JPH06179636A - ３，４，４―三置換―２―シクロペンテノン類の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 骨形成促進作用や制癌作用を有する２，３，
４，４，５―五置換―２―シクロペンテノン類の前駆体
である３，４，４―三置換―２―シクロペンテノン類を
効率よくかつ安価に製造し得る新規な方法を提供する。 【構成】 下記式（１）と下記式（２）とを第一銅塩の
存在下に反応させ、 精製するエノラート中間体をトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₆ の炭化水
素基）置換シクロハライドと反応させることによって、
下記式（３）を誘導し、 次いで二価のパラジウム塩の存在下に酸化させることを
特徴とする下記式（４）のシクロペンテノン類の製造法
を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は４，４―二置換―２―シ
クロペンテノン類を出発原料とする３，４，４―三置換
―２―シクロペンテノン類の製造法に関する。更に詳し
くは、優れた制癌作用および骨形成促進作用等の薬理作
用を有する２，３，４，４，５―五置換―２―シクロペ
ンテノン類の前駆体を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】プロスタグランジンは、血小板凝集抑制
作用、血圧降下作用等の特異な生理活性を有する化合物
であり、近年医療の領域において末梢循環器系疾患治療
薬として用いられている有用な天然物である。プロスタ
グランジンのなかで、そのシクロペンタン環に二重結合
を有するものとしてプロスタグランジンＡ類が知られて
おり、例えば、欧州公開特許第１０６５７６号（公開
日：１９８４年４月２５日）にはプロスタグランジンＡ
類を包含する４，５―置換の２―シクロペンテノン類が
知られており、その中には下記式

【０００３】

【化４】

【０００４】［ここでＷはＣ₁ 〜Ｃ₁₂の置換していても
よい炭化水素基、ＹはＣ₁ 〜Ｃ₁₂の置換していてもよい
炭化水素基を表わす。］で表わされる５―アルキリデン
―４―置換―２―シクロペンテノン類は悪性腫瘍に有効
であると記載されている。

【０００５】また欧州公開特許第０１３１４４１号（公
開日：１９８５年１月１６日）には下記式

【０００６】

【化５】

【０００７】［ここでＲａは置換もしくは非置換のＣ₁
〜Ｃ₁₂の炭化水素かまたは置換もしくは非置換のフェニ
ル基：Ｒｂは置換もしくは非置換のＣ₁ 〜Ｃ₁₂の炭化水
素：Ｘはハロゲン原子を表わす。］で表わされる５―ア
ルキリデン―２―ハロ―４―置換―２―シクロペンテノ
ン類が知られており、これらの化合物も同様に悪性腫瘍
に有効であることが開示されている。更に日本薬学会第
１０９年会（要旨集ｐ１１７）で下記式

【０００８】

【化６】

【０００９】で表わされる２―メチルチオ―２―シクロ
ペンテノン類が制癌作用を有すると記載されている。

【００１０】通常の健常人の骨の代謝は、破骨細胞によ
る骨吸収と骨芽細胞による骨形成がバランスよく繰り返
されることによって成立しているといわれており、この
骨吸収と骨形成のバランスがくずれた場合、骨粗鬆症や
骨軟化症といった病態になるものと考えられている。こ
のような骨疾患の治療剤としては、活性型ビタミン製
剤、カルシトニン製剤、ジホスホン酸製剤、エストロゲ
ン製剤、カルシウム製剤などが使用されるが、これらの
製剤の多くは骨吸収を抑制する作用などが報告されてい
るものの、骨形成を促進する作用を明確に示したものは
ない。さらにこれらの製剤はその効果が確実ではないた
め、より効果が確実と考えられる骨芽細胞による骨形成
を促進させる作用をもつ製剤の開発が強く望まれてい
る。それらの化合物の一つが上記に示した２―メチルチ
オ―２―シクロペンテノン類であり、２，３，４，４，
５―五置換―２―シクロペンテノン類は、更にその効果
が期待できる化合物である。その製造法に関しては、杉
浦ら、特願平２―５１４１５２号（国際公開番号ＷＯ９
１１０５７６６号）に記載され、それを図示すると次の
通りである。

【００１１】

【化７】

【００１２】しかし、この方法で２，３，４，４，５―
五置換―２―シクロペンテノン類の前駆体である３，
４，４―三置換―２―シクロペンテノン類を製造するた
めにはＰｈＳｅＢｒの使用が不可欠であり、この物質は
高価な試薬であるため、工業的製造法とはいい難い。

【００１３】

【発明の開示】本発明者らは優れた制癌作用および骨形
成促進作用等の薬理作用を有する２，３，４，４，５―
五置換―２―シクロペンテノン類の前駆体である３，
４，４―三置換―２―シクロペンテノン類を簡便かつ安
価に製造する方法を鋭意研究した結果本発明に至った。

【００１４】即ち本発明では下記式（１）

【００１５】

【化８】

【００１６】［式中、Ｒ¹ はＣ₁ 〜Ｃ₁₀の直鎖または分
枝鎖の二価の炭化水素基を表わし、Ｒ ² は水素原子、フ
ェニル基、フェノキシ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ のアルコキシ基を
表わし、Ｒ³ はトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₆ ）炭化水素シリル基、
または環状もしくは非環状の１―（Ｃ₁ 〜Ｃ₅ のアルコ
キシ基）置換のＣ₁ 〜Ｃ₆ のアルキル基を表わし、＊印
は不斉炭素を表わす。］で表わされる４，４―二置換―
２―シクロペンテノン類と下記式（２） Ｒ⁴ −Ｙ …（２） ［式中、Ｒ⁴ はＣ₁ 〜Ｃ₄ の直鎖または分枝鎖アルキル
基またはフェニル基を表わし、Ｙはリチウムまたはマグ
ネシウムハライドを表わす。］で表わされる有機金属化
合物とを、第一銅塩の存在下に反応せしめ、生成するエ
ノラート中間体をトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₆ の炭化水素基）置換
シリルハライドと反応せしめることによって下記式
（３）

