JPH06179894A - フッ素化炭化水素系洗浄剤 - Google Patents
フッ素化炭化水素系洗浄剤Info
- Publication number
- JPH06179894A JPH06179894A JP33421792A JP33421792A JPH06179894A JP H06179894 A JPH06179894 A JP H06179894A JP 33421792 A JP33421792 A JP 33421792A JP 33421792 A JP33421792 A JP 33421792A JP H06179894 A JPH06179894 A JP H06179894A
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- Japan
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- acetate
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- cleaning
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- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式（１）で表されるフッ素化炭化水
素を有効成分として含む洗浄用溶剤。 Ｃn Ｈm Ｆ2n+1-m−ＣＨ＝ＣＨ2 （式中、ｎは２〜４の整数、ｍは１〜２の整数であ
る。） 【効果】 本発明は、オゾン層破壊能が大きいフロン１
１３に代わる洗浄用溶剤として有用である。
素を有効成分として含む洗浄用溶剤。 Ｃn Ｈm Ｆ2n+1-m−ＣＨ＝ＣＨ2 （式中、ｎは２〜４の整数、ｍは１〜２の整数であ
る。） 【効果】 本発明は、オゾン層破壊能が大きいフロン１
１３に代わる洗浄用溶剤として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は精密機械部品、光学機械
部品等の加工時に使用される加工油類、電気電子部品の
はんだ付け時に使用されるフラックス及び衣類の汚れを
除去するのに好適な洗浄用溶剤に関するものである。
部品等の加工時に使用される加工油類、電気電子部品の
はんだ付け時に使用されるフラックス及び衣類の汚れを
除去するのに好適な洗浄用溶剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜
油、熱処理油、防錆油、ワックス、潤滑油、グリース等
が使われるが、これらの油脂類は最終的には除去される
必要があり、溶剤による除去が一般的に行なわれてい
る。
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜
油、熱処理油、防錆油、ワックス、潤滑油、グリース等
が使われるが、これらの油脂類は最終的には除去される
必要があり、溶剤による除去が一般的に行なわれてい
る。
【０００３】電子回路の接合方法としては、はんだ付け
が最も一般的に行なわれているが、はんだ付けすべき金
属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、はんだのぬ
れ性改良等の目的で、ロジンを主成分としたフラックス
で予めはんだ付け面を処理することが通常行なわれてい
る。はんだ付けの方法としては、溶液状のフラックス中
に基板をディップする等により、フラックスを基板面に
供給した後、溶融はんだを供給する方法や、予めフラッ
クスとはんだの粉末を混合してペースト状にしたものを
はんだ付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があ
るが、いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食、
絶縁性の低下等の原因となるため、はんだ付け終了後、
十分に除去する必要がある。
が最も一般的に行なわれているが、はんだ付けすべき金
属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、はんだのぬ
れ性改良等の目的で、ロジンを主成分としたフラックス
で予めはんだ付け面を処理することが通常行なわれてい
る。はんだ付けの方法としては、溶液状のフラックス中
に基板をディップする等により、フラックスを基板面に
供給した後、溶融はんだを供給する方法や、予めフラッ
クスとはんだの粉末を混合してペースト状にしたものを
はんだ付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があ
るが、いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食、
絶縁性の低下等の原因となるため、はんだ付け終了後、
十分に除去する必要がある。
【０００４】又、衣類の洗浄にも、洗浄力が良く乾燥性
が優れている等の理由により、溶剤による洗浄（ドライ
クリーニング）が広く普及している。これらの用途に
は、不燃性で毒性が低く、化学的に安定で、油脂類やフ
ラックスに対する溶解性が優れ、かつ、ゴム、ブラスチ
ック、金属、衣類等の材質への影響が小さい等、多くの
特徴を有することから、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタン（以下Ｒ１１３という）が
広く使われている。
が優れている等の理由により、溶剤による洗浄（ドライ
クリーニング）が広く普及している。これらの用途に
は、不燃性で毒性が低く、化学的に安定で、油脂類やフ
ラックスに対する溶解性が優れ、かつ、ゴム、ブラスチ
ック、金属、衣類等の材質への影響が小さい等、多くの
特徴を有することから、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタン（以下Ｒ１１３という）が
広く使われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の如く、Ｒ１１３
は多くの優れた特徴を有しているが、化学的に安定で対
流圏内での寿命が長く、成層圏に達してはじめて強い紫
外線により分解され塩素を放出しオゾン層を破壊するた
め、地上に達する有害な紫外線を増加させる結果、人類
を含む地球上の生態系に深刻な影響を与えることが近年
指摘されている。このため、Ｒ１１３等オゾン破壊能の
高いフロンについて生産と消費を規制し、更に全廃する
という国際的な動きが活発になっている。本発明は、こ
れらの動きに対応して、オゾン破壊能がなく、しかもＲ
１１３の有する優れた特性を保持した新しい洗浄用溶剤
を提供するものである。
は多くの優れた特徴を有しているが、化学的に安定で対
流圏内での寿命が長く、成層圏に達してはじめて強い紫
外線により分解され塩素を放出しオゾン層を破壊するた
め、地上に達する有害な紫外線を増加させる結果、人類
を含む地球上の生態系に深刻な影響を与えることが近年
指摘されている。このため、Ｒ１１３等オゾン破壊能の
高いフロンについて生産と消費を規制し、更に全廃する
という国際的な動きが活発になっている。本発明は、こ
れらの動きに対応して、オゾン破壊能がなく、しかもＲ
１１３の有する優れた特性を保持した新しい洗浄用溶剤
を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するための新しい洗浄用溶剤を提供するものであり、
下記一般式（１）で表されるフッ素化炭化水素を有効成
分とする。 Ｃn Ｈm Ｆ2n+1-m−ＣＨ＝ＣＨ2 （式中、ｎは２〜４の整数、ｍは１〜２の整数であ
る。） 上記フッ素化炭化水素としては、具体的には、（２Ｈ−
パーフルオロプロピル）エチレン（ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2
ＣＨ＝ＣＨ2 ）、（４Ｈ−パーフルオロブチル）エチレ
ン（ＨＣＦ2 （ＣＦ2 ）3 ＣＨ＝ＣＨ2 ）、アリルパー
フルオロプロパン（ｎ−Ｃ3 Ｆ7 ＣＨ2 ＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 ）、２−アリルパーフルオロプロパン（（ＣＦ3 ）
2 ＣＦＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 ）等を挙げることができる。
