JPH06176400A - 光ディスク基板及びそれを用いた光ディスク - Google Patents
光ディスク基板及びそれを用いた光ディスクInfo
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- JPH06176400A JPH06176400A JP5227135A JP22713593A JPH06176400A JP H06176400 A JPH06176400 A JP H06176400A JP 5227135 A JP5227135 A JP 5227135A JP 22713593 A JP22713593 A JP 22713593A JP H06176400 A JPH06176400 A JP H06176400A
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- Japan
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- optical disk
- disk substrate
- reference surface
- substrate
- mold
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 光ディスク基板内周部に形成される基準面と
その外側に形成される読み取り面間に段差を有する光デ
ィスク基板を成形時の収縮に基づいて設計した金型を用
い射出成形法により製造する。この時、基準面の厚さが
読み取り面の厚さよりも薄くても良い。例えば、固定部
５と可動部６により構成される金型の基準面に対応する
スリーブ１４の金型面１４ａをパンチ１５から可動ミラ
ー１３に向けて傾斜面とする。 【効果】 基準面の平面性が良好で、高品質な光ディス
ク基板を得ることができる。
その外側に形成される読み取り面間に段差を有する光デ
ィスク基板を成形時の収縮に基づいて設計した金型を用
い射出成形法により製造する。この時、基準面の厚さが
読み取り面の厚さよりも薄くても良い。例えば、固定部
５と可動部６により構成される金型の基準面に対応する
スリーブ１４の金型面１４ａをパンチ１５から可動ミラ
ー１３に向けて傾斜面とする。 【効果】 基準面の平面性が良好で、高品質な光ディス
ク基板を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク基板及びそ
れを用いた光ディスクに係わり、詳細には上記光ディス
ク基板を製造する際に用いられる金型の形状に関する。
れを用いた光ディスクに係わり、詳細には上記光ディス
ク基板を製造する際に用いられる金型の形状に関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的に
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイルシステムやコンピューターの外部記憶装
置、あるいは音響、映像情報の記録装置等において実用
化されつつある。
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイルシステムやコンピューターの外部記憶装
置、あるいは音響、映像情報の記録装置等において実用
化されつつある。
【０００３】上記光磁気記録方式には、大きく分けて光
変調方式と磁界変調方式があるが、このうち磁界変調方
式は、オーバーライト可能であることから注目されてお
り、上記磁界変調方式に対応する記録媒体として、例え
ば直径６４ｍｍ程度の小型光磁気ディスク等が開発され
ている。
変調方式と磁界変調方式があるが、このうち磁界変調方
式は、オーバーライト可能であることから注目されてお
り、上記磁界変調方式に対応する記録媒体として、例え
ば直径６４ｍｍ程度の小型光磁気ディスク等が開発され
ている。
【０００４】上記のような小型光磁気ディスクは、ポリ
カーボネイト等からなる透明な光ディスク基板の一主面
に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学
効果の大きな記録磁性層（例えば希土類−遷移金属合金
非晶質薄膜）や反射層，誘電体層を積層することにより
記録部を形成し、さらにこの記録部上に紫外線硬化樹脂
等よりなる保護膜を覆う如く形成してなるものである。
カーボネイト等からなる透明な光ディスク基板の一主面
に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学
効果の大きな記録磁性層（例えば希土類−遷移金属合金
非晶質薄膜）や反射層，誘電体層を積層することにより
記録部を形成し、さらにこの記録部上に紫外線硬化樹脂
等よりなる保護膜を覆う如く形成してなるものである。
【０００５】上記光ディスク基板は、円盤状で、例えば
図７に示すように内周部に基準面２１、その外側に読み
取り面２２を有している。上記基準面２１は記録再生装
置への取付け面であり、取付けの都合上、基準面２１中
央にはセンターホール２３と称される穴部が穿設されて
おり、上記読み取り面２２は情報の記録再生を行う面と
して形成されており、これら基準面２１と読み取り面２
