JPH0617787B2 - 平面度測定用干渉計 - Google Patents
平面度測定用干渉計Info
- Publication number
- JPH0617787B2 JPH0617787B2 JP62221458A JP22145887A JPH0617787B2 JP H0617787 B2 JPH0617787 B2 JP H0617787B2 JP 62221458 A JP62221458 A JP 62221458A JP 22145887 A JP22145887 A JP 22145887A JP H0617787 B2 JPH0617787 B2 JP H0617787B2
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- JP
- Japan
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- light
- mirror
- optical path
- total reflection
- reflected light
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (発明の目的) この発明は光学的反射面を形成しているガラス、研磨し
た金属等の平面度を光の干渉を利用して検査、測定する
光学的手段に関するもので、特に対象面のサイズが大き
い場合において検査測定の実施が可能な経済的装置を提
供するのがその目的である。
た金属等の平面度を光の干渉を利用して検査、測定する
光学的手段に関するもので、特に対象面のサイズが大き
い場合において検査測定の実施が可能な経済的装置を提
供するのがその目的である。
従来、光の干渉を利用してガラス面、金属面等の平面度
を検査する技術は古くから確立している。即ち、一例を
挙げれば第2図に示すように、試料面Sの上方に位置す
るオプチカルフラットFに入射させた投射光l0を境界
面Fbにおける反射光である参照光L0と境界面Fbを
透過後試料面SのB点で反射させた試料光Lsとに分割
したとすれば、参照光L0と試料光Lsの干渉により明
暗の干渉縞が得られるので、縞の等高状態の変化や縞の
間隔の整、不整によりその箇所の平面度を判定するので
ある。
を検査する技術は古くから確立している。即ち、一例を
挙げれば第2図に示すように、試料面Sの上方に位置す
るオプチカルフラットFに入射させた投射光l0を境界
面Fbにおける反射光である参照光L0と境界面Fbを
透過後試料面SのB点で反射させた試料光Lsとに分割
したとすれば、参照光L0と試料光Lsの干渉により明
暗の干渉縞が得られるので、縞の等高状態の変化や縞の
間隔の整、不整によりその箇所の平面度を判定するので
ある。
この場合、B点における境界面Fbと試料面Sとの距離
をd、光波長をλとすれば、 であらわされることは周知である。第2図には投射光l
0の試料面Sへの入射角がθである場合について表示さ
れているが、θ=0である場合、即ち垂直入射の場合は
式(1)から となり、従って、第3図(a)のようにオプチカルフラッ
トFに対して試料面を僅かに傾け、もし試料面Sが完全
平面であれば同図(b)のように、観測者はλ/2ごとに
現れた平行な縞を観測することができる。
をd、光波長をλとすれば、 であらわされることは周知である。第2図には投射光l
0の試料面Sへの入射角がθである場合について表示さ
れているが、θ=0である場合、即ち垂直入射の場合は
式(1)から となり、従って、第3図(a)のようにオプチカルフラッ
トFに対して試料面を僅かに傾け、もし試料面Sが完全
平面であれば同図(b)のように、観測者はλ/2ごとに
現れた平行な縞を観測することができる。
もし試料面Sが完全平面でなく、第4図(a)に示すよう
に凹面になっているとすれば、観測される縞模様は同図
(b)に示すように干渉縞に変位があり、この場合平面度
は Δd=d1−d2 であらわされる。ところで、第3図(a)と同様垂直入射
であれば式(2)を参照し、 とあらわすことができるから、 である。いま m1−m2=△m とおけば となり、第4図の試料面Sの平面度△dと観測される干
渉縞の変位量△mとの関係は式(3)で示される。
に凹面になっているとすれば、観測される縞模様は同図
(b)に示すように干渉縞に変位があり、この場合平面度
は Δd=d1−d2 であらわされる。ところで、第3図(a)と同様垂直入射
であれば式(2)を参照し、 とあらわすことができるから、 である。いま m1−m2=△m とおけば となり、第4図の試料面Sの平面度△dと観測される干