【００１７】

【化９】

【００１８】［式中、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ は同一もしくは
異なるＣ₁ 〜Ｃ₆ の炭化水素基を表わし、Ｒ¹ ，Ｒ² ，
Ｒ³ ，Ｒ⁴ および＊印は前記定義に同じである。］で表
わされる３，４，４―三置換シリルエノールエーテル類
に誘導し、次いで二価のパラジウム塩の存在下に酸化せ
しめることを特徴とする、下記式（４）

【００１９】

【化１０】

【００２０】［式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ および＊
印は前記定義に同じである。］で表わされる３，４，４
―三置換―２―シクロペンテノン類の製造法が提供され
る。

【００２１】なおかかる第一銅塩の好ましい具体例とし
て、下記式（５） Ｃｕ−Ｚ …（５） ［式中、Ｚは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアニ
ド、フェニルチオ基、１―ペンチニル基、または１―ヘ
キシニル基を表わす。］で表わされるものが挙げられ
る。

【００２２】本発明において原料として用いられる４，
４―二置換―２―シクロペンテノン類のうち一部は既知
であり、次に示す合成経路（Ｓｈｅｍｅ Ｉ）により製
造される。

【００２３】

【化１１】

【００２４】本発明方法の出発原料として用いられる上
記式（１）で表わされる４，４―二置換―２―シクロペ
ンテノン類の代表例を挙げる前にこれらの基本化合物と
なるＲ³ が水素である場合の誘導体の例を挙げると、 （０１）４―ヒドロキシ―４―メチル―２―シクロペン
テノン （０２）４―エチル―４―ヒドロキシ―２―シクロペン
テノン （０３）４―ヒドロキシ―４―プロピル―２―シクロペ
ンテノン （０４）４―ブチル―４―ヒドロキシ―２―シクロペン
テノン （０５）４―ヒドロキシ―４―（４―メトキシブチル）
―２―シクロペンテノン （０６）４―（４―エトキシブチル）―４―ヒドロキシ
―２―シクロペンテノン （０７）４―ヒドロキシ―４―（４―フェニルブチル）
―２―シクロペンテノン （０８）４―ヒドロキシ―４―（４―フェノキシブチ
ル）―２―シクロペンテノン 等の化合物が基本化合物として挙げられる。

【００２５】本発明方法では遊離の水酸基は保護した形
で反応に供給されるので、その代表的な保護基としてｔ
―ブチルジメチルシリル基、トリメチルシリル基、トリ
エチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、テトラヒ
ドロピラニル基、メトキシメチル基、エトキシメチル
基、エトキシエチル基などが挙げられ、４，４―二置換
―２―シクロペンテノン類の４位の置換基のＲ³ の例示
を兼ねつつ本発明の出発原料である４，４―二置換―２
―シクロペンテノン類の具体例を例示すると、 （０９）４位のヒドロキシの水素がｔ―ブチルジメチル
シリル基で置換した（０１）〜（０８）の化合物のｔ―
ブチルジメチルシリルエーテル体 （１０）４位のヒドロキシの水素がトリメチルシリル基
で置換した（０１）〜（０８）の化合物のトリメチルシ
リルエーテル体 （１１）４位のヒドロキシの水素がトリエチルシリル基
で置換した（０１）〜（０８）の化合物のトリエチルシ
リルエーテル体 （１２）４位のヒドロキシの水素がジメチルフェニルシ
リル基で置換した（０１）〜（０８）の化合物のジメチ
ルフェニルシリルエーテル体 （１３）４位のヒドロキシの水素がテトラヒドロピラニ
ル基で置換した（０１）〜（０８）の化合物のテトラヒ
ドロピラニルエーテル体 （１４）４位のヒドロキシの水素がメトキシメチル基で
置換した（０１）〜（０８）の化合物のメトキシメチル
エーテル体 （１５）４位のヒドロキシの水素がエトキシメチル基で
置換した（０１）〜（０８）の化合物のエトキシメチル
エーテル体 （１６）４位のヒドロキシの水素がエトキシエチル基で
置換した（０１）〜（０８）の化合物のエトキシエチル
エーテル体 などを挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。

【００２６】本発明の製造法においては、上述した上記
式（１）で表わされる４，４―二置換―２―シクロペン
テノン類を有機媒体中で下記式（２） Ｒ⁴ −Ｙ …（２） ［式中、Ｒ⁴ はＣ₁ 〜Ｃ₄ の直鎖または分枝鎖アルキル
基またはフェニル基を表わし、Ｙはリチウムまたはマグ
ネシウムハライドを表わす。］で表わされる有機金属化
合物と第一銅塩、中でも好ましくは下記式（５） Ｃｕ−Ｚ …（５） ［式中、Ｚは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアニ
ド、フェニルチオ基、１―ペンチニル基、または１―ヘ
キシニル基を表わす。］で表わされる第一銅塩の存在下
に反応せしめ、生成するエノラート中間体をトリ（Ｃ₁
〜Ｃ₆ の炭化水素基）置換シリルハライドと反応せしめ
ることにより下記一般式（３）

【００２７】

【化１２】

【００２８】［式中、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ は同一もしくは
異なるＣ₁ 〜Ｃ₆ の炭化水素基を表わし、Ｒ¹ ，Ｒ² ，
Ｒ³ ，Ｒ⁴ および＊印は前記定義に同じ。］で表わされ
る３，４，４―三置換シリルエノールエーテル類に誘導
する。

【００２９】ここで用いる有機媒体としては、不活性の
非プロトン系の有機媒体が用いられる。かかる有機媒体
としては例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンなどの飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジ
エチレングリコール、ジメチルエーテルなどのエーテル
系溶媒、その他ヘキサメチルホスホリックトリアミド
（ＨＭＰＡ）、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン、Ｎ―メ
チルピロリドン（ＮＭＰ）などの化合物が挙げられ、こ
れらは二種以上の混合物としても用いることも可能であ
る。使用量は特に限定はないが通常出発原料（１）に対
して１〜１００倍程度用いられる。

