JPH06171984A - 高性能、高耐久性、低放射率ガラスおよびその製法 - Google Patents
高性能、高耐久性、低放射率ガラスおよびその製法Info
- Publication number
- JPH06171984A JPH06171984A JP5117845A JP11784593A JPH06171984A JP H06171984 A JPH06171984 A JP H06171984A JP 5117845 A JP5117845 A JP 5117845A JP 11784593 A JP11784593 A JP 11784593A JP H06171984 A JPH06171984 A JP H06171984A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- nickel
- silver
- less
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 105
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 63
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 62
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 32
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 31
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 55
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 20
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 9
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N [N].[Ar] Chemical compound [N].[Ar] PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 claims 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 161
- 229920006384 Airco Polymers 0.000 description 28
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 7
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 4
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000003631 expected effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229940068107 nitrogen 100 % Drugs 0.000 description 1
- 229940062043 nitrogen 50 % Drugs 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
- C23C14/0652—Silicon nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0688—Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12542—More than one such component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12542—More than one such component
- Y10T428/12549—Adjacent to each other
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12576—Boride, carbide or nitride component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12597—Noncrystalline silica or noncrystalline plural-oxide component [e.g., glass, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Special Wing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱分解被膜と同等の耐久性を持ち、最適な太
陽光制御特性を有するスパッタ被膜形成ガラスを提供す
ること。また、低コストにて同ガラスを製造するための
方法を提供すること。 【構成】 スパッタ被膜形成ガラス製品は、ガラス基板
と、その上に内側より外方へ向けて、Ｓｉ3Ｎ4の下層、
ニッケルまたはニッケル合金の第１層、銀の層、ニッケ
ルまたはニッケル合金の第２層、Ｓｉ3Ｎ4の上層から成
る層構造を有する。ガラス基板が約２ｍｍ〜６ｍｍの厚
さを有する時、通常放射率（Ｅｎ）は約０．１２未満、
半球放射率（Ｅｈ）は約０．１６未満を有する。
陽光制御特性を有するスパッタ被膜形成ガラスを提供す
ること。また、低コストにて同ガラスを製造するための
方法を提供すること。 【構成】 スパッタ被膜形成ガラス製品は、ガラス基板
と、その上に内側より外方へ向けて、Ｓｉ3Ｎ4の下層、
ニッケルまたはニッケル合金の第１層、銀の層、ニッケ
ルまたはニッケル合金の第２層、Ｓｉ3Ｎ4の上層から成
る層構造を有する。ガラス基板が約２ｍｍ〜６ｍｍの厚
さを有する時、通常放射率（Ｅｎ）は約０．１２未満、
半球放射率（Ｅｈ）は約０．１６未満を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスパッタで被膜を表面に
形成したガラスおよびその製法に関する。詳細には、本
発明は建築用ガラスとして有用な、可視光線の透過性が
高く赤外線エネルギー反射率が高いスパッタ被膜ガラ
ス、およびその製造方法に関する。
形成したガラスおよびその製法に関する。詳細には、本
発明は建築用ガラスとして有用な、可視光線の透過性が
高く赤外線エネルギー反射率が高いスパッタ被膜ガラ
ス、およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フロート法等によって製造する建築用板
ガラスについて、板ガラス上に太陽光線をコントロール
する被膜を設けるための優れた技術があり、そのうちの
２つの方法は熱分解法とマグネトロン・スパッタ被膜形
成方法である。スパッタ被膜形成方法においてこれまで
経験した欠点は、被膜が容易に擦り落ちてしまうこと
（すなわち、耐久性の欠如）や、格子などで仕切られた
多面ガラスの窓を作る際に使用する高分子シール剤が被
膜を侵すことなどである。また、このことはシールその
ものも破損することになり、多面ガラス間に有害な物質
が蓄まることになる。一方、スパッタ被膜は、ほとんど
の熱分解被膜に比べて低放射率や可視光線の高透過率特
性を得ることができるという利点を持っている。これら
二つの特性はある特定の建築用ガラスを得るうえで最も
重要なものである。
ガラスについて、板ガラス上に太陽光線をコントロール
する被膜を設けるための優れた技術があり、そのうちの
２つの方法は熱分解法とマグネトロン・スパッタ被膜形
成方法である。スパッタ被膜形成方法においてこれまで
経験した欠点は、被膜が容易に擦り落ちてしまうこと
（すなわち、耐久性の欠如）や、格子などで仕切られた
多面ガラスの窓を作る際に使用する高分子シール剤が被
膜を侵すことなどである。また、このことはシールその
ものも破損することになり、多面ガラス間に有害な物質
が蓄まることになる。一方、スパッタ被膜は、ほとんど
の熱分解被膜に比べて低放射率や可視光線の高透過率特
性を得ることができるという利点を持っている。これら
二つの特性はある特定の建築用ガラスを得るうえで最も
重要なものである。
【０００３】放射率と透過率という用語は当業界におい
て周知であり、本明細書でも従来の用法に基づいて使用
する。したがって、例えば、ここで透過率という用語
は、可視光線透過率、赤外線エネルギー透過率、紫外線
透過率から成る太陽光透過率を意味する。そして総太陽
エネルギー透過率は通常、これら他の値の加重平均とし
て特徴づけられている。これら透過率について、ここで
は標準光源Ｃを用いる技術によって可視光線透過率は３
８０−７２０ｎｍ、赤外線は８００−２１００ｎｍ，紫
外線は３００−４００ｎｍ、総太陽光線は３００−２１
００ｎｍと特徴づけられる。しかし、放射率を求めるに
は、以下に説明するように特殊な赤外線レンジ（つま
り、２５００−４００００ｎｍ）が用いられる。
て周知であり、本明細書でも従来の用法に基づいて使用
する。したがって、例えば、ここで透過率という用語
は、可視光線透過率、赤外線エネルギー透過率、紫外線
透過率から成る太陽光透過率を意味する。そして総太陽
エネルギー透過率は通常、これら他の値の加重平均とし
て特徴づけられている。これら透過率について、ここで
は標準光源Ｃを用いる技術によって可視光線透過率は３
８０−７２０ｎｍ、赤外線は８００−２１００ｎｍ，紫
