JPH06131696A

JPH06131696A - 光ディスク基板及びこれを用いた光ディスク

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Publication number: JPH06131696A
Application number: JP5129782A
Authority: JP
Inventors: Shuichi Igarashi; 修一五十嵐; Takashi Tomita; 尚富田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-07-31
Filing date: 1993-05-31
Publication date: 1994-05-13
Anticipated expiration: 2020-03-02
Also published as: JP3624422B2

Abstract

(57)【要約】【構成】光ディスク基板において、クランピング領域
Ｃに対応する厚さを光記録領域Ｒに対応する厚さよりも
厚くする。【効果】ディスクの傾きにより収差が増大する割合が
低く抑えられ、対物レンズの開口数ＮＡを大きくした場
合でも、ディスクの傾き角の許容度を実用範囲内とする
ことができる。しかも強度が大きく、基板成形時、ハブ
取付け時、ディスクテーブルへのチャッキング時に変形
が生じることがなく、高密度記録化が可能なディスクを
得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光の照射により
情報の記録及び／又は再生が行なわれる光ディスクとそ
の基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザ光の照射により情報の記録
・再生を行う光ディスクとしては、光磁気ディスク、各
種追記型光ディスク、デジタルオーディオディスク（い
わゆるコンパクトディスク）、光学式ビデオディスク
（いわゆるレーザーディスク）等が実用化されている。

【０００３】これら光ディスクは、いずれも透明基板上
に記録層や反射層等の機能膜よりなる記録部が形成され
てなる。上記記録層としては、光磁気ディスクでは、磁
気光学特性（カー効果やファラデー効果）を有する垂直
磁化膜、たとえばＴｂＦｅＣｏ合金薄膜等の希土類−遷
移金属非晶質合金膜が成膜され、追記型光ディスクで
は、低融点金属薄膜、相変化膜、有機色素を含有する膜
等が成膜される。また、反射層としては、高反射率を有
し、かつ熱的に良導体であることからＡｌ反射膜が一般
に形成される。

【０００４】このような光ディスクに対する情報の記録
・再生を、ハブチャッキング方式を採用する記録再生シ
ステムを例にして説明する。

【０００５】上記記録再生システムは、図１０に示すよ
うに光ディスク１０１を固定するためのディスクテーブ
ル１０２と、固定された光ディスク１０１にレーザ光を
照射するための光学ピックアップ装置１０３よりなる。

【０００６】上記ディスクテーブル１０２には、マグネ
ット１０４が内蔵されており、周囲側の上面部に上記光
ディスク１０１が載置される載置部１０５が突設されて
いる。また、その中心部には、スピンドルモータにより
回転操作されるスピンドル軸１０６が貫通している。

【０００７】上記光学ピックアップ装置１０３は、図示
しないが半導体レーザ等の光源と光検出部、更に光Ｌを
集光する対物レンズ１０７より構成される。この光学ピ
ックアップ装置１０３は、上記光ディスク１０１の下面
側にレーザ光を照射するように配置されている。

【０００８】一方、上記記録再生システムによって記録
再生が行われる光ディスク１０１は、厚みが１．２ｍｍ
の円盤状の透明基板１０８上に記録部１０９が形成さ
れ、さらに上記ディスクテーブル１０２に該光ディスク
を磁気チャッキングするためのハブ１１０が取付けられ
ている。すなわち、上記光ディスク１０１は中央部がク
ランピング領域ｃ、この領域ｃを除いた領域が光記録領
域ｒとされ、上記ハブ１１０はクランピング領域ｃに取
付けられ、上記記録部１０９は光記録領域ｒに形成され
ている。なお、上記ハブ１１０は、金属材料よりなり、
中央部に上記スピンドル軸１０６が挿入するセンターホ
ール１１１が形成されている。

【０００９】このような光ディスク１０１に対して上記
記録再生システムによって情報の記録・再生を行うに
は、センターホール１１１にスピンドル軸１０６を挿入
しつつ、透明基板１０８がディスクテーブル１０２側と
なるように該光ディスク１０１をディスクテーブル１０
２の載置部１０５に載置する。すると、ディスクテーブ
ル１０２に内蔵されたマグネット１０４にハブ１１０が
吸引され、光ディスク１０１がディスクテーブル１０２
にチャッキングされる。

【００１０】そして、このようにディスクテーブル１０
２にチャッキングされた状態の光ディスク１０１に上記
光学ピックアップ装置１０３によって透明基板１０８側
からレーザ光を照射する。