【００３０】一般式（２）で表わされる化合物の例を挙
げると、 （１７）メチルリチウム （１８）エチルリチウム （１９）プロピルリチウム （２０）ブチルリチウム （２１）フェニルリチウム （２２）（１７）〜（２１）の化合物リチウムがマグネ
シウムブロミドで置換したマグネシウムブロミド体 （２３）（１７）〜（２１）の化合物のリチウムがマグ
ネシウムクロリドで置換したマグネシウムクロリド体 （２４）（１７）〜（２１）の化合物のリチウムがマグ
ネシウムヨードで置換したマグネシウムヨード体 などが挙げられる。

【００３１】また、一般式（５）で表わされる化合物の
例を挙げると、 （２５）塩化第一銅 （２６）臭化第一銅 （２７）ヨウ化第一銅 （２８）シアン化第一銅 （２９）フェニルチア第一銅 （３０）１―ペンチン銅 （３１）１―ヘキシン銅 などが挙げられる。

【００３２】一般式（２）で表わされる有機金属化合物
の使用量は通常、一般式（５）で表わされる第一銅塩１
当量に対して２当量用いられる。また、一般式（１）で
表わされる出発原料の４，４―二置換―２―シクロペン
テノン類１当量に対し上記反応剤は１〜１０当量、好ま
しくは１〜５当量使用される。

【００３３】有機銅反応剤を調製する際の温度は通常３
０℃以下で、特に０℃以下の温度が好ましく、調製時間
は数分から数時間で充分である。有機銅反応剤と上記式
（１）で表わされる４，４―二置換―２―シクロペンテ
ノン類との反応温度は３０℃以下、好ましくは０℃以下
で、反応時間は用いる有機銅反応剤や出発原料あるいは
反応温度によって異なり、通常薄層クロマトグラフィー
などの分析手段を用いて出発原料の消失を追跡しながら
実施するが、数分間から数時間反応させると終結する。

【００３４】生成するエノラート中間体とトリ（Ｃ₁ 〜
Ｃ₆ の炭化水素基）置換シリルハライドとの反応で用い
られるシリルハライドとしては、 （２９）トリメチルシリルクロライド （３０）トリエチルシリルクロライド （３１）ｔ―ブチルジメチルシリルクロライド （３２）ジメチルフェニルシリルクロライド （３３）（２９）〜（３２）の化合物のシリルブロマイ
ド体 （３４）（２９）〜（３２）の化合物のシリルヨード体 などが挙げられる。

【００３５】この時トリエチルアミン、ジメチルアミノ
ピリジン、ピリジン、コリジン、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド（ＨＭＰＡ）などの塩基性化合物が反応
助剤として用いられ、また二種以上用いられることもあ
る。用いられる量は、通常、出発原料１当量に対して１
〜１０当量用いられる。

【００３６】反応終結後の上記式（４）で表わされる
３，４，４―三置換―シリルエノールエーテル類の単離
操作は通常の後処理手段、例えば、抽出、洗浄、乾燥、
濃縮後のクロマトグラフィー、蒸留等の方法により分離
精製される。しかし精製中に分解したり、塩基、酸と接
触すると分解する恐れがある場合は分離精製の工程を省
略することもできる。

【００３７】上記のように一般式（４）で表わされる
３，４，４―三置換―シリルエノールエーテル類に誘導
した後二価のパラジウム塩の存在下に酸化することによ
り下記一般式（４）

【００３８】

【化１３】

【００３９】［式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ および＊
印は前記定義に同じである。］で表わされる３，４，４
―三置換―２―シクロペンテノン類を製造することがで
きる。ここで用いる二価のパラジウム塩の具体例として
は酢酸パラジウム［Ｐｄ（ＯＡｃ）₂ ］、塩化パラジウ
ムベンゾニトリル錯体［ＰｄＣｌ₂ （ＰｈＣＮ） ₂ ］な
どが用いられ、またｐ―ベンゾキノンなどのキノン類が
併用されることもある。使用量は一般式（３）で表わさ
れる３，４，４―三置換―シリルエノールエーテル類１
等量に対し０．０１〜２当量が用いられる。

【００４０】反応溶媒としては通常ベンゾニトリル、ア
セトニトリルなどのニトリル系溶媒が用いられ、反応温
度は０℃から６０℃程度の反応温度が使用される。反応
時間は用いる二価のパラジウムの種類や３，４，４―三
置換―シリルエノールエーテルの種類により異なり、薄
層クロマトグラフィーなどの分析手段を用いて原料の消
失を追跡しながら実施するが数分から数十時間反応させ
ると終結する。

【００４１】式（４）で表わされる３，４，４―三置換
―２―シクロペンテノン類の単離操作は通常の後処理手
段、例えば抽出、洗浄、乾燥、濃縮後のクロマトグラフ
ィー、蒸留等の方法により分離精製される。式（４）で
表わされる化合物で、Ｒ³ が水素である場合の誘導体の
例を挙げると、 （３５）４―ヒドロキシ―３，４―ジメチル―２―シク
ロペンテノン （３６）４―エチル―４―ヒドロキシ―３―メチル―２
―シクロペンテノン （３７）４―ヒドロキシ―３―メチル―４―プロピル―
２―シクロペンテノン （３８）４―ブチル―４―ヒドロキシ―３―メチル―２
―シクロペンテノン （３９）４―ヒドロキシ―４―（４―メトキシブチル）
―３―メチル―２―シクロペンテノン （４０）４―（４―エトキシブチル）―４―ヒドロキシ
―３―メチル―２―シクロペンテノン （４１）４―ヒドロキシ―３―メチル―４―（４―フェ
ニルブチル）―２―シクロペンテノン （４２）４―ヒドロキシ―３―メチル―４―（４―フェ
ノキシブチル）―２―シクロペンテノン （４３）（３５）〜（４２）の化合物の３位がエチルの
２―シクロペンテノン体 （４４）（３５）〜（４２）の化合物の３位がメチルの
２―シクロペンテノン体 （４５）（３５）〜（４２）の化合物の３位がプロピル
の２―シクロペンテノン体 （４６）（３５）〜（４２）の化合物の３位がブチルの
２―シクロペンテノン体 （４７）（３５）〜（４２）の化合物の３位がフェニル
の２―シクロペンテノン体 などが挙げられる。

