JPH06220B2 - 有機薄膜製造装置 - Google Patents
有機薄膜製造装置Info
- Publication number
- JPH06220B2 JPH06220B2 JP63261377A JP26137788A JPH06220B2 JP H06220 B2 JPH06220 B2 JP H06220B2 JP 63261377 A JP63261377 A JP 63261377A JP 26137788 A JP26137788 A JP 26137788A JP H06220 B2 JPH06220 B2 JP H06220B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- water
- organic thin
- water tank
- film manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/122—Separate manufacturing of ultra-thin membranes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は水槽及び水面上の有機材料の加熱及び冷却を行
なう有機薄膜製造装置に関するものである。
なう有機薄膜製造装置に関するものである。
従来の技術 近年、水面展開膜やこれを基板上に移し取るラングミュ
アー・ブロジット膜を用いた各種の電子デバイス、記録
材料が盛んに研究されている。この水面展開膜は、諸条
件、例えば水温、気温、pH等により膜密度、結晶性、配
向性が変化することが知られている。特に水温制御（有
機物の温度制御）は、従来から、水槽下部または側面に
水を循環させる空間を設け、温度調整した水を流す方法
（例えば、特開昭６２−２９４４３４号公報、特開昭６
３−５４９３３号公報）、水槽に直接温度調整した溶液
を流す方法（例えば、特開昭６０−１９３５３６号公
報）が行なわれている。しかし、これらの方法では、強
制的に流体を移動させているため水面上の有機分子に振
動が生じ、また水槽の温度変化に要する時間も長くな
り、有機薄膜の結晶性、配向性、生産性の点で非常に問
題がある。
アー・ブロジット膜を用いた各種の電子デバイス、記録
材料が盛んに研究されている。この水面展開膜は、諸条
件、例えば水温、気温、pH等により膜密度、結晶性、配
向性が変化することが知られている。特に水温制御（有
機物の温度制御）は、従来から、水槽下部または側面に
水を循環させる空間を設け、温度調整した水を流す方法
（例えば、特開昭６２−２９４４３４号公報、特開昭６
３−５４９３３号公報）、水槽に直接温度調整した溶液
を流す方法（例えば、特開昭６０−１９３５３６号公
報）が行なわれている。しかし、これらの方法では、強
制的に流体を移動させているため水面上の有機分子に振
動が生じ、また水槽の温度変化に要する時間も長くな
り、有機薄膜の結晶性、配向性、生産性の点で非常に問
題がある。
発明が解決しようとする課題 本発明は無振動かつ短時間に均一に水温（有機物の温
度）を調整し、有機薄膜の結晶性、配向性を精密にコン
トロールするとともに、生産性を向上させることが可能
な有機薄膜製造装置を提供することを目的とする。
度）を調整し、有機薄膜の結晶性、配向性を精密にコン
トロールするとともに、生産性を向上させることが可能
な有機薄膜製造装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 水面上に水に不溶な有機材料（脂肪酸、色素、タンパク
質、その他ＬＢ膜に成り得る材料、例えばステアリン
酸、スピロピラン、ポルフィリン誘導体、フラビン誘導
体等）を展開し薄膜とする有機薄膜製造装置において、
水槽の加熱及び冷却用のペルチェ素子を設置した水槽、
更には有機材料の加熱効率を上げるために水面への加熱
源として赤外光照射装置を有する有機薄膜製造装置であ
る。
質、その他ＬＢ膜に成り得る材料、例えばステアリン
酸、スピロピラン、ポルフィリン誘導体、フラビン誘導
体等）を展開し薄膜とする有機薄膜製造装置において、
水槽の加熱及び冷却用のペルチェ素子を設置した水槽、
更には有機材料の加熱効率を上げるために水面への加熱
源として赤外光照射装置を有する有機薄膜製造装置であ
る。
作用 本発明によれば、水面上に有機材料を展開し薄膜とする
際、水槽の温度制御をペルチェ素子及び赤外光で行なう
ことで無振動かつ短時間で均一に制御出来る。
際、水槽の温度制御をペルチェ素子及び赤外光で行なう
ことで無振動かつ短時間で均一に制御出来る。
以下詳細に説明する。用いるペルチェ素子は室温付近で
使用可能なものであり、設置場所は水槽の下部や側部で
水槽の形によつて決まり、熱拡散が良いように水槽に密
着させる。
