JPH06177007A - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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JPH06177007A
JPH06177007A JP4343540A JP34354092A JPH06177007A JP H06177007 A JPH06177007 A JP H06177007A JP 4343540 A JP4343540 A JP 4343540A JP 34354092 A JP34354092 A JP 34354092A JP H06177007 A JPH06177007 A JP H06177007A
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JP
Japan
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aperture
pupil filter
projection lens
limiting plate
lens
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Application number
JP4343540A
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English (en)
Inventor
Toshiyuki Horiuchi
敏行 堀内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/7025Size or form of projection system aperture, e.g. aperture stops, diaphragms or pupil obscuration; Control thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 原図基板を斜め入射照明し、投影レンズ開口
絞り位置に瞳フィルタを置く、高解像、大焦点深度の露
光を必要最少限だけ行い、解像性や焦点深度の深さがあ
まり要求されない時には瞳フィルタを単なる開口絞りに
置き換えて露光することにより、瞳フィルタの長寿命化
を図ると共に、解像性や焦点深度の深さが要求されない
時の露光スループットを向上させる。 【構成】 所定の光学的な厚さと透光性を有し開口の大
きさのみを制限する開口制限板と、透過率調整用の薄膜
28が形成され前記開口制限板と同じ光学的な厚さを有
する瞳フィルタ25を、投影レンズ11を投影露光装置
に設置したままの状態で投影レンズ11の開口絞り位置
に選択的に設置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、原図基板上の半導体集
積回路等の微細パターンを、半導体等の被露光基板上に
投影露光して転写する投影露光装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路等の微細パターンを、半
導体ウエハ等の被露光基板上に、安易、高速、低価格で
形成するため、短波長可視光ないし遠紫外線を用いる投
影露光法が用いられている。図6は、株式会社電気書院
発行、「LSI設計製作技術」248頁に記載された従
来の投影露光装置の光学系を示す。これを同図に基づい
て概略説明すると、水銀ランプ1から出た光は、楕円凹
面鏡2、コリメータレンズ3によって集光されて、単色
化のためのフィルタ4を通ってフライアイレンズ5に入
る。水銀ランプ1とコリメータレンズ3との間にはラン
プからの光を光源光軸と略直交する方向に変換すると共
に、熱線を裏側へ透過させる第1反射鏡6が配設されて
いる。フライアイレンズ5は、多くの小口径レンズの集
合体からなり、その各レンズから出る光が第2反射鏡7
によって反射され集光レンズ8によって集光されること
により、それぞれ原図基板であるレチクル9を照明し、
これにより照明の均一性を上げることができる。前記水
銀ランプ1が元々の光源(1次光源)であるのに対し、
フライアイレンズ5の射出側は、レチクル9を照明する
光の実質的な射出源となるため、2次光源と呼ばれる。
第2反射鏡7は、再度光線の向きを変えるためのもので
