JPH06244159A - 光励起ガス反応装置 - Google Patents

光励起ガス反応装置

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JPH06244159A
JPH06244159A JP2937393A JP2937393A JPH06244159A JP H06244159 A JPH06244159 A JP H06244159A JP 2937393 A JP2937393 A JP 2937393A JP 2937393 A JP2937393 A JP 2937393A JP H06244159 A JPH06244159 A JP H06244159A
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JP
Japan
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gas
light
excited
treated
light source
Prior art date
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Pending
Application number
JP2937393A
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English (en)
Inventor
Kenichi Kawasumi
建一 川澄
Sukeyoshi Tsunekawa
助芳 恒川
Kotaro Koizumi
浩太郎 小泉
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】ガス励起槽２と反応室との間を励起光を被処理
物７に照射しないように、光遮蔽構造５とする。 【効果】励起光が直接被処理物に照射されないので光エ
ネルギによる被処理物の損傷をなくすことが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光によって励起された
活性ガスを被処理物と反応させて除去する場合や、光に
よって合成された物質を被処理物上に生成する場合、特
に、半導体装置製造過程でのウェハ上の不要となったレ
ジスト等の有機物除去や無機物の除去，ウェハのドライ
洗浄，液晶基板の洗浄やレジスト除去等に用いて好適な
光励起ガス反応装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の光励起プロセスでは、例えば米国
特許第4,885,047 号明細書に示されているように、励起
光が直接被処理物に照射される方式であった。このた
め、被処理物の製造プロセスの過程によって、或いは被
処理物の種類によって、照射される紫外線のエネルギに
よって被処理物に損傷を与える場合があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、励起光の照射によって被処理物に損傷を与
えないようにすることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するため、光によりガスを励起する過程と励起ガス
を輸送する過程と励起ガスが被処理物と反応する過程と
の間に光を遮る手段を設けることによって達成される。
【０００５】
【作用】反応ガスの励起は、光を透過する容器の中に流
れているガスに光照射するか光源の周りにガスを流すこ
とによって行われる。励起された活性ガスは、輸送過程
を経て被処理物のある処理室に導入する。励起光は、励
起ガスの輸送過程で輸送過程を曲げたり、光を透過しな
い材料で遮蔽体を構成し、被処理物表面に光が到達しな
いようにするため、光エネルギによる被処理物の損傷を
無くすことが出来る。
【０００６】
【実施例】まず図１の装置で、光源３は紫外線光源を表
わしており、具体的には低圧水銀放電灯である。反応の
原料ガスは、供給管１によって紫外線を透過する石英ガ
ラス等からなる光励起槽２に導入されて光源３によって
励起される。励起された活性ガスは、光を透過しない、
例えば、アルミニウムの板５に設けたガス通過孔６を通
して被処理物７の表面に供給される。ガス通過孔６は曲
がりくねった構造となっているために光を透過しない。
被処理物７として半導体装置の試験素子をおき、反応ガ
スにオゾンを用いて被処理物７上のレジストを除去した
後の電気的試験結果では、損傷を示す電気量の変化が認
められなかった。
【０００７】ここで、上記アルミニウムの板５を紫外線
透過性である透明石英に変えて同様の電気的試験を行う
と損傷を示す電気量の変化がみとめられた。
【０００８】他の実施例について図２で説明する。光源
３の外側にガスを通すガラス管１４を設け、原料ガスを
供給管１１より導入し、光源１３とガラス管１４との間
の光励起槽１２でガスは励起されて曲がったガス通過管
１６を介して被処理物７の表面に供給される。光源３と
被処理物７の間には光を透過しない金属の板１５を配し
ているので励起光は、被処理物７に到達しない。
【０００９】図３は、光源２３と光励起槽２２との関係
の別の実施例を示すものである。光励起槽２２は、二重
の石英管より構成されている。光源３が、交換出来る構
造としたものである。ガス通過管２６は、例えば、図２
に示す様に被処理物７の表面に導き、被処理物７と光源
３間に光を透過しない板を配置する。
【００１０】図４は、別の実施例を示すもので光源３３
の外周辺を励起槽３２とし励起ガスをスリット状のガス
通過管３６を介して被処理物３７の表面にスリツト状の
吹きだし口より供給する。ガス通過管３６を光を透過し
ない金属材料で構成するので光源３３の光は、被処理物
７の表面に到達しない。
【００１１】励起ガスの原料ガスにフッ素，塩素を含み
紫外線で分解励起した活性なフッ素，塩素原子を生成す
る方法によって被処理物上の無機物を蒸気圧の高いハロ
ゲン化合物にして除去する場合、或いはシリコンの化合
物を光分解しさらにシリコンと酸素を反応させてシリコ
ン酸化膜を形成するいわゆる、光ＣＶＤ等にも本発明は
適用出来る。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、光を、直接、被処理物
の表面に到達させずに光励起反応を行うので、光のもつ
高エネルギ照射による被処理物の損傷のない光励起ガス
反応ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の説明図。
【図２】本発明の第二の実施例の説明図。
【図３】本発明の第三の実施例の説明図。
【図４】本発明の第四の実施例の説明図。
【符号の説明】
１…ガス供給管、２…光励起槽、３…光源、５…遮光
板、６…ガス通過孔、７…被処理物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 21/31 Ｂ // Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｄ 8832−4Ｍ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】光源によってガスを励起する手段と励起ガ
    スを輸送する手段と前記励起ガスと被処理物を反応せし
    める手段を有し、前記光源と前記被処理物の間に光を遮
    る手段を設けたことを特徴とする光励起ガス反応装置。
  2. 【請求項２】請求項１において、ガスを励起する手段
    は、光源が紫外線を発するものであって、ガスと光源部
    との境界が紫外線透過率の優れた材料からなる光励起ガ
    ス反応装置。
JP2937393A 1993-02-18 1993-02-18 光励起ガス反応装置 Pending JPH06244159A (ja)

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