成するための新しい洗浄用溶剤を提供するものであり、
下記一般式（１）で表されるフッ素化炭化水素を有効成
分とする。 Ｃn Ｈm Ｆ2n+1-m−ＣＨ＝ＣＨ2 （式中、ｎは２〜４の整数、ｍは１〜２の整数であ
る。） 上記フッ素化炭化水素としては、具体的には、（２Ｈ−
パーフルオロプロピル）エチレン（ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2
ＣＨ＝ＣＨ2 ）、（４Ｈ−パーフルオロブチル）エチレ
ン（ＨＣＦ2 （ＣＦ2 ）3 ＣＨ＝ＣＨ2 ）、アリルパー
フルオロプロパン（ｎ−Ｃ3 Ｆ7 ＣＨ2 ＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 ）、２−アリルパーフルオロプロパン（（ＣＦ3 ）
2 ＣＦＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 ）等を挙げることができる。
【０００７】本発明の洗浄用溶剤には、必要に応じて、
炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エ
ステル類、塩素化炭化水素等の有機溶剤から選ばれる少
なくとも１種を含有させることができる。これら有機溶
剤の添加量は５０重量％以下が好ましいが、共沸組成が
存在する時はその近辺で使用することが好ましい。炭化
水素類としては、炭素数５〜１５の鎖状又は環状の飽和
又は不飽和炭化水素類が好ましく、例えば、ｎ−ペンタ
ン、２−メチルブタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペン
タン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタ
ン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘ
キサン、２，３−ジメチルペンタン、２，４−ジメチル
ペンタン、ｎ−オクタン、２，２，３−トリメチルペン
タン、イソオクタン、ｎ−ノナン、２，２，５−トリメ
チルヘキサン、デカン、ドデカン、１−ペンテン、２−
ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−ノネン、
１−デセン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロ
ヘキサン、パラメンタン、シクロヘキセン、α−ピネ
ン、ジペンテン、デカリン、石油エーテル、石油ベンジ
ン、リグロイン、ガソリン、灯油等が挙げられる。
炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エ
ステル類、塩素化炭化水素等の有機溶剤から選ばれる少
なくとも１種を含有させることができる。これら有機溶
剤の添加量は５０重量％以下が好ましいが、共沸組成が
存在する時はその近辺で使用することが好ましい。炭化
水素類としては、炭素数５〜１５の鎖状又は環状の飽和
又は不飽和炭化水素類が好ましく、例えば、ｎ−ペンタ
ン、２−メチルブタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペン
タン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタ
ン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘ
キサン、２，３−ジメチルペンタン、２，４−ジメチル
ペンタン、ｎ−オクタン、２，２，３−トリメチルペン
タン、イソオクタン、ｎ−ノナン、２，２，５−トリメ
チルヘキサン、デカン、ドデカン、１−ペンテン、２−
ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−ノネン、
１−デセン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロ
ヘキサン、パラメンタン、シクロヘキセン、α−ピネ
ン、ジペンテン、デカリン、石油エーテル、石油ベンジ
ン、リグロイン、ガソリン、灯油等が挙げられる。
【０００８】アルコール類としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノー
ル、１−プタノール、２−ブタノール、イソブタノー
ル、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノ
ール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、ｔ−ペンチルアルコー
ル、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコ
ール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノー
ル、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−
ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３
−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノー
ル、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、
１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げら
れる。
ル、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノー
ル、１−プタノール、２−ブタノール、イソブタノー
ル、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノ
ール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノー
ル、イソペンチルアルコール、ｔ−ペンチルアルコー
ル、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコ
ール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノー
ル、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−
ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３
−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノー
ル、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、
１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げら
れる。
【０００９】ケトン類としては、例えば、アセトン、メ
チルエチルケトン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、
メチルイソプチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタ
ノン、ジイソプチルケトン、ホロン、イソホロン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等が挙げられ
る。エーテル類としては、例えばジエチルエーテル、ジ
プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチル
エーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
チルエチルケトン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、
メチルイソプチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタ
ノン、ジイソプチルケトン、ホロン、イソホロン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等が挙げられ
る。エーテル類としては、例えばジエチルエーテル、ジ
プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチル
エーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００１０】エステル類としては、例えば、ギ酸メチ
ル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ペン
チル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペン
チル、３−メトキシブチルアセテート、酢酸ｓｅｃ−ヘ
キシル、２−エチルブチルアセテート、２−エチルヘキ
シルアセテート、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メ
チル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロ
ピオン酸イソペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、イソ
吉草酸エチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
ル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ペン
チル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペン
チル、３−メトキシブチルアセテート、酢酸ｓｅｃ−ヘ
キシル、２−エチルブチルアセテート、２−エチルヘキ
シルアセテート、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メ
チル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロ
ピオン酸イソペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、イソ
吉草酸エチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
【００１１】塩素化炭化水素類としては、例えば、塩化
メチレン、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロル
エタン、１，１−ジクロルエチレン、１，２−ジクロル
エチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン
等が挙げられる。本発明の洗浄剤には、必要に応じて各
種助剤、例えば、界面活性剤、静電気防止剤、防錆剤等
を添加することができる。
メチレン、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロル
エタン、１，１−ジクロルエチレン、１，２−ジクロル
エチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン
等が挙げられる。本発明の洗浄剤には、必要に応じて各
種助剤、例えば、界面活性剤、静電気防止剤、防錆剤等
を添加することができる。
【００１２】
【実施例】次に、本発明の実施例を示す。
【００１３】
【実施例１】染料で着色した切削油（日本石油株式会社
製、ユニカットＧＨ３５）を塗布したステンレス製金網
（３０メッシュ）を洗浄剤に５分間浸漬した後取り出
し、金網への切削油の残存状態を目視観察した。結果を
表１に示す。
製、ユニカットＧＨ３５）を塗布したステンレス製金網
（３０メッシュ）を洗浄剤に５分間浸漬した後取り出
し、金網への切削油の残存状態を目視観察した。結果を
表１に示す。
【００１４】
【実施例２】ガラスエポキシ製プリント基板をフラック
ス（タムラ化研製、Ｆ−３２０Ｖ）に浸し風乾した後、
２５０℃ではんだ付けして作成した試験片を洗浄剤に５
分間浸し超音波洗浄した後取り出し、フラックスの残存
状態を目視により観察した。結果を表２に示す。
ス（タムラ化研製、Ｆ−３２０Ｖ）に浸し風乾した後、
２５０℃ではんだ付けして作成した試験片を洗浄剤に５
分間浸し超音波洗浄した後取り出し、フラックスの残存
状態を目視により観察した。結果を表２に示す。
【００１５】
【実施例３】上島製作所製洗浄テスト機を用い、テスト
ファブリック社のカーボン汚染布（ウール）を２３℃
下、１０分間洗浄し、洗浄効果を目視判定した結果を表
３に示す。
ファブリック社のカーボン汚染布（ウール）を２３℃
下、１０分間洗浄し、洗浄効果を目視判定した結果を表
３に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【表２】
【００１８】
【表３】
【００１９】
【発明の効果】実施例から明らかなように、本発明の洗
浄用溶剤は、オゾン層破壊能が大きいＲ１１３に代わる
洗浄用溶剤として有用である。
浄用溶剤は、オゾン層破壊能が大きいＲ１１３に代わる
洗浄用溶剤として有用である。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるフッ素化炭
化水素を有効成分として含む洗浄用溶剤。 Ｃn Ｈm Ｆ2n+1-m−ＣＨ＝ＣＨ2 （式中、ｎは２〜４の整数、ｍは１〜２の整数であ
る。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33421792A JPH06179894A (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | フッ素化炭化水素系洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33421792A JPH06179894A (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | フッ素化炭化水素系洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06179894A true JPH06179894A (ja) | 1994-06-28 |
Family
ID=18274862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33421792A Withdrawn JPH06179894A (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | フッ素化炭化水素系洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06179894A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001014620A1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-03-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flash-spinning process and solution |
| JP2016186077A (ja) * | 2008-12-17 | 2016-10-27 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 洗浄組成物及び方法 |
-
1992
- 1992-12-15 JP JP33421792A patent/JPH06179894A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001014620A1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-03-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flash-spinning process and solution |
| JP2016186077A (ja) * | 2008-12-17 | 2016-10-27 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 洗浄組成物及び方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |