JPS5920468A - 蒸着方法 - Google Patents
蒸着方法Info
- Publication number
- JPS5920468A JPS5920468A JP13082282A JP13082282A JPS5920468A JP S5920468 A JPS5920468 A JP S5920468A JP 13082282 A JP13082282 A JP 13082282A JP 13082282 A JP13082282 A JP 13082282A JP S5920468 A JPS5920468 A JP S5920468A
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- JP
- Japan
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- electron beam
- vapor deposition
- vessel
- acceleration voltage
- evaporation
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属薄膜型磁気記録媒体や、他の機能薄膜を
連続して長時間安定に生産するに適した蒸着方法に関す
る。
連続して長時間安定に生産するに適した蒸着方法に関す
る。
広幅の高分子成形物基板上に、Ｇｏ 、 Ｃｏ合金等を
酸素雰囲気中で斜め蒸着して、高密度記録に適した媒体
を製造する技術が、磁気テープの新しい製造技術として
注目されている。
酸素雰囲気中で斜め蒸着して、高密度記録に適した媒体
を製造する技術が、磁気テープの新しい製造技術として
注目されている。
これに用いられる蒸発方法としては、耐火物を容器とし
た、電子ビーム加熱式のものが良いとされている。
た、電子ビーム加熱式のものが良いとされている。
この方法で、連続して長尺ものへの蒸着を行う上で、当
然行われなければならない要件として、蒸発材料の補給
がある。
然行われなければならない要件として、蒸発材料の補給
がある。
その場合、電子ビームの制御性の良さに着目して、供給
材料への電子ビームの照射と、蒸発溶湯面への照射とを
、偏向磁界を工夫することでひとつの電子ビーム発生器
で行う方法と、溶解供給専用に別に電子ビーム発生器を
設ける方法の２種類が、当然考えられる。
材料への電子ビームの照射と、蒸発溶湯面への照射とを
、偏向磁界を工夫することでひとつの電子ビーム発生器
で行う方法と、溶解供給専用に別に電子ビーム発生器を
設ける方法の２種類が、当然考えられる。
しかしこれらは、これまで具体的に実施された例がなく
、そこで本発明者が両者について実施したところ、前者
は、蒸発が不安定になることと、溶解供給位置が蒸発域
と溶解域とをひとつの電子ビームの走査で加熱すること
から、蒸発域の端部と極めて近くなシ、この結果スプラ
ッシュの影響を受け、ピンホールの多数の発生、または
基板に穴があくなど、磁気記録媒体の製造に不都合が生
じやすく、また、後者は設備コストの高くなる点と、溶
解専用の電子ビーム発生器の真空放電が蒸発用の電子ビ
ーム発生器の真空放電全誘発しやすいという欠点が明ら
かになった。
、そこで本発明者が両者について実施したところ、前者
は、蒸発が不安定になることと、溶解供給位置が蒸発域
と溶解域とをひとつの電子ビームの走査で加熱すること
から、蒸発域の端部と極めて近くなシ、この結果スプラ
ッシュの影響を受け、ピンホールの多数の発生、または
基板に穴があくなど、磁気記録媒体の製造に不都合が生
じやすく、また、後者は設備コストの高くなる点と、溶
解専用の電子ビーム発生器の真空放電が蒸発用の電子ビ
ーム発生器の真空放電全誘発しやすいという欠点が明ら
かになった。
本発明は、後者の欠点をなくすためになされたもので、
その要旨とするところは、蒸発用の電子ビームの加速電
圧１Ｅｖ（ＫＶ〕とし、溶解供給用の電子ビームの加速
電圧ｋＥＭ［：ＫＶ〕とすると、Ｅｖ−ＥＭ）５ （Ｋ
Ｖ）の関係を満たす条件で蒸発源を加熱し蒸発せしめる
ものである。
その要旨とするところは、蒸発用の電子ビームの加速電
圧１Ｅｖ（ＫＶ〕とし、溶解供給用の電子ビームの加速
電圧ｋＥＭ［：ＫＶ〕とすると、Ｅｖ−ＥＭ）５ （Ｋ
Ｖ）の関係を満たす条件で蒸発源を加熱し蒸発せしめる
