JPH06224469A - 半導体発光装置 - Google Patents
半導体発光装置Info
- Publication number
- JPH06224469A JPH06224469A JP3138893A JP3138893A JPH06224469A JP H06224469 A JPH06224469 A JP H06224469A JP 3138893 A JP3138893 A JP 3138893A JP 3138893 A JP3138893 A JP 3138893A JP H06224469 A JPH06224469 A JP H06224469A
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- leds
- light emitting
- emitting device
- semiconductor light
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 基板1上にLED5のアレイを備え、相隣接
するLED5の間に各LED5の側面から出る光の反射
壁10が設けられている。各LED5の側面から発する
光は反射壁10において反射するため、隣接するLED
5において反射することはない。 【効果】 例えば電子写真用感光ドラムの露光用光源に
利用した場合には画像の滲みを防止してシャープな画像
を得ることができ、光の利用効率が上がり光量が増大す
る。
するLED5の間に各LED5の側面から出る光の反射
壁10が設けられている。各LED5の側面から発する
光は反射壁10において反射するため、隣接するLED
5において反射することはない。 【効果】 例えば電子写真用感光ドラムの露光用光源に
利用した場合には画像の滲みを防止してシャープな画像
を得ることができ、光の利用効率が上がり光量が増大す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上にLEDアレイ
を備えた半導体発光装置に関し、例えばページプリンタ
の感光ドラムの露光用光源として用いられる。
を備えた半導体発光装置に関し、例えばページプリンタ
の感光ドラムの露光用光源として用いられる。
【0002】
【従来の技術】図8に示すような基板100上にLED
101のアレイを備えた半導体発光装置を、例えばペー
ジプリンタの感光ドラムの露光用光源として用い、各L
ED101の図において上方側の発光面101aから図
中実線矢印で示すように発する光によって、感光ドラム
上に各LED101に対応するドットを潜像として形成
することが提案されている。
101のアレイを備えた半導体発光装置を、例えばペー
ジプリンタの感光ドラムの露光用光源として用い、各L
ED101の図において上方側の発光面101aから図
中実線矢印で示すように発する光によって、感光ドラム
上に各LED101に対応するドットを潜像として形成
することが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、各LED10
1からは発光面101aからだけでなく側面101bか
らも図中破線矢印で示すように光が発せられ、その光は
隣接するLED101の側面101bにおいて反射す
る。そのため、例えば図において中央のLED101の
みしか発光していない場合でも、その両隣のLED10
1の端部までもが発光したように見え、感光ドラム上に
潜像として形成されるドットの輪郭が不明瞭になって電
子写真画像の滲みの原因になる。また、各LED101
から発する光の利用効率が低いという問題がある。
1からは発光面101aからだけでなく側面101bか
らも図中破線矢印で示すように光が発せられ、その光は
隣接するLED101の側面101bにおいて反射す
る。そのため、例えば図において中央のLED101の
みしか発光していない場合でも、その両隣のLED10
1の端部までもが発光したように見え、感光ドラム上に
潜像として形成されるドットの輪郭が不明瞭になって電
子写真画像の滲みの原因になる。また、各LED101
から発する光の利用効率が低いという問題がある。
【0004】本発明は、上記従来技術の問題を解決する
ことのできる半導体発光装置を提供することを目的とす
る。
ことのできる半導体発光装置を提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上にLE
Dアレイを備えた半導体発光装置において、相隣接する
LEDの間に各LEDの側面から出る光の反射壁が設け
られていることを特徴とするものである。
Dアレイを備えた半導体発光装置において、相隣接する
LEDの間に各LEDの側面から出る光の反射壁が設け
られていることを特徴とするものである。
【0006】
【作用】本発明の構成によれば、各LEDの側面から発
する光は、隣接するLEDとの間に設けられた反射壁に
おいて反射するため隣接するLEDにおいて反射するこ
とはない。
する光は、隣接するLEDとの間に設けられた反射壁に
おいて反射するため隣接するLEDにおいて反射するこ
とはない。
【0007】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。
する。
【0008】図2に示す半導体発光装置4は、シリコン
基板1の一方の主面側に列をなして形成された複数のメ
サ形状のLED5のアレイと、各LED5の隣接間に形
成された反射壁10とを備えている。
基板1の一方の主面側に列をなして形成された複数のメ
サ形状のLED5のアレイと、各LED5の隣接間に形
成された反射壁10とを備えている。
【0009】その半導体発光装置4の製造方法を図3〜
図7に基づいて説明する。
図7に基づいて説明する。
【0010】まず、図3に示すようにシリコン基板1の
一方の主面1aと他方の主面1bの全面に、酸化シリコ
ン膜2a、2bを熱酸化法により形成する。例えば、シ
リコン基板1を1100℃〜1150℃の酸素(O2 )
雰囲気中において約60分間酸化処理することで、厚さ
1500Å〜10000Åの酸化シリコン膜2a、2b
を形成する。
一方の主面1aと他方の主面1bの全面に、酸化シリコ
ン膜2a、2bを熱酸化法により形成する。例えば、シ
リコン基板1を1100℃〜1150℃の酸素(O2 )
雰囲気中において約60分間酸化処理することで、厚さ
1500Å〜10000Åの酸化シリコン膜2a、2b
を形成する。
【0011】次に、図4に示すようにシリコン基板1の
一方の主面1aに形成された酸化シリコン膜2aの一部
をフォトリソグラフィーにより帯状に除去することで、
その一方の主面1aに形成された酸化シリコン膜2aを
絶縁マスクとする。
