準じて行うことができ、例え
ば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどの溶媒中で、塩酸、硫酸、酢酸などの酸の
存在下に、０〜１００℃の範囲内の温度で０.５〜１８
時間程度酸性加水分解することにより実施することがで
きる。The above-mentioned deprotection group reaction can be carried out in accordance with a known reaction for leaving a hydroxyl group-protecting group. For example, in a solvent such as methanol, ethanol, tetrahydrofuran, dioxane, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, etc. 0.5-18 at a temperature in the range of 0-100 ° C in the presence of
It can be carried out by acidic hydrolysis for about an hour.

【００４３】得られる式（ＩＩ）の化合物はそのまま次
の工程の原料として用いることができるが、必要に応じ
て、それ自体既知の精製手段、例えば、濾過、抽出、洗
浄、溶媒留去、乾燥、カラムまたは薄層クロマトグラフ
イー、再結晶、昇華などの方法により単離・精製するこ
とができる。The compound of formula (II) thus obtained can be used as it is as a starting material for the next step, and if necessary, a purification means known per se, for example, filtration, extraction, washing, solvent removal, and drying. , Column or thin layer chromatography, recrystallization, sublimation, etc. can be used for isolation and purification.

【００４４】工程（ｂ）：この工程は、前記工程（ａ）
で得られる式（ＩＩ）で示される化合物を酸化して、式
（ＩＩＩ）の化合物（この化合物は通常式（ＩＩＩ−
１）ないし式（ＩＩＩ−５）で示される化合物の２種ま
たはそれ以上の混合物からなる）を得る工程である。 Step (b) : This step is the same as the above-mentioned step (a).
The compound of formula (II) obtained in the above is oxidized to give a compound of formula (III) (this compound is usually represented by formula (III-
1) to a mixture of two or more compounds represented by formula (III-5)).

【００４５】この酸化反応は、式（ＩＩ）の化合物を、
アセトン、エチルメチルケトンなどのケトン系溶媒；酢
酸エチルエステルなどのエステル系溶媒；アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒；塩化メ
チレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ベ
ンゼン、トルエンなどの芳香性溶媒など、特に好ましく
はベンゼンなどの溶媒中で、例えば、ヨードキシベンゼ
ン、二酸化マンガン、四酢酸鉛、ジクロロジシアノベン
ゾキノン（ＤＤＱ）、フレミー塩など、特に好ましくは
ヨードキシベンゼンなどの酸化剤１〜１０当量、好まし
くは１〜６当量の存在下に数分ないし終夜還流させるこ
とにより行うことができる。この反応は、好ましくは、
窒素雰囲気下及び／またはジフエニルセレニドなどの適
当な触媒の共存下に行うことができる。This oxidation reaction converts the compound of formula (II)
Ketone solvents such as acetone and ethyl methyl ketone; ester solvents such as acetic acid ethyl ester; amide solvents such as acetonitrile and dimethylformamide; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; aromatic solvents such as benzene and toluene. Etc., particularly preferably in a solvent such as benzene, for example, iodooxybenzene, manganese dioxide, lead tetraacetate, dichlorodicyanobenzoquinone (DDQ), Flemmy salt, etc., particularly preferably 1 to 10 equivalents of an oxidizing agent such as iodooxybenzene. It can be carried out by refluxing for several minutes to overnight in the presence of preferably 1 to 6 equivalents. This reaction is preferably
It can be carried out under a nitrogen atmosphere and / or in the presence of a suitable catalyst such as diphenyl selenide.

