JPH0623493A - 薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムとその加工装置 - Google Patents
薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムとその加工装置Info
- Publication number
- JPH0623493A JPH0623493A JP4178413A JP17841392A JPH0623493A JP H0623493 A JPH0623493 A JP H0623493A JP 4178413 A JP4178413 A JP 4178413A JP 17841392 A JP17841392 A JP 17841392A JP H0623493 A JPH0623493 A JP H0623493A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drum
- ion beam
- cooling
- laser beam
- dimples
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- Continuous Casting (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高エネルギービームを用いることにより、穴
深さの大きなディンプルが制御性よく加工され且つ耐摩
耗性が高い薄肉鋳片鋳造用冷却ドラム及びその加工装置
を提供することを目的とする。 【構成】 レーザ光により加工された凹凸（ディンプ
ル）とイオンビームまたはイオンビームと蒸着源により
処理された表層をもつ薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムと、真
空容器内にドラムを回転及び移動する機構と移動可能な
光学系装置、イオンビーム源及び蒸着源を設け、薄肉鋳
片鋳造用冷却ドラムの表層部を真空中で加工する装置で
ある。
深さの大きなディンプルが制御性よく加工され且つ耐摩
耗性が高い薄肉鋳片鋳造用冷却ドラム及びその加工装置
を提供することを目的とする。 【構成】 レーザ光により加工された凹凸（ディンプ
ル）とイオンビームまたはイオンビームと蒸着源により
処理された表層をもつ薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムと、真
空容器内にドラムを回転及び移動する機構と移動可能な
光学系装置、イオンビーム源及び蒸着源を設け、薄肉鋳
片鋳造用冷却ドラムの表層部を真空中で加工する装置で
ある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄肉鋳片鋳造用冷却ド
ラムおよびその加工装置に関する。
ラムおよびその加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】連続鋳造の分野では、コストの切下げ、
新材料の創出等を目的として最終製品の形状に近い薄肉
鋳片を溶融金属から直接的に製造する技術の開発が強く
望まれている。この要求に応えるべく、内部冷却水冷機
構を備えた一対の冷却ドラムを使用するツインドラム方
式、一本の冷却ドラムを使用する単ドラム方式、冷却ド
ラムとベルトとの間に湯だまり部を形成するドラム・ベ
ルト方式等の各種方法がこれまで提案され、その一部は
工業生産のレベルまで達している。
新材料の創出等を目的として最終製品の形状に近い薄肉
鋳片を溶融金属から直接的に製造する技術の開発が強く
望まれている。この要求に応えるべく、内部冷却水冷機
構を備えた一対の冷却ドラムを使用するツインドラム方
式、一本の冷却ドラムを使用する単ドラム方式、冷却ド
ラムとベルトとの間に湯だまり部を形成するドラム・ベ
ルト方式等の各種方法がこれまで提案され、その一部は
工業生産のレベルまで達している。
【０００３】しかし、これら薄肉鋳片は、旧来の連続鋳
造設備によって製造されるスラブと比較して後続の工程
で圧延される度合が小さい。よって薄肉鋳片の肉厚変