渉縞の変位量△mとの関係は式(3)で示される。
式(3)において光波長λは一定であるから、△dと△m
は比例の関係にあり、従って△dが大きいすなわち、平
面度が不良であれば変位量△mも大きく、縞の間隔が狭
小になるので、縞の変位状態を正確に判断し難しくな
る。そこで、第4図(a)において点線で示すように斜入
射で観測する。いま光の入射角をθとすれば式(1)およ
び式(3)を参照して平面度△dは であらわすことができる。いま、かりに入射角θ=87
゜とすれば すなわち、垂直入射の場合の式(2)に対し、縞の間隔a
は19.1倍に広がるので平面度不良箇所に対応する縞
の変位状態が明確に観測できるようになる。
は比例の関係にあり、従って△dが大きいすなわち、平
面度が不良であれば変位量△mも大きく、縞の間隔が狭
小になるので、縞の変位状態を正確に判断し難しくな
る。そこで、第4図(a)において点線で示すように斜入
射で観測する。いま光の入射角をθとすれば式(1)およ
び式(3)を参照して平面度△dは であらわすことができる。いま、かりに入射角θ=87
゜とすれば すなわち、垂直入射の場合の式(2)に対し、縞の間隔a
は19.1倍に広がるので平面度不良箇所に対応する縞
の変位状態が明確に観測できるようになる。
このように斜入射により平面度を測定する干渉計は斜入
射平面干渉計とよばれ、周知であるが、光分割手段にオ
プチカルフラットを用い、入射角θを大きく設定すれ
ば、入射光の表面反射による光エネルギーの損失が大き
いため、観測視野が著しく暗くなる欠点があるので、多
くはオプチカルフラットにかえて第5図に示すような光
学プリズムPが使用されている。この場合の参照光L0
と試料光Lsは第2図に示したオプチカルフラットFに
よる場合と光路長に差異があるけれども、プリズムの境
界面Pbと試料面Sとの距離dはオプチカルフラットF
に使用した場合と同じく前記した式(1)であらわされ
る。
射平面干渉計とよばれ、周知であるが、光分割手段にオ
プチカルフラットを用い、入射角θを大きく設定すれ
ば、入射光の表面反射による光エネルギーの損失が大き
いため、観測視野が著しく暗くなる欠点があるので、多
くはオプチカルフラットにかえて第5図に示すような光
学プリズムPが使用されている。この場合の参照光L0
と試料光Lsは第2図に示したオプチカルフラットFに
よる場合と光路長に差異があるけれども、プリズムの境
界面Pbと試料面Sとの距離dはオプチカルフラットF
に使用した場合と同じく前記した式(1)であらわされ
る。
このように、斜入射光による場合は光の分割手段として
光学プリズムが用いられるのであるが、経済的に製作可
能な光学リズムはその境界面Pbの大きさがほぼ15cm
×15cm程度までであって、それよりも大きいサイズの
ものは製作可能としても極端な高コストとなるため、産
業上現実に利用できないのである。
光学プリズムが用いられるのであるが、経済的に製作可
能な光学リズムはその境界面Pbの大きさがほぼ15cm
×15cm程度までであって、それよりも大きいサイズの
ものは製作可能としても極端な高コストとなるため、産
業上現実に利用できないのである。
小サイズの光学プリズムを大サイズの試料面上で移動し
てこの試料面の検査、測定を行うこともやむを得ず行わ
れてはいるが、著しく手間がかかるだけでなく、試料面
の平面度の全体像を把握するのは極度に困難である。
てこの試料面の検査、測定を行うこともやむを得ず行わ
れてはいるが、著しく手間がかかるだけでなく、試料面
の平面度の全体像を把握するのは極度に困難である。
従ってこの発明は、現実に入手可能な光学プリズムに対
応するサイズの限度を超えた大サイズ試料面の平面度の
光学的検査、測定を可能とする経済的手段を提供するも
のである。
応するサイズの限度を超えた大サイズ試料面の平面度の
光学的検査、測定を可能とする経済的手段を提供するも
のである。
(発明の構成) まず、第1図によりこの発明の構成を説明すれば、この
発明は2個の半透明鏡m1,m2と、2個の全反射鏡M
1,M2とを部材として有している。
発明は2個の半透明鏡m1,m2と、2個の全反射鏡M
1,M2とを部材として有している。
第1の半透明鏡m1は試料面Sに斜入射する平行光束で
ある投射光l0の光路に挿入されている。
ある投射光l0の光路に挿入されている。
つぎに、第1の全反射鏡M1は投射光l0の半透明鏡m
1による反射光l1の光路に直交して設けられている。
1による反射光l1の光路に直交して設けられている。