【００４６】この反応により、式（ＩＩ）の化合物が芳
香化されると同時に、酸化の条件によつては、環上の置
換基Ｒ¹′、Ｒ²′およびＲ^3aの一部が離脱し及び／また
は基Ｒ^3a中に存在しうる保護基が除去されることがあ
り、その結果、前記反応式に示す式（ＩＩＩ−１）ない
し式（ＩＩＩ−５）で示される化合物のいずれかが通常
これらの２種またはそれ以上の混合物の形で生成する。By this reaction, the compound of formula (II) is aromatized, and at the same time, depending on the conditions of oxidation, some of the substituents R ¹ ′, R ² ′ and R ^3a on the ring are eliminated. And / or a protecting group which may be present in the group R ^3a may be removed so that any of the compounds of formula (III-1) to formula (III-5) shown in the above reaction scheme may be removed. It is usually produced in the form of a mixture of two or more of these.

【００４７】かくして得られる式（ＩＩＩ）の化合物
は、混合物の形でそのまま次の工程における出発原料と
して使用してもよく、或いは必要に応じて、それ自体既
知の精製手段、例えば前記の精製手段などにより単離・
精製することができる。The compound of formula (III) thus obtained may be used as a starting material in the next step as it is in the form of a mixture, or, if necessary, a purification means known per se, for example, the above-mentioned purification means. Isolated by
It can be purified.

【００４８】工程（ｃ）：得られる式（ＩＩＩ）の化合
物が保護された水酸基を有している場合には、本工程で
さらにそれ自体既知の方法、例えば前記したと同様の脱
保護基反応に付し、目的とする式（Ｉ）で示される化合
物とすることができる。 Step (c) : When the resulting compound of the formula (III) has a protected hydroxyl group, a method known per se in this step, for example, a deprotecting group reaction similar to the above-mentioned one is carried out. To give the desired compound of formula (I).

【００４９】得られる式（Ｉ）で示される化合物は、そ
れ自体既知の精製手段、例えば前記工程（ａ）で示した
と同様の精製方法により単離・精製することができる。The resulting compound of formula (I) can be isolated and purified by a purification means known per se, for example, the same purification method as shown in the above step (a).

【００５０】以上に述べた製造法において出発原料とし
て使用される式（ＩＩＩ）の化合物はそれ自体既知のも
のであり、例えば後述の実施例１〜３に記載の方法によ
り製造することができる。The compound of the formula (III) used as a starting material in the above-mentioned production method is known per se, and can be produced, for example, by the method described in Examples 1 to 3 below.

【００５１】本発明により提供される式（Ｉ）の化合物
は、既に有効性が知られているノウタケの活性成分に共
通するフエニルジアゾホルムアミド骨格を有しており、
止血剤、抗炎症剤、抗菌剤、抗腫瘍剤などの薬剤として
利用することが期待される。次に実施例により、本発明
の化合物およびその製造法について更に具体的に説明す
る。The compound of the formula (I) provided by the present invention has a phenyldiazoformamide skeleton common to the active ingredients of Noritake mushrooms which are already known to be effective,
It is expected to be used as a hemostatic agent, an anti-inflammatory agent, an antibacterial agent, an antitumor agent and the like. Next, the compound of the present invention and the method for producing the same will be described more specifically with reference to examples.

【００５２】[0052]

【実施例】実施例１ ３,５−ジエチルチオ−４,４−ジメトキシシクロヘキサ
ノン（１）の合成 EXAMPLES Example 1 3,5-Diethylthio-4,4-dimethoxycyclohexa
Synthesis of non- (1)

【００５３】[0053]

【化１３】 [Chemical 13]