使用可能なものであり、設置場所は水槽の下部や側部で
水槽の形によつて決まり、熱拡散が良いように水槽に密
着させる。
また、ペルチェ素子は水槽面を冷却する場合、もう一方
の面が加熱になり、冷却しなければならない。これは、
大気との温度差が小さい場合、空冷でも良いが、大きい
場合には放熱槽を設けることが望ましい。
の面が加熱になり、冷却しなければならない。これは、
大気との温度差が小さい場合、空冷でも良いが、大きい
場合には放熱槽を設けることが望ましい。
個々のペルチェ素子と電源との接続は、電源の容量や素
子の信頼性等により直例でも並列でも良く、素子に流れ
る電流の方向は、第４図で説明すると、上面冷却時にＮ
型からＰ型へ、上面加熱時にはＰ型からＮ型へなるよう
にする。
子の信頼性等により直例でも並列でも良く、素子に流れ
る電流の方向は、第４図で説明すると、上面冷却時にＮ
型からＰ型へ、上面加熱時にはＰ型からＮ型へなるよう
にする。
水面に展開した有機材料に加熱効率を更に良くするため
に赤外光を照射するが、光源にはセラミックスヒーター
が良く、可視光を含む場合に起こる有機材料の変化（光
重合反応、会合、劣化等）を抑制出来る。
に赤外光を照射するが、光源にはセラミックスヒーター
が良く、可視光を含む場合に起こる有機材料の変化（光
重合反応、会合、劣化等）を抑制出来る。
照射する赤外光の波長は水及び有機材料が吸収をもつ2.
5μｍ以上で、フィルター等を用いて変化させることが
出来る。
5μｍ以上で、フィルター等を用いて変化させることが
出来る。
赤外光の照射は第２図のように水面上部に光源12を設置
し、金コーティングシャッター13を用い、照射時間を調
整して行なうか、第３図のように遠方からの赤外光を金
コーティングシャッター13で照射時間調整し、金コーテ
ィング反射板14に反射させて行なうか、装置環境によっ
て選択出来る。
し、金コーティングシャッター13を用い、照射時間を調
整して行なうか、第３図のように遠方からの赤外光を金
コーティングシャッター13で照射時間調整し、金コーテ
ィング反射板14に反射させて行なうか、装置環境によっ
て選択出来る。
実施例１ 以下図面を参照して本発明の実施例を説明する。
第１図は本装置全体を示すもので、１は幅10cm、長さ60
cm、深さ１cmのポリテトラフロロエチレンでコートされ
た水槽、２はポリテトラフロロエチレンでコートされた
表面圧縮バーである。これはモーター11で移動する。
cm、深さ１cmのポリテトラフロロエチレンでコートされ
た水槽、２はポリテトラフロロエチレンでコートされた
表面圧縮バーである。これはモーター11で移動する。
３は表面圧変化を測定するためのプレートで、表面圧検
出はプレートの重さを測定する電子天秤４を用い、will
helmy型で行なっている。
出はプレートの重さを測定する電子天秤４を用い、will
helmy型で行なっている。
５は本発明の有機薄膜製造装置に具備するペルチェ素子
で上部水槽及び下部放熱槽６と密着している。この場合
アルミニウム製放熱槽を用いペルチェ素子からの熱放出
を吸収するようになっており、放熱槽内部はひれ状構造
で水により熱交換される。
で上部水槽及び下部放熱槽６と密着している。この場合
アルミニウム製放熱槽を用いペルチェ素子からの熱放出
を吸収するようになっており、放熱槽内部はひれ状構造
で水により熱交換される。
ペルチェ素子は合計40個で直列４個接続し、これを10個
並列にして電源16と接続されている。また、ペルチェ素
子はBi−Te系を用いている。
並列にして電源16と接続されている。また、ペルチェ素
子はBi−Te系を用いている。
15は熱電対で水温測定用である。７は基板ホルダーで、
基板の上下は８のモーターで、前後、左右は９、10のモ
ーターで制御される。以下、本装置を用いた有機薄膜の
製造例を説明する。
基板の上下は８のモーターで、前後、左右は９、10のモ
ーターで制御される。以下、本装置を用いた有機薄膜の
製造例を説明する。
まず、ステアリン酸をクロロホルムに溶解し濃度1.0g/
の展開溶媒を調整し、この溶液を18℃で2.5×10-4Ｍ
のCdCl2を含む500mlの水溶液上に少量滴下し、クロロホ
ルムを蒸発させた後、バー２を移動させ表面張力を20dy
n/cmに調整した。
の展開溶媒を調整し、この溶液を18℃で2.5×10-4Ｍ
のCdCl2を含む500mlの水溶液上に少量滴下し、クロロホ
ルムを蒸発させた後、バー２を移動させ表面張力を20dy
n/cmに調整した。
表面張力を一定に保ちながらペルチェ素子に20Ａ（１個
当り４Ｖ、２Ａ）電流を流し水温を40℃にした。この
時、要した時間は20分であった。水温を40℃に20分保
ち、次にペルチェ素子に加熱時とは逆方向に電流を流し
水槽を18℃に冷却した。この時、要した時間は15分であ