２間には段差が形成されている。よって、当然のことな
がら上記の小型光磁気ディスクも図７に示した形状を有
している。また、通常、光ディスク基板２４の基準面２
１は読み取り面２２よりも薄く形成されている。
図７に示すように内周部に基準面２１、その外側に読み
取り面２２を有している。上記基準面２１は記録再生装
置への取付け面であり、取付けの都合上、基準面２１中
央にはセンターホール２３と称される穴部が穿設されて
おり、上記読み取り面２２は情報の記録再生を行う面と
して形成されており、これら基準面２１と読み取り面２
２間には段差が形成されている。よって、当然のことな
がら上記の小型光磁気ディスクも図７に示した形状を有
している。また、通常、光ディスク基板２４の基準面２
１は読み取り面２２よりも薄く形成されている。
【０００６】このような光ディスク基板は、量産性，寸
法精度が良好であることから、射出成形法によって製造
される。すなわち、上述のような基準面と読み取り面間
に段差を有し、基準面中央にセンターホールを有する形
状の光ディスク基板を形成できる金型中に溶融させた樹
脂を高圧下で金型内に射出注入し、固化させて成形を行
い、光ディスク基板を得る。
法精度が良好であることから、射出成形法によって製造
される。すなわち、上述のような基準面と読み取り面間
に段差を有し、基準面中央にセンターホールを有する形
状の光ディスク基板を形成できる金型中に溶融させた樹
脂を高圧下で金型内に射出注入し、固化させて成形を行
い、光ディスク基板を得る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
に光ディスク基板を射出成形によって製造すると、得ら
れる光ディスク基板の基準面の平面性が損なわれるとい
う問題が発生している。当然のことながら、射出成形法
により成形を行う際には、樹脂を溶融させた後に高圧下
で金型内に射出注入し固化を行うため、固化の際、樹脂
の収縮が若干発生する。この時、製造される光ディスク
基板の形状は図７に示したように、基準面２１と読み取
り面２２間に段差を有し、基準面２１中央にセンターホ
ール２３を有するものであり、このような形状の光ディ
スク基板を射出成形によって成形すると、固化時に図６
に示すようにディスク基板２４に図中矢印Ｐで示す方向
に樹脂の収縮が生じ、基準面２１の中央部、すなわちセ
ンターホール２３が落ち込んだ形状となり、基準面２１
は傾斜面となり、基準面２１の平面性を損なってしま
う。上記光ディスク基板の基準面２１が読み取り面より
も薄い場合には、樹脂の収縮が更に発生しやすく、基準
面２１の平面性を損ないやすい。
に光ディスク基板を射出成形によって製造すると、得ら
れる光ディスク基板の基準面の平面性が損なわれるとい
う問題が発生している。当然のことながら、射出成形法
により成形を行う際には、樹脂を溶融させた後に高圧下
で金型内に射出注入し固化を行うため、固化の際、樹脂
の収縮が若干発生する。この時、製造される光ディスク
基板の形状は図７に示したように、基準面２１と読み取
り面２２間に段差を有し、基準面２１中央にセンターホ
ール２３を有するものであり、このような形状の光ディ
スク基板を射出成形によって成形すると、固化時に図６
に示すようにディスク基板２４に図中矢印Ｐで示す方向
に樹脂の収縮が生じ、基準面２１の中央部、すなわちセ
ンターホール２３が落ち込んだ形状となり、基準面２１
は傾斜面となり、基準面２１の平面性を損なってしま
う。上記光ディスク基板の基準面２１が読み取り面より
も薄い場合には、樹脂の収縮が更に発生しやすく、基準
面２１の平面性を損ないやすい。
【０００８】前述のように、光ディスク基板の基準面２
１は記録再生装置への取付け面であるため、該基準面２
１の平面性が損なわれると、これを用いて形成される光
磁気ディスクに情報を記録再生する際、光磁気ディスク
の回転時に偏心が起こり、光磁気ディスクは上下にバタ
ツキながら回転することとなり、情報の記録再生を正確
に行うことが不可能となる。
１は記録再生装置への取付け面であるため、該基準面２
１の平面性が損なわれると、これを用いて形成される光
磁気ディスクに情報を記録再生する際、光磁気ディスク
の回転時に偏心が起こり、光磁気ディスクは上下にバタ
ツキながら回転することとなり、情報の記録再生を正確
に行うことが不可能となる。
【０００９】また、光ディスク基板にこのような変形が
発生すると製品として使用することが出来ず、製造歩留
りの低下を招く。
発生すると製品として使用することが出来ず、製造歩留
りの低下を招く。
【００１０】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、光ディスク基板の射出成形時に樹脂
の収縮が発生しても、該光ディスク基板の基準面の平面
性を損なうことがなく、製造歩留りを低下させることの
ない金型を提供することを目的とし、基準面の平面性が
良好で、高品質な光ディスク基板及びそれを用いた光デ
ィスクを提供することを目的とする。
されたものであり、光ディスク基板の射出成形時に樹脂
の収縮が発生しても、該光ディスク基板の基準面の平面
性を損なうことがなく、製造歩留りを低下させることの