【００４２】Ｒ³ の例示を兼ねつつ本発明の一般式
（４）で示される化合物である３，４，４―三置換―２
―シクロペンテノン類の具体例を示すと、 （４８）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がｔ―ブチルジメチルシリル基で置換した（３
５）〜（４２）の化合物のｔ―ブチルジメチルシリルエ
ーテル体 （４９）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がトリメチルシリル基で置換した（３５）〜
（４２）の化合物のトリメチルシリルエーテル体 （５０）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がトリエチルシリル基で置換した（３５）〜
（４２）の化合物のトリエチルシリルエーテル体 （５１）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がジメチルフェニルシリル基で置換した（３
５）〜（４２）の化合物のジメチルフェニルシリルエー
テル体 （５２）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がテトラヒドロピラニル基で置換した（３５）
〜（４２）の化合物のテトラヒドロピラニルエーテル体 （５３）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がメトキシメチル基で置換した（３５）〜（４
２）の化合物のメトキシメチルエーテル体 （５４）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がエトキシメチル基で置換した（３５）〜（４
２）の化合物のエトキシメチルエーテル体 （５５）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がエトキシエチル基で置換した（３５）〜（４
２）の化合物のエトキシエチルエーテル体 （５６）（３５）〜（４２）の化合物の４位のヒドロキ
シの水素がメトキシベンジル基で置換した（３５）〜
（４２）の化合物のメトキシベンジルエーテル体 などを挙げることができる。

【００４３】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００４４】

【実施例１】

【００４５】

【化１４】

【００４６】５０mlフラスコにヨウ化第一銅（０．３８
１ｇ、２．０mmol）および蒸留テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）１０mlを仕込み、−７８℃に冷却後、メチルリチ
ウム（１．０６Mol ジエチルエーテル溶液）（３．８m
l、４．０mmol）を滴下し、−７８℃で５分、−１５℃
で３０分間攪拌し、有機銅反応剤を調製した。ここに４
―（４―フェノキシブチル）―４―テトラヒドロピラニ
ルオキシ―２―シクロペンテノン（１）（０．３３０
ｇ、１．０mmol）および蒸留ＴＨＦ１０mlの溶液を−１
５℃で滴下した。−１５℃で６０分間攪拌後トリメチル
シリルクロライド（０．３０５ml、２．４mmol）および
トリエチルアミン（０．３９ml、２．８mmol）をシリン
ジでゆっくり滴下した。−１５℃で更に６０分間攪拌
し、反応液を塩化アンモニウム水溶液５０ml中へ加え、
反応を終結させ、ヘキサン５０mlを加え、分液抽出し
た。水層はヘキサン３０mlで再度抽出した。抽出液を１
Ｎ ＨＣｌ水溶液５０mlで１回、飽和ＮａＨＣＯ₃ 水溶
液５０mlで１回、飽和食塩水５０mlで２回洗浄し、抽出
液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過濃縮し、粗生
成物０．５７ｇを得た。これをシリカゲルクロマトグラ
フィー（シリカゲル：ダイソーゲルＩＲ―６０ Ｎｏ．
１００１ １５ｇ、ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）
に供し、油状物（２）０．３４９ｇ（８４％）を得た。
次に１０mlフラスコに２ａ、０．３４９ｇおよび酢酸パ
ラジウム（０．１１２ｇ、０．５mmol）、ｐ―ベンゾキ
ノン（０．０５４ｇ、０．５mmol）、アセトニトリル５
mlを仕込み、アルゴンガス雰囲気下、６時間２５〜３０
℃で攪拌した。

【００４７】反応液に塩化アンモニウム水溶液２０mlを
加え、反応を終結させ酢酸エチル２０mlを加え、分液抽
出した。水層は酢酸エチル１０mlで再度抽出した。抽出
液を飽和食塩水２０mlで２回洗浄し、抽出液を硫酸マグ
ネシウムで脱水乾燥し、濾過濃縮し、粗生成物０．３３
ｇを得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリ
カゲル：ダイソーゲルＩＲ―６０ Ｎｏ．１００１ ２
０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）に供し、油状
物（３）０．２２３ｇ（７８％）を得た（２工程での収
率：６６％）。なお、粗生成物２ａをカラム精製するこ
となく、酢酸パラジウム／ｐ―ベンゾキノンで同様に酸
化反応を実施すると２工程での収率が８３％で３ａが得
られ、実施例２以降は中間体シリルエノールエーテル体
は単離精製は実施せず、次の反応を実施した。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．３５〜７．２０
（２Ｈ，ｍ），６．９５〜６．８５（３Ｈ，ｍ），６．
０５（１Ｈ，ｓ），４．４０（１Ｈ，ｍ），３．９５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｍ），
３．４０（１Ｈ，ｍ），３．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２０
Ｈｚ），２．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２０Ｈｚ），１．９
５（３Ｈ，ｓ），１．９０〜１．４５（１２Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；２９４４，２８７０，１７１
７，１６２６，１６０１，１５８６，１４９７，１４７
４，１３７５，１２４６，１１２３，１０２２，８６
８，７５６，６９３．