ものである。
以下に具体的に本発明の実施例を図面を用い説明する。
〔実施例１〕
図に示すように円筒状キャン１（直径１ ｍ、幅７ｏｃ
ｍ）にｒｅ ッて６ｏ ｍ／ｍｉｎ の速度で移動する
ポリエチレンテレフタレートフィルム基板２（厚さ１ｏ
、ｔｓ μｍ ）上に、２ＸＩＱＴＯｒｒの酸素雰囲気
中で、ｃｏ ｓ ｏ％、Ｎ１２ｏ％の磁性層を最小入射
角４６°で０．１μｍの厚さに形成した。蒸発源容器３
はＺｒＯ２製で、内容積は２．５４である。蒸着材料と
してＧｏ ８０％、Ｎｉ２Ｏ％からなる直径１．５ｍｍ
のワイヤ４を供給することとし、寸だ蒸発用の電子ビー
ム５の加速電圧ＥｖをＥｖ ＝ ３０ （ＫＶ”Ｊ、溶
解用の電子ビーム６の加速電圧ＥＭｋＥＭ＝２０（ＫＶ
）とした。
ｍ）にｒｅ ッて６ｏ ｍ／ｍｉｎ の速度で移動する
ポリエチレンテレフタレートフィルム基板２（厚さ１ｏ
、ｔｓ μｍ ）上に、２ＸＩＱＴＯｒｒの酸素雰囲気
中で、ｃｏ ｓ ｏ％、Ｎ１２ｏ％の磁性層を最小入射
角４６°で０．１μｍの厚さに形成した。蒸発源容器３
はＺｒＯ２製で、内容積は２．５４である。蒸着材料と
してＧｏ ８０％、Ｎｉ２Ｏ％からなる直径１．５ｍｍ
のワイヤ４を供給することとし、寸だ蒸発用の電子ビー
ム５の加速電圧ＥｖをＥｖ ＝ ３０ （ＫＶ”Ｊ、溶
解用の電子ビーム６の加速電圧ＥＭｋＥＭ＝２０（ＫＶ
）とした。
なお図における７はスプラッシュの影響を抑制するだめ
の防着板、８は送り出し軸、９は巻取シ軸、１０は中間
ローラーである。
の防着板、８は送り出し軸、９は巻取シ軸、１０は中間
ローラーである。
蒸着長さは９０００ ｍとし、６回実施した。
下表は、以上の実施例における放電状況をまとめて示す
ものである。
ものである。
（以下余白）
この表より、溶解用の放電頻度がスプラッシュの影響を
主として受けて多いのにもかかわらず、その放電の影響
を蒸発用の電子ビーム発生器は、殆んど受けてないこと
が理解される。
主として受けて多いのにもかかわらず、その放電の影響
を蒸発用の電子ビーム発生器は、殆んど受けてないこと
が理解される。
これに対して、Ｅｖ＝３ｏＫＶ 、ＥＭ＝３０ＫＶで実
施しだ場合は、８０％近い影響を受けた。
施しだ場合は、８０％近い影響を受けた。
〔実施例２〕
実施例１におけるワイヤの代わりに、棒（直径、！
３２ｍｍ）を供給材として用い、ＥＶ＝４０ＫＶ 。
ξ−３ＱＫＶで他の条件は実施例１と同じ条件と ゛し
実施した。その結果を下の表に示す。
実施した。その結果を下の表に示す。
一方Ｅｖ ＝４０１ＣＶ 、 ’Ｋｗ ＝４０Ｋ Ｖ
ｆ実施スルト影響受けた放電は９ｏ％あった。他の多く
の組み合わせで、影響を受ける率をまとめたところＥＶ
−Ｅ、の値と強い相関性をもち、他の条件とはほとんど
相関性がなかった。
ｆ実施スルト影響受けた放電は９ｏ％あった。他の多く
の組み合わせで、影響を受ける率をまとめたところＥＶ
−Ｅ、の値と強い相関性をもち、他の条件とはほとんど
相関性がなかった。
なお以上のことは、基本的な条件として、スプラッシュ
の少ない材料を用いることが当然性われた上でのことで
ある。
の少ない材料を用いることが当然性われた上でのことで
ある。
さて以上のことから、Ｅｖ−ＥＭが５ＫＶ以上あれば、
蒸発側の放電のうち溶解側の影響を受けた放電の割合が
、１０％以下に抑えられる。そして好１しくは１０ＫＶ
以上の差をもたせることで、相互干渉をより抑制できる
といえる。
蒸発側の放電のうち溶解側の影響を受けた放電の割合が
、１０％以下に抑えられる。そして好１しくは１０ＫＶ
以上の差をもたせることで、相互干渉をより抑制できる
といえる。
なおここで、蒸発用にしても、溶解用にしてもエネルギ
ー効率を良くするために、ビームを集束しやすい条件を
選択することになり、そこで勢い高い加速電圧を選ぶこ
とになり、結果的に放電が起った時には逆に放電のエネ
ルギーが大きくなシ、以上のことから複数台の電子ビー
ム発生器を隣接して用いると、相互干渉を誘発しやすい
ことに上述の条件範囲が存在しているものと考えられる
。
ー効率を良くするために、ビームを集束しやすい条件を
選択することになり、そこで勢い高い加速電圧を選ぶこ
とになり、結果的に放電が起った時には逆に放電のエネ
ルギーが大きくなシ、以上のことから複数台の電子ビー
ム発生器を隣接して用いると、相互干渉を誘発しやすい
ことに上述の条件範囲が存在しているものと考えられる
。
以上のように本発明によると蒸着を安定に行うことが可
能となる。
能となる。
なお本発明は１例えばＳｌの蒸着、イオンブレーティン
グ等と組み合わせた他の材料の蒸着等においても充分そ
の効果を発揮するものである。
グ等と組み合わせた他の材料の蒸着等においても充分そ
の効果を発揮するものである。
図は本発明の実施例において用いられた蒸着装置の要部
の斜視図である。 １・・・・・・円筒状キャン、２・・・・・・基板、３
・・・・・蒸発源容器、５・・・・・・蒸発用電子ビー
ム、６・・・・・・溶解用電子ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ン ） ３１５ グ（Ｏ ）
の斜視図である。 １・・・・・・円筒状キャン、２・・・・・・基板、３
・・・・・蒸発源容器、５・・・・・・蒸発用電子ビー
ム、６・・・・・・溶解用電子ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ン ） ３１５ グ（Ｏ ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 移動中の基板の幅方向と平行な方向に長軸を有する容器
中に供給された蒸着材料を溶解用の電子ビームの照射に
より加熱溶解し、さらに、溶解した蒸着材料を蒸発用の
電子ビームの照射により加熱蒸発せしめて上記基板上に
蒸着膜を形成するに際し、上記溶解用の電子ビームの加
速電圧ｉＥＭ〔Ｋｖ〕、上記蒸発用の電子ビームの加速
電圧をＥｖＣＫｖ〕とすると、Ｅｖ−ＥＭ＞５ （ＫＶ
：］の条件を満たすようにすることを特徴とする蒸着方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13082282A JPS5920468A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13082282A JPS5920468A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 蒸着方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5920468A true JPS5920468A (ja) | 1984-02-02 |
| JPS6147221B2 JPS6147221B2 (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=15043520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13082282A Granted JPS5920468A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5920468A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0214424A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-18 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013100581A (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-23 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置及び蒸着方法 |
-
1982
- 1982-07-27 JP JP13082282A patent/JPS5920468A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0214424A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-18 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6147221B2 (ja) | 1986-10-17 |
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