JPH0619951B2 - Flat panel display - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子ビームを用いた平板型表示装置に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display device using an electron beam.

従来例の構成とその問題点 従来の画像表示素子の基本的な一構成例を第１図に示し
て説明する。Configuration of Conventional Example and Problems Thereof A basic configuration example of a conventional image display device will be described with reference to FIG.

この表示素子は、後方から前方に向って順に背面電極
１、ビーム源としての線陰極２、垂直集束電極３，
３′、垂直偏向電極４、ビーム流制御電極５、水平集束
電極６、水平偏向電極７、ビーム加速電極８およびスク
リーン９が配置されて構成されており、これらが扁平な
ガラスバルブ（図示せず）の真空にされた内部に収納さ
れている。This display element comprises a back electrode 1, a line cathode 2 as a beam source, a vertical focusing electrode 3, and a back focusing electrode 3 in this order from the rear to the front.
3 ', a vertical deflection electrode 4, a beam flow control electrode 5, a horizontal focusing electrode 6, a horizontal deflection electrode 7, a beam accelerating electrode 8 and a screen 9 are arranged and configured, and these are flat glass bulbs (not shown). ) It is housed inside the evacuated interior.

ここでは、電子ビーム取り出し手段として垂直集束電極
３、電子ビーム制御手段としてビーム流制御電極５、電
子ビーム偏行手段として垂直、水平偏光電極４，７、発
光手段としてスクリーン９がそれぞれ対応する。Here, the vertical focusing electrode 3 serves as the electron beam extraction means, the beam flow control electrode 5 serves as the electron beam control means, the vertical and horizontal polarization electrodes 4 and 7 serve as the electron beam biasing means, and the screen 9 serves as the light emitting means.

ビーム源としての線陰極２は水平方向に線状に分布する
電子ビームを発生するように水平方向に張架されてお
り、かかる線陰極２が適宜間隔を介して垂直方向に複数
本（ここでは２ａ〜２ｄの４本のみ示している）設けら
れている。この実施例では１５本設けられているものと
する。２ａ〜２ｏとする。これらの線陰極２はたとえば
１０〜２０μφのタングステン線の表面に酸化物陰極材
料が塗着されて構成されている。そして、後述するよう
に、上方の線陰極２ａから順に一定時間づつ電子ビーム
を放出するように制御される（背面電極１は、その一定
時間電子ビームを放出すべく制御される線陰極２以外の
他の線陰極２からの電子ビームの発生を抑止し、かつ、
発生された電子ビームを前方向だけに向けて押し出す作
用をする）。この背面電極１はガラスバルブの後壁の内
面に付着された導電材料の塗膜によって形成されていて
もよい。また、これら背面電極１と線陰極２とのかわり
に、面状の電子ビーム放出陰極を用いてもよい。A line cathode 2 as a beam source is stretched in the horizontal direction so as to generate an electron beam that is linearly distributed in the horizontal direction, and a plurality of such line cathodes 2 are vertically arranged at appropriate intervals (here, (Only four of 2a to 2d are shown). In this embodiment, 15 are provided. 2a to 2o. These wire cathodes 2 are formed by coating an oxide cathode material on the surface of a tungsten wire having a diameter of 10 to 20 μφ, for example. Then, as will be described later, the upper cathode 2a is controlled so as to emit an electron beam in order from the upper cathode 2a for a certain period of time (the back electrode 1 is controlled to emit the electron beam for a certain period of time, except for the linear cathode 2). Suppressing the generation of an electron beam from another wire cathode 2, and
Acts to push the generated electron beam only in the forward direction). The back electrode 1 may be formed by a coating film of a conductive material attached to the inner surface of the rear wall of the glass bulb. Further, instead of the back electrode 1 and the line cathode 2, a planar electron beam emitting cathode may be used.

垂直集束電極３は線陰極２ａ〜２ｏのそれぞれと対向す
る水平方向に長いスリット１０を有する導電板１１であ
り、線陰極２から放出された電子ビームをそのスリット
１０を通して取り出し、かつ、垂直方向に集束される
（スリット１０は途中に適宜の間隔で桟が設けられてい
てもよく、あるいは、水平方向に小さい間隔（ほとんど
接する程度の間隔）で多数個並べて設けられた貫通孔の
列で実質的にスリットとして構成されていてもよい）。
垂直集束電極３も同様のものである。The vertical focusing electrode 3 is a conductive plate 11 having a horizontally long slit 10 facing each of the line cathodes 2a to 2o. The electron beam emitted from the line cathode 2 is taken out through the slit 10 and vertically. Converged (the slits 10 may be provided with crosspieces at appropriate intervals in the middle, or may be a row of through-holes arranged side by side at small horizontal intervals (intervals at which they almost contact). May be configured as a slit).
The vertical focusing electrode 3 is also the same.

垂直偏向電極４は上記スリット１０のそれぞれの中間の
位置に水平方向にして複数個配置されており、それぞれ
絶縁基板１２の上面と下面とに導電体１３，１３′が設
けられたもので構成されている。そして、相対向する導
電体１３，１３′の間に垂直偏向用電圧が印加され、電
子ビームを垂直方向に偏向する。この実施例では、一対
の導電体１３，１３′によって１本の線陰極２からの電
子ビームを垂直方向に１６ライン分の位置に偏向する。
そして、１６個の垂直偏向電極４によって１５本の線陰
極２のそれぞれに対応する１５対の導電体対が構成さ
れ、結局、スクリーン９上に２４０本の水平ラインを描
くように電子ビームを偏向する。A plurality of vertical deflection electrodes 4 are arranged in the horizontal direction at intermediate positions of the slits 10, and each of the vertical deflection electrodes 4 is formed by providing conductors 13 and 13 'on the upper surface and the lower surface of the insulating substrate 12, respectively. ing. Then, a vertical deflection voltage is applied between the conductors 13 and 13 ′ facing each other to deflect the electron beam in the vertical direction. In this embodiment, the electron beam from one line cathode 2 is vertically deflected by a pair of conductors 13 and 13 'to a position corresponding to 16 lines.
Then, the 16 vertical deflection electrodes 4 form 15 pairs of conductors corresponding to the 15 line cathodes 2, respectively, and eventually the electron beam is deflected so as to draw 240 horizontal lines on the screen 9. To do.

次に、制御電極５（それぞれが電子ビームを水平方向に
１絵素分づつに区分して取り出し、かつ、その通過量を
それぞれの絵素を表示するための映像信号に従って制御
する）はそれぞれが垂直方向に長いスリット１４を有す
る導電板１５で構成されており、所定間隔を介して水平
方向に複数個並設されている。この実施例では３２０本
の制御電極用導電板１５ａ〜１５ｎが設けられている
（図では１０本のみ示している）。従って、制御電極５
を３２０本設ければ水平１ライン分当り３２０絵素を表
示することができる。また、映像をカラーで表示するた
めに、各絵素はＲ，Ｇ，Ｂの３色の螢光体で表示するこ
ととし、各制御電極５にはそのＲ，Ｇ，Ｂの各映像信号
が順次加えられる。また、３２０本の制御電極５には１
ライン分の３２０組の映像信号が同時に加えられ、１ラ
イン分の映像が一時に表示される。水平集束電極６は制
御電極５のスリット１４と相対向する垂直方向に長い複
数本３２０本のスリット１６を有する導電板１７で構成
され、水平方向に区分されたそれぞれの絵素毎の電子ビ
ームをそれぞれ水平方向に集束して細い電子ビームにす
る。Next, each of the control electrodes 5 (each of which takes out the electron beam in the horizontal direction by dividing it into picture elements for one picture element and controls the passing amount according to a video signal for displaying each picture element) It is composed of a conductive plate 15 having a slit 14 which is long in the vertical direction, and a plurality of the conductive plates 15 are arranged in parallel in the horizontal direction at a predetermined interval. In this embodiment, 320 control electrode conductive plates 15a to 15n are provided (only 10 are shown in the figure). Therefore, the control electrode 5
If 320 lines are provided, 320 picture elements can be displayed per horizontal line. Further, in order to display an image in color, each picture element is to be displayed in a fluorescent body of three colors of R, G, B, and each control electrode 5 receives the respective image signals of R, G, B. Added sequentially. In addition, one of the 320 control electrodes 5 is
320 sets of video signals for lines are simultaneously added, and one line of video is displayed at one time. The horizontal focusing electrode 6 is composed of a conductive plate 17 having a plurality of 320 slits 16 which are long in the vertical direction and are opposed to the slits 14 of the control electrode 5, and emit an electron beam for each picture element divided in the horizontal direction. Each is focused horizontally to form a narrow electron beam.