ない金型を提供することを目的とし、基準面の平面性が
良好で、高品質な光ディスク基板及びそれを用いた光デ
ィスクを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、光ディスク基板内周部に形成される基準
面と基準面の外側に形成される読み取り面間に段差を有
する光ディスク基板を成形時の収縮変形量に基づいて設
計された金型を用い、射出成形法によって製造すること
を特徴とするものである。
めに本発明は、光ディスク基板内周部に形成される基準
面と基準面の外側に形成される読み取り面間に段差を有
する光ディスク基板を成形時の収縮変形量に基づいて設
計された金型を用い、射出成形法によって製造すること
を特徴とするものである。
【００１２】また、本発明の光ディスク基板において
は、光ディスク基板の基準面の厚さが読み取り面の厚さ
よりも薄いこと、さらには、金型の基準面を形成する金
型面が基準面中心から読み取り面側に向かって傾斜する
傾斜面とされていることを特徴とするものである。さら
に、本発明の光ディスクは、光ディスク基板内周部に形
成される基準面と基準面の外側に形成される読み取り面
間に段差を有する光ディスク基板を成形時の収縮変形量
に基づいて設計された金型を用い、射出成形法によって
製造された光ディスク基板を用いることを特徴とするも
のである。
は、光ディスク基板の基準面の厚さが読み取り面の厚さ
よりも薄いこと、さらには、金型の基準面を形成する金
型面が基準面中心から読み取り面側に向かって傾斜する
傾斜面とされていることを特徴とするものである。さら
に、本発明の光ディスクは、光ディスク基板内周部に形
成される基準面と基準面の外側に形成される読み取り面
間に段差を有する光ディスク基板を成形時の収縮変形量
に基づいて設計された金型を用い、射出成形法によって
製造された光ディスク基板を用いることを特徴とするも
のである。
【００１３】
【作用】記録再生装置への取付け面であり中央にセンタ
ーホールの穿設された基準面を内周部に有し、その外側
に読み取り面を有し、これら基準面と読み取り面間に段
差を有する形状の光ディスク基板を射出成形した場合、
固化時に樹脂が光ディスク基板中心に向かって収縮する
ため基準面の平面性を損なうという問題が発生する。
ーホールの穿設された基準面を内周部に有し、その外側
に読み取り面を有し、これら基準面と読み取り面間に段
差を有する形状の光ディスク基板を射出成形した場合、
固化時に樹脂が光ディスク基板中心に向かって収縮する
ため基準面の平面性を損なうという問題が発生する。
【００１４】本発明の光ディスク基板においては、光デ
ィスク基板内周部に形成される基準面と基準面の外側に
形成される読み取り面間に段差を有する光ディスク基板
を成形時の収縮変形量に基づいて設計された金型を用い
て射出成形法によって製造するため、樹脂の収縮により
光ディスク基板の基準面の平面性を損なうことがない。
ィスク基板内周部に形成される基準面と基準面の外側に
形成される読み取り面間に段差を有する光ディスク基板
を成形時の収縮変形量に基づいて設計された金型を用い
て射出成形法によって製造するため、樹脂の収縮により
光ディスク基板の基準面の平面性を損なうことがない。
【００１５】また、本発明の光ディスク基板において
は、光ディスク基板の基準面の厚さが読み取り面の厚さ
よりも薄いこと、さらには、金型の基準面を形成する金
型面が基準面中心から読み取り面側に向かって傾斜する
傾斜面とされていることから、固化時に光ディスク基板
中心に向かって樹脂の収縮が生じても、形成される基準
面の傾斜により相殺され、光ディスク基板の基準面の平
面性を損なうことがない。
は、光ディスク基板の基準面の厚さが読み取り面の厚さ
よりも薄いこと、さらには、金型の基準面を形成する金
型面が基準面中心から読み取り面側に向かって傾斜する
傾斜面とされていることから、固化時に光ディスク基板
中心に向かって樹脂の収縮が生じても、形成される基準
面の傾斜により相殺され、光ディスク基板の基準面の平
面性を損なうことがない。
【００１６】したがって、このような光ディスク基板を
用いれば、情報の記録及び／又は再生に際して偏芯が生
じたり、ディスクが上下にばたつくといったことのない
正確な記録再生が行える光ディスクが獲得される。
用いれば、情報の記録及び／又は再生に際して偏芯が生
じたり、ディスクが上下にばたつくといったことのない
正確な記録再生が行える光ディスクが獲得される。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。なお、本実施例で
は、本発明を光磁気ディスクに適用した場合を例にして
説明する。
いて、図面を参照しながら説明する。なお、本実施例で
は、本発明を光磁気ディスクに適用した場合を例にして
説明する。
【００１８】本実施例の光磁気ディスクは、図１に示す
ように光ディスク基板３１上に第１の誘電体層３２，記
録磁性層３３，第２の誘電体層３４，反射層３５よりな
る記録部３６が形成され、さらに該記録部３６を覆って
保護層３７が形成されてなるものである。
ように光ディスク基板３１上に第１の誘電体層３２，記
録磁性層３３，第２の誘電体層３４，反射層３５よりな