動、表面割れ等は最終製品表面の欠陥となって残り、商
品価値を著しく損なう危険が大きい為、その表面性状を
高く安定して維持することが重要である。良好な表面品
質をもつ薄肉鋳片を安定して製造するには、種々の方法
が提案されている。例えば、特開昭６０−１８４４４９
号公報では冷却ドラムの周面上に溶鋼とのエアギャップ
を形成するように凹凸（ディンプル）を設けることが提
案されている。このエアギャップによって冷却ドラムの
抜熱能力が小さくなり、溶融金属の緩慢な冷却が行われ
る。この結果、凝固シェルの厚みが板幅方向で均一化さ
れて形状特性の優れた薄肉鋳片は製造可能となるが、ド
ラムの摩耗が進行してゆくとディンプルの穴深さは減少
し、最後にはディンプルが消滅する。よって、摩耗の進
行に対してもディンプルの消滅までの寿命を延長させる
ためには、ディンプルの深さが大きく、かつ材料が高耐
摩耗性をもつドラムが求められている。
造設備によって製造されるスラブと比較して後続の工程
で圧延される度合が小さい。よって薄肉鋳片の肉厚変
動、表面割れ等は最終製品表面の欠陥となって残り、商
品価値を著しく損なう危険が大きい為、その表面性状を
高く安定して維持することが重要である。良好な表面品
質をもつ薄肉鋳片を安定して製造するには、種々の方法
が提案されている。例えば、特開昭６０−１８４４４９
号公報では冷却ドラムの周面上に溶鋼とのエアギャップ
を形成するように凹凸（ディンプル）を設けることが提
案されている。このエアギャップによって冷却ドラムの
抜熱能力が小さくなり、溶融金属の緩慢な冷却が行われ
る。この結果、凝固シェルの厚みが板幅方向で均一化さ
れて形状特性の優れた薄肉鋳片は製造可能となるが、ド
ラムの摩耗が進行してゆくとディンプルの穴深さは減少
し、最後にはディンプルが消滅する。よって、摩耗の進
行に対してもディンプルの消滅までの寿命を延長させる
ためには、ディンプルの深さが大きく、かつ材料が高耐
摩耗性をもつドラムが求められている。
【０００４】しかし、従来のディンプル加工法であるエ
ッチング法によりディンプルを形成したドラムは、加工
できるディンプルの穴径や穴深さに制約が多く所望の穴
径、穴深さが得られないという問題がある。さらに材料
耐摩耗性向上のためにメッキ等の被覆表面処理を施した
ドラムでは、メッキ等の皮膜がディンプルを塞いでしま
う恐れもあり、また使用中の厳しい熱環境等により被覆
処理層の剥離が生じてしまうという問題があった。
ッチング法によりディンプルを形成したドラムは、加工
できるディンプルの穴径や穴深さに制約が多く所望の穴
径、穴深さが得られないという問題がある。さらに材料
耐摩耗性向上のためにメッキ等の被覆表面処理を施した
ドラムでは、メッキ等の皮膜がディンプルを塞いでしま
う恐れもあり、また使用中の厳しい熱環境等により被覆
処理層の剥離が生じてしまうという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、薄肉鋳片鋳
造用冷却ドラムの穴径、穴深さが自由度高く高効率で加
工され、耐摩耗性に優れて且つ厳しい熱環境においても
処理層の剥離無い薄肉鋳片鋳造用冷却ドラム及びその製
造方法を提供せんとするものである。
造用冷却ドラムの穴径、穴深さが自由度高く高効率で加
工され、耐摩耗性に優れて且つ厳しい熱環境においても
処理層の剥離無い薄肉鋳片鋳造用冷却ドラム及びその製
造方法を提供せんとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨とするとこ
ろは、ドラム表面がレーザ光の照射により形成された表
面凹凸を有し、かつその処理を行った同一の真空チャン
バー中で一度も大気に触れさせること無しにイオンビー
ム或はイオンビームと蒸着との併用を行うことによって
イオンビームを用いる処理の効果を向上させるように改
質された表層部で覆われた薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムに
あり、または真空容器内にドラム駆動機構を設けると共
に、レーザ光伝達・集光光学系装置およびイオンビーム
源、更に必要により蒸着源を移動可能に設けた薄肉鋳片