【００５４】ｐ−メトキシフエノール５ｇ（４０ｍｍｏ
ｌ）のメタノール（４００ｍｌ）溶液に、炭酸水素カリ
ウム１５.３２ｇ（１５ｍｍｏｌ）を加えて０℃まで冷
却し、これに硝酸タリウム・３水和物１７.９２ｇを徐
々に加え、同温にて５分間撹拌した。反応液中の不溶物
を濾去し、濾液を飽和重曹水２００ｍｌ中へ投入した。
溶媒を減圧下留去し、水層をジエチルエーテルで抽出
し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した後炭酸カリウムで乾
燥した。溶媒を留去して得られた残渣をメタノール２０
ｍｌに溶解し、エチルメルカプタン１５ｍｌを加え、０
℃まで冷却した。これに水酸化リチウム・一水和物１２
０ｍｇを加え、同温にて１時間撹拌した。溶媒を減圧下
留去した後残渣を塩化メチレンで抽出した。抽出液は、
水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸
エチル）に付し、無色油状物の化合物（１）８.１６ｇ
（２９ｍｍｏｌ）を得た。収率７３％。5 g of p-methoxyphenol (40 mmo
15.32 g (15 mmol) of potassium hydrogen carbonate was added to a solution of l) in methanol (400 ml) and cooled to 0 ° C., and 17.92 g of thallium nitrate trihydrate was gradually added thereto, and the mixture was heated to 5 at the same temperature. Stir for minutes. The insoluble matter in the reaction solution was filtered off, and the filtrate was put into 200 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate.
The solvent was evaporated under reduced pressure, the aqueous layer was extracted with diethyl ether, the extract was washed with saturated brine and dried over potassium carbonate. The residue obtained by distilling off the solvent was added to methanol 20
Dissolve in ml and add 15 ml of ethyl mercaptan,
Cooled to ° C. Lithium hydroxide monohydrate 12
0 mg was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was extracted with methylene chloride. The extract is
The extract was washed with water and saturated saline and dried over magnesium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure and the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate) to give 8.16 g of the colorless oily compound (1).
(29 mmol) was obtained. Yield 73%.

【００５５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ＝１.２６
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.３Ｈｚ）、１.２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７.３Ｈｚ）、２.５３〜２.７１（６Ｈ，ｍ）、２.８
２〜２.９０（２Ｈ，ｍ）、３.４０〜３.６０（２Ｈ，
ｍ）、３.４９（３Ｈ，ｓ）、３.４９（３Ｈ，ｓ）実施例２ ３,５−ジエチルチオ−４,４−ジメトキシシクロヘキサ
ノール（２）の合成 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ): δ = 1.26
(3H, t, J = 7.3Hz), 1.26 (3H, t, J
= 7.3 Hz), 2.53 to 2.71 (6 H, m), 2.8
2 to 2.90 (2H, m), 3.40 to 3.60 (2H, m
m) 3.49 (3H, s), 3.49 (3H, s) Example 2 3,5-diethylthio-4,4-dimethoxycyclohexa
Synthesis of Nole (2)

【００５６】[0056]

【化１４】 [Chemical 14]

【００５７】化合物（１）６０ｍｇ（０.２２ｍｍｏ
ｌ）のメタノール１ｍｌ溶液を０℃に冷却し、これに水
素化ホウ素ナトリウム８ｍｇを加え、同温にて１時間撹
拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水を加え、酢酸
エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧下留去し得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液：ｎ−ヘキサン
／酢酸エチル）に付し、無色油状物の化合物（２）６０
ｍｇ（０.２１ｍｍｏｌ）を得た。収率９９％。Compound (1) 60 mg (0.22 mmo
A solution of 1) in 1 ml of methanol was cooled to 0 ° C., 8 mg of sodium borohydride was added thereto, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. Saturated aqueous ammonium chloride was added to the reaction solution, which was extracted with ethyl acetate, washed with saturated saline and dried over magnesium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure, and the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate) to give compound (2) 60 as a colorless oil.
mg (0.21 mmol) was obtained. Yield 99%.