ある。レチクル9は、半導体集積回路等の微細パターン
の図柄が形成されてレチクル保持台10上に設置されて
おり、集光レンズ系8を出た光により照明されると、前
記微細パターンは投影レンズ11を通して被露光基板で
あるレジストを塗布したウエハ12上に転写される。投
影レンズ11は、各種収差を消すため多くの枚数のレン
ズを組合わせて作られているが、基本的にはレチクル9
側とウエハ12側の2ブロックに分けられており、その
間に開口絞り13が設置されている。レチクル9上の任
意の一点から出た光は、レチクル9側のレンズ群を透過
した後、略平行となって開口絞り13を通過し、ウエハ
12側のレンズ群に入る。その後、ウエハ12側のレン
ズ群で集光され、ウエハ12の表面上のレジスト位置で
一点に集光、結像される。ウエハ12は、位置、および
投影レンズ11に対する高さを調整、決定するための、
X移動ステージ14、Y移動ステージ15、Z移動ステ
ージ16、回転ステージ17上に設置されている。ウエ
ハ12に転写されるパターンの解像性は、レチクル9上
に存在するパターンによる回折光が開口絞り13に取り
込めるかどうかで決まり、最高解像度は、レチクル9上
のパターンから出る0次回折光と1次回折光とが、開口
絞り13に取り込めるかどうかで概ね決まる。1次以上
の回折光が進む方向は、パターンの周期、パターンの細
かさによって決まり、細かいパターン程レチクル9の照
明光の進行方向に対して傾いた方向に出る。したがっ
て、レチクル9を垂直に照明した場合、細かいパターン
の時程投影レンズ11の外側方向へ1次以上の回折光が
進むことになる。このため、開口絞り13の開口が大き
い程細かいパターンからなる回折光まで取り込めること
になり、高解像となる。
【0003】ところで、同一出願人によって既に出願さ
れた特願平3−99822号、特願平3−157401
号等には、レチクルを斜めに照明して、レチクル上に存
在するパターンの0次回折光が、斜め照明光進行方向の
開口絞り外周付近を通るようにし、片側の1次回折光が
開口絞りの反対側の外周付近を通るようにすれば、レチ
クルを垂直に照明してレチクル上に存在するパターンの
両側の1次回折光が開口絞りを通るようにした場合に比
べて、入射光の方向に対して約2倍の角度で外側に広が
る1次回折光迄取り込めるため、非常に高解像になるこ
とが開示されている。また、このようにレチクルを斜め
に照明する方式をとると、0次回折光と片側の1次回折
光だけで転写像が形成されるため、2光束だけの干渉と
なり、従来の0次回折光と両側の1次回折光の合計3光
束の場合より、微細パターン転写時の焦点深度が大幅に
改善される利点も生じる。レチクルを斜めに照明するに
は、特願平59−211269号に開示されているよう
に、フライアイレンズ5の射出側の中心部からの光をカ
ットして周辺部からの光で照明すればよい。すなわち、
円環状や多点状の2次光源により照明すればよい。しか
し、レチクル9を単に斜めに照明する場合、レチクル9
上に依存するパターンによる1次回折光は、片側分だけ
しか開口絞りに取り込めないのに対し、直進する0次回
折光が全て開口絞りを通過するため、1次回折光と0次
回折光とのバランスが崩れて0次回折光が多過ぎる状態
となり、レジスト位置にできる微細パターンの像のコン
トラストが低下してしまう。この欠点を補う目的で、特
願平3−135317号、特願平3−157401号等
には、斜め照明時に0次回折光の量を適切な量に調整す
るため、開口絞り13の位置に、「開口部周辺の透過率
を調整した投影レンズ開口を有する」ようにした投影露
光装置および方法が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、開口絞り1
3の位置に、上記の「透過率を調整した投影レンズ開
口」である「瞳フィルタ」を設置する場合、高解像とな
って焦点深度も深くなるが、次のような問題を生じる。 瞳フィルタによって透過率を制限した分だけ投影レ
ンズを通過して被露光基板に到達する露光光線が減少す
る。したがって、その分露光時間が増加し、スループッ
トが減少する。 瞳フィルタによって制限されて開口絞り位置を通過
できない光は、瞳フィルタの種類にもよるが、瞳フィル
タに吸収されるか、もしくは瞳フィルタで反射される。
反射された光はいずれ投影レンズ内部のどこかで吸収さ
れるか、どこかで何度か反射した後再度投影レンズの開
口絞りを通り、被露光基板に到達する。瞳フィルタに吸
収された場合、吸収されたエネルギは熱に変換され、瞳
フィルタの温度上昇を引き起こす。投影レンズの内部の
どこかに吸収された場合もその部分の温度上昇を引き起
こす。瞳フィルタを含め、投影レンズのどこかに温度上
昇が生じると、投影レンズが歪んでレンズ寸法やレンズ
間寸法が変化するため、時間の経過によって転写パター
ンのでき方が変わり、解像度の劣化、パターン寸法の変
化、露光フィールド内均一性の劣化等を生じる。また、
瞳フィルタの入った投影レンズを長く使用すると、露光
光線の長時間照射によって、瞳フィルタを形成する薄膜
が劣化し、ついには剥離してフィルタ上下の投影レンズ
部材にその剥離片が付着する。これらの付着物は露光時
に転写欠陥を発生する原因となるので厳重に監視して付
着しないようにしなければならない。しかし、投影レン
ズ部材に一旦こうした剥離片が付着した場合、投影レン
ズを分解してオーバーホールしない限り除去することは
できない。一方、瞳フィルタ面で反射された場合、何度
かどこかで反射した後再び瞳フィルタ面に達して瞳フィ
ルタを透過し、被露光基板に到達する光は、パターンを
結像する光線にノイズ光として重畳するため、解像度の
劣化、露光コントラストの低下等を引き起こす。 開口絞りとして単なる穴明き板を入れるように設計
された投影レンズに透過率を制限する瞳フィルタとして
何らかの透光性を有するガラス材料を入れると、光路長
が変わるため、解像性が損なわれる。透過率を制限する
瞳フィルタとして何らかのガラス材料を入れる場合に
は、ガラス材料の存在を考慮してレンズ収差を補正、設
計した投影レンズを使用しなければならない。
【0005】以上の3つの問題点に対処するためには、
に対応して、高解像性が要求されない大パターンを転
写する時には、開口絞り部の透過率を制限しないで露光
する。に対応して、透過率を制限する瞳フィルタの使
用頻度を下げる。また、瞳フィルタ膜が劣化して剥離す
る前に交換する。に対応して、予め透過率を制限する
瞳フィルタとして入れるガラス材料の存在を考慮してレ
ンズ収差を補正、設計した投影レンズを使用する。こと
が有効である。に対する手段として挙げた、高解像性
が要求されない大パターンを転写する時に開口絞り部の
透過率を制限しないで露光する方法は、結果的に透過率
を制限する瞳フィルタの使用頻度を下げることにもな
り、同時に問題点に対する対策にもなる。
【0006】したがって、本発明は上記したような従来
の問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするとこ
ろは、原図基板を斜め入射照明し、投影レンズ開口絞り
位置に瞳フィルタを置く、高解像、大焦点深度の露光を
必要最少限だけ行い、解像性や焦点深度の深さがあまり
要求されない時には瞳フィルタを単なる開口絞りに置き
換えて露光することにより、瞳フィルタの長寿命化を図
ると共に、解像性や焦点深度の深さが要求されない時の
露光スループットを向上させるようにした投影露光装置
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、原図基板上のパターンを投影レンズを介して
被露光基板上に投影露光、転写する投影露光装置におい
て、所定の光学的な厚さと透光性を有する少なくとも1
つの開口制限板と、透過率調整用の薄膜が形成され前記
開口制限板と同じ光学的な厚さを有する少なくとも1つ
の瞳フィルタとを備え、これらの開口制限板と瞳フィル
タを、前記投影レンズを投影露光装置に設置したままの
状態で投影レンズの開口絞り位置に選択的に設置するよ
うにしたものである。
【0008】
【作用】本発明において、透光性を有する開口制限板は
開口絞り部の透過率を制限せず、高解像性が要求されな
い大パターンを転写する時に用いられ、透過率を制限す
る瞳フィルタの使用頻度を下げる。瞳フィルタは、高解
像、大焦点深度の露光を行う場合に使用される。
【0009】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図1は投影レンズと瞳フィルタの斜視
図、図2は要部断面図、図3(a)、(b)は透過率を
制限しないで開口の大きさのみを制限する開口制限板
と、透過率を制限する瞳フィルタの斜視図である。な
お、図中図6に示した従来装置の構成部材と同一のもの
に対しては同一符号をもって示す。これらの図におい
て、レチクルと被露光基板であるウエハとの間に配設さ
れレチクルの微細パターンをウエハ上に結像させる投影
レンズ11は、レチクル側レンズ群21a(図6)と、
ウエハ側レンズ群21b(図6)とを同軸に内蔵する筒
体22を備えている。筒体22の一部周面で、前記レチ
クル側レンズ群21aと、ウエハ側レンズ群21bとの
間に対応する部分、すなわち開口絞りが設置される位置
には、周方向に長い長孔23が形成されており、この長
孔23より透光性を有し透過率を制限しないで開口の大
きさのみを制限する開口制限板24と、この開口制限板
24と同一の光学的厚さを有し透過率を制限する瞳フィ
ルタ25とを選択的に挿入し得るようにしたものであ
る。この場合、開口制限板24は、高解像性が要求され
ない大パターンを転写する時に用いられ、瞳フィルタ2
5は、高解像、大焦点深度の露光を行う場合に使用され
る。
【0010】開口制限板24としては、合成石英、溶融
石英、合成蛍石、溶融蛍石等の透光性を有するガラス材
料で形成されており、その表面で開口部24a以外の表
面は図2、図3(a)に示すように遮光膜26によって
覆われている。遮光膜26としては、露光光線を遮光す
るものであれば任意の材料でよいことは言うまでもな
い。
【0011】瞳フィルタ25は、前記開口制限板24と
同様なガラス材料からなり透光性を有する平面板27
と、この平面板27上に形成された遮光膜26および透
過率調整用の透過膜28とで構成されている。透過膜2
8は、開口部25aの中に円環状に形成されており、露
光光線に対して所定の透過率を付与できる材料であれば
任意であり、例えば、クロムの薄膜、酸化クロムの薄
膜、フッ化マグネシウムと硫化亜鉛の多層薄膜等とす
る。
【0012】ここで、開口制限板24と、瞳フィルタ2
5の光学的厚さとは、これらの単純な厚さの絶対値では
なく、開口制限板24と平面板27の屈折率を考慮した
厚さの意味である。付着膜を含めた全厚さを波長λの光
線が透過する間に変化する全位相角Φ(ラジアン)を2
πで除し、波長λを乗じた値をここでいう光学的な厚さ
t(=Φ・λ/2π)とする。また、上記の説明に「透
過率を制限しない」という表現を使ったが、どんなガラ
ス材料からなるどんな開口制限板24、平面板27でも
僅かな透過量の減衰は避けられないものであり、意識的
に透過率を落としていないという意味である。以下の説
明においても同様である。
【0013】図2において、前記筒体22の内部で開口
絞り位置には真空吸着孔(または真空吸着溝)30を有
する真空吸着板31が配設されており、この吸着板31
上に前記長孔23から選択的に挿入される開口制限板2
4または瞳フィルタ25が設置され、真空吸着されるよ
うに構成されている。このため、前記真空吸着孔30は
チューブ33を介して不図示の真空ポンプに接続されて
いる。なお、34はチューブ33を真空吸着板31に接
続するための配管部品で、この配管部品34はパッキン
35を介して真空吸着板31にねじ込まれている。36
は真空吸着孔30の下端開口部を気密に閉鎖する蓋部
材、37は開口制限板24または瞳フィルタ25を挿入
する際、挿入奥行き方向の位置を決めるためのストッパ
である。真空吸着板31は、図では単純な平行平板とし
たが、投影レンズ11内の隣接するレンズを保持する機
能を兼ねた部品であっても勿論よく、形状は任意であ
る。真空吸着した時、開口制限板24の遮光膜26が付
いた面、または瞳フィルタ25の透過膜28が付いた面
が本来の開口絞り位置に来るようにする。真空吸着板3
1の材料としては任意であるが、真空吸着面製造時に突
起を生じ難いセラミックのような材料が好適である。
【0014】筒体22の内部に真空吸着板31を取り付
ける方法は任意であるが、取付面を組立基準面としてお
き、真空吸着板31を、上面と下面が平行で平面度の確
保された所定の厚さの板としておけば、開口制限板24
または瞳フィルタ25を所定の光軸方向の位置に任意に
交換設置することができる。
【0015】図2では筒体22内に直接真空吸着板31
を組み込んだ場合を示したが、長い筒体の内部に真空吸
着板31の精度のよい取付面を設けることは、必ずしも
容易ではない。筒体22の内部に各個のレンズを保持す
るための部品やレンズ間のスペーサとする部品等に真空