つぎに、第2の全反射鏡M2は半透明鏡m1を透過した
投射光l0を試料面Sに入射させて得られる反射光l3
の光路に設けられている。
投射光l0を試料面Sに入射させて得られる反射光l3
の光路に設けられている。
最後に、第2の半透明鏡m2は反射光l1の全反射鏡M
1による反射光l2が半透明鏡m1を透過した後の反射
光l2の光路に挿入されている。
1による反射光l2が半透明鏡m1を透過した後の反射
光l2の光路に挿入されている。
この発明における部材は以上の通りであるが、この発明
によれば、半透明鏡m1,m2および全反射鏡M2をそ
れぞれ試料面M2に対してほぼ垂直に位置させることが
必要である。また、光源Oの光がインコヒーレント光で
あるときは、半透明鏡m1から全反射鏡M1をへて半透
明鏡m2に至る光路長と、半透明鏡m1から試料面Sお
よび全反射鏡M2をへて半透明鏡m2に至る光路長とを
等しく設定するとともに、半透明鏡m1から試料面Sを
へて半透明鏡m2に至る光路の中間に、半透明鏡の存在
による参照光の光路長の変化を補償する調整板Rを挿入
する必要がある。さらに反射光l3の全反射鏡M2によ
る反射光l4を半透明鏡m2に入射させるとともに、反
射光l4の半透明鏡m2による反射光を干渉計における
試料光Lsとする一方、半透明鏡m2を透過した反射光
l2を干渉計における参照光L0とし、これら試料光L
sの光路と参照光L0の光路が一致するように前記した
各部材、すなわち半透明鏡m1,m2ならびに全反射鏡
M1,M2のおのおのの位置および角度を設定すること
が必要である。
によれば、半透明鏡m1,m2および全反射鏡M2をそ
れぞれ試料面M2に対してほぼ垂直に位置させることが
必要である。また、光源Oの光がインコヒーレント光で
あるときは、半透明鏡m1から全反射鏡M1をへて半透
明鏡m2に至る光路長と、半透明鏡m1から試料面Sお
よび全反射鏡M2をへて半透明鏡m2に至る光路長とを
等しく設定するとともに、半透明鏡m1から試料面Sを
へて半透明鏡m2に至る光路の中間に、半透明鏡の存在
による参照光の光路長の変化を補償する調整板Rを挿入
する必要がある。さらに反射光l3の全反射鏡M2によ
る反射光l4を半透明鏡m2に入射させるとともに、反
射光l4の半透明鏡m2による反射光を干渉計における
試料光Lsとする一方、半透明鏡m2を透過した反射光
l2を干渉計における参照光L0とし、これら試料光L
sの光路と参照光L0の光路が一致するように前記した
各部材、すなわち半透明鏡m1,m2ならびに全反射鏡
M1,M2のおのおのの位置および角度を設定すること
が必要である。
この発明は以上のようにしてなっているのであるが、投
射光l0としては、図示の例ではレーザー光源Oから光
束拡大し、さらに、コリメーターレンズQにより平行光
束に直したレーザー光を使用している。もちろん、イン
コヒーレントな白色光や色彩光を使用してもよい。
射光l0としては、図示の例ではレーザー光源Oから光
束拡大し、さらに、コリメーターレンズQにより平行光
束に直したレーザー光を使用している。もちろん、イン
コヒーレントな白色光や色彩光を使用してもよい。
また、図示の例では、水平な試料面Sへの垂線G上に第
2の半透明鏡m2を設けるとともに、垂線Gに対して左
右対称の位置に第1の半透明鏡m1と第2の全反射鏡M
2を垂直に設けたことにより、前記した投射光l2およ
び反射光l2,l3,l4によって菱形の光路を形成し
ているが、このような各部材の相対的位置および角度
は、前記したように、全反射鏡M2による反射光l4を
半透明鏡m2に入射させ、かつ参照光L0と試料光Ls
の光路の一致を容易にするためであり、この発明自体は
図示のような部材配置に限定されない。また参照光L0
を試料光Lsとを一致させた光路上にスクリーンKを設
け、干渉縞模様の観測を容易にしてある。
2の半透明鏡m2を設けるとともに、垂線Gに対して左
右対称の位置に第1の半透明鏡m1と第2の全反射鏡M
2を垂直に設けたことにより、前記した投射光l2およ
び反射光l2,l3,l4によって菱形の光路を形成し
ているが、このような各部材の相対的位置および角度
は、前記したように、全反射鏡M2による反射光l4を
半透明鏡m2に入射させ、かつ参照光L0と試料光Ls
の光路の一致を容易にするためであり、この発明自体は
図示のような部材配置に限定されない。また参照光L0
を試料光Lsとを一致させた光路上にスクリーンKを設
け、干渉縞模様の観測を容易にしてある。
ここでこの発明の作用を説明すれば、第6図は第1図に
おいて、投射光l0が試料面Sに入射した部分を拡大し