【００１１】上記光学ピックアップ装置１０３では、半
導体レーザから発射されたレーザ光は集束レンズ１０７
によって集光される。集光されたレーザ光は光ディスク
１０１の透明基板１０８を透過して記録部１０９上に焦
点を結ぶ。そして、このレーザ光が焦点を結ぶことで形
成された微小のビームスポットにより、該ビームスポッ
トの直径ｄに対応した大きさで記録ピットが形成され
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記記録再
生システムにおいて、記録密度は、記録ピットがビーム
スポットの直径ｄに対応した大きさで形成されることか
ら、このビームスポットの直径ｄによってほぼ決定さ
れ、記録密度を上げるには、先ずこのビームスポットの
直径ｄをできるだけ小さくすることが必要となってく
る。

【００１３】ここで、ビームスポットの直径ｄは、対物
レンズの開口数ＮＡと半導体レーザ波長λによって決ま
り、対物レンズの開口数ＮＡと半導体レーザ波長λによ
って式１のように表される。ｄ＝１．２２λ／ＮＡ‥‥‥（１）

【００１４】式１からわかるように、ビームスポットの
直径ｄは半導体レーザ波長λを短くし、対物レンズの開
口数ＮＡを大きくすることによって小さくすることがで
きる。しかし、レーザ光波長は、原理的、量産性から選
択に自ずと限界があり、従来より使用されている８００
ｎｍ前後を変えることができない。このため、ビームス
ポットの直径ｄを縮小するには、対物レンズの開口数Ｎ
Ａを大きくすることによって行うしかない。

【００１５】ところが、上記記録再生システムにおいて
対物レンズの開口数ＮＡを大きくすると、ディスクの傾
きによって生ずる収差が大きくなり、ディスクの傾きに
対する許容度が小さくなる。

【００１６】すなわち、ディスクの傾きによって生じる
収差の大きさは、３次のコマ収差係数Ｗ₃₁によって決ま
り、このＷ₃₁は式２のように表される。Ｗ₃₁＝−ｈｎ²／２・(ｎ²−１)sinθcosθ／(ｎ²−ｓｉ
ｎ²θ)^5/2・（ＮＡ）³‥‥‥（２） θ：ディスクの傾き角ｈ：基板の厚みｎ：基板材料の屈折率

【００１７】式２からわかるように、Ｗ₃₁すなわち収差
の増大する割合はＮＡの３乗に比例して増大する。現在
用いられている記録再生システム（基板の厚み：１．２
ｍｍ）の対物レンズの開口数ＮＡは０．４５であり、こ
の場合上記収差を所定範囲に抑えるためのディスクの傾
き角θの許容度は±５ｍｒａｄ程度である。しかし、さ
らに対物レンズの開口数ＮＡを大きくし、例えば０．５
〜０．６以上にすると、傾き角の許容度は非常に小さく
なり、実用的な値とはならない。

【００１８】そこで、このような光ディスクにおいて
は、対物レンズの開口数ＮＡを大きくする場合には、式
２から基板の厚みｈを小さくすることが必要となってく
る。

【００１９】しかし、基板等の板の曲げ剛性Ｄは、式３
で示すように板の厚みｈが小さくなるにつれて急激に小
さくなり、板が曲がり易くなる。Ｄ＝Ｅｈ³／１２（１−ν²）‥‥‥（３）Ｅ：板の縦弾性係数ｈ：板の厚み ν：ポアソン比

【００２０】このため、厚みの薄い基板を使用した場合
には、ハブをディスク中心に取り付ける際の接着剤等の
応力、光ディスクをディスクテーブルにチャッキングす
る際のクランピング力によってクランピング領域が容易
に変形し、ディスクに反りが生ずる。また、基板を射出
成形によって作成する場合には、基板は内周部を機械的
に押圧することによって金型から取り出されるが、基板
が薄い場合にはその際に変形が生じ易い。さらに、上記
金型の内周部にはスタンパを抑える突出部分があり、図
１１に示すようにその突出部分に対応して透明基板１０
８には溝１１２が形成される。透明基板１１２を薄くす
るとこの溝１１２部分の厚みが極度に薄くなり、成形
性、強度において問題が生じてくる。