吸着板31の取付面を設けてもよい。逆に、精度のよい
加工さえ可能であれば真空吸着板31を別に設けずに、
筒体22に直接真空吸着孔30または真空吸着溝を設け
てもよいことは明かである。
【0016】なお、瞳フィルタ25の透過膜28は厚さ
を有するため、膜厚による光学的光路長が投影レンズ1
1の収差を考える上で問題になる場合がある。その場合
には、透過膜のついていない開口の大きさのみを制限す
る開口制限板24の光学的な厚さが、透過膜28を付け
た平面板27と同じ光学的厚さになるように、開口制限
板24の厚さを決めておく。開口の大きさのみを制限す
る開口制限板24に、瞳フィルタ25の透過膜28と光
学的光路長が同じになる透過膜を付加することによっ
て、瞳フィルタ25と、開口制限板24との光学的厚さ
を揃えてもよい。何れにしても、図1、図2に示すよう
に、瞳フィルタ25または開口制限板24を、投影レン
ズ11の筒体22内部の真空吸着板31上に吸着設置し
た状態で、投影レンズ11が初期のレンズ機能を発揮で
きるようにする。
【0017】投影レンズ11に挿入される開口制限板2
4または瞳フィルタ25の面に平行な方向の位置は、ガ
イドを設けるかストッパ37に押し当てて位置決めす
る。また、ばねで一方向に押し付けてもよい。図2で
は、挿入奥行き方向のみの位置決めを行うストッパ37
を示したが、挿入方向に直交する方向にも同様なストッ
パを設けておけば、位置を一義的に決定することができ
る。
【0018】図4(a)〜(h)はそれぞれ透過率を制
限する瞳フィルタの他の実施例を示す斜視図である。
(a)図は開口部25aの中に多点状の透過膜28を設
けた例、(b)図は開口部25aの中に異なった透過率
1 ,T2 の透過膜28a,28bを同心円状に設けた
例、(c)図は開口部25aの中に透過率T1 の透過膜
28aを多点状に設け、さらにその外側にも透過率T2
の透過膜28bを円環状に設けた例、(d)図は開口部
25aの中に多点状の透過膜28a(透過率T1)を設
け、さらにその外側にも透過膜28b(透過率T2 )を
設けた例、(e)図は(b)図の中心部にも透過率T3
を有する透過膜28cを設けた例、(f)図は(c)図
の中心部にも透過率T3 を有する透過膜28cを設けた
例、(g)図は(d)の中心部にも透過率T3 を有する
透過膜28cを設けた例、(h)図は図に示すように透
過率Tが任意に連続的に変化するようにした透過膜28
を設けた例である。なお、図中、遮光膜26の付いてい
る部分をハッチング、透過膜28(28a〜28c)の
付いている部分、すなわち、意図的に透過率を低下させ
ている部分をハッチングまたはクロスハッチングで示し
た。
【0019】透過膜28の形状は、フライアイレンズ射
出口の形状、すなわち2次光源の形状に合わせて決め
る。フライアイレンズ射出口は、投影レンズ11の開口
絞り位置に像を結ぶように投影光学系は構成されてい
る。したがって、フライアイレンズ射出口が円環状の場
合には、図3(b)の円環状の透過率調整部(28)
は、フライアイレンズ射出口の円環状の像の大きさに大
略合わせる。また、図4(b)、(e)の場合には、透
過率T1 の部分の形状をフライアイレンズ射出口の円環
状の像の大きさに大略合わせる。勿論、完全に合致させ
てもよいことは言うまでもない。フライアイレンズ射出
口の形状が多点状の場合も、その像の点の数と大きさと
位置に合わせて透過膜を設けた瞳フィルタを用いればよ
い。すなわち、図4(a)の多点状の透過膜28は、フ
ライアイレンズ射出口の多点状の像の数と大きさと位置
に大略または完全に合わせる。また、図4(c)、
(d)、(f)、(g)の場合にも、透過率T1 の部分
の形状をフライアイレンズ射出口の多点状の像の大きさ
に大略または完全に合わせる。フライアイレンズ射出口
の形状が多点状の場合に、開口絞り位置にできる多点状
の像を包絡するような円環状の透過膜を持つ図3
(b)、図4(b)、(e)のような瞳フィルタを用い
てもよい。透過膜28の透過率は任意であり、特別の場
合として、T1 =T2 、T2 =T3 、T1 =T3 、T1
=T2 =T3 等の条件の瞳フィルタも適用することが
できる。
【0020】以上の説明図(図3、図4)では、表記上
見易いように、瞳フィルタ25の透過膜28または透過
率を制限しないで開口(24a,25a)の大きさのみ
を制限する遮光膜26が、開口制限板24,平面板27