った。
当り４Ｖ、２Ａ）電流を流し水温を40℃にした。この
時、要した時間は20分であった。水温を40℃に20分保
ち、次にペルチェ素子に加熱時とは逆方向に電流を流し
水槽を18℃に冷却した。この時、要した時間は15分であ
った。
この膜を表面張力を20dyn/cmに保ちながら、金電極を設
けたSi基板を１mm/minの基板スピードで上下させ３層移
し取った。この膜の上に金電極を蒸着（面積１cm2）
し、抵抗を測定したところ1016Ω・cmであった。
けたSi基板を１mm/minの基板スピードで上下させ３層移
し取った。この膜の上に金電極を蒸着（面積１cm2）
し、抵抗を測定したところ1016Ω・cmであった。
実施例２ 実施例１の装置に赤外光光源としてセラミックスヒータ
ー12を水面上に、金コーティングシャッター13を水槽と
光源の間に設置した。
ー12を水面上に、金コーティングシャッター13を水槽と
光源の間に設置した。
次に、実施例１と同様にステアリン酸を展開し、表面張
力を20dyn/cm一定に保ちながら、ペルチェ素子に20Ａ
（１個当り４Ｖ、２Ａ）電流を流し、同時に放射体の温
度を200℃設定し、水温を40℃にした。この時、要した
時間は10分であった。水温を40℃に20分保ち、次にペル
チェ素子に加熱時とは逆方向に電流を流し水槽を18℃に
冷却した。この時、要した時間は15分であった。
力を20dyn/cm一定に保ちながら、ペルチェ素子に20Ａ
（１個当り４Ｖ、２Ａ）電流を流し、同時に放射体の温
度を200℃設定し、水温を40℃にした。この時、要した
時間は10分であった。水温を40℃に20分保ち、次にペル
チェ素子に加熱時とは逆方向に電流を流し水槽を18℃に
冷却した。この時、要した時間は15分であった。
この膜を表面張力を20dyn/cmに保ちながら、金電極を設
けたSi基板を１mm/minの基板スピードで上下させ、３層
移し取った。この膜の上に金電極を蒸着（面積１cm2）
し、抵抗を測定したところ1016Ω・cmであった。
けたSi基板を１mm/minの基板スピードで上下させ、３層
移し取った。この膜の上に金電極を蒸着（面積１cm2）
し、抵抗を測定したところ1016Ω・cmであった。
比較例 ステアリン酸をクロロホルムに溶解し濃度1.0g/の展
開溶媒を調整し、この溶液を18℃で2.5×10-4ＭのCdCl2
を含む500mlの水溶液上に少量滴下し、クロロホルムを
蒸発させた後、バー２を移動させ表面張力を20dyn/cmに
調整した。
開溶媒を調整し、この溶液を18℃で2.5×10-4ＭのCdCl2
を含む500mlの水溶液上に少量滴下し、クロロホルムを
蒸発させた後、バー２を移動させ表面張力を20dyn/cmに
調整した。
表面張力を一定に保ちながら下部水槽にサーキュレータ
を用いて水を循環させ水温を40℃にした。この時、表面
張力は±５dyn/cmで変化し、要した時間は２時間であっ
た。
を用いて水を循環させ水温を40℃にした。この時、表面
張力は±５dyn/cmで変化し、要した時間は２時間であっ
た。
水温を40℃に20分保ち、次にサーキュレータで40℃の水
を18℃に冷却し水槽を冷却した。この時、要した時間は
４時間であった。また、この時も表面張力が±５dyn/cm
で変化した。
を18℃に冷却し水槽を冷却した。この時、要した時間は
４時間であった。また、この時も表面張力が±５dyn/cm
で変化した。
この膜を表面張力を20dyn/cmに保ちながら、金電極を設
けたSi基板を１mm/minの基板スピードで上下させ３層移
し取った。この膜には縞模様があり、金電極を蒸着（面
積１cm2）し抵抗を測定したところ108〜1014Ω・cmの範
囲でばらつきがあった。
けたSi基板を１mm/minの基板スピードで上下させ３層移
し取った。この膜には縞模様があり、金電極を蒸着（面
積１cm2）し抵抗を測定したところ108〜1014Ω・cmの範
囲でばらつきがあった。
発明の効果 本発明によれば、無振動かつ短時間で均一に水槽の温度
（有機材料の温度）制御を可能とする有機薄膜製造装置
を提供することが出来る。
（有機材料の温度）制御を可能とする有機薄膜製造装置
を提供することが出来る。
図面はいずれも本発明の実施例を示すもので、第１図は
装置全体を示す斜視図、第２図は水面上からの赤外光照
射を示す説明図、第３図は赤外光の反射照射を示した説
明図、第４図はペルチェ素子を模型的に示した説明図で
ある。 １・・・水槽、２・・・バー、３・・・プレート、４・
・・電子天秤、５・・・ペルチェ素子、６・・・放熱
槽、７・・・基板ホルダー、８・・・上下モーター、
９、10・・・Ｘ−Ｙモーター、11・・・圧縮駆動モータ
ー、12・・・赤外光光源、13・・・金コーティングシャ
ッター、14・・・金コーティング反射ミラー、15・・・