【００４８】

【実施例２】

【００４９】

【化１５】

【００５０】実施例１と同様に反応基質４（１．０ｇ，
２．０mmol）を用い、ヨウ化第一銅（４．０mmol）とメ
チルリチウム（８．０mmol）から調製した有機銅反応剤
の存在下に反応させ、反応終了後に一端対応する中間体
（２ｇ）のシリルエノールエーテル類［ＩＲ（液膜）：
γ_c=s １６４５cm^-1］を粗体として得、次いでアセトニ
トリル（１０ml）中、酢酸パラジウム（０．５６ｇ；
２．５mmol）で３０℃で４時間反応させた後、カラム分
離すると対応する生成物６が８５％の収率で得られた。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．３０〜７．１０
（２Ｈ，ｍ），６．９０〜６．７０（３Ｈ，ｍ），５．
８０（１Ｈ，ｓ），３．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），２．４５（２Ｈ，ｓ），１．９５（３Ｈ，ｓ），
１．８５〜１．１０（６Ｈ，ｍ），０．０５（９Ｈ，
ｓ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；２９５２，２８７０，１７１
７，１６２８，１６０１，１５８８，１５０７，１４９
７，１４７４，１２５０，１１４４，９３９，８４１，
７５４，６９３．

【００５１】

【実施例３】

【００５２】

【化１６】

【００５３】１００mlフラスコにヨウ化第一銅（０．７
６２ｇ、４mmol）および蒸留ＴＨＦ２０mlを仕込み、−
７８℃に冷却し、ｎ―ブチルリチウム（１．５５Mol ヘ
キサン溶液；５．１６ml、８mmol）を滴下し、−７８℃
で１０分間攪拌し、−２０℃で３０分間攪拌し、有機銅
反応剤を調製した。ここに４―ジメチルフェニルシロキ
シ―４―（４―フェノキシブチル）―２―シクロペンテ
ノン（７）（０．７６０ｇ、２．０mmol）のＴＨＦ２０
mlの溶液を有機銅反応剤へ滴下した。−２０℃で３０分
間攪拌し、トリメチルシリルクロライド（０．６１ml、
４．８mmol）を滴下し、次ににヘキサメチルホスホリッ
クトリアミド（０．８７ml、５．０mmol）を滴下し、−
２０℃で６０分間攪拌し、反応液を塩化アンモニウム水
溶液１００ml中へ加え、反応を終結させ、ヘキサン１０
０mlを加え、分液抽出した。水層はヘキサン５０mlで再
度抽出した。抽出液を飽和食塩水１００mlで２回洗浄
し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過濃縮
し、粗生成物８（１．０５ｇ）を得た。

【００５４】次に５０mlフラスコに粗生成物８（１．０
５ｇ）および酢酸パラジウム（０．３３６ｇ、１．５mm
ol）、アセトニトリル２０mlを仕込み、アルゴンガス雰
囲気下２５〜３０℃で１６時間攪拌した。塩化アンモニ
ウム水溶液１００mlを加え、反応を終結させ、ヘキサン
１００mlを加え、分液抽出した。水層はヘキサン５０ml
で再度抽出した。抽出液を飽和食塩水１００mlで２回洗
浄し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過濃
縮し、粗生成物０．９１ｇを得た。これをシリカゲルク
ロマトグラフィー（シリカゲル：ダイソーゲルＩＲ―６
０ Ｎｏ．１００１ ２０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）に供し、油状物９ ０．６５９ｇ（２工程での
収率：８１％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．６０〜７．５０
（２Ｈ，ｍ），７．４０〜７．３０（２Ｈ，ｍ），７．
３０〜７．２０（２Ｈ，ｍ），６．９５〜６．８０（４
Ｈ，ｍ），５．８５（１Ｈ，ｓ），３．９０（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈ
ｚ），２．４０〜１．２０（１２Ｈ，ｍ），０．９０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），０．３５（６Ｈ，ｓ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３０６９，２９５５，２９３
２，２８７２，１７１７，１６１９，１６０１，１５８
８，１４９７，１４７４，１４５８，１４２８，１３０
０，１２４８，１１７３，１１３８，１１１７，９３
９，８５８，８２９，７８５，７５４，７０８．

【００５５】

【実施例４、５】実施例３と同様に反応基質１０（２．
０mmol）および１２（２．０mmol）を用い、ヨウ化第一
銅（４．０mmol）とｎ―ブチルリチウム（８．０mmol）
から調製した有機銅反応剤の存在下に反応させた。反応
終了後に、対応する中間体のシリルエノールエーテル体
を粗体として得、次いでアセトニトリル２０ml中、酢酸
パラジウム（０．３３６ｇ；１．５mmol）で酸化すると
それぞれ、対応する生成物１１および１３が下に表示さ
れた収率で得られた。生成物のスペクトルデータは表３
に示した。

【００５６】

【表１】

【００５７】

【実施例６、７】実施例３と同様に反応基質１４（２．
０mmol）、１６（２．０mmol）を用い、ヨウ化第一銅
（４．０mmol）とｔ―ブチルリチウム（８．０mmol）ま
たはフェニルリチウム（８．０mmol）から調製した有機
銅反応剤の存在下に反応させた。反応終了後に対応する
中間体のシリルエノールエーテル体を粗体として得た。
次いでアセトニトリル２０ml中、酢酸パラジウム（０．
３３６ｇ；１．５mmol）で酸化すると対応する生成物１
５および１７がそれぞれ表示された収率で得られた。生
成物のスペクトルデータは表３に示した。