水平偏向電極７は上記スリット１６のそれぞれの中間の
位置に垂直方向にして複数本配置された導電板１８で構
成されており、それぞれの間に水平偏向用電圧が印加さ
れて、各絵素毎の電子ビームをそれぞれ水平方向に偏光
し、スクリーン９上でＲ，Ｇ，Ｂの各螢光体を順次照射
して発光させるようにする。その偏向範囲は、この実施
例では各電子ビーム毎に１絵素分の幅である。The horizontal deflection electrode 7 is composed of a plurality of conductive plates 18 arranged in the vertical direction at the respective intermediate positions of the slits 16. A horizontal deflection voltage is applied between the horizontal deflection electrodes 7 for each picture element. Are polarized in the horizontal direction, and the R, G, and B phosphors are sequentially irradiated on the screen 9 to emit light. The deflection range is the width of one picture element for each electron beam in this embodiment.

加速電極８は垂直偏向電極４と同様の位置に水平方向に
して設けられた複数個の導電板１９で構成されており、
電子ビームを充分なエネルギーでスクリーン９に衝突さ
せるように加速する。The accelerating electrode 8 is composed of a plurality of conductive plates 19 horizontally provided at the same position as the vertical deflection electrode 4.
The electron beam is accelerated so as to strike the screen 9 with sufficient energy.

スクリーン９は電子ビームの照射によって発光される螢
光体２０がガラス板２１の裏面に塗布され、また、メタ
ルバック層（図示せず）が付加されて構成されている。
螢光体２０は制御電極５の１つのスリット１４に対し
て、すなわち、水平方向と区分された各１本の電子ビー
ムに対してＲ，Ｇ，Ｂの３色の螢光体が１対づつ設けら
れており、垂直方向にストライプ状に塗布されている。
第１図中でスクリーン９に記入した水平方向の破線は複
数本の線陰極２のそれぞれに対応して表示される垂直方
向での区分を示し、垂直方向の破線は複数本の制御電極
５のそれぞれに対応して表示される水平方向での区分を
示す。これら両者で仕切られた１つの区画には、第２図
に拡大して示すように、水平方向では１絵素分のＲ，
Ｇ，Ｂの螢光体２０があり、垂直方向では１６ライン分
の幅を有している。１つの区画の大きさは、たとえば水
平方向が１mm、垂直方向が１６mmである。The screen 9 is configured by applying a fluorescent body 20 which is emitted by irradiation of an electron beam to the back surface of a glass plate 21 and adding a metal back layer (not shown).
The fluorescent body 20 is provided for each slit 14 of the control electrode 5, that is, for each one electron beam divided from the horizontal direction, one pair of fluorescent bodies of three colors of R, G, and B is provided. It is provided and is applied in stripes in the vertical direction.
In FIG. 1, the horizontal broken lines on the screen 9 indicate vertical divisions displayed corresponding to the plurality of line cathodes 2, and the vertical broken lines indicate the plurality of control electrodes 5. The division in the horizontal direction displayed corresponding to each is shown. As shown in an enlarged view in FIG. 2, one section divided by these two parts has R for one picture element in the horizontal direction,
There are G and B phosphors 20 having a width of 16 lines in the vertical direction. The size of one section is, for example, 1 mm in the horizontal direction and 16 mm in the vertical direction.

なお、第１図においては、わかり易くするために水平方
向の長さが垂直方向に対して非常に大きく引き伸ばして
描かれている点に注意されたい。It should be noted that, in FIG. 1, the length in the horizontal direction is drawn to be much larger than that in the vertical direction for the sake of clarity.

また、この実施例では１本の制御電極５すなわち１本の
電子ビームに対してＲ，Ｇ，Ｂの螢光体２０が１絵素分
の１組のみ設けられているが、２絵素以上分の２組以上
設けられていてももちろんよく、その場合には制御電極
５には２つ以上の絵素のためのＲ，Ｇ，Ｂ映像信号が順
次加えられ、それと同期して水平偏向がなされる。Further, in this embodiment, only one set of R, G, B phosphors 20 for one picture element is provided for one control electrode 5, that is, one electron beam, but two or more picture elements are provided. Of course, two or more pairs of R, G, and B video signals for two or more picture elements are sequentially applied to the control electrode 5, and horizontal deflection is synchronized with them. Done.

以上のような平板型表示装置において、次のような問題
があった。The flat panel display device as described above has the following problems.

その一つは、前記電極構成においては、各電極部品及び
その組立の精度が、部分的に異るが数ミクロンから１０
０μｍ程度要求されることである。特に電子ビームのラ
ンディングに対する組立公差の大きい所として垂直偏向
電極等があり、例えば、１０μｍの凹凸があると発光手
段面で２０〜３０μｍ近い電子ビームランディングの凹
凸が発生し表示品質を極めて悪くする。これを防止する
ための補正手段としてあらたな補正電極手段を例えば垂
直偏向電極に隣接して配置する等試みてきたが、電極手
段の増加となり、部品点数の増加に伴う価格上昇、組立
工数の増加に伴う価格上昇等々となる問題点があった。One of them is that, in the above-mentioned electrode structure, the accuracy of each electrode part and its assembly is partially different, but from several microns to 10
The requirement is about 0 μm. Particularly, there is a vertical deflection electrode or the like as a portion having a large assembly tolerance for landing of the electron beam. For example, if there is unevenness of 10 μm, unevenness of electron beam landing of about 20 to 30 μm occurs on the light emitting means surface, and the display quality is extremely deteriorated. As a correction means for preventing this, a new correction electrode means has been tried to be arranged, for example, adjacent to the vertical deflection electrode. However, the number of electrode means is increased, the price is increased due to the increase in the number of parts, and the number of assembly steps is increased. There was a problem such as price increase due to.

さらにもう一つの問題点は、線状電子源を用いている為
に、電子源からのエミッション電流による電位勾配が常
に発生しそのために、前記同様、発光手段面での電子ビ
ームランディングの凹凸が電位勾配に沿った形で現れ、
表示品質を極めて悪くさせることである。Still another problem is that since a linear electron source is used, a potential gradient due to the emission current from the electron source is always generated, and as a result, the unevenness of the electron beam landing on the surface of the light emitting means has the same potential. Appearing along the gradient,
It is to make the display quality extremely bad.

さらにもう一つの問題点は、クーロン力により発生する
前記電子ビーム加速手段の対向電極手段側へのたわみで
ある。Still another problem is the deflection of the electron beam accelerating means to the counter electrode means side, which is generated by the Coulomb force.

一般的にクーロン力は、距離ｒをへだてて静止する２つ
の点電荷ｑ，ｑ′の間に働く力であり、その力をＦとす
るとＦは両者の結合線の方向に向き、その大きさはＦ∝
q′／r²となる。Generally, the Coulomb force is a force that acts between two point charges q and q'which are stationary with a distance r, and when the force is F, F is directed in the direction of the bond line of the two and its magnitude. Is F∝
It becomes q '/ r ² .

ここで従来の画像表示素子の基本的な一構成例である第
１図に当てはめて具体的に説明すると、各電極間に働く
静電気力（クーロン力）から言えば、水平偏向電極７と
加速電極８との間には９〜１０ｋＶ程度の電位差が生じ
ており、最も大きな静電気力（クーロン力）が発生して
いる。そのために互いに引き合う大きな力が発生し、水
平偏向電極７と加速電極８は互いに近づこうとする力が
働く。Here, a concrete description will be given with reference to FIG. 1 which is a basic configuration example of a conventional image display element. In terms of electrostatic force (Coulomb force) acting between each electrode, the horizontal deflection electrode 7 and the acceleration electrode A potential difference of about 9 to 10 kV is generated between No. 8 and 8, and the largest electrostatic force (Coulomb force) is generated. Therefore, a large force attracting each other is generated, and the horizontal deflecting electrode 7 and the accelerating electrode 8 have a force to approach each other.