て描いたもので、試料面Sには図示したような凹面が存
在するものとする。
おいて、投射光l0が試料面Sに入射した部分を拡大し
て描いたもので、試料面Sには図示したような凹面が存
在するものとする。
凹面の底のB点に入射角θにおいて入射した投射光l0
は反射して反射光l3を生じる。この反射光l3が全反
射鏡M2をへて後に試料光Lsとなることは前述の通り
である。試料面Sには図示の凹面があるので、A点は前
記したオプチカルフラットの境界面Fb、光学プリズム
の境界面Pbに対応して仮想した仮想境界面Sb上の仮
設点であり、A点における反射光は現実にはあり得ない
のであるが、仮想境界面SbのA点に入射した投射光l
0からは図示の仮想線のように反射光l3に平行な反射
光(L0)が生じるはずである。もしものような仮想線
の反射光が存在するとするならば、この仮想反射光とB
点における反射光l3との間には光路差に基く位相差が
あるので、これらの両反射光から干渉縞が得られるはず
である。
は反射して反射光l3を生じる。この反射光l3が全反
射鏡M2をへて後に試料光Lsとなることは前述の通り
である。試料面Sには図示の凹面があるので、A点は前
記したオプチカルフラットの境界面Fb、光学プリズム
の境界面Pbに対応して仮想した仮想境界面Sb上の仮
設点であり、A点における反射光は現実にはあり得ない
のであるが、仮想境界面SbのA点に入射した投射光l
0からは図示の仮想線のように反射光l3に平行な反射
光(L0)が生じるはずである。もしものような仮想線
の反射光が存在するとするならば、この仮想反射光とB
点における反射光l3との間には光路差に基く位相差が
あるので、これらの両反射光から干渉縞が得られるはず
である。
いま、この二つの反射光l3および(L0)の光路差を
△lとしこれを図から計算する。ただし、図示のC点は
A点と同様な意味での仮設点(反射光l3と完全平面で
ある仮想境界面Sbとの交点)であり、線分CDはC点
から前記した仮想の反射光(L0)の光路に下した垂線
とし、凹面の底のB点の仮想境界面Sbbとの距離をd
とすれば、光路の差 △l=AB+BC−AD………………(5) であるが、 AC=2d tanθ であり、従って AD=2dtanθ・cos(90゜−θ) であるから、これを式(5)に代入して計算すれば ここで、△lは光波長λの整数倍であるmλに相当する
ので、式(6)を書き直せば mλ=2dcosθ ゆえに すなわち式(1)と同一の関係式が得られる。
△lとしこれを図から計算する。ただし、図示のC点は
A点と同様な意味での仮設点(反射光l3と完全平面で
ある仮想境界面Sbとの交点)であり、線分CDはC点
から前記した仮想の反射光(L0)の光路に下した垂線
とし、凹面の底のB点の仮想境界面Sbbとの距離をd
とすれば、光路の差 △l=AB+BC−AD………………(5) であるが、 AC=2d tanθ であり、従って AD=2dtanθ・cos(90゜−θ) であるから、これを式(5)に代入して計算すれば ここで、△lは光波長λの整数倍であるmλに相当する
ので、式(6)を書き直せば mλ=2dcosθ ゆえに すなわち式(1)と同一の関係式が得られる。
かくして第6図における試料面Sの平面度△dは式(4)
を参照し、オプチカルフラットや光学プリズムの場合と
同様に であらわすことができる。
を参照し、オプチカルフラットや光学プリズムの場合と
同様に であらわすことができる。
ところで式(7)および式(8)は第6図において点線であら
わした仮想の反射光(L0)を使用しての解析から誘導
されたものであるが、この仮想の反射光(L0)と位相
の等しい参照光L0が第1図において第2の半透明鏡m
2を透過した後の反射光l2から得られ、かつこの参照
光L0は第6図の反射光l3に基く第1図の試料光ls
と光路を一致させることができるので、それらの間には
現実に光干渉が発生し、従って、前掲の式(4)を用いて
試料面Sの検査、測定を行うことができるのである。
わした仮想の反射光(L0)を使用しての解析から誘導
されたものであるが、この仮想の反射光(L0)と位相
の等しい参照光L0が第1図において第2の半透明鏡m
2を透過した後の反射光l2から得られ、かつこの参照
光L0は第6図の反射光l3に基く第1図の試料光ls
と光路を一致させることができるので、それらの間には
現実に光干渉が発生し、従って、前掲の式(4)を用いて
試料面Sの検査、測定を行うことができるのである。
すなわち、この発明によれば、オプチカルフラットまた
