JPH062213B2 - ハロゲン系廃ガスの乾式処理剤 - Google Patents
ハロゲン系廃ガスの乾式処理剤Info
- Publication number
- JPH062213B2 JPH062213B2 JP2286561A JP28656190A JPH062213B2 JP H062213 B2 JPH062213 B2 JP H062213B2 JP 2286561 A JP2286561 A JP 2286561A JP 28656190 A JP28656190 A JP 28656190A JP H062213 B2 JPH062213 B2 JP H062213B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste gas
- halogen
- gas
- treatment agent
- treatment
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ≪産業上の利用分野≫ 本発明は、塩化ホウ素、フッ化水素などのハロゲン系の
有害ガスを含有する廃ガスの除害をするための処理剤に
関し、これらの有害ガスを長期間高い効率で除害できる
ものを提供するものである。
有害ガスを含有する廃ガスの除害をするための処理剤に
関し、これらの有害ガスを長期間高い効率で除害できる
ものを提供するものである。
≪従来技術≫ 上記ハロゲン系廃ガスの代表例としては、半導体製造過
程での廃ガスがあるが、この半導体廃ガスの除害剤とし
て、従来、活性炭に炭酸ナトリウムを含浸させたものや
水酸化カルシウム粒に酸化銅を担持させたものが知られ
ている。
程での廃ガスがあるが、この半導体廃ガスの除害剤とし
て、従来、活性炭に炭酸ナトリウムを含浸させたものや
水酸化カルシウム粒に酸化銅を担持させたものが知られ
ている。
また、酸化第１鉄（FeO）と活性炭とを層状に配置した
もの（特開昭６３−１３７７３６号）や、ソーダライム
と活性炭とを層状に配置したもの（特開昭６２−１２１
６２１号）で半導体廃ガス中のハロゲン系ガスを除去す
るものも提案されている。
もの（特開昭６３−１３７７３６号）や、ソーダライム
と活性炭とを層状に配置したもの（特開昭６２−１２１
６２１号）で半導体廃ガス中のハロゲン系ガスを除去す
るものも提案されている。
≪解決しようとする課題≫ ところが、従来の活性炭に炭酸ナトリウムを含浸させた
処理剤や水酸化カルシウム粒に酸化銅を担持させた処理
剤は処理できるハロゲンガスに選択性があり、十分な処
理能力を発揮することが難しい問題があった。
処理剤や水酸化カルシウム粒に酸化銅を担持させた処理
剤は処理できるハロゲンガスに選択性があり、十分な処
理能力を発揮することが難しい問題があった。
また、酸化鉄と活性炭を層状に配置したものや活性炭と
ソーダライムとを層状に配置したものでは、活性炭の吸
着量で処理量が決定してしまい、処理能力が小さいとい
う問題があった。
ソーダライムとを層状に配置したものでは、活性炭の吸
着量で処理量が決定してしまい、処理能力が小さいとい
う問題があった。
本発明は、このような点に着目してなされたもので、フ
ッ素系、塩素系のガスを同時に除去することのできるハ
ロゲン系廃ガスの処理剤を提供することを目的とする。
ッ素系、塩素系のガスを同時に除去することのできるハ
ロゲン系廃ガスの処理剤を提供することを目的とする。
≪課題を解決するための手段≫ 上述の目的を達成するために本発明は、ハロゲン系廃ガ
スと処理剤とを接触させて当該廃ガスから有害成分を除
去する廃ガスの処理方法において、処理塔に充填する処
理剤として、ソーダライムの表面に四三酸化鉄を付着さ
せたものを用いることを特徴としている。
スと処理剤とを接触させて当該廃ガスから有害成分を除
去する廃ガスの処理方法において、処理塔に充填する処
理剤として、ソーダライムの表面に四三酸化鉄を付着さ
せたものを用いることを特徴としている。
≪作 用≫ 本発明では、処理塔に充填する処理剤として、ソーダラ
イムの表面に四三酸化鉄を付着させたものを用いるよう
にしているので、処理剤と処理ガスとが化学反応して、
廃ガス中の有害ガスを完全に無害化することができるう
え、化学反応で処理することから物理吸着のような脱着
のおそれがなく、処理剤交換時での安全性も増すことに
なる。
イムの表面に四三酸化鉄を付着させたものを用いるよう
にしているので、処理剤と処理ガスとが化学反応して、
廃ガス中の有害ガスを完全に無害化することができるう
え、化学反応で処理することから物理吸着のような脱着
のおそれがなく、処理剤交換時での安全性も増すことに
なる。
≪実 施 例≫ 図面はハロゲン系廃ガス処理装置の実験設備を示し、図
中符号（１）は半導体製造設備から排出されるハロゲン
系廃棄ガスにかわる標準ガスを収容した被処理ガスシリ
ンダ、（２）は希釈用窒素ガスを収容した希釈ガスシリ
ンダ、（３）は被処理ガスを導出する被処理ガス通路、
（４）はリアクター（処理塔）であり、処理塔（４）内
に処理剤（５）と検知剤（６）とが収容してある。