熱電対、16・・・直流電源、17・・・アルミナ板、18・
・・電極、19・・・Ｎ型素子、20・・・Ｐ型素子。
装置全体を示す斜視図、第２図は水面上からの赤外光照
射を示す説明図、第３図は赤外光の反射照射を示した説
明図、第４図はペルチェ素子を模型的に示した説明図で
ある。 １・・・水槽、２・・・バー、３・・・プレート、４・
・・電子天秤、５・・・ペルチェ素子、６・・・放熱
槽、７・・・基板ホルダー、８・・・上下モーター、
９、10・・・Ｘ−Ｙモーター、11・・・圧縮駆動モータ
ー、12・・・赤外光光源、13・・・金コーティングシャ
ッター、14・・・金コーティング反射ミラー、15・・・
熱電対、16・・・直流電源、17・・・アルミナ板、18・
・・電極、19・・・Ｎ型素子、20・・・Ｐ型素子。
Claims (2)
- 【請求項１】水面上に有機材料を展開し薄膜とする有機
薄膜製造装置において、水槽の側面または／及び底部
に、加熱及び冷却用のペルチェ素子を設置した有機薄膜
製造装置。 - 【請求項２】請求項１の装置に水面への加熱源として赤
外光を照射する赤外光照射装置を付加した有機薄膜製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261377A JPH06220B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 有機薄膜製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261377A JPH06220B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 有機薄膜製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02111470A JPH02111470A (ja) | 1990-04-24 |
| JPH06220B2 true JPH06220B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=17361001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63261377A Expired - Lifetime JPH06220B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 有機薄膜製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06220B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100318151B1 (ko) * | 1998-07-25 | 2002-04-22 | 김동호 | 클럽의이중샤프트 |
| EP3034158A1 (de) * | 2014-12-17 | 2016-06-22 | Universität Potsdam | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung ultradüner Filme |
| JP6353869B2 (ja) * | 2016-06-07 | 2018-07-04 | シャープライフサイエンス株式会社 | 生体分子分析装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2341199A1 (fr) * | 1976-02-11 | 1977-09-09 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de formation et de depot sur un substrat de couches monomoleculaires de molecules amphiphiles |
| JPS6227069A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体状単分子膜形成装置 |
| JPS63224759A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-19 | Takashi Sasaki | 対流循環槽の連続成膜装置 |
-
1988
- 1988-10-19 JP JP63261377A patent/JPH06220B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02111470A (ja) | 1990-04-24 |
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