鋳造用冷却ドラムの加工装置にある。
ろは、ドラム表面がレーザ光の照射により形成された表
面凹凸を有し、かつその処理を行った同一の真空チャン
バー中で一度も大気に触れさせること無しにイオンビー
ム或はイオンビームと蒸着との併用を行うことによって
イオンビームを用いる処理の効果を向上させるように改
質された表層部で覆われた薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムに
あり、または真空容器内にドラム駆動機構を設けると共
に、レーザ光伝達・集光光学系装置およびイオンビーム
源、更に必要により蒸着源を移動可能に設けた薄肉鋳片
鋳造用冷却ドラムの加工装置にある。
【０００７】本発明を以下に詳細に説明する。
【０００８】
【作用】薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムに求められるのは、
その表面上に穴深さの大きなディンプルが５００μｍ以
下の穴径で最適な配置をもって加工されていることであ
る。穴径が５００μｍを越えると穴の部分で鋳片の冷却
むらを生じるからである。レーザ光を用いたディンプル
加工方法は、ディンプルの穴径、穴深さが入射するレー
ザ光のエネルギー、パルス幅、ビーム径によって精密に
制御でき且つ、加工可能な穴深さはエッチングよりもき
わめて大きい。
その表面上に穴深さの大きなディンプルが５００μｍ以
下の穴径で最適な配置をもって加工されていることであ
る。穴径が５００μｍを越えると穴の部分で鋳片の冷却
むらを生じるからである。レーザ光を用いたディンプル
加工方法は、ディンプルの穴径、穴深さが入射するレー
ザ光のエネルギー、パルス幅、ビーム径によって精密に
制御でき且つ、加工可能な穴深さはエッチングよりもき
わめて大きい。
【０００９】また穴位置は光学系によるレーザ光のスキ
ャンにより容易に位置制御性良く加工できるものであ
り、その光学系は真空容器のなかに設置することにより
レーザ穴加工とイオンビーム表面処理という二つの処理
を同一の真空容器内で効率よく行うことが出来る。例え
ば穴径１００μｍのとき薄板鋳片鋳造用冷却ドラムのデ
ィンプルとして必要なのは７０μｍ以上の穴深さだがエ
ッチングではこの深さの加工は上限に近い。
ャンにより容易に位置制御性良く加工できるものであ
り、その光学系は真空容器のなかに設置することにより
レーザ穴加工とイオンビーム表面処理という二つの処理
を同一の真空容器内で効率よく行うことが出来る。例え
ば穴径１００μｍのとき薄板鋳片鋳造用冷却ドラムのデ
ィンプルとして必要なのは７０μｍ以上の穴深さだがエ
ッチングではこの深さの加工は上限に近い。
【００１０】それに対してレーザ鋼を用いた加工では深
さ１００μｍ以上の穴も容易に加工することが出来る。
ドラム表面に加工したディンプルの断面形状を図３
（ａ）、図３（ｂ）に示す。図３（ａ）に示したディン
プルはレーザ光で加工しただけのもので、レーサ光によ
ってドラム表面が加熱、溶融し、一部は蒸発する。この
現象によってレーザ光照射部分直下の溶融物は排除され
ディンプルの底１３が出来る。図３（ｂ）に示したのは
レーザ光でディンプル加工した後でイオンビームまたは
イオンビームと蒸着元素の組合せにより処理層１２が出
来た様子を示すものである。
さ１００μｍ以上の穴も容易に加工することが出来る。
ドラム表面に加工したディンプルの断面形状を図３
（ａ）、図３（ｂ）に示す。図３（ａ）に示したディン
プルはレーザ光で加工しただけのもので、レーサ光によ
ってドラム表面が加熱、溶融し、一部は蒸発する。この
現象によってレーザ光照射部分直下の溶融物は排除され
ディンプルの底１３が出来る。図３（ｂ）に示したのは
レーザ光でディンプル加工した後でイオンビームまたは
イオンビームと蒸着元素の組合せにより処理層１２が出
来た様子を示すものである。
【００１１】イオンビーム処理は制御性のよい薄層処理
であり、図３（ｂ）に示すようにディンプルを塞ぐこと
なく処理が行える。イオンビーム処理は、ビーム照射の
効果により処理層内の元素を原子レベルで混合して傾斜
組成を持った処理層を形成するものであるため、薄板鋳