一方、水平偏向電極７は他の面状電極であるビーム流制
御電極５、水平偏向電極６と共に接着等で合体して剛性
力が非常に強くなっており、少しの力では曲がることが
ない。On the other hand, the horizontal deflection electrode 7 has a very strong rigidity because it is united with the beam flow control electrode 5 and the horizontal deflection electrode 6, which are other planar electrodes, by adhesion or the like, and is not bent by a small force.

他方、加速電極８は第１図に示すような薄肉の板状電極
で出来ているために、板厚方向には極めて曲がりやす
い。また、板の長辺側は短辺側に比較し曲がり易いが、
板の短辺側は殆ど曲がらない。さらにこの板状電極８は
その両端のみで固定されている。On the other hand, since the accelerating electrode 8 is made of a thin plate electrode as shown in FIG. 1, it is extremely easy to bend in the plate thickness direction. Also, the long side of the plate is easier to bend than the short side,
The short side of the plate hardly bends. Further, the plate electrode 8 is fixed only at both ends thereof.

この様な場合に水平偏向電極７と加速電極８の間で前記
クーロン力が発生すると、変形量は極めて小さいが水平
偏向電極７側の長辺が凸型になって水平偏向電極に近付
こうと変形を起こす。すなわち、加速電極８が板状では
なく、線状あるいはリボン状の場合にはより一層大きな
凸型となり、それによって起因する電子ビームのランデ
ィング（射突位置）の変位が顕著になる。具体的に言え
ば、電子ビーム加速手段の長手方向に沿って、発光手段
に射突配列する複数の電子ビームの射突位置が、この加
速電極８の変形に対応してそれぞれ異なった射突位置に
変位することになるのである。When the Coulomb force is generated between the horizontal deflection electrode 7 and the acceleration electrode 8 in such a case, the amount of deformation is extremely small, but the long side on the side of the horizontal deflection electrode 7 becomes convex so that it may approach the horizontal deflection electrode. And cause deformation. That is, when the accelerating electrode 8 is not plate-shaped but linear or ribbon-shaped, it has a larger convex shape, and the displacement of the landing (projection position) of the electron beam caused thereby becomes remarkable. Specifically, along the longitudinal direction of the electron beam accelerating means, the plurality of electron beam projecting positions which are arranged in a projecting manner on the light emitting means have different collision positions corresponding to the deformation of the acceleration electrode 8. It will be displaced to.

この様なことからして、その問題点は、前記電子ビーム
加速手段が、線状或はリボン状の場合に、対向するより
低電位にある電極手段との間で発生するクーロン力によ
り線状或はリボン状の電子ビーム加速手段が５０〜３０
０μｍ程度にたわみ、そのために電子ビームランディン
グの凹凸が現れ、表示品質を極めて悪くさせることであ
る。From this, the problem is that when the electron beam accelerating means is linear or ribbon-shaped, it is linear due to the Coulomb force generated between the opposing electrode means having a lower potential. Alternatively, the ribbon-shaped electron beam accelerating means is 50 to 30.
The deflection is about 0 μm, so that the unevenness of the electron beam landing appears and the display quality is extremely deteriorated.

発明の目的 本発明の目的は、電子ビーム加速手段に電子ビーム射突
位置補正手段を具備せしめた構成にすることにより、前
記問題点を解消し、より高品位な表示をより安価に提供
することにある。さらに別の目的は、線状電子源の電位
勾配による補正、線状或はリボン状の電子ビーム加速手
段のたわみの補正等の電子ビーム補正手段を電子ビーム
加速手段に備える構成にすることにより前記問題点を解
消し、より高品位な表示をより安価に提供することにあ
る。OBJECT OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems and provide a higher quality display at a lower cost by providing an electron beam accelerating means with an electron beam projection position correcting means. It is in. Still another object is to provide the electron beam accelerating means with an electron beam correcting means such as a correction by a potential gradient of a linear electron source and a deflection of a linear or ribbon electron beam accelerating means. It is to solve the problems and provide higher quality display at lower cost.

発明の構成 本発明は、上記の目的を達成するために、以下の構成で
表示装置を構成することを特徴とする。Structure of the Invention In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is characterized in that a display device is structured as follows.

線状電子源と、電子ビーム制御手段と、電子ビーム偏向
手段と、電子ビーム射突位置補正手段を有する電子ビー
ム加速手段とで構成された平板型表示装置である。The flat panel display device includes a linear electron source, an electron beam control means, an electron beam deflection means, and an electron beam acceleration means having an electron beam projection position correction means.

実施例の説明 本発明の平板型表示装置の一実施例を第３図ａ，ｂ，
ｃ、第４図ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ、第５図を用いて説
明する。第３図ａ，ｂ，ｃは、本発明の一実施例を説明
するのに必要な電極部分のみ、第１図から部分的に取り
出して描いた部分構成図である。第４図ａ〜ｆ、第５図
は、電子ビーム加速手段に電子ビーム射突位置補正手段
を具備せしめた、数種類の実施例を示す部分的斜視図で
ある。Description of Embodiments One embodiment of a flat panel display device of the present invention is shown in FIGS.
c, FIG. 4 a, b, c, d, e, f, and FIG. FIGS. 3a, 3b, and 3c are partial configuration diagrams in which only electrode portions necessary for explaining one embodiment of the present invention are partially extracted from FIG. 4A to 4F and FIG. 5 are partial perspective views showing several kinds of embodiments in which the electron beam accelerating means is provided with the electron beam projecting position correcting means.

本発明の平板型表示装置の実施例を説明する前に、以降
の説明において使用する「寄与率」の意味とその算出並
びに補正の原理について説明しておく。Before describing the embodiments of the flat panel display device of the present invention, the meaning of "contribution rate" used in the following description and the principle of calculation and correction thereof will be described.

まず、寄与率の意味とその算出について説明する。First, the meaning of the contribution rate and its calculation will be described.

本発明の平板型表示装置においては、面状電極、板状電
極、線状電極等の組立により表示装置としての電極群を
形成することになる。ＣＲＴの電子銃では通常３本の電
子ビームを形成して、画面前面を走査し画像を形成する
ことになる。このCRTの電子銃は画面全体の面積から言
えば極めて小さい部品である。In the flat panel display device of the present invention, an electrode group as a display device is formed by assembling planar electrodes, plate electrodes, linear electrodes and the like. A CRT electron gun normally forms three electron beams and scans the front surface of the screen to form an image. The electron gun of this CRT is an extremely small part in terms of the area of the entire screen.

しかし、本発明の電子銃は画面全体に相当する面積を有
し、しかもそれは一枚の面状電極を数枚積層したり、垂
直に設置したり、あるいは線状電極を架張して構成され
るものであり極めて面積のある大きな部品となる。However, the electron gun of the present invention has an area corresponding to the entire screen, and it is formed by stacking a plurality of sheet-like electrodes, arranging them vertically, or by stretching linear electrodes. It is a large component with a very large area.

そこで、一方の端部で電子ビーム通過孔が一致していて
も、面積が大きく積層した構成であるために、他方の端
部では電子ビーム通過孔が一致していない状況が時たま
発生する。Therefore, even if the electron beam passage holes are aligned at one end, the electron beam passage holes are occasionally not aligned at the other end because of the large-area laminated structure.

そのために、電子ビーム通過孔の形状、組立位置精度が
各所において異なるとそれに応じて形成される電界にし
たがって、電子ビームは所定の軌道からずれた軌道を描
いて飛翔することになる。Therefore, if the shape of the electron beam passage hole and the assembly position accuracy are different in each place, the electron beam flies along a trajectory deviated from a predetermined trajectory according to the electric field formed accordingly.

それ故、この平板型表示装置では各電極が僅かにずれた
場合には、全くずれていない場合と比べどの程度電子ビ
ームランディング（電子ビーム射突位置）がずれるのか
を、実験とシミュレーションにて算出する。Therefore, how much the electron beam landing (electron beam projection position) is shifted when the electrodes are slightly displaced in this flat panel display device is calculated by experiments and simulations. To do.