一方の主面1aに形成された酸化シリコン膜2aの一部
をフォトリソグラフィーにより帯状に除去することで、
その一方の主面1aに形成された酸化シリコン膜2aを
絶縁マスクとする。
【0012】次に、そのマスク2aにより選択された帯
状のシリコン基板部分に、図5に示すようにIII −V族
やII−VI族の半導体結晶を、例えば有機金属気相エピタ
キシー(MOCVD)や分子線エピタキシー(MBE)
を用い成長させてエピタキシャル層3を形成する。その
エピタキシャル層3は、例えばガリウム砒素(GaA
s)、ガリウム砒素リン(GaAsP)、ガリウムリン
(GaP)等の成長層であるバッファー層3aと、ガリ
ウム砒素、アルミニウムガリウム砒素(AlGaA
s)、インジウムガリウム砒素(InGaAs)、ガリ
ウム砒素リン等の成長層であるn形半導体層3b、p形
半導体層3cおよび高濃度にドープされたp+形半導体
層3dとで構成する。
状のシリコン基板部分に、図5に示すようにIII −V族
やII−VI族の半導体結晶を、例えば有機金属気相エピタ
キシー(MOCVD)や分子線エピタキシー(MBE)
を用い成長させてエピタキシャル層3を形成する。その
エピタキシャル層3は、例えばガリウム砒素(GaA
s)、ガリウム砒素リン(GaAsP)、ガリウムリン
(GaP)等の成長層であるバッファー層3aと、ガリ
ウム砒素、アルミニウムガリウム砒素(AlGaA
s)、インジウムガリウム砒素(InGaAs)、ガリ
ウム砒素リン等の成長層であるn形半導体層3b、p形
半導体層3cおよび高濃度にドープされたp+形半導体
層3dとで構成する。
【0013】次に、その帯状に成長したエピタキシャル
層3をLED5になる部分と反射壁10になる部分とを
残して除去するため、図6の(1)に示すようにLED
5に対応する部分と反射壁10に対応する部分とにレジ
スト11を形成し、しかる後に図6の(2)に示すよう
にエッチングを行ない、次に、図6の(3)に示すよう
にレジスト11を除去する。なお、エッチングは深さ方
向だけでなく横方向にも進行するためレジスト11の幅
はエッチング深さの2倍以上とする。エッチング液は一
般的な硫酸、過酸化水素および水を混合したものを用い
ることができる。なお、面方位によりエッチングレート
が相違することに基づき、互いに対向するLED5の上
部側面は逆メサ部5′となっている。
層3をLED5になる部分と反射壁10になる部分とを
残して除去するため、図6の(1)に示すようにLED
5に対応する部分と反射壁10に対応する部分とにレジ
スト11を形成し、しかる後に図6の(2)に示すよう
にエッチングを行ない、次に、図6の(3)に示すよう
にレジスト11を除去する。なお、エッチングは深さ方
向だけでなく横方向にも進行するためレジスト11の幅
はエッチング深さの2倍以上とする。エッチング液は一
般的な硫酸、過酸化水素および水を混合したものを用い
ることができる。なお、面方位によりエッチングレート
が相違することに基づき、互いに対向するLED5の上
部側面は逆メサ部5′となっている。
【0014】次に、図7に示すようにLED5を保護膜
9により覆い、p+ 形半導体層3dと基板1の他方の主
面1bとに電極6a、6bを接続する。その電極6a、
6bは例えばクロム金(CrAu)を用いる。なお、各
LED5は例えば60μm×50μm程度の平面視矩形
のメサ形状とし、84μm程度のピッチで配置すると共
に、そのピッチ間中央に反射壁10を位置させる。
9により覆い、p+ 形半導体層3dと基板1の他方の主
面1bとに電極6a、6bを接続する。その電極6a、
6bは例えばクロム金(CrAu)を用いる。なお、各
LED5は例えば60μm×50μm程度の平面視矩形
のメサ形状とし、84μm程度のピッチで配置すると共
に、そのピッチ間中央に反射壁10を位置させる。
【0015】上記構成によれば、図1に示すように、各
LED5の側面5bから発する光は図中破線矢印で示す
ように反射壁10において反射するため、隣接するLE
D5において反射することはなく、各LED5の図にお
いて上方側の発光面5aから図中実線矢印で示すように
発する光と共に利用することが可能になる。
LED5の側面5bから発する光は図中破線矢印で示す
ように反射壁10において反射するため、隣接するLE
D5において反射することはなく、各LED5の図にお
いて上方側の発光面5aから図中実線矢印で示すように
発する光と共に利用することが可能になる。
【0016】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではない。例えば、基板はシリンコンに限定されずG
aAs等を用いてもよい。また、反射壁10に反射率の
大きい金属等を蒸着してもよい。
のではない。例えば、基板はシリンコンに限定されずG
aAs等を用いてもよい。また、反射壁10に反射率の
大きい金属等を蒸着してもよい。
【0017】
【発明の効果】本発明の半導体発光装置によれば、各L
EDの発する光が隣接するLEDにおいて反射するのを
防止して各発光領域を絞ることができるので、例えば電
子写真用感光ドラムの露光用光源として利用した場合に
は画像の滲みを防止してシャープな画像を得ることがで
き、また、光の利用効率が上がり光量が増大する。
EDの発する光が隣接するLEDにおいて反射するのを
防止して各発光領域を絞ることができるので、例えば電
子写真用感光ドラムの露光用光源として利用した場合に
は画像の滲みを防止してシャープな画像を得ることがで
き、また、光の利用効率が上がり光量が増大する。
【図1】本発明の実施例の半導体発光装置の構成説明図
【図2】本発明の実施例の半導体発光装置の斜視図
【図3】本発明の実施例の半導体発光装置の製造の第1
工程の説明図
工程の説明図
【図4】本発明の実施例の半導体発光装置の製造用絶縁
マスクの平面図
マスクの平面図
【図5】本発明の実施例の半導体発光装置の製造途中で
の断面図
の断面図
【図6】本発明の実施例の半導体発光装置のエッチング
工程の説明図
工程の説明図
【図7】本発明の実施例の半導体発光装置の断面構成を
示す図
示す図
【図8】従来の半導体発光装置の構成説明図
1 基板 5 LED 10 反射壁
Claims (1)
- 【請求項1】 基板上にLEDアレイを備え、相隣接す
るLEDの間に各LEDの側面から出る光の反射壁が設