【００５８】

【表２】

【００５９】

【表３】

【００６０】

【参考例１】

【００６１】

【化１７】

【００６２】５０mlフラスコに４―ヒドロキシ―４―
（４―フェノキシブチル）―２―シクロペンテノン１８
（２．４６ｇ、１０mmol）および塩化メチレン２０mlを
入れ、Ｎ，Ｎ―ジイソプロピルエチルアミン（３．５m
l、２０mmol）およびクロロメチルエチルエーテル
（１．４０ml、１５mmol）を２５℃で滴下し、４０℃で
４時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液５０ml中
へ反応液を加え、反応を終結させ、塩化メチレン２０ml
を加え、分液抽出した。水層は塩化メチレン２０mlで再
度抽出した。抽出液を１Ｎ―ＨＣｌ水溶液５０mlで２
回、飽和ＮａＨＣＯ₃ 水溶液５０mlで１回、飽和食塩水
５０mlで２回洗浄し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水
乾燥し、濾過、濃縮し、粗生成物３．３０ｇを得た。こ
れをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル：ダイ
ソーゲルＩＲ―６０ Ｎｏ．１００１ ７０ｇ、ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１）に供し、１６を２．６４５ｇ
（９５％）得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．５０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．３５〜７．２０（２Ｈ，ｍ），
７．００〜６．８０（３Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．７０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．６０
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ），２．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２０Ｈｚ），２．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２０Ｈｚ），
１．９５〜１．７５（４Ｈ，ｍ），１．６５〜１．５０
（２Ｈ，ｍ），１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；２９７５，２９４３，２８７
６，１７１７，１６０１，１５８８，１４９７，１４７
４，１３９３，１３４１，１２９３，１２４６，１１７
２，１１０５，１０３０，８１０，７５６，６９３．

【００６３】

【参考例２】

【００６４】

【化１８】

【００６５】５０mlフラスコに４―ヒドロキシ―４―
（４―フェノキシブチル）―２―シクロペンテノン１８
（２．４６ｇ、１０mmol）および塩化メチレン２０mlを
入れ、Ｎ，Ｎ―ジイソプロピルエチルアミン（３．５m
l、２０mmol）およびクロロメチルベンジルエーテル
（２．３５ｇ、１５mmol）を４０℃で滴下し、４時間攪
拌した。以下参考例１と同様にして後処理およびカラム
精製し、生成物１２ ２．１２ｇ（５８％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．５５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），７．４０〜７．２０（６Ｈ，
ｍ），６．９５〜６．８５（４Ｈ，ｍ），６．２５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），４．７５（２Ｈ，ｍ），
４．６０（２Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），２．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２０Ｈｚ），２．４５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２０Ｈｚ），１．９０〜１．５０（６
Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３０６２，３０３２，２９４
６，２８７２，１７１９，１６０１，１５８６，１４９
７，１４７４，１４５８，１３８３，１３４３，１２９
３，１２４６，１１７２，８３７，８１０，７５４，７
３９，６９５．

【００６６】

【参考例３】

【００６７】

【化１９】

【００６８】１００mlフラスコに４―ヒドロキシ―４―
（４―フェノキシブチル）―２―シクロペンテノン１８
（２．４６ｇ、１０mmol）および塩化メチレン３０mlを
仕込み、ジメチルフェニルシリルクロライド（２．０５
ｇ、１２mmol）、トリエチルアミン（６．９６ml、５０
mmol）、ジメチルアミノピリジン（０．６１ｇ、５mmo
l）を加え、２５℃で２時間攪拌した。以下参考例１と
同様にして後処理およびカラム精製し、生成物７ ３．
６０ｇ（９５％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．６０（１Ｈ，
ｍ），７．４０〜７．２０（６Ｈ，ｍ），６．９５〜
６．８０（４Ｈ，ｍ），６．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．５
０（２Ｈ，ｓ），１．９０〜１．５０（６Ｈ，ｍ），
０．４０（６Ｈ，ｓ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３０６９，２９５１，２８７
０，１７２０，１６０１，１５８８，１４９７，１４７
４，１４２９，１４０２，１３４１，１２４８，１２０
４，１１７３，１１５２，１１１９，１０７８，１０４
４，９９９，８３１，７８７，７５６．

【００６９】

【参考例４】

【００７０】

【化２０】

【００７１】２リットル フラスコに蒸留ＴＨＦ４００
mlを入れ、−９０℃に冷却しｔ―ブチルリチウム（１．
５Mol ペンタン溶液；５００ml、７５０mmol）をゆっく
り加え、次に４―フェノキシブチルブロマイド（１１
４．５ｇ、５００mmol）および蒸留ＴＨＦ４００mlの溶
液を０℃に冷却し、滴下した。−９０℃で４５分間攪拌
した後、４（Ｒ）―ｔ―ブチルジメチルシロキシ―２―
シクロペンテノン（４２．４０ｇ、２００mmol）および
蒸留ＴＨＦ４００mlの溶液を−７８℃に冷却し、滴下し
た。１時間攪拌し、反応液を２リットルの塩化アンモニ
ウム水溶液へ加え、反応を終結させ、酢酸エチル２リッ
トルで分液抽出した。水層は酢酸エチル１リットルで再
度抽出した、抽出液を食塩水２リットルで２回洗浄し、
抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過、濃縮
し、粗生成物１３２ｇを得た。これをシリカゲルクロマ
トグラフィーに供し、生成物２０を６３ｇ（８７％）、
２１を７．０ｇ（１０％）得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．３０〜７．２０
（２Ｈ，ｍ），６．９５〜６．８０（３Ｈ，ｍ），５．
９０〜５．８０（２Ｈ，ｍ），４．７０（１Ｈ，ｍ），
３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），２．３５（１Ｈ，
ｍ），２．００（１Ｈ，ｍ），１．９０〜１．４５（７
Ｈ，ｍ），０．９０（９Ｈ，ｓ），０．０５（６Ｈ，
ｓ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３４１０，３０２５，２９２
０，２８５０，１６００，１５９２，１４９８，１４７
０，１３９５，１３６０，１２９８，１２４５，１１０
０，１０４５，１００５，９５０，９００，８３５，７
７８，７４２，６９５．