る記録部３６が形成され、さらに該記録部３６を覆って
保護層３７が形成されてなるものである。
【００１９】上記光ディスク基板３１は、図２に示すよ
うに円盤状で、内周部に基準面１、その外側に読み取り
面２を有している。上記基準面１は記録再生装置への取
付け面であり、取付けの都合上、基準面１中央にはセン
ターホール３と称される穴部が穿設されており、上記読
み取り面２は情報の記録再生を行う面として形成されて
おり、その表面には図示しないセクターマーク等の情報
信号がピットとして記録され、これら基準面１と読み取
り面２間には段差が形成されている。また、光ディスク
基板４の基準面１は読み取り面２よりも薄く形成されて
おり、本実施例の光ディスク基板においては、基準面１
の厚さａが０．８ｍｍ、読み取り面２の厚さｂが１．２
ｍｍとされている。
うに円盤状で、内周部に基準面１、その外側に読み取り
面２を有している。上記基準面１は記録再生装置への取
付け面であり、取付けの都合上、基準面１中央にはセン
ターホール３と称される穴部が穿設されており、上記読
み取り面２は情報の記録再生を行う面として形成されて
おり、その表面には図示しないセクターマーク等の情報
信号がピットとして記録され、これら基準面１と読み取
り面２間には段差が形成されている。また、光ディスク
基板４の基準面１は読み取り面２よりも薄く形成されて
おり、本実施例の光ディスク基板においては、基準面１
の厚さａが０．８ｍｍ、読み取り面２の厚さｂが１．２
ｍｍとされている。
【００２０】このような光ディスク基板は、図３に示さ
れるような金型に溶融樹脂を高圧下で射出注入し、固化
させることによって製造される。上記金型は、樹脂供給
部に接続される固定部５と固定部５に対向する可動部６
により構成されており、固定部５と可動部６の対向部に
光ディスク基板の形状を有する空間１６を形成してい
る。
れるような金型に溶融樹脂を高圧下で射出注入し、固化
させることによって製造される。上記金型は、樹脂供給
部に接続される固定部５と固定部５に対向する可動部６
により構成されており、固定部５と可動部６の対向部に
光ディスク基板の形状を有する空間１６を形成してい
る。
【００２１】上記固定部５は、内部に樹脂供給孔８が穿
設されるスプルブッシュ７と内部に空気吸引孔１０の設
けられた固定ミラー９により構成されており、略円筒状
の固定ミラー９中央に略円柱状のスプルブッシュ７が配
された形状とされている。該固定ミラー９の一主面９ａ
の光ディスク基板の読み取り面に対応する位置にセクタ
ーマーク等を形成するためのリング状のスタンパー１１
が設置され、該スタンパー１１を固定するために固定ミ
ラー９のスタンパー１１内周に対応する位置にスタンパ
ー内周ガイド９ｂが突設され、かつ固定ミラー９のスタ
ンパー１１外周に対応する位置にはスタンパー１１を外
周より押さえ込んで固定するスタンパーホルダー１２が
配設されている。また可動部６は、可動ミラー１３とス
リーブ１４およびパンチ１５により形成されており、略
円筒状の可動ミラー１３中央に略円筒状のスリーブ１４
および略円柱状のパンチ１５が配された形状となされて
おり、光ディスクの読み取り面に対応する位置に可動ミ
ラー１３、基準面に対応する位置にスリーブ１４、セン
ターホールに対応する位置にパンチ１５が設けられてい
る。なお、パンチ１５は可動である。
設されるスプルブッシュ７と内部に空気吸引孔１０の設
けられた固定ミラー９により構成されており、略円筒状
の固定ミラー９中央に略円柱状のスプルブッシュ７が配
された形状とされている。該固定ミラー９の一主面９ａ
の光ディスク基板の読み取り面に対応する位置にセクタ
ーマーク等を形成するためのリング状のスタンパー１１
が設置され、該スタンパー１１を固定するために固定ミ
ラー９のスタンパー１１内周に対応する位置にスタンパ
ー内周ガイド９ｂが突設され、かつ固定ミラー９のスタ
ンパー１１外周に対応する位置にはスタンパー１１を外
周より押さえ込んで固定するスタンパーホルダー１２が
配設されている。また可動部６は、可動ミラー１３とス
リーブ１４およびパンチ１５により形成されており、略
円筒状の可動ミラー１３中央に略円筒状のスリーブ１４
および略円柱状のパンチ１５が配された形状となされて
おり、光ディスクの読み取り面に対応する位置に可動ミ
ラー１３、基準面に対応する位置にスリーブ１４、セン
ターホールに対応する位置にパンチ１５が設けられてい
る。なお、パンチ１５は可動である。
【００２２】この時、可動部６の可動ミラー１３の外径
が固定部５の固定ミラー９のスタンパーホルダー１２に
より形成される隙間に嵌合する大きさとされており、固
定部５のスプルブッシュ７が固定ミラー９よりも突出し
て配され、可動部６のパンチ１５の先端１５ａがスプル
ブッシュ７の樹脂供給孔８の先端部８ａに嵌合するよう
になされており、スリーブ１４が可動ミラー１３よりも
奥まった位置に配されているため、スタンパーホルダー
１２により形成される隙間に可動ミラー１３を嵌合させ
て固定部５と可動部６を対向させると、固定部５と可動
部６間に基準面と読み取り面間に段差を有する光ディス
ク基板の形状を有する空間１６が形成される。なお、図
４に示すように樹脂注入後にパンチ１５を樹脂供給孔８
に嵌合させることにより、センターホールを形成でき
る。
が固定部５の固定ミラー９のスタンパーホルダー１２に
より形成される隙間に嵌合する大きさとされており、固
定部５のスプルブッシュ７が固定ミラー９よりも突出し
て配され、可動部６のパンチ１５の先端１５ａがスプル
ブッシュ７の樹脂供給孔８の先端部８ａに嵌合するよう
になされており、スリーブ１４が可動ミラー１３よりも
奥まった位置に配されているため、スタンパーホルダー
１２により形成される隙間に可動ミラー１３を嵌合させ
て固定部５と可動部６を対向させると、固定部５と可動
部６間に基準面と読み取り面間に段差を有する光ディス
ク基板の形状を有する空間１６が形成される。なお、図
４に示すように樹脂注入後にパンチ１５を樹脂供給孔８
に嵌合させることにより、センターホールを形成でき
る。
【００２３】なお、本実施例の光ディスク基板を製造す
る金型においては、可動部６のスリーブ１４の基準面に
対応する金型面１４ａがパンチ１５側から可動ミラー１
３側に向けて傾斜するように形成されている。ここで、
図５に示すようにスリーブ１８の基準面に対応する金型
面１８ａが平面である従来の金型によって得られた光デ
ィスク基板では、図６に示すようにＰ方向に収縮するに
際して、基準面２１全面に亘る領域Ｄ1 とセンターホー
ル２３に対応した領域Ｄ2 で収縮率が異なることから、
センターホール２３に落ち込みが発生し基準面２１が傾
斜面となってしまう。この傾斜面の傾斜角度θは、基準
面２１全面に亘る領域Ｄ1 の収縮率をＳ1 、センターホ
ール２３に対応した領域Ｄ2 の収縮率をＳ2 とすると、
数１によって求められる。
る金型においては、可動部６のスリーブ１４の基準面に
対応する金型面１４ａがパンチ１５側から可動ミラー１
３側に向けて傾斜するように形成されている。ここで、
図５に示すようにスリーブ１８の基準面に対応する金型
面１８ａが平面である従来の金型によって得られた光デ
ィスク基板では、図６に示すようにＰ方向に収縮するに
際して、基準面２１全面に亘る領域Ｄ1 とセンターホー
ル２３に対応した領域Ｄ2 で収縮率が異なることから、
センターホール２３に落ち込みが発生し基準面２１が傾
斜面となってしまう。この傾斜面の傾斜角度θは、基準
面２１全面に亘る領域Ｄ1 の収縮率をＳ1 、センターホ
ール２３に対応した領域Ｄ2 の収縮率をＳ2 とすると、
数１によって求められる。
【００２４】
【数１】
【００２５】例えば、基準面１の厚さａが０．８ｍｍ、
読み取り面２の厚さｂが１．２ｍｍである場合には、Ｓ
1 は０．６％，Ｓ2 が０．５８〜０．５９％であり、落
ち込みによって発生する傾斜の傾斜角度θは０．８°〜
１．６°、落ち込み量ｄは３０〜５０μｍ程度にまで至
ることになる。
読み取り面２の厚さｂが１．２ｍｍである場合には、Ｓ
1 は０．６％，Ｓ2 が０．５８〜０．５９％であり、落
ち込みによって発生する傾斜の傾斜角度θは０．８°〜
１．６°、落ち込み量ｄは３０〜５０μｍ程度にまで至
ることになる。
【００２６】一方、本実施例では、このような光ディス
ク基板基準面の落ち込み変形を予め考慮して、基準面に
対応する金型面１４ａに落ち込み変形によって形成され
る傾斜とは逆傾きの傾斜，すなわち図４に示すようにパ
ンチ１５側と可動ミラー１３側のスリーブ１４の金型面
１４ａの高さの差Ｃが０．０３ｍｍとなるような傾斜角
０．８°〜１．６°の傾斜が付けられている。したがっ
て、空間１６に射出注入された樹脂が固化する際に、光
ディスク基板中央方向に樹脂の収縮が発生し、基準面１
のセンターホール３の落ち込みが発生しても、本実施例
の光ディスク基板においては、該光ディスク基板を形成
する金型中のスリーブ１４の基準面に対応する金型面１
４ａが傾斜面とされいることから相殺され、平面性の良
好な基準面１を得ることができる。なお、本実施例の光
ディスク基板においては基準面の平面度を３０μｍ以下
にすることが可能である。
ク基板基準面の落ち込み変形を予め考慮して、基準面に
対応する金型面１４ａに落ち込み変形によって形成され
る傾斜とは逆傾きの傾斜，すなわち図４に示すようにパ
ンチ１５側と可動ミラー１３側のスリーブ１４の金型面
１４ａの高さの差Ｃが０．０３ｍｍとなるような傾斜角
０．８°〜１．６°の傾斜が付けられている。したがっ
て、空間１６に射出注入された樹脂が固化する際に、光
ディスク基板中央方向に樹脂の収縮が発生し、基準面１
のセンターホール３の落ち込みが発生しても、本実施例
の光ディスク基板においては、該光ディスク基板を形成
する金型中のスリーブ１４の基準面に対応する金型面１
４ａが傾斜面とされいることから相殺され、平面性の良
好な基準面１を得ることができる。なお、本実施例の光
ディスク基板においては基準面の平面度を３０μｍ以下
にすることが可能である。
【００２７】よって、上述のような金型を用いて光ディ
スク基板を製造する際には、固定ミラー９内に設けられ
る空気吸引孔１０より空間１６内の空気を脱気し、高圧
下で樹脂供給部よりスプルブッシュ７の樹脂供給孔８を
介して空間１６に溶融樹脂１７を射出注入し、パンチ１
５を樹脂供給孔８に嵌合させてセンターホールを形成
し、固化させて光ディスク基板の製造を行う。
スク基板を製造する際には、固定ミラー９内に設けられ
る空気吸引孔１０より空間１６内の空気を脱気し、高圧
下で樹脂供給部よりスプルブッシュ７の樹脂供給孔８を
介して空間１６に溶融樹脂１７を射出注入し、パンチ１
５を樹脂供給孔８に嵌合させてセンターホールを形成
し、固化させて光ディスク基板の製造を行う。
【００２８】本実施例の光磁気ディスクは、図１に示す
ように、このようにして製造される光ディスク基板３１
上に第１の誘電体層３２，記録磁性層３３，第２の誘電
体層３４，反射層３５よりなる記録部３６を積層し、さ
らにこの記録部３６の表面を保護層３７で覆って構成さ
れる。記録部３６を構成する機能膜のうち第１の誘電体
層３２及び第２の誘電体層３４としては、酸化物や窒化
物等が使用可能であるが、誘電体層中の酸素が記録磁性
層に悪影響を及ぼす虞れがあることから窒化物がより好
ましく、酸素および水分を透過させず且つ使用レーザ光
を十分に透過し得る物質として窒化珪素あるいは窒化ア
ルミニウム等が好適である。
ように、このようにして製造される光ディスク基板３１
上に第１の誘電体層３２，記録磁性層３３，第２の誘電
体層３４，反射層３５よりなる記録部３６を積層し、さ
らにこの記録部３６の表面を保護層３７で覆って構成さ
れる。記録部３６を構成する機能膜のうち第１の誘電体
層３２及び第２の誘電体層３４としては、酸化物や窒化
物等が使用可能であるが、誘電体層中の酸素が記録磁性
層に悪影響を及ぼす虞れがあることから窒化物がより好
ましく、酸素および水分を透過させず且つ使用レーザ光
を十分に透過し得る物質として窒化珪素あるいは窒化ア
ルミニウム等が好適である。
【００２９】また、上記記録磁性層３３は、膜面に垂直
な方向に磁化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であっ
て、磁気光学特性に優れることは勿論、室温にて大きな
保磁力を持ち、且つ２００℃近辺にキュリー点を持つこ
とが望ましい。このような条件に叶った記録材料として
は、希土類−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、な
かでもＴｂＦｅＣｏ系非晶質薄膜が好適である。この記
録磁性層３３には、耐蝕性を向上させる目的で、Ｃｒ等
の添加元素が添加されていてもよい。
な方向に磁化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であっ
て、磁気光学特性に優れることは勿論、室温にて大きな
保磁力を持ち、且つ２００℃近辺にキュリー点を持つこ
とが望ましい。このような条件に叶った記録材料として
は、希土類−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、な
かでもＴｂＦｅＣｏ系非晶質薄膜が好適である。この記
録磁性層３３には、耐蝕性を向上させる目的で、Ｃｒ等
の添加元素が添加されていてもよい。
【００３０】反射層３５は、前記第２の誘電体層３４と
の境界でレーザ光を７０％以上反射する高反射率の膜に
より構成することが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好
適である。また、この反射層は、熱的に良導体であるこ
とが望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考慮す
ると、アルミニウムが適している。
の境界でレーザ光を７０％以上反射する高反射率の膜に
より構成することが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好
適である。また、この反射層は、熱的に良導体であるこ
とが望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考慮す
ると、アルミニウムが適している。
【００３１】これらの各層３２，３３，３４，３５は、
蒸着やスパッタ等の，いわゆる気相メッキ技術により形
成される。このとき各層の膜厚は任意に設定することが
できるが、通常は数百〜数千Å程度に設定される。これ
ら膜厚は、各層単独での光学的性質のみならず、組み合
わせによる効果を考慮して決めることが好ましい。これ
は、例えば記録磁性層３３の膜厚がレーザ光の波長に比
べて薄い場合に、レーザ光が記録磁性層３３を透過して
各層境界で反射した光と多重干渉し、膜厚の組み合わせ
により記録磁性層３３の実効的な光学及び磁気光学特性
が大きく変動するためである。
蒸着やスパッタ等の，いわゆる気相メッキ技術により形
成される。このとき各層の膜厚は任意に設定することが
できるが、通常は数百〜数千Å程度に設定される。これ
ら膜厚は、各層単独での光学的性質のみならず、組み合
わせによる効果を考慮して決めることが好ましい。これ
は、例えば記録磁性層３３の膜厚がレーザ光の波長に比
べて薄い場合に、レーザ光が記録磁性層３３を透過して
各層境界で反射した光と多重干渉し、膜厚の組み合わせ
により記録磁性層３３の実効的な光学及び磁気光学特性
が大きく変動するためである。
【００３２】さらに、上記記録部３６上には上記保護層
３７が形成されている。この保護層３７は、記録部３６