実験では実際のパネルでわざと任意の一電極を斜めに設
置し、その一端から他端までのそれぞれの電極ずれ量と
電子ビームランディングずれ量を比較する。In the experiment, one arbitrary electrode is intentionally installed diagonally on the actual panel, and the displacement amount of each electrode from one end to the other end is compared with the displacement amount of the electron beam landing.

電極ずれ量はあらかじめ顕微鏡にて測定しておき、パネ
ル点灯時に電子ビームスポットの位置を倍率の大きいテ
レビカメラで測定し、例えば100μｍ電極がずれた場合
にランディングがどれくらいずれるかを算出する。その
値を１００μｍで除算した値を寄与率とする。すなわち
電極のずれ量がわかれば電子ビームランディング位置が
正規の位置からどの程度ずれるかわかることになる。The amount of electrode displacement is measured with a microscope in advance, the position of the electron beam spot is measured with a television camera having a large magnification when the panel is turned on, and how much the landing is displaced when the electrode is displaced by 100 μm, for example, is calculated. The value obtained by dividing the value by 100 μm is the contribution rate. That is, it is possible to know how much the electron beam landing position deviates from the normal position if the amount of electrode displacement is known.

この様にして一電極だけが正規の位置からずれた場合の
寄与率を算出し、それを全ての電極に対し算出してお
く。勿論、電極の動かした方向と逆向きに電子ビームラ
ンディング位置がずれるときもあるので正負の符号をつ
けておく。この様にすれば、現実、数枚の電極が動いた
としても単純に加算すれば電子ビームの位置を算出でき
ることが実験的に確認されている。In this way, the contribution rate in the case where only one electrode is deviated from the normal position is calculated, and it is calculated for all the electrodes. Of course, the electron beam landing position may be displaced in the direction opposite to the direction in which the electrodes are moved, so positive and negative signs are given. By doing so, it has been experimentally confirmed that the position of the electron beam can be calculated by simply adding even if several electrodes actually move.

例えば、第６図(a)，(b)で、第１図の構成での垂直偏向
電極４に相当する一対の垂直偏向電極６４の下側電極が
Ｙ方向に凸型に４０μｍたわんでいる時は、電子ビーム
最大垂直偏向時に予め算出してある寄与率約２．５を適
用すると同方向に最大１００μｍ近く、凹型の曲線に沿
ってランディングずれが発生する。For example, in FIGS. 6 (a) and 6 (b), when the lower electrodes of the pair of vertical deflection electrodes 64 corresponding to the vertical deflection electrodes 4 in the configuration of FIG. Is about 100 μm in the same direction when a contribution ratio of about 2.5 calculated in advance at the time of maximum vertical deflection of the electron beam is applied, and a landing shift occurs along the concave curve.

これは論理的にも理解できる。例えば一対の偏向電極が
撓むことなく正確に組み立てられている時、電子ビーム
６０が偏向電圧も印加されていない状態で入射してくる
とスクリーン６９まで一直線に進むことになる。This can be understood logically. For example, when the pair of deflection electrodes are assembled accurately without bending, when the electron beam 60 is incident without the deflection voltage being applied, the electron beam 60 advances straight to the screen 69.

しかし、本来直線で進むべき電子ビーム６１が入ってき
た時（偏向電圧を印加していない時）、Ｙ方向にたわん
だ垂直偏向電極４によって形成される電界によって、電
子ビーム６１はその凸型にたわんだ状態の中心軸の方へ
偏向されることになる。すなわち本来進むべき一直線上
から100μｍずれてランディングすることになる。However, when the electron beam 61, which should originally travel in a straight line, enters (when no deflection voltage is applied), the electron beam 61 is made to have a convex shape due to the electric field formed by the vertical deflection electrode 4 deflected in the Y direction. It will be deflected toward the central axis of the bent state. In other words, the landing will be shifted by 100 μm from the straight line where it should normally proceed.

次に、上記のランディングずれを補正するための補正の
原理を具体的説明しておく。Next, the principle of correction for correcting the landing deviation will be described in detail.

上記のランディングずれは、例えば本発明の一実施例で
ある第３図(a)に示すように電子ビーム加速電極８の形
状をＺ方向に垂直偏向電極４がわの長辺部を２００μｍ
凹型に変形させることによりこのランディングずれを補
正することが可能である。別の言い方をすれば、電子ビ
ーム加速電極８の短手方向（第３図(a)でＹ軸ないしＺ
軸方向）の断面形状は長方形であるが長手方向（第３図
(a)でＸ軸方向）に沿って同一の寸法断面形状にはして
いないために、長手方向に沿って形成される電界は不均
一な電界となる。この不均一な電界によって電子ビーム
ランディングずれが補正される。さらにこのことによっ
て、加速手段の長手方向に沿って、発光手段に射突配列
する複数の電子ビームの射突位置を各々補正することが
可能となる（第３図の実施例については、後に詳細に説
明する）。The above-mentioned landing deviation is caused by, for example, as shown in FIG. 3 (a) which is an embodiment of the present invention, the shape of the electron beam accelerating electrode 8 in the Z direction is 200 μm on the long side of the vertical deflection electrode 4.
It is possible to correct this landing deviation by deforming into a concave shape. In other words, in the lateral direction of the electron beam accelerating electrode 8 (Y axis or Z axis in FIG. 3 (a)).
The cross-sectional shape in the axial direction is rectangular, but the longitudinal direction (Fig. 3).
Since the cross-sectional shape is not the same along (a) in the X-axis direction), the electric field formed along the longitudinal direction is a non-uniform electric field. The electron beam landing shift is corrected by this non-uniform electric field. Further, this makes it possible to correct the respective projecting positions of a plurality of electron beams projecting and arrayed on the light emitting means along the longitudinal direction of the accelerating means (the embodiment of FIG. 3 will be described in detail later). Explained).

この補正原理については、加速電極８のＺ方向の位置を
極端に水平偏向電極７側に近付けた場合とスクリーン９
側に近付けた場合を考えれば定性的に理解でき、ここで
は加速電極８を線状の電極とした場合について第７図
(a)，(b)，(c)を用いて説明する。This correction principle is based on the case where the position of the acceleration electrode 8 in the Z direction is extremely close to the horizontal deflection electrode 7 side and the screen 9
It can be qualitatively understood by considering the case where the accelerating electrode 8 is a linear electrode.
An explanation will be given using (a), (b), and (c).

第７図(a)は、線状の加速電極８が標準位置にある時の
等電位曲線７０を図示した図である。FIG. 7 (a) is a diagram showing an equipotential curve 70 when the linear acceleration electrode 8 is in the standard position.

第７図(b)に示す様に加速電極８のＺ方向の位置を水平
偏向電極７側に近付けた場合、加速電極８には１０ｋ
Ｖ、水平偏向電極７には数百Ｖが印加されていると、そ
こで形成される電界は極めて強い電界で、且つ加速電極
８側から水平偏向電極７を見た場合その周辺の等電位曲
線は大きな深い凹型の曲線７４で極めて密度高く描かれ
ることになる。When the position of the accelerating electrode 8 in the Z direction is brought closer to the horizontal deflection electrode 7 side as shown in FIG.
V, when several hundreds of V is applied to the horizontal deflection electrode 7, the electric field formed there is an extremely strong electric field, and when the horizontal deflection electrode 7 is viewed from the accelerating electrode 8 side, the equipotential curve around it is A large deep concave curve 74 will be drawn very densely.

すなわち水平偏向電極７を通過してきた電子ビーム７２
は、その等電位曲線に垂直に入ろうとするため極めて大
きな力を受けて、必要以上の偏向を受けることになる。
ここで電子ビーム７１は第７図(a)の構成で偏向時の標
準軌道を示している。That is, the electron beam 72 that has passed through the horizontal deflection electrode 7
Receives an extremely large force because it tries to enter perpendicularly to the equipotential curve, and is deflected more than necessary.
Here, the electron beam 71 shows the standard orbit at the time of deflection in the configuration of FIG.