けられている半導体発光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3138893A JPH06224469A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 半導体発光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3138893A JPH06224469A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 半導体発光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06224469A true JPH06224469A (ja) | 1994-08-12 |
Family
ID=12329881
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3138893A Pending JPH06224469A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 半導体発光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06224469A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002015287A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Strahlungsemittierender halbleiterchip und lumineszenzdiode |
JP2005277152A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Daido Steel Co Ltd | 点光源発光ダイオードおよびその製造方法 |
JP2006245380A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及び半導体発光素子の製造方法 |
JP2008124372A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Fuji Xerox Co Ltd | Ledアレイ、ledアレイヘッド及び画像記録装置 |
WO2014087938A1 (ja) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | シチズンホールディングス株式会社 | Ledモジュール |
FR3087580A1 (fr) * | 2018-10-23 | 2020-04-24 | Aledia | Procede de realisation d’un dispositif optoelectronique comprenant des diodes electroluminescentes homogenes en dimensions |
WO2024024239A1 (ja) * | 2022-07-28 | 2024-02-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置とその製造方法 |
-
1993
- 1993-01-26 JP JP3138893A patent/JPH06224469A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002015287A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Strahlungsemittierender halbleiterchip und lumineszenzdiode |
US6891199B2 (en) | 2000-08-11 | 2005-05-10 | Osram Gmbh | Radiation-emitting semiconductor chip and light-emitting diode |
JP2005277152A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Daido Steel Co Ltd | 点光源発光ダイオードおよびその製造方法 |
JP2006245380A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及び半導体発光素子の製造方法 |
JP2008124372A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Fuji Xerox Co Ltd | Ledアレイ、ledアレイヘッド及び画像記録装置 |
WO2014087938A1 (ja) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | シチズンホールディングス株式会社 | Ledモジュール |
JP5634647B1 (ja) * | 2012-12-03 | 2014-12-03 | シチズンホールディングス株式会社 | Ledモジュール |
US9810381B2 (en) | 2012-12-03 | 2017-11-07 | Citizen Watch Co., Ltd. | LED module |
FR3087580A1 (fr) * | 2018-10-23 | 2020-04-24 | Aledia | Procede de realisation d’un dispositif optoelectronique comprenant des diodes electroluminescentes homogenes en dimensions |
WO2020084226A1 (fr) * | 2018-10-23 | 2020-04-30 | Aledia | Procédé de réalisation d'un dispositif optoélectronique comprenant des diodes électroluminescentes homogènes en dimensions |
US11894413B2 (en) | 2018-10-23 | 2024-02-06 | Aledia | Method for producing an optoelectronic device comprising light-emitting diodes which are homogeneous in dimensions |
WO2024024239A1 (ja) * | 2022-07-28 | 2024-02-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置とその製造方法 |
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