【００５８】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ＝１.２７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６.３Ｈｚ）、１.２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６.３Ｈｚ）、１.９６〜２.２０（４Ｈ，ｍ）、２.５
９〜２.６９（４Ｈ，ｍ）、３.１６〜３.３０（２Ｈ，
ｍ）、３.３９（３Ｈ，ｓ）、３.３９（３Ｈ，ｓ）、
４.１０（１Ｈ，ｓ）実施例３ ２,６−ジエチルチオ−４−ヒドロキシシクロヘキサノ
ンの（３）の合成 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ): δ = 1.27
(3H, t, J = 6.3Hz), 1.27 (3H, t, J
= 6.3 Hz), 1.96 to 2.20 (4 H, m), 2.5
9-2.69 (4H, m), 3.16-3.30 (2H,
m), 3.39 (3H, s), 3.39 (3H, s),
4.10 (1H, s) Example 3 2,6-diethylthio-4-hydroxycyclohexano
Synthesis of (3)

【００５９】[0059]

【化１５】 [Chemical 15]

【００６０】化合物（２）４４ｍｇ（０.１６ｍｍｏ
ｌ）の酢酸−水−テトラヒドロフラン（３：１：１）混
合溶液１ｍｌを４５℃で４時間撹拌した。溶媒を減圧下
留去し得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー（溶出液：ｎ−ヘキサン−酢酸エチル）に付し、無
色油状物の化合物（３）３１ｍｇ（０.１３ｍｍｏｌ）
収率８５％。44 mg (0.16 mmo) of compound (2)
1 ml of a mixed solution of 1) of acetic acid-water-tetrahydrofuran (3: 1: 1) was stirred at 45 ° C for 4 hours. The solvent was evaporated under reduced pressure and the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: n-hexane-ethyl acetate) to give 31 mg (0.13 mmol) of colorless oily compound (3).
Yield 85%.

【００６１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ＝１.２４
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.３Ｈｚ）、１.２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７.３Ｈｚ）、１.９０〜２.０１（１Ｈ，ｍ）、２.１
６〜２.３８（３Ｈ，ｍ）、２.４７〜２.６４（５Ｈ．
ｍ）、３.９３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５.９４Ｈｚ）、４.１
４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５.９，９.６Ｈｚ）、４.２９〜
４.３８（１Ｈ，ｍ）実施例４ ２,６−ジエチルチオ−４−ヒドロキシシクロヘキサノ
ンセミカルバゾン（４）の合成 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ): δ = 1.24
(3H, t, J = 7.3Hz), 1.25 (3H, t, J
= 7.3 Hz), 1.90 to 2.01 (1H, m), 2.1
6 to 2.38 (3H, m), 2.47 to 2.64 (5H.
m), 3.93 (1H, t, J = 5.94Hz), 4.1
4 (1H, dd, J = 5.9, 9.6Hz), 4.29 ~
4.38 (1H, m) Example 4 2,6-Diethylthio-4-hydroxycyclohexano
Synthesis of Nemicarbazone (4)

【００６２】[0062]

【化１６】 [Chemical 16]

【００６３】塩酸セミカルバジツド６０ｍｇ（０.５４
ｍｍｏｌ）と酢酸カリウム４６ｍｇ（０.４７ｍｍｏ
ｌ）をエタノール１.６ｍｌに懸濁させ、化合物（３）
１０９ｍｇ（０.４７ｍｍｏｌ）のエタノール１.６ｍｌ
溶液を室温にて加え、同温にて１時間撹拌した。反応液
を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー（溶出液：酢酸エチル）に付し、白色結
晶の化合物（４）１１６ｍｇ（０.４０ｍｍｏｌ）を得
た。収率８５％。Semicarbazide hydrochloride 60 mg (0.54
mmol) and potassium acetate 46 mg (0.47 mmo)
l) was suspended in 1.6 ml of ethanol to give compound (3)
109 mg (0.47 mmol) ethanol 1.6 ml
The solution was added at room temperature and stirred at the same temperature for 1 hour. The reaction solution was evaporated under reduced pressure, and the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate) to obtain 116 mg (0.40 mmol) of white crystalline compound (4). Yield 85%.