一方、第７図(c)に示す様に加速電極８のＺ方向の位置
をスクリーン９側に近付けた場合、加速電極８と水平偏
向電極７とで形成される電界は上記の場合に比較し極め
て弱い電界となり、上記と同様な方向からみた場合その
周辺の等電位曲線は小さな浅い凹型の曲線７５となり、
密度薄く描かれることになる。On the other hand, when the position of the acceleration electrode 8 in the Z direction is brought closer to the screen 9 side as shown in FIG. 7 (c), the electric field formed by the acceleration electrode 8 and the horizontal deflection electrode 7 is different from that in the above case. It becomes an extremely weak electric field, and when viewed from the same direction as above, the equipotential curve around it becomes a small shallow concave curve 75,
The density will be drawn thin.

すなわち水平偏向電極７を通過してきた電子ビームはそ
こで形成される電界の影響が小さく、さらに偏向しよう
とする力は僅かしか受けずにスクリーンに向かって進ん
で行く。スクリーン９近傍で、水平偏向電極７と加速電
極８とスクリーン電極９とで形成される電界の影響を強
く受けるがその時、既に電子ビームはスクリーン９近傍
に達しており、ランディングに大きな影響を与えること
もなくスクリーン９に到達する。That is, the electron beam that has passed through the horizontal deflection electrode 7 is less affected by the electric field formed there, and further advances toward the screen with only a slight force to deflect it. Near the screen 9, it is strongly affected by the electric field formed by the horizontal deflection electrode 7, the acceleration electrode 8 and the screen electrode 9, but at that time, the electron beam has already reached the vicinity of the screen 9 and has a great influence on the landing. Without reaching the screen 9.

本願発明においては、以上のような考え方が加速電極８
の形状に反映されることになる。すなわち大きく偏向し
たければ加速電極８の位置を水平偏向電極７に近付け、
あまり偏向したくなければ水平偏向電極７から遠ざけれ
ば良いことになる。In the present invention, the above idea is based on the acceleration electrode 8
Will be reflected in the shape of. That is, if large deflection is required, the position of the acceleration electrode 8 should be brought closer to the horizontal deflection electrode 7,
If it is not desired to deflect too much, it suffices to move away from the horizontal deflection electrode 7.

次に、本願発明について具体的実施例に基づき詳細に説
明する。Next, the present invention will be described in detail based on specific examples.

第３図(a)の３１は、各電極の組立精度等の補正、特に
精度の厳しい垂直偏向電極４がたわんだ場合の電子ビー
ム補正手段として、電子ビーム加速電極の形状を垂直偏
向電極のたわみに対応した形状に（すなわち実質的に変
形させて）構成した一実施例である。第３図(a)に示す
様な垂直偏向電極４がその中心付近で互いに接近するよ
うに、Ｙ方向にそれぞれ凹凸型に４０μｍたわんでいる
時は、電子ビーム最大垂直偏向時に予め算出してある寄
与率約２５を適用すると垂直偏向電極４のたわみ方向に
最大１００μｍ近く、たわみの曲線に沿ってランディン
グずれが発生することになる。すなわち、本来たわまな
い時に発光手段に射突して配列する複数個の電子ビーム
射突位置に対し、このようなたわみが発生したときは、
このたわみの曲線に対応して電子ビームランディングず
れが発生する。このずれを補正するために電子ビーム加
速電極８の形状をＺ方向に垂直偏向電極４側の長辺部を
２００μｍ凹型に変形させることによりこのランディン
グずれの発生を防止することが可能である。Reference numeral 31 in FIG. 3 (a) is for correcting the assembling accuracy of each electrode, and as the electron beam correcting means when the vertical deflection electrode 4 having a particularly high accuracy is deflected, the shape of the electron beam acceleration electrode is the deflection of the vertical deflection electrode. It is one embodiment configured in a shape corresponding to (i.e., substantially deformed). When the vertical deflection electrodes 4 as shown in FIG. 3 (a) are flexed by 40 μm in the Y direction so that they approach each other in the vicinity of their centers, they are calculated in advance at the time of maximum vertical deflection of the electron beam. When a contribution rate of about 25 is applied, a maximum of 100 μm is generated in the bending direction of the vertical deflection electrode 4, and a landing shift occurs along the bending curve. That is, when such a deflection occurs with respect to a plurality of electron beam projecting positions that are arranged to project toward the light emitting means when the deflection is not originally caused,
An electron beam landing deviation occurs corresponding to the curve of this deflection. In order to correct this deviation, it is possible to prevent the occurrence of landing deviation by deforming the shape of the electron beam accelerating electrode 8 in the Z direction so that the long side portion on the side of the vertical deflection electrode 4 is concave to 200 μm.

すなわち加速電極８の長辺方向に沿っての凹型の中心部
付近では両端部付近に比較し、水平偏向電極７から相対
的に僅かながら遠い位置にあり、逆に両端部に近付くに
したがって水平偏向電極７に近い位置になる。よって電
子ビームは加速電極８の長辺方向に沿っての凹型の中心
部付近では偏向が僅かながら抑えられ、両端部付近に近
付くにしたがって偏向が僅かながら大きくなることにな
る。ここで、垂直偏向電極４のＹ方向のずれに対するス
クリーン面上の電子ビームランディングずれの寄与率
は、約２．５である。また加速電極８のＺ方向のずれに
対する前記同様の寄与率は約０．５であり、この再現性
は、極めてよく、０．４８〜０．５２の値に入る。しか
し、例えば、前記垂直偏向電極４のＹ方向のずれに対す
る寄与率は、２．３〜３．０の範囲にあり、再現性は余
りよくない。これはスクリーン直前に位置する加速電極
周辺の電界が大きく変化しないためである。スクリーン
はしっかりとした容器あるいは硝子板であり、水平偏向
電極は合成があるため変形しにくいことによる。一方、
垂直偏向電極は電極群の中に組み入れられて構成されて
いるため、組立精度の影響を大きく受けるから、寄与率
に対する再現性が悪くなる。勿論、前記加速電極のずれ
に対する寄与率は、電極構成の中での加速電極の位置、
或は電圧値によって大巾に変化する、前記寄与率の値
０．５は、加速電極の位置を２〜３mm或は、加速電圧を
１０ＫＶから２０ＫＶに上げた場合は、約０．３〜１．
５等に変化する。That is, in the vicinity of the center of the concave shape along the long side direction of the acceleration electrode 8, the position is relatively far from the horizontal deflection electrode 7 as compared with the vicinity of both ends, and conversely the horizontal deflection is performed as the both ends are approached. The position is close to the electrode 7. Therefore, the deflection of the electron beam is slightly suppressed in the vicinity of the center of the concave shape along the long side direction of the acceleration electrode 8, and the deflection is slightly increased as it approaches the both ends. Here, the contribution ratio of the electron beam landing deviation on the screen surface to the deviation of the vertical deflection electrode 4 in the Y direction is about 2.5. Further, the similar contribution rate to the displacement of the acceleration electrode 8 in the Z direction is about 0.5, and this reproducibility is extremely good, and falls within a value of 0.48 to 0.52. However, for example, the contribution ratio of the vertical deflection electrode 4 to the displacement in the Y direction is in the range of 2.3 to 3.0, and the reproducibility is not very good. This is because the electric field around the acceleration electrode located immediately before the screen does not change significantly. This is because the screen is a solid container or a glass plate, and the horizontal deflection electrode is synthetic and is therefore difficult to deform. on the other hand,
Since the vertical deflection electrode is built in the electrode group, it is greatly affected by the assembly accuracy, and the reproducibility of the contribution ratio is deteriorated. Of course, the contribution to the displacement of the accelerating electrode depends on the position of the accelerating electrode in the electrode configuration,
Alternatively, the contribution ratio value of 0.5, which varies greatly depending on the voltage value, is about 0.3 to 1 when the position of the accelerating electrode is 2 to 3 mm or when the accelerating voltage is increased from 10 KV to 20 KV. ．
It will change to 5 mag.

以上の事から、補正手段として再現性の極めてよい加速
手段と一体化構成することは、より高品位な表示得る効
果がある。また、図で点線は、たわみ、或は形状の変更
がない時の形状であり、矢印付実線は電子ビームの流れ
である。From the above, if the correction means is integrally formed with the acceleration means having extremely good reproducibility, a higher quality display can be obtained. Also, in the figure, the dotted line is the shape when there is no bending or shape change, and the solid line with an arrow is the flow of the electron beam.