の上面に存在するように描いた。しかし、開口制限板2
4,平面板27の下面であってもよい。また、遮光膜2
6や透過膜28が2枚の透光板の間にサンドイッチ状に
挟まれた構造としてもよい。要は、本来の開口絞り位置
付近に透過膜28または単に開口の大きさのみを制限す
る遮光膜26が来る時、投影レンズ11が正常なレンズ
機能を発揮すればよい。投影レンズ11が正常なレンズ
機能を発揮するため、開口の大きさのみを制限する開口
制限板24または瞳フィルタ25の光学的厚さと投影レ
ンズ光軸に対する傾きは非常に正確に設定する必要があ
るが、遮光膜26や透過膜28の位置は、おおよそ本来
の開口絞り位置にあればよい。勿論、遮光膜26や透過
膜28の位置が丁度本来の開口絞り位置になるように考
慮すればなおよいことは言うまでもない。
【0021】図3および図4に示した開口制限板24お
よび瞳フィルタ25は、投影露光装置が取り得る光源の
形状に応じて、任意の種類を任意の数だけ用意すればよ
い。同一の種類で、瞳フィルタ各部の寸法や透過率を変
えたものを複数枚用意してもよく、単に開口を制限する
開口寸法だけを変えた開口制限板24を複数枚用意して
もよい。また開口制限板24および瞳フィルタ25の形
状、寸法は任意であり、図1〜図4に示したような長方
形である必要はない。開口絞りの大きさや開口絞り位置
への取付の便、遮光膜26や透過膜28の製作の便、等
を総合的に勘案して形状、寸法を決めればよい。
【0022】ところで、投影レンズ11は投影露光装置
の中央部に位置しており、かつ投影露光装置は精度を保
持するため、精密に空調を行ったチャンバ内に置かれる
ことが多い。したがって、前述の開口制限板24および
瞳フィルタ25の交換は手動操作により行うことも勿論
可能であるが、むしろ遠隔操作によって自動的に行われ
ることが望ましい。
【0023】図5は遠隔操作による開口制限板24およ
び瞳フィルタ25の自動交換機構を示す図である。各種
の開口制限板24および瞳フィルタ25はストッカ40
内に格納されており、パソコン等の制御装置41のキー
ボードから必要な開口制限板24または瞳フィルタ25
の名称や番号、またはストッカ40内の格納場所の名称
や番号をキー入力することにより、搬送用のハンドリン
グ機構制御部42に命令を与え、ストッカ40から所定
の開口制限板24または瞳フィルタ25をフォーク43
が把持して取り出し、投影レンズ11内に挿入し真空吸
着板31上に設置するように構成されている。フォーク
43は、吸着部を有してロッド44の下端に取付けられ
ており、ロッド44はガイド46に沿って移動自在なキ
ャリア47に設けられた昇降スライダ48に昇降自在に
取付けられている。ストッカ40の搬出入口の方向、フ
ォーク44の動く経路や方向は任意であり、図5の矢印
a、b、c方向や経路による必要がないことは明かであ
る。投影露光装置の空いているスペースにストッカ40
を設置し、このストッカ40と投影レンズ11の筒体2
2に開設した長孔23との間に、適宜任意の経路でフォ
ーク44のガイド46を設ければよい。この際、ハンド
リング機構により開口制限板24または瞳フィルタ25
を、これらの面の方向に必要な精度の範囲で位置決めす
れば、図2に示した挿入方向の位置決めのためのストッ
パ37および挿入方向に直交する方向のストッパは不要
となる。また、投影レンズ11の開口絞り位置に瞳フィ
ルタ25を挿入配置すると有効なのは、原図基板を斜め
入射照明する場合である。したがって、投影レンズ11
の開口絞り位置に開口制限板24または瞳フィルタ25
を入れる動作を、原図基板照明を直入射照明と斜め入射
照明とに切り替えるのに連動させればなおよい。投影露
光装置の2次光源となるフライアイレンズの射出口に、
円状、円環状、多点状等の透過部または穴を有する板を
任意に挿入したり、複数の形状の射出口を有する板をス
ライドまたは回転する等して、照明光源の形状を可変と
なす。そして、この照明光源の形状を自動的に検知する
か、もしくは図5に示したパソコン等の制御装置41の
キーボードから照明光源の形状に関する情報を入力する
時、照明光源の形状に対応して用意された投影レンズの
開口絞り位置に入れる開口制限板24または瞳フィルタ
25の種類が、制御装置41に画像表示されるようにす
る。このようにすれば、表示された開口制限板24また
は瞳フィルタ25のうち任意のものを操作者が選択、指