【００６４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）：δ＝１.
１５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.３Ｈｚ）、１.１７（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７.３Ｈｚ）、１.５７〜１.６５（１Ｈ，
ｍ）、１.９９〜２.０３（１Ｈ，ｍ）、２.３９〜２.５
６（６Ｈ，ｍ）、３.９１〜４.０５（２Ｈ，ｍ）、４.
６４（１Ｈ，ｓ）、４.８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５.３Ｈ
ｚ）、９.７５（１Ｈ，ｓ）実施例５ ２,６−ジエチルチオ−４−ヒドロキシベンゼンジアゾ
カルボキサミド（５）の合成 ¹ H-NMR (DMSO-d ₆ ): δ = 1.
15 (3H, t, J = 7.3Hz), 1.17 (3H,
t, J = 7.3 Hz), 1.57-1.65 (1H,
m) 1.99 to 2.03 (1H, m), 2.39 to 2.5
6 (6H, m), 3.91-4.05 (2H, m), 4.
64 (1H, s), 4.88 (1H, d, J = 5.3H
z), 9.75 (1H, s) Example 5 2,6-Diethylthio-4-hydroxybenzenediazo
Synthesis of carboxamide (5)

【００６５】[0065]

【化１７】 [Chemical 17]

【００６６】ヨードキシベンゼン５５２ｍｇ（２.５１
ｍｍｏｌ）のベンゼン１０ｍｌ溶液にジフエニルジセレ
ニド１６ｍｇ（０.０５ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下
１０分間還流させた。この溶液に化合物（４）１４６ｍ
ｇ（０.５０ｍｍｏｌ）を加え、終夜還流させた。溶媒
を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー（溶出液：クロロホルム／メタノール）
に付し、淡赤色結晶の化合物（５）７ｍｇ（０.０２ｍ
ｍｏｌ）を得た。収率４％。552 mg of iodooxybenzene (2.51
16 mg (0.05 mmol) of diphenyl diselenide was added to a solution of 10 mmol of benzene in 10 ml of benzene, and the mixture was refluxed for 10 minutes under a nitrogen stream. 146m of compound (4) in this solution
g (0.50 mmol) was added and the mixture was refluxed overnight. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: chloroform / methanol).
7 mg (0.02 m) of pale red crystalline compound (5)
mol) was obtained. Yield 4%.

【００６７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ＝１２９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.３Ｈｚ）、１.２９（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７.３Ｈｚ）、２.８８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７.３Ｈ
ｚ）、２.８８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７.３Ｈｚ）、５.６０
（２Ｈ，ｓ）、６.８４（１Ｈ，ｓ）、７.２３（２Ｈ，
ｓ）実施例６ ２,６−ジメチルチオベンゼンジアゾカルボキサミド
（７）および２−メチルチオベンゼンジアゾカルボキサ
ミド（８）の合成 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ): δ = 129
(3H, t, J = 7.3Hz), 1.29 (3H, t, J
= 7.3 Hz), 2.88 (2H, q, J = 7.3H)
z), 2.88 (2H, q, J = 7.3Hz), 5.60
(2H, s), 6.84 (1H, s), 7.23 (2H,
s) Example 6 2,6-Dimethylthiobenzenediazocarboxamide
(7) and 2-methylthiobenzenediazocarboxa
Synthesis of mid (8)

【００６８】[0068]

【化１８】 [Chemical 18]

【００６９】化合物（６）は実施例１から４に準じた方
法で合成することができる。The compound (6) can be synthesized by the method according to Examples 1 to 4.