中符号（１）は半導体製造設備から排出されるハロゲン
系廃棄ガスにかわる標準ガスを収容した被処理ガスシリ
ンダ、（２）は希釈用窒素ガスを収容した希釈ガスシリ
ンダ、（３）は被処理ガスを導出する被処理ガス通路、
（４）はリアクター（処理塔）であり、処理塔（４）内
に処理剤（５）と検知剤（６）とが収容してある。
処理塔（４）に収容される処理剤（５）は、生石灰を水
酸化ナトリウムの濃厚溶液に浸し、加熱してつくった強
い塩基性の白色粒状の固形物質であるので市販のソーダ
ライムの表面に、四三酸化鉄を２０wt％付着して処理剤
（５）を形成した。
酸化ナトリウムの濃厚溶液に浸し、加熱してつくった強
い塩基性の白色粒状の固形物質であるので市販のソーダ
ライムの表面に、四三酸化鉄を２０wt％付着して処理剤
（５）を形成した。
§実験例１ 内径１６．８mmの石英製の円筒体で構成した処理塔
（４）内に粒径１〜２mmの前記処理剤（５）を１３５mm
（３０ml、２８．５ｇ）を充填し、その上にヨードデン
プン反応を利用した検知剤（６）を充填長１０mmとなる
ように充填し、さらにその上に処理剤（５）を２０mm充
填した。
（４）内に粒径１〜２mmの前記処理剤（５）を１３５mm
（３０ml、２８．５ｇ）を充填し、その上にヨードデン
プン反応を利用した検知剤（６）を充填長１０mmとなる
ように充填し、さらにその上に処理剤（５）を２０mm充
填した。
そして、処理塔（４）の下部から５％の三塩化ホウ素を
含有する窒素ガスを常温で１００ml／min（空筒線速度
０．７５cm／sec）で流通させ、検知剤（６）が白色か
ら紫色に変色する間での時間を測定した結果、２５２分
で変色した。これは、三塩化ホウ素の処理能力が４２リ
ットル／リットルの除去剤に相当する。
含有する窒素ガスを常温で１００ml／min（空筒線速度
０．７５cm／sec）で流通させ、検知剤（６）が白色か
ら紫色に変色する間での時間を測定した結果、２５２分
で変色した。これは、三塩化ホウ素の処理能力が４２リ
ットル／リットルの除去剤に相当する。
また、同様にして塩素ガスを流通させた場合の処理能力
は４４リットル／リットルであり、フッ素ガスを流通さ
せた場合の処理能力は１２０リットル／リットルであっ
た。
は４４リットル／リットルであり、フッ素ガスを流通さ
せた場合の処理能力は１２０リットル／リットルであっ
た。
なお、この場合の処理剤（６）の処理塔（４）への充填
密度は０．５〜２．０ｇ／cc、好ましくは０．８〜１．
２ｇ／ccがよく、また、空筒速度は５０００hr-1以下、
好ましくは５００hr-1以下がよい。
密度は０．５〜２．０ｇ／cc、好ましくは０．８〜１．
２ｇ／ccがよく、また、空筒速度は５０００hr-1以下、
好ましくは５００hr-1以下がよい。
§実験例２ 上述の処理剤の含有水分量に対する三塩化ホウ素の除去
量変化を測定した結果を第２図に示す。
量変化を測定した結果を第２図に示す。
この結果、含有水量は１〜２５％に設定すると、三塩化
ホウ素の処理能力を２５リットル／リットル以上に保持
できることが分かる。なお、この含有水分量は、８〜１
２％に設定することが好ましい。
ホウ素の処理能力を２５リットル／リットル以上に保持
できることが分かる。なお、この含有水分量は、８〜１
２％に設定することが好ましい。
§実験例３ 次にソーダライムに対する四三酸化鉄の付着量と三塩化
ホウ素除去量との関係を第３図に示す。
ホウ素除去量との関係を第３図に示す。
この結果、四三酸化鉄の不着量は５〜３０wt％で三塩化
ホウ素の処理能力を３０リットル／リットル以上に保持
でき、より好ましくは、２０〜２５wt％に設定すること
が好ましい。
ホウ素の処理能力を３０リットル／リットル以上に保持
でき、より好ましくは、２０〜２５wt％に設定すること
が好ましい。
§比較例１ 前記実施例の処理剤にかえて、活性炭に炭酸ナトリウム
を含浸させたものを処理塔（４）に充填して、前記実施
例と同様に三塩化ホウ素を流通させた結果は、７８分で
変色した。三塩化ホウ素の処理能力が１３リットル／リ
ットルの除去剤に相当する。
を含浸させたものを処理塔（４）に充填して、前記実施
例と同様に三塩化ホウ素を流通させた結果は、７８分で
変色した。三塩化ホウ素の処理能力が１３リットル／リ
ットルの除去剤に相当する。
同様にして塩素ガスを流通させた場合の処理能力は２２
リットル／リットル、フッ素ガスを流通させた場合の処
理能力は５０リットル／リットルであった。
リットル／リットル、フッ素ガスを流通させた場合の処
理能力は５０リットル／リットルであった。
≪効 果≫ 本発明では、処理塔に充填する処理剤として、ソーダラ
イマの表面に四三酸化鉄を付着させたものを用いている
ので、処理剤と処理ガスとが化学反応して、廃ガス中の
有害ガスを完全に無害化することができるうえ、化学反
応で処理することから物理吸着のような脱着のおそれが
なく、処理剤交換時での安全性を高めることができる。
イマの表面に四三酸化鉄を付着させたものを用いている
ので、処理剤と処理ガスとが化学反応して、廃ガス中の