片鋳造用冷却ドラムのような激しい熱環境での使用に於
いても剥離が原理的に無い。
であり、図３（ｂ）に示すようにディンプルを塞ぐこと
なく処理が行える。イオンビーム処理は、ビーム照射の
効果により処理層内の元素を原子レベルで混合して傾斜
組成を持った処理層を形成するものであるため、薄板鋳
片鋳造用冷却ドラムのような激しい熱環境での使用に於
いても剥離が原理的に無い。
【００１２】このような要求に対して適しているイオン
ビームの元素は化合物を形成して改質層を作り易い元素
であり、例えばＴｉ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｚｒ，Ｍｏ，Ｈｆ，
Ｔａ，Ｗ等であり、蒸着との併用を行う際にはこれらの
金属元素に加えて金属と化合物を形成する元素である窒
素、炭素、ほう素等である。例えば、ロール表層にＴｉ
等のイオンを照射注入すると、粒子線照射効果と化合物
形成による表層部の結晶構造、組成が変化して表面硬度
や凝着性が変化するために摩耗が少なくなる効果が認め
られる。これらの元素は一種のみで無く二種以上を照射
すれば、各々が重畳したよりよい効果が得られる。
ビームの元素は化合物を形成して改質層を作り易い元素
であり、例えばＴｉ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｚｒ，Ｍｏ，Ｈｆ，
Ｔａ，Ｗ等であり、蒸着との併用を行う際にはこれらの
金属元素に加えて金属と化合物を形成する元素である窒
素、炭素、ほう素等である。例えば、ロール表層にＴｉ
等のイオンを照射注入すると、粒子線照射効果と化合物
形成による表層部の結晶構造、組成が変化して表面硬度
や凝着性が変化するために摩耗が少なくなる効果が認め
られる。これらの元素は一種のみで無く二種以上を照射
すれば、各々が重畳したよりよい効果が得られる。
【００１３】また処理を行うイオンビームの条件とし
て、加速エネルギーは５０eV以上３MeV 以下、ドーズ量
は５×１０16イオン／cm2 以上１×１０19イオン／cm2
以下が適当である。これ以下のエネルギーではビーム照
射の効果が低すぎ、これ以上のエネルギーはイオンビー
ム発生装置が大きくなりすぎて実用的ではない。ドーズ
量についてはこれ以下の値では効果がなくこれ以上の値
では処理に時間がかかりすぎ実用的ではない。
て、加速エネルギーは５０eV以上３MeV 以下、ドーズ量
は５×１０16イオン／cm2 以上１×１０19イオン／cm2
以下が適当である。これ以下のエネルギーではビーム照
射の効果が低すぎ、これ以上のエネルギーはイオンビー
ム発生装置が大きくなりすぎて実用的ではない。ドーズ
量についてはこれ以下の値では効果がなくこれ以上の値
では処理に時間がかかりすぎ実用的ではない。
【００１４】次に本発明であるドラムの加工を実施する
装置の基本構成を図１に示す。被加工ドラムを１０、真
空容器を２０、ドラム回転・移動機構を３３、レーザ光
をＬＢ、イオンビームをＩＢ、蒸着元素をＥＶとして示
す。真空容器２０は、被加工ドラムの搬入出用の蓋２
１，２２を備えている。レーザ光を伝達・集光する光学
系装置ＯＰ1 ，ＯＰ2 とイオンビーム源Ｂ−ＩＢ1 ，Ｂ
−ＩＢ2 、蒸着源Ｂ−ＥＶ1 ，Ｂ−ＥＶ2 は被加工ドラ
ムの軸と平行に設けられた移動機構４１，５１に設置さ
れて、ドラム表面全域に渡って移動する。
装置の基本構成を図１に示す。被加工ドラムを１０、真
空容器を２０、ドラム回転・移動機構を３３、レーザ光
をＬＢ、イオンビームをＩＢ、蒸着元素をＥＶとして示
す。真空容器２０は、被加工ドラムの搬入出用の蓋２
１，２２を備えている。レーザ光を伝達・集光する光学
系装置ＯＰ1 ，ＯＰ2 とイオンビーム源Ｂ−ＩＢ1 ，Ｂ
−ＩＢ2 、蒸着源Ｂ−ＥＶ1 ，Ｂ−ＥＶ2 は被加工ドラ
ムの軸と平行に設けられた移動機構４１，５１に設置さ
れて、ドラム表面全域に渡って移動する。
【００１５】３０はドラム駆動装置の支持台、３１，３
２はドラム支持軸、３３はドラム駆動装置、４０は光学
系装置の移動用駆動装置及び５０はイオン源等の移動用
駆動装置である。被加工ドラム１０に対しレーザ光Ｌ