【００７０】ヨードキシベンゼン４１５ｍｇ（１.７６
ｍｍｏｌ）のベンゼン１５ｍｌ溶液にジフエニルジセレ
ニド２５ｍｇ（０.０８ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下
１０分間還流させた後、室温まで冷却した。化合物
（６）１０５ｍｇ（０.４０ｍｍｏｌ）を加え、再び２
０分間還流させた。放冷後、減圧下濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液：ク
ロロホルム／メタノール）で精製し、得られた赤色混合
物をさらにシリカゲルプレパラテイブ薄層クロマトグラ
フイー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝１９／
１）で精製し、化合物（７）１０ｍｇ（収率１０％）お
よび化合物（８）１１ｍｇ（収率１３％）を得た。Iodoxybenzene 415 mg (1.76)
25 mg (0.08 mmol) of diphenyl diselenide was added to a solution of 15 mmol of benzene in 15 ml of benzene, the mixture was refluxed for 10 minutes under a nitrogen stream, and then cooled to room temperature. Compound (6) 105 mg (0.40 mmol) was added, and the mixture was added again to 2
Reflux for 0 minutes. After allowing to cool, the mixture was concentrated under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: chloroform / methanol), and the red mixture obtained was further purified by silica gel preparative thin layer chromatography (developing solvent). : Chloroform / methanol = 19 /
Purification in 1) gave 10 mg of compound (7) (10% yield) and 11 mg of compound (8) (13% yield).

【００７１】化合物（７）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ＝２.４６（６Ｈ，
ｓ）、５.５９（１Ｈ，ｓ）、６.５５（１Ｈ，ｓ）、
７.１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８.１Ｈｚ）、７.４１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８.１，８.１Ｈｚ） 化合物（８）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ＝２.５２（３Ｈ，
ｓ）、５.７０（１Ｈ，ｓ）、６.４５（１Ｈ，ｓ）、
７.２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８.０，８.０Ｈｚ）、７.３
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８.０Ｈｚ）、７.５３（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８.０，８.０Ｈｚ）、７.７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８.０Ｈｚ）実施例７ ４−ヒドロキシ−２−メチルチオベンゼンジアゾカルボ
キサミド（９）の合成 Compound (7) ¹ H-NMR (CDCl ₃ ): δ = 2.46 (6H,
s), 5.59 (1H, s), 6.55 (1H, s),
7.10 (2H, d, J = 8.1Hz), 7.41 (1
H, dd, J = 8.1, 8.1 Hz) Compound (8) ¹ H-NMR (CDCl ₃ ): δ = 2.52 (3H,
s), 5.70 (1H, s), 6.45 (1H, s),
7.20 (1H, dd, J = 8.0, 8.0Hz), 7.3
4 (1H, d, J = 8.0Hz), 7.53 (1H, d
d, J = 8.0, 8.0 Hz), 7.78 (1H, d, J
= 8.0 Hz) Example 7 4-hydroxy-2-methylthiobenzenediazocarbo
Synthesis of xamide (9)

【００７２】[0072]

【化１９】 [Chemical 19]

【００７３】ヨードキシベンゼン２０８ｍｇ（０.８８
ｍｍｏｌ）のベンゼン５ｍｌ溶液に化合物（６）５３ｍ
ｇ（０.２０ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下室温で３０
分撹拌し、さらに、１時間還流した後室温まで冷却し
た。ジフエニルジセレニド１２ｍｇ（０.０４ｍｍｏ
ｌ）を加え、再び３０分還流した。反応液を放冷した後
減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルプレパラテイブ
薄層クロマトグラフイー（展開溶媒：クロロホルム／メ
タノール＝９／１）で精製し、赤色固体の化合物（９）
５.８ｍｇ（０.０３ｍｍｏｌ）を得た。収率１４％。Iodoxybenzene 208 mg (0.88)
Compound (6) 53m in benzene 5ml solution of (mmol)
g (0.20 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature under a nitrogen stream for 30 minutes.
The mixture was stirred for minutes, further refluxed for 1 hour and then cooled to room temperature. 12 mg of diphenyl diselenide (0.04 mmo
1) was added and the mixture was refluxed for 30 minutes again. The reaction solution was allowed to cool and then concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel preparative thin layer chromatography (developing solvent: chloroform / methanol = 9/1) to give a red solid compound (9).
Obtained 5.8 mg (0.03 mmol). Yield 14%.