有害ガスを完全に無害化することができるうえ、化学反
応で処理することから物理吸着のような脱着のおそれが
なく、処理剤交換時での安全性を高めることができる。
また、本発明の処理剤はフッ素系ガスと塩素系ガスとを
同時に除去することができるうえ、従来の除去剤よりも
単位体積当たり２〜２．５倍の除去能力を発揮すること
ができる。
同時に除去することができるうえ、従来の除去剤よりも
単位体積当たり２〜２．５倍の除去能力を発揮すること
ができる。
第１図はハロゲン系廃ガス処理用実験装置の概略構成図
であり、第２図は処理剤の含有水分量に対する三塩化ホ
ウ素の除去量変化を示すグラフ、第３図はソーダライム
に対する四三酸化鉄の付着量と三塩化ホウ素除去量との
関係を示すグラフである。
であり、第２図は処理剤の含有水分量に対する三塩化ホ
ウ素の除去量変化を示すグラフ、第３図はソーダライム
に対する四三酸化鉄の付着量と三塩化ホウ素除去量との
関係を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/205 (72)発明者 佐枝 学 滋賀県守山市勝部町1095番地 株式会社岩 谷ガス開発研究所内 (56)参考文献 特開 昭63−137736（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−121621（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】有害成分として塩化ホウ素、フッ化水素等
のハロゲン系ガスを一種以上含有する廃ガスと処理剤と
を接触させて当該廃ガスから有害成分を除去する廃ガス
の処理方法において、 処理塔に充填する処理剤として、ソーダライムの表面に
四三酸化鉄を付着させたものを用いることを特徴とする
ハロゲン系廃ガスの乾式処理剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2286561A JPH062213B2 (ja) | 1990-10-23 | 1990-10-23 | ハロゲン系廃ガスの乾式処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2286561A JPH062213B2 (ja) | 1990-10-23 | 1990-10-23 | ハロゲン系廃ガスの乾式処理剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04161224A JPH04161224A (ja) | 1992-06-04 |
| JPH062213B2 true JPH062213B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=17706005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2286561A Expired - Lifetime JPH062213B2 (ja) | 1990-10-23 | 1990-10-23 | ハロゲン系廃ガスの乾式処理剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062213B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE205419T1 (de) * | 1994-01-10 | 2001-09-15 | Advanced Tech Materials | Metallo-oxomerische scrubberzusammensetzungen und methode zur gasreinigung unter verwendung dieser zusammensetzungen |
| US6060034A (en) * | 1998-06-02 | 2000-05-09 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Abatement system for ClF3 containing exhaust gases |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62121621A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-02 | Ube Ind Ltd | 気体吸着捕捉装置 |
| JPH0741145B2 (ja) * | 1986-11-28 | 1995-05-10 | 旭硝子株式会社 | エッチング排ガス除害方法 |
-
1990
- 1990-10-23 JP JP2286561A patent/JPH062213B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04161224A (ja) | 1992-06-04 |
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