は光学プリズムを用いた干渉計と全く同様な観測、計算
の方法によって平面度の検査、測定が可能であることが
明らかである。特に各半透明鏡および全反射鏡M2が試
料面Sに対しほぼ垂直に位置しており、かつ試料面Sの
反射光l3を全反射鏡M2により再反射させて第2の半
透明鏡m2に入射させているので、試料面Sに対する投
射光l0の入射角を90゜に近くまで大きくとることが
でき、その際、通常矩形である試料の片辺と較べ、片辺
の非常に短い短冊形の半透明鏡および全反射鏡を使用す
ることができる。
は光学プリズムを用いた干渉計と全く同様な観測、計算
の方法によって平面度の検査、測定が可能であることが
明らかである。特に各半透明鏡および全反射鏡M2が試
料面Sに対しほぼ垂直に位置しており、かつ試料面Sの
反射光l3を全反射鏡M2により再反射させて第2の半
透明鏡m2に入射させているので、試料面Sに対する投
射光l0の入射角を90゜に近くまで大きくとることが
でき、その際、通常矩形である試料の片辺と較べ、片辺
の非常に短い短冊形の半透明鏡および全反射鏡を使用す
ることができる。
(発明の効果) かくして、この発明によれば、前記のように、オプチカ
ルフラットまたは光学プリズムによる干渉計と同様な観
測、計算の手段により物体の平面度の検査、測定が可能
であるのみならず、この発明によれば、干渉計を構成す
る半透明鏡および全反射鏡のサイズは検査、測定の対象
面のサイズと較べて著しく小型にできるので、従来経済
的に実行不可能であったような大型の面を対象としてそ
の面の平面度の全体像を把握することが容易に可能とな
った。さらにこの発明によれば、部材である半透明鏡や
全反射鏡はオプチカルフラットや光学プリズムに対して
素材である光学ガラスの量が比較にならないほど少量で
あるうえ、ひずみや気泡のない高品質のものが低コスト
で生産されるので、平面度測定用干渉計の生産、利用能
力の向上に寄与するところがきわめて顕著である。
ルフラットまたは光学プリズムによる干渉計と同様な観
測、計算の手段により物体の平面度の検査、測定が可能
であるのみならず、この発明によれば、干渉計を構成す
る半透明鏡および全反射鏡のサイズは検査、測定の対象
面のサイズと較べて著しく小型にできるので、従来経済
的に実行不可能であったような大型の面を対象としてそ
の面の平面度の全体像を把握することが容易に可能とな
った。さらにこの発明によれば、部材である半透明鏡や
全反射鏡はオプチカルフラットや光学プリズムに対して
素材である光学ガラスの量が比較にならないほど少量で
あるうえ、ひずみや気泡のない高品質のものが低コスト
で生産されるので、平面度測定用干渉計の生産、利用能
力の向上に寄与するところがきわめて顕著である。
第1図はこの発明にかかる平面度測定用干渉計の一実施
例の部材配置ならびに光路図、第2図はオプチカルフラ
ットを用いて平面度測定を行う場合の光路図、第3図
(a)はオプチカルフラットにより完全平面の試料面を検
査する場合の概念図、同図(b)は同じく観測視野の干渉
縞の態様を示す図、第4図(a)はオプチカルフラットに
より凹面を有する試料面を検査する場合の概念図、同図
(b)は同じく垂直入射による観測視野の干渉縞の態様を
示す図、同図(c)は同じく斜入射による観測視野の干渉
縞の態様を示す図、第5図は光学プリズムを用いて平面
度測定を行う場合の光路図、第6図は第1図における試
料面への投射光の入射点付近の拡大図である。 Sは試料面、m1,m2は半透明鏡、M1,M2は全反
射鏡、Oは光源、Qはコリメーターレンズ、Kはスクリ
ーン、Rは調整板、Gは垂線、l0は投射光、l1,l
2,l3,l4は反射光、L0は参照光、Lsは試料
光、Fはオプチカルフラット、Pは光学プリズム、
Fb,Pbは境界面、Sbは仮想境界面である。
例の部材配置ならびに光路図、第2図はオプチカルフラ
ットを用いて平面度測定を行う場合の光路図、第3図
(a)はオプチカルフラットにより完全平面の試料面を検
査する場合の概念図、同図(b)は同じく観測視野の干渉
縞の態様を示す図、第4図(a)はオプチカルフラットに
より凹面を有する試料面を検査する場合の概念図、同図
(b)は同じく垂直入射による観測視野の干渉縞の態様を
示す図、同図(c)は同じく斜入射による観測視野の干渉
縞の態様を示す図、第5図は光学プリズムを用いて平面
度測定を行う場合の光路図、第6図は第1図における試
料面への投射光の入射点付近の拡大図である。 Sは試料面、m1,m2は半透明鏡、M1,M2は全反
射鏡、Oは光源、Qはコリメーターレンズ、Kはスクリ