【００７４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ＝２.５２
（３Ｈ，ｓ）、５.４５（１Ｈ，ｓ）、６.３４（１Ｈ，
ｓ）、７.１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８.５，２.０Ｈ
ｚ）、７.２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２.０Ｈｚ）、７.７４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８.５Ｈｚ） ¹ H-NMR (CDCl ₃ ): δ = 2.52
(3H, s), 5.45 (1H, s), 6.34 (1H,
s), 7.17 (1H, dd, J = 8.5, 2.0H
z), 7.29 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.74
(1H, d, J = 8.5Hz)

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成６年３月２２日[Submission date] March 22, 1994

【手続補正１】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項３[Name of item to be corrected] Claim 3

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【化３】 式中、Ｒ^１′およびＲ^２′はそれぞれ独立に水素原子又
は低級アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ^１′およびＲ
^２′の少なくとも一方は低級アルキルチオ基であり、Ｒ
^３ａは水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表わ
す、で示される化合物を酸化反応に付し、得られる下記
式（ＩＩＩ）[Chemical 3] In the formula, R ^{1 ′} and R ^{2 ′} each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that R ^{1 ′} and R ^{2 ′} are
^At least one of 2'is a lower alkylthio group, and R
^3a represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group, which is obtained by subjecting a compound represented by

【化４】 式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に水素原子又は低
級アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ^１およびＲ^２の少
なくとも一方は低級アルキルチオ基であり、Ｒ^３ａ′は
水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表わす、で
示される化合物を、必要に応じて、脱保護基反応に付す
ことを特徴とする請求項１記載の式（Ｉ）で示される化
合物の製造法。[Chemical 4] In the formula, R ¹ and R ² each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that at least one of R ¹ and R ² is a lower alkylthio group, and R ^{3a ′} is a hydrogen atom or may be protected. The method for producing a compound represented by formula (I) according to claim 1 , wherein the compound represented by the formula (1), which represents a good hydroxyl group, is subjected to a deprotecting group reaction, if necessary.

【手続補正２】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】００２７[Name of item to be corrected] 0027

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【００２７】２−メチルチオベンゼンジアゾカルボキサ
ミド、２−プロピルチオベンゼンジアゾカルボキサミ
ド、２−ｔｅｒｔ−ブチルチオベンゼンジアゾカルボキ
サミド、４−ヒドロキシ−２−メチルチオベンゼンジア
ゾカルボキサミド、２−エチルチオ−４−ヒドロキシベ
ンゼンジアゾカルボキサミド、２−ｓｅｃ−ブチルチオ
−４−ヒドロキシベンゼンジアゾカルボキサミド、４−
ヒドロキシ−２−ｉｓｏ−プロピルチオベンゼンジアゾ
カルボキサミド、２，６−ジメチルチオベンゼンジアゾ
カルボキサミド、２，６−ジエチルチオベンゼンジアゾ
カルボキサミド、２，６−ジ−ｉｓｏ−ブチルチオベン
ゼンジアゾカルボキサミド、４−ヒドロキシ−２，６−
ジメチルチオベンゼンジアゾカルボキサミド、２，６−
ジエチルチオ−４−ヒドロキシベンゼンジアゾカルボキ
サミド、２−エチルチオ−４−ヒドロキシ−６−メチル
チオベンゼンジアゾカルボキサミド、４−ヒドロキシ−
２−メチルチオ−６−ｉｓｏ−プロピルチオベンゼンジ
アゾカルボキサミド、４−ヒドロキシ−２，６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルチオベンゼンジアゾカルボキサミドなど。2-methylthiobenzenediazocarboxamide, 2-propylthiobenzenediazocarboxamide, 2-tert-butylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy-2-methylthiobenzenediazocarboxamide, 2-ethylthio-4-hydroxybenzenediazocarboxamide, 2-sec-butylthio-4-hydroxybenzenediazocarboxamide, 4-
Hydroxy-2-iso-propylthiobenzenediazocarboxamide, 2,6-dimethylthiobenzenediazocarboxamide, 2,6-diethylthiobenzenediazocarboxamide, 2,6-di-iso-butylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy- 2,6-
Dimethylthiobenzene diazocarboxamide, 2,6-
Diethylthio-4-hydroxybenzenediazocarboxamide, 2-ethylthio-4-hydroxy-6-methylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy-
2-Methylthio-6-iso-propylthiobenzenediazocarboxamide, 4-hydroxy-2,6-ter
t-butylthiobenzenediazocarboxamide and the like.