第３図(b)の３２は、線陰極２のエミッション電流にて
発生する電位勾配によるスクリーン面での電子ビームず
れの補正手段として、電子ビーム加速電極の形状を電位
勾配の曲線に対応した形状に変形させて電子ビーム加速
手段と一体化した構成の一実施例である。例えば線陰極
２の両端をエミッション電流発生時に同電位にするか、
或は一端を一定電位に維持するかにより、線陰極３２の
電位曲線が異ってくる。線陰極２の一端の電位と線陰極
の長さ方向（ｘ方向）の各点での電位との電位差をΔＶ
として縦軸にとり、各点での位置を横軸（ｘ方向）にと
った場合の線陰極の電位曲線を３３に示す。曲線３４
は、線陰極の両端を同電位にした時の電位曲線であり、
曲線３５は、線陰極の一端を固定電位にした時の電位曲
線である。第３図ｂにおける加速電極８は、線陰極２の
電位曲線が曲線３４の場合に対応して、凹型の形状に変
形してある。この場合の線陰極内の電位差が約０．５Ｖ
程度発生すると、スクリーン面での電子ビームずれは約
４０μｍになる。これを補正するために、加速電極８
は、約８０μｍ凹型に変形してある。Reference numeral 32 in FIG. 3 (b) indicates a shape of the electron beam accelerating electrode corresponding to the curve of the potential gradient as a means for correcting the electron beam shift on the screen surface due to the potential gradient generated by the emission current of the linear cathode 2. It is an embodiment of a configuration in which the electron beam accelerating means is integrated with the electron beam accelerating means. For example, if both ends of the line cathode 2 are set to the same potential when the emission current is generated,
Alternatively, the potential curve of the line cathode 32 varies depending on whether one end is kept at a constant potential. The potential difference between the potential at one end of the line cathode 2 and the potential at each point in the length direction (x direction) of the line cathode is ΔV.
33 is a potential curve of the line cathode when the position at each point is taken as the horizontal axis (x direction). Curve 34
Is a potential curve when both ends of the wire cathode are set to the same potential,
A curve 35 is a potential curve when one end of the line cathode is fixed potential. The accelerating electrode 8 in FIG. 3b is deformed into a concave shape corresponding to the case where the potential curve of the line cathode 2 is the curve 34. In this case, the potential difference in the wire cathode is about 0.5V
If it occurs to some extent, the deviation of the electron beam on the screen surface becomes about 40 μm. To correct this, the acceleration electrode 8
Is deformed into a concave shape of about 80 μm.

第３図(c)の３６は、加速電極８と対向する電極として
ここでは水平偏向電極７と加速電極８との間に発生する
クーロン力と加速電極８自身の持つ張力等の力とで合成
されて加速電極８がたわんだ場合の電子ビーム補正手段
として、電子ビーム加速電極の形状を前記原因によるた
わみに対応した形状に変形させて電子ビーム加速手段と
した構成の一実施例である。36 in FIG. 3 (c) is an electrode facing the accelerating electrode 8 and is composed of the Coulomb force generated between the horizontal deflection electrode 7 and the accelerating electrode 8 and the force such as the tension of the accelerating electrode 8 itself. As an electron beam correcting means when the accelerating electrode 8 is bent, an electron beam accelerating means is formed by deforming the shape of the electron beam accelerating electrode into a shape corresponding to the bending due to the cause.

ここで加速電極８に張力が発生し撓むことについて第８
図(a)、(b)を用いて説明する。第８図(a)は加速電極８
の固定形態を示す斜視図である。第８図(b)はその断面
図である。８１は加速電極８を固定するための枠体で、
８２は電極８に張力を発生させるための金属線である。
すなわちこの加速電極８を枠体８１に固定するとき、金
属線８２上に置いて両端を矢印８３の方向に押圧して枠
体８１に溶接すると加速電極８には張力が発生し加速電
極８は点線に示すような曲線状に撓むことになる。Here, tension generated in the acceleration electrode 8 and bending
This will be described with reference to FIGS. Figure 8 (a) shows the acceleration electrode 8.
FIG. 3 is a perspective view showing a fixed form of FIG. FIG. 8 (b) is a sectional view thereof. Reference numeral 81 is a frame body for fixing the accelerating electrode 8.
Reference numeral 82 is a metal wire for generating tension in the electrode 8.
That is, when fixing the accelerating electrode 8 to the frame 81, when the metal is placed on the metal wire 82 and both ends are pressed in the direction of the arrow 83 and welded to the frame 81, tension is generated in the accelerating electrode 8 and the accelerating electrode 8 It will bend in a curved shape as shown by the dotted line.

もし、単に加速電極８を金属線８２無しに周囲の枠体８
１に溶接すると僅かな振動等でも加速電極８が上下に振
動して不安定になる。それを防止するために金属線８２
を用いた固定構造を取る必要がある。これは単なる一例
としての構造であって他に種々考えられる。If the accelerating electrode 8 is simply provided without the metal wire 82, the surrounding frame 8
When welded to No. 1, the accelerating electrode 8 vibrates vertically and becomes unstable even with slight vibration. Metal wire 82 to prevent it
It is necessary to take a fixed structure using. This is a mere example, and various other structures are possible.

また、加速電極８がクーロン力等で、約１００μｍたわ
む時は、それに対応した曲線にて、加速電極８を第８図
に示すように逆方向に約１００μｍ変形させて構成する
とよい。単に加速電極８を金属線８２無しに枠体８１に
溶接すると、水平偏向電極７に約５００Ｖ、加速電極８
に約１０ＫＶの通常の電圧を印加したとき、クーロン力
の発生により、加速電極８が水平偏向電極７側に約１０
０μｍ撓むことになる。しかし第８図に示す構造を取る
と予め逆方向に約１００μｍ撓ませて設置するため、電
圧印加時には正常の位置に戻ることになり、電子ビーム
のランディングずれが補正出来ることになる。また、図
示はしていないが、前記線陰極の電位勾配、加速電極と
対向電極間のクーロン力、の二者が通常、同時に発生す
るために、この二者による補正手段として、加速電極の
形状を二者の寄与率に対応した形状に変形することによ
り、同時に補正することができる。When the accelerating electrode 8 is flexed by Coulomb force or the like by about 100 μm, the accelerating electrode 8 may be deformed by about 100 μm in the opposite direction as shown in FIG. If the accelerating electrode 8 is simply welded to the frame 81 without the metal wire 82, the horizontal deflecting electrode 7 is about 500 V
When a normal voltage of about 10 KV is applied to the accelerating electrode 8, the accelerating electrode 8 is moved to the horizontal deflection electrode 7 side by about 10
It will bend by 0 μm. However, when the structure shown in FIG. 8 is taken, the device is preliminarily bent in the opposite direction and installed by about 100 μm, so that it returns to the normal position when a voltage is applied, and the landing deviation of the electron beam can be corrected. Further, although not shown in the figure, the potential gradient of the linear cathode and the Coulomb force between the accelerating electrode and the counter electrode are usually generated at the same time. Can be corrected at the same time by transforming into a shape corresponding to the contribution ratio of the two.

また、加速手段の形状による補正手段として、第４図
(a)〜(f)のそれぞれに示す様な種々の形状にても、補正
することができる。４１は、加速手段がワイヤ状である
場合、真中が一番細く、両端に向って太くした形状で補
正を行うものである。４２は、第３図ａの３１，第３図
ｂの３２に示す加速電極８と同一形状のものである。４
３は、第３図ｂの３２で示した曲線３５に対応した形状
で補正を行うものである。４４は、加速電極８の形状が
上下に対称（図面上で上下）になった形をしており、こ
れは加速電極８をパネルに組込む時の精度を十分確保
し、まだ上下、逆に入れてもよい形で歩留り向上に役立
つ。４５は、加速電極８が、絶縁基板上に電極部（斜線
部）が付着された構成の場合の補正方法である。４６
は、加速電極８の厚みが薄くて不安定の場合、厚み方向
の形状を変形させて安定に製作出来る様にしたものであ
る。In addition, as a correction means based on the shape of the acceleration means, FIG.
It is also possible to correct various shapes as shown in each of (a) to (f). When the accelerating means is in the form of a wire, reference numeral 41 is for performing correction with a shape in which the center is thinnest and both ends are thicker. 42 has the same shape as the accelerating electrode 8 shown by 31 in FIG. 3a and 32 in FIG. 3b. Four
3 is for correcting with a shape corresponding to the curve 35 shown by 32 in FIG. 3b. Reference numeral 44 indicates a shape in which the acceleration electrode 8 is vertically symmetrical (up and down in the drawing). This ensures sufficient accuracy when the acceleration electrode 8 is assembled into the panel, and can be inserted upside down or upside down. It helps to improve the yield in a good form. 45 is a correction method when the acceleration electrode 8 has a structure in which an electrode portion (hatched portion) is attached on an insulating substrate. 46
When the accelerating electrode 8 is thin and unstable, the shape in the thickness direction is deformed so that the accelerating electrode 8 can be stably manufactured.