を大気中の水や酸素から隔離するために設けられてもの
である。この保護層３６には、アクリル系紫外線硬化樹
脂等の紫外線硬化樹脂が用いられる。
３７が形成されている。この保護層３７は、記録部３６
を大気中の水や酸素から隔離するために設けられてもの
である。この保護層３６には、アクリル系紫外線硬化樹
脂等の紫外線硬化樹脂が用いられる。
【００３３】このような構成の光磁気ディスクは、光デ
ィスク基板の基準面が精密に平面であるので、情報を記
録再生するに際して偏芯が生じたり、ディスクが上下に
ばたつくといったことがなく、正確な記録再生を行うこ
とが可能である。
ィスク基板の基準面が精密に平面であるので、情報を記
録再生するに際して偏芯が生じたり、ディスクが上下に
ばたつくといったことがなく、正確な記録再生を行うこ
とが可能である。
【００３４】本実施例では本発明の光ディスク基板を光
磁気ディスクに適用した場合を例にして説明したが、本
発明は光磁気ディスクに限らず各種光ディスクに適用可
能である。例えば、ＣＤ−ＲＯＭ等では、上記ディスク
基板上にＡｌ等の金属反射膜が成膜される。また追記型
光ディスクでは、上記光ディスク基板上に低融点金属薄
膜，相変化膜，有機色素を含有する膜等が形成される。
いずれの光ディスクにおいても、上記金型を用いて作製
された光ディスク基板を用いれば基準面が精密に平面で
あるので、同様に正確な記録再生を行うことが可能であ
る。
磁気ディスクに適用した場合を例にして説明したが、本
発明は光磁気ディスクに限らず各種光ディスクに適用可
能である。例えば、ＣＤ−ＲＯＭ等では、上記ディスク
基板上にＡｌ等の金属反射膜が成膜される。また追記型
光ディスクでは、上記光ディスク基板上に低融点金属薄
膜，相変化膜，有機色素を含有する膜等が形成される。
いずれの光ディスクにおいても、上記金型を用いて作製
された光ディスク基板を用いれば基準面が精密に平面で
あるので、同様に正確な記録再生を行うことが可能であ
る。
【００３５】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、光ディスク基板内周部に形成される基準面と基
準面の外側に形成される読み取り面間に段差を有する光
ディスク基板を成形時の収縮変形量に基づいて設計され
た金型を用いて射出成形法によって製造するため、樹脂
の収縮により光ディスク基板の基準面の平面性を損なう
ことがなく、製造歩留りが良好で高品質な光ディスク基
板を得ることができる。
明では、光ディスク基板内周部に形成される基準面と基
準面の外側に形成される読み取り面間に段差を有する光
ディスク基板を成形時の収縮変形量に基づいて設計され
た金型を用いて射出成形法によって製造するため、樹脂
の収縮により光ディスク基板の基準面の平面性を損なう
ことがなく、製造歩留りが良好で高品質な光ディスク基
板を得ることができる。
【００３６】また、本発明の光ディスク基板において
は、光ディスク基板の基準面の厚さが読み取り面の厚さ
よりも薄いこと、さらには、金型の基準面を形成する金
型面が基準面中心から読み取り面側に向かって傾斜する
傾斜面とされていることから、固化時に光ディスク基板
中心に向かって樹脂の収縮が生じても相殺され、光ディ
スク基板の基準面の平面性を損なうことがなく、製造歩
留りが良好で高品質な光ディスク基板を得ることができ
る。
は、光ディスク基板の基準面の厚さが読み取り面の厚さ
よりも薄いこと、さらには、金型の基準面を形成する金
型面が基準面中心から読み取り面側に向かって傾斜する
傾斜面とされていることから、固化時に光ディスク基板
中心に向かって樹脂の収縮が生じても相殺され、光ディ
スク基板の基準面の平面性を損なうことがなく、製造歩
留りが良好で高品質な光ディスク基板を得ることができ
る。
【００３７】したがって、上記光ディスク基板を用いれ
ば、情報の記録及び／又は再生に際して偏芯が生じた
り、ディスクが上下にばたつくといったことのない正確
な記録再生が行える光ディスクが獲得できる。
ば、情報の記録及び／又は再生に際して偏芯が生じた
り、ディスクが上下にばたつくといったことのない正確
な記録再生が行える光ディスクが獲得できる。
【図１】本発明を適用した光ディスクの一構成例を示す
要部概略斜視図である。
要部概略斜視図である。
【図２】本発明を適用した光ディスク基板を示す断面図
である。
である。
【図３】本発明を適用した光ディスク基板を製造する金
型の一構成例を示す断面図である。
型の一構成例を示す断面図である。
【図４】本発明を適用した光ディスク基板を製造する金
型を示す要部拡大断面図である。
型を示す要部拡大断面図である。
【図５】従来の金型を示す要部拡大断面図である。
【図６】従来の金型によって製造された光ディスク基板
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図７】光ディスク基板を示す断面図である。
１・・・・・・基準面 ２・・・・・・読み取り面 ３・・・・・・センターホール ４・・・・・・光ディスク基板 ５・・・・・・固定部 ６・・・・・・可動部 １３・・・・・可動ミラー １４・・・・・スリーブ １５・・・・・パンチ １６・・・・・空間
Claims (4)