【手続補正３】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】００３３[Correction target item name] 0033

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【００３３】上記各式中、Ｒ^４ま低級アルキルチオ基の
アルキル部分を表わし、Ｒ^５は水素原子又は水酸基の保
護基を表わし、Ｒ^１、Ｒ^１′、Ｒ^２、Ｒ^２′、Ｒ^３、Ｒ
^３ａおよびＲ^３ａ′は前記定義のとおりである。In the above formulas, R ^{4 and a} lower alkylthio group
R ⁵ represents an alkyl moiety , R ⁵ represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and R ¹ , R ^{1 ′} , R ² , R ^{2 ′} , R ³ , R ^3
3a and R ^{3a ′} are as defined above.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 319/20 7419−4Ｈ 323/48 7419−4Ｈ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. ⁵ Identification number Office reference number FI technical display location C07C 319/20 7419-4H 323/48 7419-4H

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素原子又は低級
アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ¹およびＲ²の少なく
とも一方は低級アルキルチオ基であり、 Ｒ³は水素原子又は水酸基を表わす、で示されるフエニ
ルジアゾホルムアミド誘導体。1. The following formula (I): In the formula, R ¹ and R ² each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that at least one of R ¹ and R ² is a lower alkylthio group, and R ³ represents a hydrogen atom or a hydroxyl group. A phenyl diazoformamide derivative. 【請求項２】 下記式（ＩＩ） 【化２】 式中、Ｒ¹′およびＲ²′はそれぞれ独立に水素原子又は
低級アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ¹′およびＲ²′
の少なくとも一方は低級アルキルチオ基であり、Ｒ^3aは
水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表わす、で
示されるホルムアミド誘導体。2. The following formula (II): In the formula, R ¹ ′ and R ² ′ each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that R ¹ ′ and R ² ′ are
At least one of them is a lower alkylthio group, and R ^3a represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group. 【請求項３】 下記式（ＩＩ） 【化３】 式中、Ｒ¹′およびＲ²′はそれぞれ独立に水素原子又は
低級アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ¹′およびＲ²′
の少なくとも一方は低級アルキルチオ基であり、Ｒ^3aは
水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表わす、で
示される化合物を酸化反応に付し、得られる下記式（Ｉ
ＩＩ） 【化４】 式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素原子又は低級
アルキルチオ基を表わし、但し、Ｒ¹およびＲ²の少なく
とも一方は低級アルキルチオ基であり、 Ｒ^3a′は水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表
わす、で示される化合物を、必要に応じて、脱保護基反
応に付すことを特徴とする請求項Ｉ記載の式（Ｉ）で示
される化合物の製造法。3. The following formula (II): In the formula, R ¹ ′ and R ² ′ each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that R ¹ ′ and R ² ′ are
At least one of them is a lower alkylthio group and R ^3a represents a hydrogen atom or an optionally protected hydroxyl group, and the compound represented by the following formula (I
II) In the formula, R ¹ and R ² each independently represent a hydrogen atom or a lower alkylthio group, provided that at least one of R ¹ and R ² is a lower alkylthio group, and R ^3a ′ is a hydrogen atom or may be protected. A process for producing a compound represented by formula (I) according to claim I, characterized in that a compound represented by the formula (I) which represents a good hydroxyl group is subjected to a deprotecting group reaction, if necessary.