具体的に第９図(a)、(b)、(c)を用いて説明する。第９
図(a)は第４図(f)に示す加速電極である。第９図に示す
矢印９１の方向の厚みを変えた場合の等電位曲線がどう
変化するかを示した図が同図(b)、(c)である。この図で
示すように水平偏向電極７とスクリーン９の間に配置し
た加速電極の位置を変えずに、厚みのみ変化させても凹
型に変化した等電位曲線の変化量が異なることがわか
る。This will be specifically described with reference to FIGS. 9 (a), (b) and (c). 9th
Figure (a) is the acceleration electrode shown in Figure 4 (f). 9 (b) and 9 (c) show how the equipotential curve changes when the thickness in the direction of arrow 91 shown in FIG. 9 is changed. As shown in this figure, it can be seen that the amount of change in the equipotential curve changed to the concave shape is different even if the thickness is changed without changing the position of the acceleration electrode arranged between the horizontal deflection electrode 7 and the screen 9.

すなわち加速電極の厚みが厚いＢは等電位曲線の変化量
が大きく実質的に加速電極を水平偏向電極７の方に近付
た時と同様な効果があることがわかる。逆に加速電極の
厚みが薄いＣのときは、等電位曲線の変化量が小さく実
質的に加速電極をスクリーン９側に近付けたときと同様
な効果があることがわかる。That is, it can be seen that B having a large acceleration electrode has a large amount of change in the equipotential curve and has substantially the same effect as when the acceleration electrode is brought closer to the horizontal deflection electrode 7. On the contrary, when the thickness of the accelerating electrode is thin C, the amount of change in the equipotential curve is small, and it can be seen that there is substantially the same effect as when the accelerating electrode is brought close to the screen 9 side.

また別な一実施例を第５図(a)、(b)、(c)、(d)に示す。
これは加速電極８を、第５図(a)に示すごとく絶縁基板
５１の基板上に極めて抵抗の低い導電膜５２、５４と、
抵抗の高い導電膜５３を付着させた構造で形成している
ものである。Another embodiment is shown in FIGS. 5 (a), (b), (c) and (d).
This is because the accelerating electrode 8 is formed on the insulating substrate 51 as shown in FIG.
It is formed by a structure in which a conductive film 53 having a high resistance is attached.

基本的には、加速電極に高抵抗の薄膜を付着し、中心部
あるいは任意の部分と両端に電位差を与えて加速電極自
身が任意の電位勾配を形成できるようにする事により、
種々の補正に対応しようとするものである。Basically, by attaching a high resistance thin film to the accelerating electrode and giving a potential difference to the central part or an arbitrary part and both ends, the accelerating electrode itself can form an arbitrary potential gradient,
It is intended to deal with various corrections.

電位差を与えるために電圧を印加させねばならない。A voltage must be applied to give a potential difference.

一方、加速電極８は水平偏向電極７とスクリーン９の中
間に位置し、加速電極の中心部から直接電圧を印加する
ための電極を取り出すと周辺の電界が乱れることにな
り、電子ビーム軌道が変化してしまう。On the other hand, the accelerating electrode 8 is located between the horizontal deflection electrode 7 and the screen 9, and when the electrode for directly applying the voltage is taken out from the center of the accelerating electrode, the peripheral electric field is disturbed and the electron beam trajectory is changed. Resulting in.

そのために、加速電極の中心部に電圧を印加する手段と
して導電膜５２をＴ字型に形成し、加速電極の端部から
電圧を印加できるようにする必要がある。また電位差を
与えるためには高抵抗の導電膜５３の両端に直接電圧を
印加しても良い。Therefore, it is necessary to form the conductive film 52 in a T shape as a means for applying a voltage to the center of the acceleration electrode so that the voltage can be applied from the end of the acceleration electrode. Further, in order to give a potential difference, a voltage may be directly applied to both ends of the high resistance conductive film 53.

この様にして高抵抗の導電膜５３に導電膜５２、５４を
介して電圧を印加した場合、この加速電極８の表面電圧
は、同図(b)に示すごとく加速電極の長辺方向に沿って
凸型あるいは凹型の電圧曲線を描くことになる。When a voltage is applied to the high resistance conductive film 53 through the conductive films 52 and 54 in this manner, the surface voltage of the accelerating electrode 8 is along the long side direction of the accelerating electrode as shown in FIG. As a result, a convex or concave voltage curve is drawn.

このことにより、第５図(c)、(d)に示す様な水平偏向電
極７、加速電極８、スクリーン９の３電極で構成される
等電位曲線を描くことにより、その補正効果が確認でき
る。すなわち、加速電極の中心部が両端部より高い電圧
の時を同図(c)に示す。この図では、加速電極８の電圧
が高いために、水平偏向電極７と加速電極８との間は強
い電界となり、等電位曲線は深い凹型の曲線を形成す
る。Therefore, the correction effect can be confirmed by drawing an equipotential curve composed of the horizontal deflection electrode 7, the acceleration electrode 8 and the screen 9 as shown in FIGS. 5 (c) and 5 (d). . That is, FIG. 7C shows the case where the central portion of the accelerating electrode has a higher voltage than both ends. In this figure, since the voltage of the acceleration electrode 8 is high, a strong electric field is generated between the horizontal deflection electrode 7 and the acceleration electrode 8, and the equipotential curve forms a deep concave curve.

このことは、あたかも加速電極８の位置を水平偏向電極
７側に近付けたことと同様な効果をもたらすことにな
る。このことにより偏向されてきた電子ビームはより一
層偏向されることになる。This brings the same effect as if the position of the accelerating electrode 8 is brought closer to the horizontal deflection electrode 7 side. The electron beam thus deflected is further deflected.

他方、加速電極の両端部が中心部より低い電圧の場合の
電界状態を同図(d)に示す。この図で加速電極８の電圧
が低いために、水平偏向電極７と加速電極８との間は弱
い電界となり、等電位曲線は浅い凹型の曲線を形成す
る。On the other hand, the electric field state when both ends of the accelerating electrode have a lower voltage than the central part is shown in FIG. In this figure, since the voltage of the acceleration electrode 8 is low, a weak electric field is generated between the horizontal deflection electrode 7 and the acceleration electrode 8, and the equipotential curve forms a shallow concave curve.

このことは、あたかも加速電極８の位置をスクリーン９
側に近付けたことと同様な効果をもたらすことになる。
このことにより偏向されてきた電子ビームは、さらに偏
向することを抑制される様になる。This means that the position of the accelerating electrode 8 is changed to the screen 9
It will have the same effect as getting closer to your side.
As a result, the electron beam that has been deflected is suppressed from being further deflected.

これらのことは一例であって、電位差を与える電極を必
ずしも中心部と両端部に設置する必要はなく任意に設定
できることは言うまでもない。また、電位差は十分可変
できる。さらに高抵抗の薄膜の膜厚を変化させて電圧曲
線を種々選ぶことも可能である。These are merely examples, and it goes without saying that the electrodes for applying a potential difference do not necessarily have to be installed at the central portion and both end portions and can be set arbitrarily. Further, the potential difference can be varied sufficiently. Further, it is possible to select various voltage curves by changing the film thickness of the high resistance thin film.