【００７２】

【参考例５】

【００７３】

【化２１】

【００７４】参考例４と同様に反応基質２２（２００mm
ol）を用い、参考例４と同様の反応を実施し、２３（８
５％）と２４（９％）を得た。

【００７５】

【参考例６】

【００７６】

【化２２】

【００７７】２リットル フラスコに化合物２０（５
５．６ｇ、１５４mmol）および塩化メチレン１．５リッ
トルを入れ、氷冷攪拌しながら、ジヒドロピラン（７
７．６ｇ、９２４mmol）を加え、更にｐ―トルエンスル
ホン酸・ピリジン塩４．６ｇを加えた。２５℃で４時間
攪拌した。反応液を水１．５リットル中へ加え、反応を
終結後、分液抽出した。水層を塩化メチレン０．３リッ
トルで再度抽出した。抽出液を食塩水１．５リットルで
２回洗浄し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、
濾過濃縮し、粗生成物９８ｇを得た。これをシリカゲル
クロマトグラフィーに供し、生成物２５ ６５．４ｇ
（９５％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．２５（２Ｈ，
ｍ），６．９０（３Ｈ，ｍ），５．９５〜５．６５（２
Ｈ，ｍ），４．７５〜４．５５（２Ｈ，ｍ），３．９５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｍ），
３．４５（１Ｈ，ｍ），２．４５〜２．２０（１Ｈ，
ｍ），１．８５〜１．４０（１３Ｈ，ｍ），０．９０
（９Ｈ，ｓ），０．０５（６Ｈ，ｓ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３０２０，２９３０，２８４
０，１５９８，１５８０，１４９５，１４６２，１３６
２，１２４５，１１１０，８９８，８３０，７８３，６
９３．

【００７８】

【参考例７】

【００７９】

【化２３】

【００８０】１リットル フラスコに化合物２５（６
５．４ｇ、１４７mmol）およびＴＨＦ１２０mlを入れ、
氷冷攪拌しながら（１Ｍ ＴＨＦ溶液；２６４ml、２６
４mmol）を加え、３０℃で２時間攪拌した。塩かアンモ
ニウム水溶液１．５リットル中へ反応液を加え、反応を
終結させ、酢酸エチル１．５リットルを加え、分液抽出
した。水層は酢酸エチル０．５リットルで再度抽出し
た。抽出液を食塩水１．５リットルで２回洗浄し、硫酸
マグネシウムで脱水乾燥後、濾過、濃縮し、粗生成物６
９ｇを得た。これをシリカゲルクロマトグラフィーに供
し、２６ ４９ｇ（１００％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．３５〜７．２０
（２Ｈ，ｍ），６．９５〜６．８０（３Ｈ，ｍ），６．
２０（１Ｈ，ｍ），５．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），４．９０（１Ｈ，ｍ），４．５５（１Ｈ，ｍ），
３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．９０〜３．８
５（１Ｈ，ｍ），３．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈ
ｚ），３．４５（１Ｈ，ｍ），２．２０（１Ｈ，ｍ），
２．０５（１Ｈ，ｍ），１．９５〜１．４０（１２Ｈ，
ｍ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３４２０，３０５７，２９４
２，２８６９，１６０１，１５８８，１４９７，１４７
４，１４５６，１４３９，１３８９，１３５６，１２４
４，１１９０，１１７２，１０００，８９９，８６６，
８４７，７８３，６９３．

【００８１】

【参考例８】

【００８２】

【化２４】

【００８３】２リットル フラスコにオキサリルクロラ
イド（２６ml、２９８mmol）および塩化メチレン５００
mlを入れ、−５０℃に冷却し、ジメチルスルホキシド
（４２ml、５９３mmol）および塩化メチレン８０mlを２
０分間で滴下した。−５０℃分間攪拌後、化合物２６
（４９ｇ、１４８mmol）の塩化メチレン４５０ml溶液を
２０分間で滴下し−５０℃で６０分間攪拌した。トリエ
チルアミン（１２５ml、９００mmol）を１０分間で滴下
し、−５０℃で６０分間攪拌した。反応液を塩化アンモ
ニウム水溶液１．５リットル中へ加え、反応を終結さ
せ、塩化メチレン１リットルを加え分液抽出した。水層
は０．５リットルの塩化メチレンで再度抽出した。抽出
液をＮａＨＣＯ₃ 水溶液１リットルで１回、食塩水１リ
ットルで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、
濾過、濃縮し、粗生成物５２ｇを得た。シリカゲルクロ
マトグラフィーに供し、生成物１ ４４ｇ（９０％）お
よび２７１．８０ｇ（５％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．４５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），７．３５〜７．２０（２Ｈ，ｍ），
６．９５〜６．８０（３Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），４．６０（１Ｈ，ｍ），３．９５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．９０〜３．８０（１
Ｈ，ｍ），３．４５〜３．３０（１Ｈ，ｍ），２．９５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２０Ｈｚ），２．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝２０Ｈｚ），１．９５〜１．４５（１２Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３０５０，２９４０，２８４
８，１７１７，１５９８，１５８２，１４９５，１４７
５，１３９５，１３５５，１３０２，１２５５，１２０
５，１１３０，１０７５，１０３５，９８０，８９９，
８３０，８０５，７６０，６９８．

【００８４】

【参考例９】

【００８５】

【化２５】

【００８６】１リットル フラスコに化合物１（５２
ｇ、１４７mmol）および酢酸／ＴＨＦ／水＝３／１／１
の溶液４９５mlを入れ、２５℃で１８時間攪拌した。反
応液を塩化アンモニウム１リットル中へ加え反応を終結
させ、酢酸エチル１リットルを加え分液抽出した。水層
は０．５リットルの酢酸エチルで再度抽出した。抽出液
をＮａＨＣＯ₃ 水溶液１リットルで２回、食塩水１リッ
トルで２回洗浄し、硫酸マグネシウム脱水乾燥し、濾
過、濃縮し、粗生成物４９ｇを得た。シリカゲルクロマ
トグラフィーに供し、生成物２７ ３１ｇ（９９％）を
得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．４５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．３０〜７．２０（２Ｈ，ｍ），
６．９５〜６．８０（３Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），２．５５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２０Ｈｚ），１．９
０〜１．５０（７Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３５００，２９５０，２８６
０，１７００，１６６５，１５９５，１５８２，１４９
５，１３９４，１３５８，１２５０，１１６５，１０９
５，１０８８，１０３０，１０１５，８０５，７６０，
６９８．