外線は３００−４００ｎｍ、総太陽光線は３００−２１
００ｎｍと特徴づけられる。しかし、放射率を求めるに
は、以下に説明するように特殊な赤外線レンジ（つま
り、２５００−４００００ｎｍ）が用いられる。
【０００４】可視光線透過率は従来より公知の技術を用
いて測定することができる。例えば、ベックマン５２４
０（Ｂｅｃｋｍａｎｎ Ｓｃｉ．Ｉｎｓｔ．Ｃｏｒ
ｐ．）のような分光測光器を使用して、各波長での透過
スペクトル曲線を得る。次に、可視光線透過を、ＡＳＴ
Ｍ Ｅ−３０８「ＣＩＥシステム使用による対象物の色
を演算する方法」（ＡＳＴＭ規格年鑑、Ｖｏｌ．１４．
０２）を使用して算出する。必要に応じ、波長点は上記
したものより少ない数を用いることが可能である。他の
可視光線透過率測定技術は、Ｐａｃｉｆｉｃ Ｓｃｉｅ
ｎｔｉｆｉｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製造で市販され
ているスペクトラガード分光測光器のような分光測光器
を使用する。この装置は可視光線透過率を直接測定し、
報告する。
いて測定することができる。例えば、ベックマン５２４
０（Ｂｅｃｋｍａｎｎ Ｓｃｉ．Ｉｎｓｔ．Ｃｏｒ
ｐ．）のような分光測光器を使用して、各波長での透過
スペクトル曲線を得る。次に、可視光線透過を、ＡＳＴ
Ｍ Ｅ−３０８「ＣＩＥシステム使用による対象物の色
を演算する方法」（ＡＳＴＭ規格年鑑、Ｖｏｌ．１４．
０２）を使用して算出する。必要に応じ、波長点は上記
したものより少ない数を用いることが可能である。他の
可視光線透過率測定技術は、Ｐａｃｉｆｉｃ Ｓｃｉｅ
ｎｔｉｆｉｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製造で市販され
ているスペクトラガード分光測光器のような分光測光器
を使用する。この装置は可視光線透過率を直接測定し、
報告する。
【０００５】放射率（Ｅ）は所定波長における光の吸収
率と反射率の両方の測定単位あるいは特性である。それ
は通常、次の式によって表わされる。 Ｅ− ＝ ｌ− 反射率（フィルム）
率と反射率の両方の測定単位あるいは特性である。それ
は通常、次の式によって表わされる。 Ｅ− ＝ ｌ− 反射率（フィルム）
【０００６】建築用には、放射率は赤外線スペクトルの
いわゆる「中間赤外レンジ」、また時には「遠赤外レン
ジ」、すなわち約２５００−４００００ｎｍにあること
が重要となる。この明細書で使用している放射率という
用語は、一次ガラス製造業者協議会（Ｐｒｉｍａｒｙ
Ｇｌａｓｓ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒｓ’ Ｃｏｕｎ
ｃｉｌ）によって提案され、「放射分析測定を用いた、
建築用平ガラス製品の放射率の測定および演算方法（Ｔ
ｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ
ａｎｄ Ｃａｌｃｕｌａｔｉｎｇ Ｅｍｉｔｔａｎｃｅ
ｏｆ Ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒａｌ Ｆｌａｔ Ｇｌ
ａｓｓ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ ＵｓｉｎｇＲａｄｉｏｍｅ
ｔｒｉｃ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ）」と題され、放
射率を演算するための赤外線エネルギー測定用に１９９
１年提案のＡＳＴＭ規格によって特定されたように、こ
の赤外レンジで測定した放射率について使用するもので
ある。この規格、およびその規定は引例として記述す
る。この規格では、放射率は半球状放射率（Ｅｈ）およ
び通常放射率（Ｅｎ）の２成分に分割される。
いわゆる「中間赤外レンジ」、また時には「遠赤外レン
ジ」、すなわち約２５００−４００００ｎｍにあること
が重要となる。この明細書で使用している放射率という
用語は、一次ガラス製造業者協議会（Ｐｒｉｍａｒｙ
Ｇｌａｓｓ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒｓ’ Ｃｏｕｎ
ｃｉｌ）によって提案され、「放射分析測定を用いた、
建築用平ガラス製品の放射率の測定および演算方法（Ｔ
ｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ
ａｎｄ Ｃａｌｃｕｌａｔｉｎｇ Ｅｍｉｔｔａｎｃｅ
ｏｆ Ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒａｌ Ｆｌａｔ Ｇｌ
ａｓｓ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ ＵｓｉｎｇＲａｄｉｏｍｅ