Ｂ、イオンビームＩＢ、及び蒸着元素ＥＶによって処理
を行う概念図を図２に示す。真空度を１０-1〜１０-8To
rrに保った真空容器２０のなかで被加工ドラム１０を連
続回転させ、ドラム上部より入射したレーザ光ＬＢを伝
達・集光光学系装置ＯＰ1 ，ＯＰ2 によってドラム表面
に微細なディンプルを順次あけていく。この際、レーザ
光ＬＢの照射位置はドラムが一回転したときにある幅だ
けドラムの長手方向に移動する。
２はドラム支持軸、３３はドラム駆動装置、４０は光学
系装置の移動用駆動装置及び５０はイオン源等の移動用
駆動装置である。被加工ドラム１０に対しレーザ光Ｌ
Ｂ、イオンビームＩＢ、及び蒸着元素ＥＶによって処理
を行う概念図を図２に示す。真空度を１０-1〜１０-8To
rrに保った真空容器２０のなかで被加工ドラム１０を連
続回転させ、ドラム上部より入射したレーザ光ＬＢを伝
達・集光光学系装置ＯＰ1 ，ＯＰ2 によってドラム表面
に微細なディンプルを順次あけていく。この際、レーザ
光ＬＢの照射位置はドラムが一回転したときにある幅だ
けドラムの長手方向に移動する。
【００１６】なお図２はレーザ光ＬＢ、イオンビームＩ
Ｂ、蒸着元素ＥＶを各々２組で処理を行う場合を示して
おり、図１の装置を用いたときの例である。図２中のＬ
1-1はひとつのレーザ光ＬＢ1 によって作られた最初の
ディンプルの列であり、同様にＬ2-2 はもうひとつのレ
ーザ光ＬＢ2 によって作られた最初のディンプルの列で
ある。レーザ光ＬＢ1 ，ＬＢ2 によりイオンビームまた
はイオンビームと蒸着が作用している領域に隣接する列
Ｌ1-2 ，Ｌ2-2 のディンプル穿孔を行っている間に既に
穿孔されたＬ1-1 ，Ｌ2-1 のディンプルの列にイオンビ
ームＩＢ1 ，ＩＢ2 またはイオンビームＩＢ1 ，ＩＢ2
と蒸着元素ＥＶ1 ，ＥＶ2 の併用により表面のイオンビ
ーム処理を行う。
Ｂ、蒸着元素ＥＶを各々２組で処理を行う場合を示して
おり、図１の装置を用いたときの例である。図２中のＬ
1-1はひとつのレーザ光ＬＢ1 によって作られた最初の
ディンプルの列であり、同様にＬ2-2 はもうひとつのレ
ーザ光ＬＢ2 によって作られた最初のディンプルの列で
ある。レーザ光ＬＢ1 ，ＬＢ2 によりイオンビームまた
はイオンビームと蒸着が作用している領域に隣接する列
Ｌ1-2 ，Ｌ2-2 のディンプル穿孔を行っている間に既に
穿孔されたＬ1-1 ，Ｌ2-1 のディンプルの列にイオンビ
ームＩＢ1 ，ＩＢ2 またはイオンビームＩＢ1 ，ＩＢ2
と蒸着元素ＥＶ1 ，ＥＶ2 の併用により表面のイオンビ
ーム処理を行う。
【００１７】この様な複数組のＬＢ，ＩＢ，ＥＶは、高
生産性を得るためのものである。このときドラムとレー
ザ光、イオンビーム、蒸着元素とはその相対位置がドラ
ムの軸と平行に変化するのであればドラムまたはレーザ
光、イオンビーム、蒸着元素のいずれかが停止していて
もよい。レーザ光を伝達・集光する光学系装置とイオン
ビーム源または電子ビーム源、イオンビーム源と蒸着源
をひとつの真空容器内に持つ装置を用いることにより、
装置間のドラムの組かえの手間、真空排気の時間を減じ
て効率よく加工を行うことが出来るものである。
生産性を得るためのものである。このときドラムとレー
ザ光、イオンビーム、蒸着元素とはその相対位置がドラ
ムの軸と平行に変化するのであればドラムまたはレーザ
光、イオンビーム、蒸着元素のいずれかが停止していて
もよい。レーザ光を伝達・集光する光学系装置とイオン
ビーム源または電子ビーム源、イオンビーム源と蒸着源
をひとつの真空容器内に持つ装置を用いることにより、
装置間のドラムの組かえの手間、真空排気の時間を減じ
て効率よく加工を行うことが出来るものである。
【００１８】
【実施例】試験を実施する本発明の薄板鋳片鋳造用冷却
ドラムの形状及びその加工時の条件を以下に示す。 ドラム形状；φ１２００mm、長さ８００mm ドラム材質；ニッケル （加工条件） 回転数；１．６６RPM 真空度；１０-4torr レーザ光波長；１．０６μｍ（ＹＡＧレーザ） レーザ光パルス幅；０．１msec レーザ光出力；２００mJ ビーム径 （ドラム１） イオンビーム加速電圧；７０kV、 イオン種；Ｔｉイオン ドーズ量；５×１０17ions／cm2 （ドラム２） イオンビーム加速電圧；３０kV、 イオン種；窒素イオン 蒸着金属；クロム 蒸着膜厚；３μｍ 以上の条件で加工したドラムにはディンプル形状として