【００２１】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、ディスクの傾きにより収
差が増大する割合が小さく、対物レンズの開口数ＮＡを
大きくした場合でも傾き角の許容度を実用範囲内とする
ことができ、しかも強度が大きく、基板成形時、ハブ取
り付け時、ディスクテーブルへのチャッキング時等に変
形が生じない光ディスクを提供することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明においては、情報の記録及び／又は再生に際
してレーザ光が照射される光記録領域とディスクテーブ
ルにクランピングされるクランピング領域を有し、上記
クランピング領域における厚さを上記光記録領域におけ
る厚さよりも大として構成する。

【００２３】また、上記光記録領域における厚さを０．
５〜０．９ｍｍとして構成する。さらに、上記クランピ
ング領域における厚さを１〜２ｍｍとして構成する。

【００２４】更にまた本発明は、上述の構成においてク
ランピング領域の外周側から光記録領域の内周側にかけ
て厚さが徐々に小となる傾斜領域を設ける構成とする。
また本発明は、上述の構成において傾斜領域の厚さを直
線的に変化させて構成する。更にまた本発明は、上述の
構成において傾斜領域の断面形状を曲線状とし、この曲
線部の曲率を光ディスク基板の光記録領域とクランピン
グ領域の厚さの差の１／２以上として構成する。

【００２５】また本発明は、上述の各構成を有する光デ
ィスク基板を用いて、光ディスクを構成する。即ちその
光記録領域に記録信号に対応して凹凸を形成した反射層
を被着するとか、光磁気記録層、相変化材料層等の各種
光記録層を設けて光ディスクを構成する。

【００２６】

【作用】本発明においては、光記録領域に対応する光デ
ィスク基板の厚みを薄くしておき、クランピング領域に
対応する光ディスク基板の厚さを上記光記録領域に対応
する基板の厚さよりも厚くする。

【００２７】記録再生に際して実際にレーザ光が透過す
る光記録領域に対応する光ディスク基板の厚さを薄くす
ると、ディスクの傾きにより収差が増大する割合が小さ
くなり、ディスクの傾き角に対する許容度が大きくな
る。

【００２８】また、記録再生に際してレーザ光が透過し
ないクランピング領域に対応する光ディスク基板の厚さ
を上記光記録領域に対応する厚さよりも大とすると、収
差が増加する割合を増大させることなく強度が付加さ
れ、基板成形時に変形が生じ難いものとなる。

【００２９】また更に、クランピング領域と光記録領域
との間に厚さが徐々に変化する傾斜領域を設けることに
よって、その基板の肉厚部から肉薄部にかけて段差上に
厚さを変える場合に比し、厚さの変化をほぼ連続的にす
ることができる。従ってこの光ディスク基板の射出成形
にあたって樹脂等の材料の流速の急激な変化を避けるこ
とができ、これにより残留応力の発生を抑制し、光学特
性への影響を低減化させることができる。

【００３０】また更に、その厚さの変化を直線的とする
ことにより、その流速変化を簡単且つ確実に抑制するこ
とができる。

【００３１】またこの傾斜領域を、透明基板の厚さの１
／２以上の曲率を有する断面形状とすることにより同様
に、流速の急激な変化を回避して、残留応力の発生を抑
制し、光学特性の劣化を回避することができる。

【００３２】更にまたこのような基板を用いて光ディス
クを構成することによって、上述したように基板の収差
の増加を大とすることなく強度が付加されることから、
高記録密度の光ディスクを製造する際の例えばハブ取付
時、ディスクテーブルへのチャッキング時等にクランピ
ング領域に変形が生じることを回避でき、高密度記録の
光ディスクを歩留りよく、また光学特性の劣化を伴うこ
となく生産することができる。

【００３３】

【実施例】本発明を適用した具体的な実施例について図
面を参照しながら説明する。

【００３４】図１は本発明にかかる光ディスク基板１上
に記録部２が形成されてなる光ディスクの一例の略線的
拡大断面図を示すもので、光記録領域Ｒとクランピング
領域Ｃを有し、光記録領域Ｒに例えば磁性層か又は光磁
気記録層、或いは情報に対応した凹凸より成る記録層な
どが構成された記録部２が形成され、クランピング領域
Ｃにハブ３が取り付けられてなる。

【００３５】このようなディスクでは、対物レンズの開
口数ＮＡを大きくする場合には、ディスクの傾きにより
収差が増大する割合を低く抑えるために透明基板１の厚
さを薄くすることが必要である。しかし、透明基板の厚
さを薄くすると、基板成形時、ハブ取り付け、ディスク
テーブルへのチャッキング時にクランピング領域が変形
し、ディスクに反りが生じてくる。

【００３６】そこで、本発明においては、記録再生に際
してレーザ光が実際に透過する光記録領域Ｒに対応する
透明基板の厚みは薄くしておき、レーザ光が透過しない
クランピング領域に対応する透明基板の厚さを上記光記
録領域の厚さよりも厚くする。光記録領域Ｒに対応する
透明基板の厚みが薄いことにより、ディスクの傾きによ
り収差が増大する割合が小さくなり、また、クランピン
グ領域Ｃに対応する透明基板の厚みが厚いことにより強
度が付加され、変形が生じ難いものとなる。

【００３７】ここで、上記光記録領域Ｒに対応する透明
基板の厚みは、０．５〜０．９ｍｍが適当である。この
範囲は、対物レンズの開口数ＮＡを０．５〜０．６とし
たときに、従来の光ディスクの記録再生システム、すな
わち対物レンズの開口数０．４５、基板の厚さが１．２
ｍｍである場合と同等の光学的安定性が得られる基板の
厚さである。

【００３８】すなわち、図２に、対物レンズの開口数Ｎ
Ａと、計算により求めた対物レンズの開口数が０．４
５、基板の厚さが１．２ｍｍである場合と同等の光学的
安定性が得られる基板の厚さを示す。図２からわかるよ
うに、対物レンズの開口数ＮＡを０．５〜０．６とした
ときには、基板の厚さを０．５〜０．９ｍｍとすること
により、従来の記録再生システムと同等の光学的安定性
が得られ、ディスクの傾きに対する許容度が実用範囲内
となる。

【００３９】一方、クランピング領域に対応する光ディ
スク基板の厚さは、強度を十分に付加し、変形を確実に
防止するとともにディスクカートリッジサイズ等の制約
を考慮して１〜２ｍｍとすることが好ましい。

【００４０】以上の膜厚条件を満たす光ディスク基板の
変形強度を光記録領域に対応する部分の厚さが０．８ｍ
ｍ、クランピング領域に対応する部分の厚さが１．２ｍ
ｍである光ディスク基板（実施例サンプル）と、光記録
領域に対応する部分、クランピング領域に対応する部分
の両部分に亘って厚さが０．８ｍｍである光ディスク基
板（比較例サンプル）について、クランピング力と基板
反り角度の関係を調べることによって検討した。その結
果を図３に示す。

【００４１】図３を見ると、比較例サンプルはクランピ
ング力の増大に伴って反り角度が大きく増大し、実用上
必要な３００ｇ重のクランピング力によっても３ｍｒａ
ｄ以上の反りが発生する。これに対し、実施例サンプル
のクランピング力による反り角度は比較例サンプルの１
／２以下となっている。

【００４２】また、参考のため従来の光ディスク基板、
すなわち光記録領域に対応する部分、クランピング領域
に対応する部分の両部分に亘って厚さが１．２ｍｍであ
る光ディスク基板のクランピング力と基板反り角度の関
係を図４に示すが、これと比較してわかるように実施例
サンプルは従来の透明基板に匹敵する強度を有してい
る。

【００４３】このことからクランピング領域に対応する
光ディスク基板の厚さを光記録領域に対応する光ディス
ク基板の厚さよりも大きくすることは変形の生じ難い光
ディスクを得る上で有効であることがわかる。

【００４４】次に、図５の断面図を参照して本発明の他
の実施例を説明する。この場合、クランピング領域Ｃの
外周側から光記録領域Ｒの内周側にかけて厚さが徐々に
小となる傾斜領域Ｇを設け、特にこの例においては、傾
斜領域Ｇの厚さを直線的に変化させて構成する。図５に
おいて、図１に対応する部分には同一符号を付して重複
説明を省略する。

【００４５】このように、傾斜領域Ｇを設けることによ
って、光ディスク基板１を例えばポリカーボネイト（Ｐ
Ｃ）等の樹脂より構成し、これを射出成形によって形成
する場合に、肉厚部から肉薄部にかけての溶融樹脂の流
速の変化が緩和される。従って溶融樹脂の流速が急激に
変化することによって生じる剪断応力の急激な変化を回
避することができ、また例えば上述のＰＣ等の光弾性係
数の大きな樹脂においては複屈折の増大などの不都合が
生じることを回避できることとなる。

【００４６】また、図６においては、傾斜領域Ｇの断面
形状を曲線状とし、その曲線部の曲率を、光記録領域Ｒ
とクランピング領域Ｃとの厚さの差の１／２以上とした
場合の断面図を示す。図６において、図１に対応する部
分には同一符号を付して重複説明を省略する。

【００４７】この場合においても同様に、その製造工程
における射出成形時の溶融樹脂の流速の急激な変化を回
避し、剪断応力の急激な変化、複屈折の増大等を抑制す
ることができる。

【００４８】尚、図５においてディスク基板の直径を８
６ｍｍ、内周穴の内径を１５．４ｍｍ、肉薄部即ち光記
録領域Ｒの厚さｔ₁を８ｍｍ、肉厚部即ちクランピング
領域Ｃの厚さｔ₂を１２ｍｍ、またこのクランピング領
域Ｃの外周部の直径を３２ｍｍとして構成し、一方図７
に示すように、肉厚部から肉薄部にかけて段差状に厚さ
が変化して成る光ディスク基板を、上述の例と同様の寸
法に選定して形成した。そして、これら各光ディスク基
板に対し、中心から半径３０ｍｍの位置において、平行
光を基板面に対し垂直な方向に入射して、その光の複屈
折による位相遅れいわゆるレターデイション（Retardat
ion ）を測定した。

【００４９】このとき、図５に示すように肉厚部と肉薄
部との間に厚さが徐々に変化する傾斜領域Ｇが設けられ
る場合はこの位相遅れは１０ｎｍ程度と極めて低く、段
差部を有する図７に示す例においては、位相遅れは約８
０ｎｍとなった。

【００５０】従って、位相遅れが１００ｎｍ以下程度と
されるコンパクトディスク等においては、図７に示すよ
うに段差部を有する形状であっても充分に光学的特性の
劣化を招くことなく、光記録領域Ｒの厚さの低減化、即
ち高記録密度化をはかることができる。

【００５１】しかしながら、例えば相変化材料を記録層
として用いるいわゆる追記型光ディスクとか、光磁気デ
ィスク等においては、複屈折の位相遅れを６０ｎｍ程度
以下とすることが望ましいとされており、厚さが徐々に
変化する傾斜領域を設ける構成がより最適となる。以下
これを説明する。

【００５２】光磁気ディスクにおいて、複屈折の位相遅
れが再生信号に与える影響を計算により求めた。この場
合の光学系の構成を図８に示す。光ディスク基板１の一
方の面に光磁気記録膜５、いわゆるＭＯ膜が形成され、
この基板側から、ＰＢＳ（偏光ビームスプリッタ）６、
λ／２板７を介してレーザ光が照射され、光ディスク基
板１を通してＭＯ膜５で反射された光は、ＰＢＳ６によ
り横方向に取り出すようになされている。

【００５３】このような構成において、複屈折が生じる
場合の再生信号と複屈折が生じない場合の再生信号との
比を、複屈折の位相遅れとアジマス角（入射光の偏光方
向に対する複屈折の方位角）を変動させた場合の変化を
計算により求めた。この結果を図９に示す。この例で
は、複屈折の位相遅れをダブルパスとして計算した。

【００５４】通常の光ディスクにおいては、アジマス角
は５〜６°から１０°程度の範囲内、広くても０°から
１５°程度の範囲におさめられている。従って、上述の
図５において説明した本実施例においては複屈折の位相
差がダブルパスで２０ｎｍ程度であることから、アジマ
ス角０°〜１５°の範囲で殆ど再生信号に変動が商事内
ことがわかる。

【００５５】一方、段差状に厚さが変化する上述の図７
において説明した例においては、再生信号強度は６０〜
７０％程度となってしまい、アジマス角によっては、５
０％以下となる恐れがあることがわかる。

【００５６】従って、特に光磁気ディスクに本発明を適
用する場合には、肉厚部と肉薄部との間に傾斜領域を求
めることが望ましいことがわかる。

【００５７】なお、このような光ディスク基板の材料と
しては、通常、光ディスクに使用されている基板材料で
あればいずれでもよく、たとえば、ポリカーボネート系
樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂あるいはアモル
ファスポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。

【００５８】上記光記録領域に形成される上記記録部
は、記録層、反射層等の機能膜よりなるものである。上
記記録層、反射層は用途に応じて任意選択することがで
きる。例えば、デジタルオーディオディスクや、いわゆ
るＣＤ−ＲＯＭ等においては、凹凸パターンが転写され
たディスク基板上にＡｌ等の金属反射膜が成膜される。
光磁気ディスクでは、磁気光学特性（カー効果やファラ
デー効果）を有する垂直磁化膜、たとえばＴｂＦｅＣｏ
系非晶質薄膜等の希土類−遷移金属合金非晶質膜等が成
膜される。その他、低融点金属薄膜、相変化膜、有機色
素を含有する膜等を記録層とする光ディスクにも適用可
能である。

【００５９】また、上記クランピング領域に取付けられ
るハブも、ここでは金属材料よりなり、下端側が閉じら
れた円筒状のものを使用したが、これに限らず光記録媒
体において用いられるハブがいずれも適用可能である。

【００６０】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、光ディスク基板のクランピング領域に対応
する厚さを光記録領域に対応する厚さよりも大とするの
で、これを用いて光ディスクを形成した場合に、ディス
クの傾きにより収差が増大する割合が低く抑えられ、対
物レンズの開口数ＮＡを大きくした場合でも、ディスク
の傾き角の許容度を実用範囲内とすることができる。し
かも強度が大きく、基板成形時、ハブ取り付け時、ディ
スクテーブルへのチャッキング時にクランピング領域が
変形することがない。したがって、本発明によればディ
スクの記録再生システムの高密度記録化が可能となる。

【００６１】また更に、クランピング領域と光記録領域
との間に厚さが徐々に変化する傾斜領域を設けることに
よって、この光ディスク基板の射出成形にあたって樹脂
等の材料の流速の急激な変化を避けることができ、これ
により残留応力の発生を抑制し、光学特性への影響を低
減化させることができる。

【００６２】また更に、その厚さの変化を直線的とする
ことにより、その流速変化を簡単且つ確実に抑制するこ
とができる。またこの傾斜領域を、透明基板の厚さの１
／２以上の曲率を有する断面形状とすることにより同様
に、流速の急激な変化を回避して、残留応力の発生を抑
制し、光学特性の劣化、特に複屈折による位相遅れを充
分小とすることができ、特に光磁気ディスクに適用して
好適となる。

【００６３】そしてこのようなディスク基板を用いて高
記録密度の光ディスクを構成する場合に、その製造の際
の例えばハブ取付時、ディスクテーブルへのチャッキン
グ時等におけるクランピング領域の変形を回避して、光
学特性の良好な光ディスクを歩留りよく製造することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ディスクの一例を示す断面図であ
る。

【図２】対物レンズの開口数ＮＡとディスクの傾き角の
許容度が実用範囲となる透明基板の厚さの関係を示す特
性図である。

【図３】本発明の実施例のクランピング力と透明基板の
反り角度の関係を示す特性図である。

【図４】比較例のクランピング力と透明基板の反り角度
の関係を示す特性図である。

【図５】本発明の他の実施例の略線的拡大断面図であ
る。

【図６】本発明の他の実施例の略線的拡大断面図であ
る。

【図７】本発明の他の実施例の略線的拡大断面図であ
る。

【図８】光磁気信号強度の計算に用いた光学装置の構成
図である。

【図９】光磁気信号の複屈折の位相遅れとアジマス角依
存性を示す図である。

【図１０】従来の光ディスクの記録再生システムを説明
する模式図である。

【図１１】従来の光ディスクの要部概略断面図である。

【符号の説明】

１光ディスク基板２記録部Ｒ光記録領域Ｃクランピング領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】情報の記録及び／又は再生に際してレー
ザ光が照射される光記録領域とディスクテーブルにクラ
ンピングされるクランピング領域を有し、上記クランピング領域における厚さが上記光記録領域に
おける厚さよりも大なることを特徴とする光ディスク基
板。
【請求項２】上記光記録領域における厚さが０．５〜
０．９ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の光
ディスク基板。
【請求項３】上記クランピング領域における厚さが１
〜２ｍｍであることを特徴とする請求項２に記載の光デ
ィスク基板。
【請求項４】上記クランピング領域の外側から上記デ
ータ領域の内側にかけて厚さが徐々に小となる傾斜領域
が設けられて成ることを特徴とする上記請求項１に記載
の光ディスク基板。
【請求項５】上記傾斜領域の厚さが直線的に変化され
て成ることを特徴とする上記請求項４に記載の光ディス
ク基板。
【請求項６】上記傾斜領域における断面形状が曲線状
とされ、該曲線部の曲率が上記光ディスク基板の光記録
領域とクランピング領域の厚さの差の１／２以上とされ
て成ることを特徴とする上記請求項１に記載の光ディス
ク基板。
【請求項７】上記請求項１、２、３、４、５、６に記
載の光ディスク基板が用いられて成ることを特徴とする
光ディスク。