ｔｒｉｃ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ）」と題され、放
射率を演算するための赤外線エネルギー測定用に１９９
１年提案のＡＳＴＭ規格によって特定されたように、こ
の赤外レンジで測定した放射率について使用するもので
ある。この規格、およびその規定は引例として記述す
る。この規格では、放射率は半球状放射率（Ｅｈ）およ
び通常放射率（Ｅｎ）の２成分に分割される。
【０００７】この放射率測定用データの実際の蓄積は、
例えばＶＷアタッチメントをつけた分光測光器であるベ
ックマンモデル４２６０（Ｂｅｃｋｍａｎｎ Ｓｃｉ．
Ｉｎｓｔ．Ｃｏｒｐ．）を使用して従来より行われてい
る。この分光測光器は反射率対波長を測定し、これより
放射率を上記の１９９１年提案のＡＳＴＭ規格を使用し
て算出する。
例えばＶＷアタッチメントをつけた分光測光器であるベ
ックマンモデル４２６０（Ｂｅｃｋｍａｎｎ Ｓｃｉ．
Ｉｎｓｔ．Ｃｏｒｐ．）を使用して従来より行われてい
る。この分光測光器は反射率対波長を測定し、これより
放射率を上記の１９９１年提案のＡＳＴＭ規格を使用し
て算出する。
【０００８】本明細書で使用している他の用語はシート
抵抗である。シート抵抗（Ｒｓ）は当業界で公知であ
り、その公知の意味に基づいて使用する。一般的に、こ
の用語は、ガラス基板上の層構造を通過する電流に対す
るその層構造のある面積についての電気抵抗値オームを
示している。シート抵抗は、層がどの程度赤外線エネル
ギーを反射するかの指標であり、したがってこの特性の
基準として放射率と共にしばしば使用されるので、多く
の建築用ガラスにとって重要である。従来、シート抵抗
は４点探針型オーム計を用いて測定される。例えば、マ
グネトロン・インスツルメント社のヘッドを有する非拘
束型４点抵抗探針モデルＭ−８００（カリフォルニア
州、サンタクララのシグナトン社Ｓｉｇｎａｔｏｎｅ
Ｃｏｒｐ．）。
抵抗である。シート抵抗（Ｒｓ）は当業界で公知であ
り、その公知の意味に基づいて使用する。一般的に、こ
の用語は、ガラス基板上の層構造を通過する電流に対す
るその層構造のある面積についての電気抵抗値オームを
示している。シート抵抗は、層がどの程度赤外線エネル
ギーを反射するかの指標であり、したがってこの特性の
基準として放射率と共にしばしば使用されるので、多く
の建築用ガラスにとって重要である。従来、シート抵抗
は４点探針型オーム計を用いて測定される。例えば、マ
グネトロン・インスツルメント社のヘッドを有する非拘
束型４点抵抗探針モデルＭ−８００（カリフォルニア
州、サンタクララのシグナトン社Ｓｉｇｎａｔｏｎｅ
Ｃｏｒｐ．）。
【０００９】上記したように、ガラス窓がガラスにあた
る赤外線のほとんどを反射するように、多くの建築用ガ
ラスは可能なかぎり低放射率、低シート抵抗Ｒｓを有す
ることが望ましい。一般的には、低放射率（低Ｅと称
す）ガラスは半球状放射率（Ｅｈ）が約０．１６未満お
よび通常放射率（Ｅｎ）が約０．１２未満と考えられ
る。望ましくは、Ｅｈは約０．１３以下、Ｅｎが約０．
１０以下である。それゆえ、同時に、シート抵抗（Ｒ
ｓ）は約１０．５オーム／平方メートル未満が望まし
い。商品として使用可能なガラスは通常、可能な限り可
視光線を透過することが必要とされ、約２ｍｍ〜６ｍｍ
厚のガラスで透過率測定用のイルミナントＣ技術（Ｉｌ
ｌ．Ｃ）を使用して約７６％以上である。この観点によ
り、約２ｍｍ〜６ｍｍ厚間のガラスに対しては、可視光
線の透過率は望ましくは約７８％以上である。さらに望
ましくは、可視光線の透過率は８０％あるいはそれ以
上、最っとも望ましくは８０％を超える値である。
る赤外線のほとんどを反射するように、多くの建築用ガ
ラスは可能なかぎり低放射率、低シート抵抗Ｒｓを有す
ることが望ましい。一般的には、低放射率（低Ｅと称
す）ガラスは半球状放射率（Ｅｈ）が約０．１６未満お
よび通常放射率（Ｅｎ）が約０．１２未満と考えられ
る。望ましくは、Ｅｈは約０．１３以下、Ｅｎが約０．
１０以下である。それゆえ、同時に、シート抵抗（Ｒ
ｓ）は約１０．５オーム／平方メートル未満が望まし
い。商品として使用可能なガラスは通常、可能な限り可
視光線を透過することが必要とされ、約２ｍｍ〜６ｍｍ
厚のガラスで透過率測定用のイルミナントＣ技術（Ｉｌ
ｌ．Ｃ）を使用して約７６％以上である。この観点によ
り、約２ｍｍ〜６ｍｍ厚間のガラスに対しては、可視光
線の透過率は望ましくは約７８％以上である。さらに望
ましくは、可視光線の透過率は８０％あるいはそれ以
上、最っとも望ましくは８０％を超える値である。
【００１０】マグネトロン・スパッタ被膜形成方法によ
るフロートガラス板上への金属層および／あるいは金属