- 【請求項１】 光ディスク基板内周部に形成される基準
面と基準面の外側に形成される読み取り面間に段差を有
する光ディスク基板を成形時の収縮変形量に基づいて設
計された金型を用い、射出成形法によって製造すること
を特徴とする光ディスク基板。 - 【請求項２】 基準面の厚さが読み取り面の厚さよりも
薄いことを特徴とする請求項１記載の光ディスク基板。 - 【請求項３】 基準面を形成する金型面が基準面中心か
ら読み取り面側に向かって傾斜する傾斜面とされている
ことを特徴とする請求項２記載の光ディスク基板。 - 【請求項４】 記録部を形成する基板として請求項１記
載の光ディスク基板を用いることを特徴とする光ディス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22713593A JP3655928B2 (ja) | 1992-09-29 | 1993-09-13 | 光ディスク基板及びそれを用いた光ディスク並びに金型 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-282273 | 1992-09-29 | ||
| JP28227392 | 1992-09-29 | ||
| JP22713593A JP3655928B2 (ja) | 1992-09-29 | 1993-09-13 | 光ディスク基板及びそれを用いた光ディスク並びに金型 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176400A true JPH06176400A (ja) | 1994-06-24 |
| JP3655928B2 JP3655928B2 (ja) | 2005-06-02 |
Family
ID=26527529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22713593A Expired - Lifetime JP3655928B2 (ja) | 1992-09-29 | 1993-09-13 | 光ディスク基板及びそれを用いた光ディスク並びに金型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3655928B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996006432A1 (fr) * | 1994-08-25 | 1996-02-29 | Sony Corporation | Disque optique |
| WO1997005607A1 (fr) * | 1995-08-01 | 1997-02-13 | Hitachi Maxell, Ltd. | Substrat, support d'enregistrement comprenant ce substrat, cartouche et appareil de reproduction |
| EP2095928A1 (en) * | 2006-11-29 | 2009-09-02 | Sumitomo Heavy Industries, LTD. | Disc forming die, disc substrate and method for forming the disc substrate |
-
1993
- 1993-09-13 JP JP22713593A patent/JP3655928B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996006432A1 (fr) * | 1994-08-25 | 1996-02-29 | Sony Corporation | Disque optique |
| WO1997005607A1 (fr) * | 1995-08-01 | 1997-02-13 | Hitachi Maxell, Ltd. | Substrat, support d'enregistrement comprenant ce substrat, cartouche et appareil de reproduction |
| EP2095928A1 (en) * | 2006-11-29 | 2009-09-02 | Sumitomo Heavy Industries, LTD. | Disc forming die, disc substrate and method for forming the disc substrate |
| EP2095928A4 (en) * | 2006-11-29 | 2011-03-02 | Sumitomo Heavy Industries | DISC THICKNESS, DISC SUBSTRATE AND METHOD OF FORMING THE DISC SUBSTRATE |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3655928B2 (ja) | 2005-06-02 |
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