示することにより、該当する開口制限板24もしくは瞳
フィルタ25を開口絞り位置に装着することができる。
照明光源の形状と投影レンズ11の開口絞り位置に装着
する平面板または瞳フィルタ25を1対1に対応させて
おき、照明光源の形状を自動検知またはキー入力すれ
ば、自動的に対応する開口制限板24または瞳フィルタ
25が開口絞り位置に装着されるようにしてもよい。あ
るいは、実際に有効な照明光源の形状、寸法と、投影レ
ンズ11の開口絞り位置に装着する開口制限板24また
は瞳フィルタ25との組み合わせが制御装置41の画面
上に表示されるようにし、それらの組み合わせを操作者
が選択、指示することにより、当該照明光源の形状、寸
法と、投影レンズ11の開口絞り位置に装着する開口制
限板24または瞳フィルタ25との組み合わせが自動的
に実現するようにしてもよい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る投影露
光装置によれば、所定の光学的な厚さと透光性を有し開
口の大きさのみを制限する開口制限板と、透過率調整用
の薄膜が形成され前記開口制限板と同じ光学的な厚さを
有する瞳フィルタとを備え、これらの開口制限板と瞳フ
ィルタを、前記投影レンズを投影露光装置に設置したま
まの状態で投影レンズの開口絞り位置に選択的に設置す
るようにしたので、高解像性が要求されない大パターン
を転写する場合には開口制限板を使用して、高解像、大
焦点深度の露光を行う場合に用いられる瞳フィルタの使
用頻度を少なくすることができる。このため、解像性や
焦点深度の深さが要求されない時の露光スループットを
著しく向上させることができる。また、瞳フィルタの使
用頻度が減少する分だけ、瞳フィルタの透過膜の寿命を
延伸することができる。さらに、瞳フィルタが万一劣化
しても、投影レンズを投影露光装置に付けたままで容易
に、劣化した瞳フィルタを交換することができる。従来
の装置では、瞳フィルタが劣化すると、投影レンズの取
外しが必要であり、場合によっては、投影レンズの取り
替えも必要となる。したがって、投影露光装置全体の分
解、再組立、再調整を要し、大変な時間、労力、経費を
必要とした。本発明によれば、こうした問題が一挙に解
決できる。また、本発明は水銀ランプを光源とする投影
露光装置のほか、エキシマレーザ等の任意の光源を露光
光源とする投影露光装置に適用可能である。エキシマレ
ーザを光源とする場合、パルス的に露光エネルギが印加
されるため、瞳フィルタには、一瞬に大エネルギが加わ
る動作が繰り返され、瞳フィルタの劣化が、水銀ランプ
を光源とする投影露光装置の場合より早い。このため、
本発明が特に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】投影レンズと瞳フィルタの斜視図である。
【図2】投影レンズの要部断面図である。
【図3】(a),(b)はそれぞれ開口の大きさのみを
制限する開口制限板と、瞳フィルタの斜視図である。
【図4】(a)〜(h)はそれぞれ瞳フィルタの他の実
施例を示す斜視図である。
【図5】自動搬送機構の概略構成図である。
【図6】従来の一般的な投影露光装置の光学系を示す図
である。
【符号の説明】
1 水銀ランプ 9 レチクル 11 投影レンズ 12 ウエハ 13 開口絞り 24 開口制限板 25 瞳フィルタ 26 遮光膜 28 透過膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/20 521 9122−2H

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原図基板上のパターンを投影レンズを介
    して被露光基板上に投影露光、転写する投影露光装置に
    おいて、所定の光学的な厚さと透光性を有する少なくと
    も1つの開口制限板と、透過率調整用の薄膜が形成され
    前記開口制限板と同じ光学的な厚さを有する少なくとも
    1つの瞳フィルタとを備え、これらの開口制限板と瞳フ
    ィルタを、前記投影レンズを投影露光装置に設置したま
    まの状態で投影レンズの開口絞り位置に選択的に設置す
    るようにしたことを特徴とする投影露光装置。
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