【００８７】

【参考例１０】

【００８８】

【化２６】

【００８９】１００mlフラスコに化合物２７（２．４６
ｇ、１０mmol）および塩化メチレン３０mlを入れ、氷冷
攪拌し、トリメチルシリルクロライド（１．５２ml、１
２mmol）、トリエチルアミン（７．０ml、５０mmol）、
ジメチルアミノピリジン（０．６１ｇ、５mmol）を加え
て２５℃で１時間攪拌した。反応液を水５０ml中へ加
え、反応を終結させ、分液抽出した。水層は塩化メチレ
ン２０mlで再度抽出した。抽出液を１Ｎ―ＨＣｌ水溶液
５０mlで１回、ＮａＨＣＯ₃ 水溶液５０mlで１回、食塩
水５０mlで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水乾燥
し、濾過、濃縮し、粗生成物３．１２ｇを得た。シリカ
ゲルクロマトグラフィーに供し、４ ３．０１ｇ（９５
％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．４５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．３５〜７．２０（２Ｈ，ｍ），
６．９５〜６．８０（３Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），２．５０（２Ｈ，ｓ），１．９０〜１．４５（６
Ｈ，ｍ），０．０５（９Ｈ，ｓ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；２９５１，２８７０，１７１
９，１６０１，１５８８，１４９９，１４７４，１３４
０，１２５０，１０７８，１０４２，８４１，７５４，
６９２．

【００９０】

【参考例１１】

【００９１】

【化２７】

【００９２】２０mlフラスコに化合物６（０．３３２
ｇ、１mmol）およびＴＨＦ５mlを入れ、氷冷攪拌しなが
ら、テトラブチルアンモニウムフルオライド（１Ｍ Ｔ
ＨＦ溶液；５ml、５mmol）を加え、２５℃で１時間攪拌
した。ＴＨＦを減圧留去し、残渣に食塩水２０mlおよび
酢酸エチル２０mlを加え、分液抽出した。水層は酢酸エ
チル１０mlで再度抽出した。抽出液を再度食塩水２０ml
で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過、
濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーに供し、生成物
２８ ０．２４２ｇ（９４％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ：ｐｐｍ）δ；７．３０〜７．２０
（２Ｈ，ｍ），６．９５〜６．８０（３Ｈ，ｍ），５．
８５（１Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），２．８５（１Ｈ，ｂｓ），２．５５（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２０Ｈｚ），２．０５（３Ｈ，ｓ），１．９５
〜１．２５（６Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液膜）（cm^-1）；３４００，２９４６，２８７
０，１７１７，１６２４，１６０１，１５８６，１４９
７，１４７４，１４３５，１２４６，１１７２，１０８
０，１０２６，７５６，６９２．

【００９３】

【参考例１２】

【００９４】

【化２８】

【００９５】１０mlフラスコに化合物３（０．１０ｇ、
０．２９mmol）および酢酸／ＴＨＦ／水＝３／１／１の
溶液５mlを入れ、２５℃で１８時間攪拌した。塩化アン
モニウム水溶液５０ml中へ反応液を加え、酢酸エチル５
０mlを追加して分液抽出した。水層は酢酸エチル２０ml
で再度抽出した。抽出液をＮａＨＣＯ₃ 水溶液５０mlで
１回、食塩水５０mlで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで
脱水乾燥し、濾過、濃縮し、粗生成物０．０８４ｇを得
た。シリカゲルクロマトグラフィーに供し、生成物２８
０．０７ｇ（９３％）を得た。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ¹ はＣ₁ 〜Ｃ₁₀の直鎖または分枝鎖の二価の
   炭化水素基を表わし、Ｒ ² は水素原子、フェニル基、フ
   ェノキシ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ のアルコキシ基を表わし、Ｒ³
   はトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₆ ）炭化水素シリル基、または環状も
   しくは非環状の１―（Ｃ₁ 〜Ｃ₅ のアルコキシ基）置換
   のＣ₁ 〜Ｃ₆ のアルキル基を表わし、＊印は不斉炭素を
   表わす。］で表わされる４，４―二置換―２―シクロペ
   ンテノン類と下記式（２） Ｒ⁴ −Ｙ …（２） ［式中、Ｒ⁴ はＣ₁ 〜Ｃ₄ の直鎖または分枝鎖アルキル
   基またはフェニル基を表わし、Ｙはリチウムまたはマグ
   ネシウムハライドを表わす。］で表わされる有機金属化
   合物とを、第一銅塩の存在下に反応せしめ、生成するエ
   ノラート中間体をトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₆ の炭化水素基）置換
   シリルハライドと反応せしめることによって下記式
   （３） 【化２】 ［式中、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ は同一もしくは異なるＣ₁ 〜
   Ｃ₆ の炭化水素基を表わし、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ お
   よび＊印は前記定義に同じである。］で表わされる３，
   ４，４―三置換シリルエノールエーテル類に誘導し、次
   いで二価のパラジウム塩の存在下に酸化せしめることを
   特徴とする、下記式（４） 【化３】 ［式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ および＊印は前記定義
   に同じである。］で表わされる３，４，４―三置換―２
   ―シクロペンテノン類の製造法。
2. 【請求項２】 該第一銅塩が、下記式（５） Ｃｕ−Ｚ …（５） ［式中、Ｚは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアニ
   ド、フェニルチオ基、１―ペンチニル基、または１―ヘ
   キシニル基を表わす。］で表わされるものである請求項
   １の３，４，４―三置換―２―シクロペンテノン類の製
   造法。