内径２００μｍ、深さ５００μｍのディンプルをつくっ
た。このドラム１、ドラム２およびイオンビーム処理を
行わなかった比較用ドラムで各々薄板鋳片の鋳込みを実
施すると電子ビーム加工のみでイオンビーム処理を行わ
なかったドラムにより鋳込んだ場合での摩耗による寿命
に対して、イオンビーム処理を行ったドラム１、ドラム
２は摩耗による寿命を各々１．５倍、２倍とすることが
出来る。
ドラムの形状及びその加工時の条件を以下に示す。 ドラム形状；φ１２００mm、長さ８００mm ドラム材質；ニッケル （加工条件） 回転数；１．６６RPM 真空度；１０-4torr レーザ光波長；１．０６μｍ（ＹＡＧレーザ） レーザ光パルス幅；０．１msec レーザ光出力；２００mJ ビーム径 （ドラム１） イオンビーム加速電圧；７０kV、 イオン種；Ｔｉイオン ドーズ量；５×１０17ions／cm2 （ドラム２） イオンビーム加速電圧；３０kV、 イオン種；窒素イオン 蒸着金属；クロム 蒸着膜厚；３μｍ 以上の条件で加工したドラムにはディンプル形状として
内径２００μｍ、深さ５００μｍのディンプルをつくっ
た。このドラム１、ドラム２およびイオンビーム処理を
行わなかった比較用ドラムで各々薄板鋳片の鋳込みを実
施すると電子ビーム加工のみでイオンビーム処理を行わ
なかったドラムにより鋳込んだ場合での摩耗による寿命
に対して、イオンビーム処理を行ったドラム１、ドラム
２は摩耗による寿命を各々１．５倍、２倍とすることが
出来る。
【００１９】
【発明の効果】この様に本発明によれば、激しい熱環境
に対しても耐摩耗性が高く、長期間の操業が可能となる
薄肉鋳片圧延用冷却ドラム、および、ひとつの真空容器
中で高エネルギービームを用いてディンプルを製作する
ことにより効率よく薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムを製造す
ることが出来る装置を実現するものである。
に対しても耐摩耗性が高く、長期間の操業が可能となる
薄肉鋳片圧延用冷却ドラム、および、ひとつの真空容器
中で高エネルギービームを用いてディンプルを製作する
ことにより効率よく薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムを製造す
ることが出来る装置を実現するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のドラム加工装置の一例を示す一部断面
側面図である。
側面図である。
【図２】本発明の装置によりドラムを加工・処理する状
態を示す斜視図である。
態を示す斜視図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）は、加工・処理されたディ
ンプルの拡大断面図で、（ａ）はレーザ光で加工した状
態を示し、（ｂ）は更にイオンビーム処理した状態を示
す。
ンプルの拡大断面図で、（ａ）はレーザ光で加工した状
態を示し、（ｂ）は更にイオンビーム処理した状態を示
す。
１０…加工を行うドラム １１…ドラム表面 １２…イオンビームによる処理層 １３…ディンプルの底部 ２０…真空容器 ２１…真空容器２の蓋 ２２…真空容器２の蓋 ３０…ドラム駆動装置の支持台 ３１…ドラムの支持軸 ３２…ドラムの支持軸 ３３…ドラムの駆動装置 ４０…レーザ光を伝達・集光する光学系装置の移動用駆
動装置 ４１…レーザ光を伝達・集光する光学系装置の移動機構 ５０…イオン源またはイオン源と蒸着源の移動用駆動装
置
動装置 ４１…レーザ光を伝達・集光する光学系装置の移動機構 ５０…イオン源またはイオン源と蒸着源の移動用駆動装
置
Claims (8)
- 【請求項１】 ドラム表面がレーザ光の照射により形成
された表面凹凸を有すると共に、イオンビームで改質さ
れた表層部で覆われたことを特徴とする薄肉鋳片鋳造用
冷却ドラム。 - 【請求項２】 ドラム表面がレーザ光の照射により形成
された表面凹凸を有すると共に、イオンビーム及び蒸着
の併用によって改質された表層部で覆われたことを特徴
とする薄肉鋳片鋳造用冷却ドラム。 - 【請求項３】 真空容器内にドラム駆動機構を設けると
共に、該駆動機構に設置されたドラムの表面にレーザ光
とイオンビームを照射する移動可能なレーザ光伝達・集
光光学系装置およびイオンビーム源を設けたことを特徴
とする薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムの加工装置。 - 【請求項４】 ドラム駆動機構がドラム回転機構を含む
請求項３記載の加工装置。 - 【請求項５】 ドラム駆動機構がドラム回転及び移動機
構を含む請求項３記載の加工装置。 - 【請求項６】 真空容器内にドラム駆動機構を設けると
共に、該駆動機構に設置されたドラムの表面にレーザ光
とイオンビームを照射する移動可能なレーザ光伝達・集
光光学系装置、イオンビーム源および蒸着源を設けたこ
とを特徴とする薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムの加工装置。 - 【請求項７】 ドラム駆動機構がドラム回転装置を含む
請求項６記載の加工装置。 - 【請求項８】 ドラム駆動機構がドラム回転及び駆動機
構を含む請求項６記載の加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4178413A JPH0623493A (ja) | 1992-07-06 | 1992-07-06 | 薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムとその加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4178413A JPH0623493A (ja) | 1992-07-06 | 1992-07-06 | 薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムとその加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0623493A true JPH0623493A (ja) | 1994-02-01 |
Family
ID=16048065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4178413A Pending JPH0623493A (ja) | 1992-07-06 | 1992-07-06 | 薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムとその加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0623493A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108817710A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-11-16 | 江南工业集团有限公司 | 一种薄壁壳体激光焊接装夹装置和操作方法 |
| CN109365993A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-02-22 | 江苏大学 | 一种轧辊激光毛化加工设备及其加工方法 |
-
1992
- 1992-07-06 JP JP4178413A patent/JPH0623493A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108817710A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-11-16 | 江南工业集团有限公司 | 一种薄壁壳体激光焊接装夹装置和操作方法 |
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