この構造にて、あらかじめ各電極の組立精度、或は線陰
極の電位勾配、加速電極と対向電極間のクーロン力と張
力とによるたわみ等が不明で推測しにくい場合には、例
えばＡuの薄膜でできた導電膜５２と、抵抗の高いＩn₂
Ｏ₃にて形成された導電膜５３の両端部との間に電位
差、数１０Ｖから数１００Ｖまで適当に調節して、最も
補正効果ある電圧値に設定して、補正を行うことができ
る。In this structure, if the assembly accuracy of each electrode, the potential gradient of the wire cathode, the deflection due to the Coulomb force and the tension between the accelerating electrode and the counter electrode, etc. are difficult to estimate, use a thin film of Au, for example. The conductive film 52 and In ₂ having high resistance
The potential difference between the both ends of the conductive film 53 formed of O _{3 can} be appropriately adjusted from several tens of volts to several hundreds of volts to set the voltage value having the most correction effect, and the correction can be performed.

また抵抗の低い導電膜５２は、図面にては上部に配置し
てあるが、下部でも、或は基板の中にても可能である。Further, the conductive film 52 having a low resistance is arranged in the upper part in the drawing, but it may be arranged in the lower part or in the substrate.

発明の効果 以上のように電子ビーム加速手段に電子ビーム補正手段
を備えた構成にすることにより、より高品位な表示をよ
り簡単により定価に製作出来る効果がある。また、加速
手段の極めて単純な形状変形によりより安価に製作出来
る効果がある。また、加速電圧を変化させうる構造の加
速手段を用いることにより、種々のケースの補正をパネ
ル外部から補正出来るようになるため、パネル製作の歩
留りの向上、工数の低減が出来る効果がある。また、線
状電子源の電位勾配は、あらかじめ、決ったずれが発生
するため、極めて精度の高い補正を行い得る効果があ
る。加速手段と対向電極間とのクーロン力発生によるず
れも、あらかじめ、決ったずれが発生するため、より極
めて高い精度の補正を行い得る効果がある。EFFECTS OF THE INVENTION As described above, by providing the electron beam accelerating means with the electron beam correcting means, there is an effect that a higher quality display can be easily manufactured at a fixed price. Moreover, there is an effect that the accelerating means can be manufactured at a lower cost by extremely simple shape deformation. Further, by using the accelerating means having a structure capable of changing the accelerating voltage, various cases can be corrected from the outside of the panel, so that there is an effect that the production yield of the panel can be improved and the number of steps can be reduced. In addition, since the potential gradient of the linear electron source has a predetermined deviation, there is an effect that correction can be performed with extremely high accuracy. The deviation between the acceleration means and the counter electrode due to the generation of the Coulomb force also has a predetermined deviation, so that the correction can be performed with extremely high accuracy.

前記二者は、あらかじめ決ったずれ発生が推測できるた
め、同時により極めて高い精度の補正を行い得る効果が
ある。Since the two parties can estimate the occurrence of the predetermined deviation, there is an effect that the correction can be performed with extremely high accuracy at the same time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第１図は平板型画像表示装置の基本的な構成を示す図、
第２図は、同装置のスクリーンの拡大図、第３図ａ，
ｂ，ｃは、それぞれ本発明の一実施例の平板型画像表示
装置の要部構成図、第４図ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆは、
それぞれ本発明の他の実施例の平板型画像表示装置の要
部斜視図、第５図ａ，ｂ，ｃ，ｄは、本発明の他の実施
例の平板型表示装置における、それぞれ要部構造斜視
図、電圧曲線図、等電位曲線図、第６図ａ，ｂは、それ
ぞれ本発明の原理を説明するための要部斜視図と電子ビ
ーム軌道図、第７図ａ，ｂ，ｃは、本発明の原理を説明
するための、それぞれ要部断面図、等電位曲線図、及び
電子ビーム軌道図、第８図ａ，ｂは加速電極を固定する
ための要部斜視図と断面図、第９図ａ，ｂ，ｃは、第４
図ｆの詳細説明のための要部斜視図と等電位曲線図であ
る。 ２……線陰極、４……垂直偏向電極、７……加速電極の
対向電極としての水平偏向電極、８……加速電極。FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a flat panel image display device,
FIG. 2 is an enlarged view of the screen of the device, FIG.
b and c are main part configuration diagrams of the flat panel image display device according to one embodiment of the present invention, and FIGS. 4 a, b, c, d, e, and f are
5A, 5B, 5C, and 5D are perspective views of a main part of a flat panel image display device according to another embodiment of the present invention, and FIGS. A perspective view, a voltage curve diagram, an equipotential curve diagram, and FIGS. 6a and 6b are a perspective view and an electron beam trajectory diagram, respectively, for explaining the principle of the present invention, and FIGS. For the purpose of explaining the principle of the present invention, a cross-sectional view of an essential part, an equipotential curve diagram, and an electron beam trajectory diagram, and FIGS. 8A and 8B are a perspective view and a sectional view of an essential part for fixing an accelerating electrode. 9 a, b and c show the fourth
FIG. 9 is a perspective view of a main part and an equipotential curve diagram for detailed description of FIG. 2 ... Line cathode, 4 ... Vertical deflection electrode, 7 ... Horizontal deflection electrode as counter electrode of acceleration electrode, 8 ... Acceleration electrode.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平野 龍馬 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 永島 博之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ryoma Hirano 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Hiroyuki Nagashima, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】線状電子源と、その電子源より放出される
電子ビームを制御する電子ビーム制御手段と、電子ビー
ムを偏向する電子ビーム偏向手段と、電子ビームを加速
する電子ビーム加速手段と、電子ビームの射突により発
光する電子ビーム発光手段とを有し、前記電子ビーム加
速手段には加速手段の長手方向に沿って、発光手段に射
突配列する複数の電子ビームの射突位置を各々補正する
電子ビーム射突位置補正手段をも具備せしめたことを特
徴とする平板型表示装置。1. A linear electron source, an electron beam control means for controlling an electron beam emitted from the electron source, an electron beam deflecting means for deflecting the electron beam, and an electron beam accelerating means for accelerating the electron beam. An electron beam emitting means for emitting light by the electron beam impact, wherein the electron beam accelerating means is provided with a plurality of electron beam impact positions arrayed in the light emitting means along the longitudinal direction of the accelerator means. A flat panel display device characterized in that it is also provided with electron beam impingement position correcting means for correcting each. 【請求項２】電子ビーム加速手段の短手方向の電極断面
形状が長手方向の任意の位置で同一でない形状にするこ
とにより、前記電子ビーム加速手段に電子ビーム射突位
置補正手段を具備せしめたことを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の平板型表示装置。2. The electron beam accelerating means is provided with electron beam impinging position correcting means by making the cross-sectional shape of the electrode in the lateral direction of the electron beam accelerating means different from each other at arbitrary positions in the longitudinal direction. The flat panel display device according to claim 1, wherein 【請求項３】電子ビーム加速手段に高抵抗の薄膜を形成
し、その薄膜の端部を含めた任意の部分の２箇所以上に
異なった加速電圧を印加するようになして前記薄膜上に
電位差を発生させることにより電子ビーム射突位置補正
手段を具備せしめたことを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の平板型表示装置。3. A high resistance thin film is formed on an electron beam accelerating means, and different accelerating voltages are applied to two or more portions of an arbitrary portion including an end portion of the thin film so that a potential difference is exerted on the thin film. The flat panel display device according to claim 1, further comprising an electron beam impingement position correction means for generating a beam. 【請求項４】線状電子源の電位勾配に関する電子ビーム
の補正が、電子ビーム加速手段により行われることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の平板型表示装置。4. The flat panel display device according to claim 1, wherein the electron beam correction relating to the potential gradient of the linear electron source is performed by an electron beam accelerating means. 【請求項５】電子ビーム加速手段が線状或はリボン状の
電極であり、これに対向する電極手段間で生じるクーロ
ン力による、前記線状或はリボン状の電子ビーム加速手
段の対向電極手段側へのたわみに関する電子ビームの補
正を、前記電子ビーム加速手段にて行うことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項もしくは第２項記載の平板型表
示装置。5. The electron beam accelerating means is a linear or ribbon electrode, and the counter electrode means of the linear or ribbon electron beam accelerating means by Coulomb force generated between the electrode means facing the linear or ribbon electrode. 3. The flat panel display device according to claim 1, wherein the electron beam accelerating means corrects the deflection of the electron beam toward the side.