ーン、Rは調整板、Gは垂線、l0は投射光、l1,l
2,l3,l4は反射光、L0は参照光、Lsは試料
光、Fはオプチカルフラット、Pは光学プリズム、
Fb,Pbは境界面、Sbは仮想境界面である。
Claims (1)
- 【請求項1】光源Oから試料面Sに斜入射する平行光束
である投射光l0の光路に挿入した第1の半透明鏡m1
と、投射光l0の半透明鏡m1による反射光l1の光路
に直交して設けた第1の全反射鏡M1と、半透明鏡m1
を透過した投射光l0の試料面Sによる反射光l3の光
路に設けた第2の全反射鏡M2と、反射光l1の全反射
鏡M1による反射光l2が半透明鏡m1を透過した後の
反射光l2の光路に挿入した第2の半透明鏡m2とを有
し、半透明鏡m1,m2および全反射鏡M2をそれぞれ
試料面Sに対しほぼ垂直に位置させ、光源Oの光がイン
コヒーレント光であるときは、半透明鏡m1から全反射
鏡M1をへて半透明鏡m2に至る光路長と、半透明鏡m
1から試料面Sおよび全反射鏡M2をへて半透明鏡m2
に至る光路長とを等しく設定するとともに、半透明鏡m
1から試料面S1および全反射鏡M2をへて半透明鏡m
2に至る光路の中間に、半透明鏡の存在による参照光の
光路長の変化を補償する調整板を挿入し、反射光l3の
全反射鏡M2による反射光l4を半透明鏡m2に入射さ
せるとともに、反射光l4の半透明鏡m2による反射光
からなる試料光Lsの光路と半透明鏡m2を透過した反
射光l2からなる参照光L0の光路とが一致するように
半透明鏡m1,m2ならびに全反射鏡M1,M2の各相
対位置および相対角度を設定してなる平面度測定用干渉
計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62221458A JPH0617787B2 (ja) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | 平面度測定用干渉計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62221458A JPH0617787B2 (ja) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | 平面度測定用干渉計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6465406A JPS6465406A (en) | 1989-03-10 |
JPH0617787B2 true JPH0617787B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=16767039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62221458A Expired - Lifetime JPH0617787B2 (ja) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | 平面度測定用干渉計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0617787B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5268742A (en) * | 1992-06-15 | 1993-12-07 | Hughes Aircraft Company | Full aperture interferometry for grazing incidence optics |
JP4583611B2 (ja) * | 2001-01-11 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 斜入射干渉計装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58127109A (ja) * | 1982-01-25 | 1983-07-28 | Minolta Camera Co Ltd | 鏡面の表面形状測定用干渉計 |
-
1987
- 1987-09-04 JP JP62221458A patent/JPH0617787B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6465406A (en) | 1989-03-10 |
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