酸化物または金属窒化物の多層コーティングの形成によ
る建築用ガラスの製造技術は公知であり、周知の金属
（例えば、Ａｇ，Ａｕ等）の酸化物、窒化物の多くの組
合せや変更が試みられて報告されている。こうした技術
は、所望の効果を得るために多重ターゲット・ゾーン内
に平板あるいは円筒状ターゲットあるいはその組合せを
用いるものである。本発明および従来技術で使用される
望ましい装置の例はエアコ社（Ａｉｒｃｏ Ｃｏｒｐｏ
ｒａｔｉｏｎ）の製品であるマグネトロン・スパッタ被
膜形成装置である。この商品は引例として記載の米国特
許４、３５６、０７３および４、４２２、９１６に記載
されている。
るフロートガラス板上への金属層および／あるいは金属
酸化物または金属窒化物の多層コーティングの形成によ
る建築用ガラスの製造技術は公知であり、周知の金属
（例えば、Ａｇ，Ａｕ等）の酸化物、窒化物の多くの組
合せや変更が試みられて報告されている。こうした技術
は、所望の効果を得るために多重ターゲット・ゾーン内
に平板あるいは円筒状ターゲットあるいはその組合せを
用いるものである。本発明および従来技術で使用される
望ましい装置の例はエアコ社（Ａｉｒｃｏ Ｃｏｒｐｏ
ｒａｔｉｏｎ）の製品であるマグネトロン・スパッタ被
膜形成装置である。この商品は引例として記載の米国特
許４、３５６、０７３および４、４２２、９１６に記載
されている。
【００１１】特に、上記エアコ社のスパッタ被膜形成装
置を使用してガラス（標準フロートガラス）から、Ｓｉ
3Ｎ4／Ｎｉ：Ｃｒ／Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒ／Ｓｉ3Ｎ4のよう
な連続的に外方への積層システムを有する建築用ガラス
を製造することは公知である。ここで、実際には、Ｎ
ｉ：Ｃｒ合金（つまり、ニクロム）はＮｉ／Ｃｒの重量
比が８０／２０であり、２つのニクロム層は７オングス
トロームの厚さと報告されており、Ａｇ層は約７０オン
グストローム厚（特に銀が１００オングストローム厚と
記される時を除いて）とされ、Ｓｉ3Ｎ4層は比較的厚い
（たとえば、下層には３２０オングストロームで上層に
は４５０オングストローム）。現実的に、Ａｇ層はその
薄さ（約７０オングストローム）故に、実際には半連続
でしかない。
置を使用してガラス（標準フロートガラス）から、Ｓｉ
3Ｎ4／Ｎｉ：Ｃｒ／Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒ／Ｓｉ3Ｎ4のよう
な連続的に外方への積層システムを有する建築用ガラス
を製造することは公知である。ここで、実際には、Ｎ
ｉ：Ｃｒ合金（つまり、ニクロム）はＮｉ／Ｃｒの重量
比が８０／２０であり、２つのニクロム層は７オングス
トロームの厚さと報告されており、Ａｇ層は約７０オン
グストローム厚（特に銀が１００オングストローム厚と
記される時を除いて）とされ、Ｓｉ3Ｎ4層は比較的厚い
（たとえば、下層には３２０オングストロームで上層に
は４５０オングストローム）。現実的に、Ａｇ層はその
薄さ（約７０オングストローム）故に、実際には半連続
でしかない。
【００１２】図１は上記のエアコ社の製品を製造するた
めのエアコ社製スパッタ被膜形成装置を説明するための
ものである。同図において、第１、第２、第４および第
５ゾーンはシリコン（Ｓｉ）の筒状ターゲットｔで作ら
れ、スパッタリングは窒素１００％雰囲気内で行う。第
３ゾーンは通常平面状ターゲットＰを用い、Ｎｉ：Ｃｒ
／Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒの３層を作るために使用される。こ
こではアルゴン１００％雰囲気を用いる。スパッタ被膜
形成技術において窒素ガスが銀に悪影響を与えると永年
考えられており、それゆえに第３ゾーンを窒素ガスの影
響が及ばないようにした。
めのエアコ社製スパッタ被膜形成装置を説明するための
ものである。同図において、第１、第２、第４および第
５ゾーンはシリコン（Ｓｉ）の筒状ターゲットｔで作ら
れ、スパッタリングは窒素１００％雰囲気内で行う。第
３ゾーンは通常平面状ターゲットＰを用い、Ｎｉ：Ｃｒ
／Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒの３層を作るために使用される。こ
こではアルゴン１００％雰囲気を用いる。スパッタ被膜
形成技術において窒素ガスが銀に悪影響を与えると永年
考えられており、それゆえに第３ゾーンを窒素ガスの影
響が及ばないようにした。
【００１３】この塗布は良好な耐久性（つまり、ひっか
き抵抗、耐磨耗性、化学的安定性等の向上）を実現し、
熱分解被膜形成と比較してこの特性は良好なレベルを達
成するが、実用上の他の特性、つまり、低反射率の建築
用ガラスに通常必要とする赤外線反射率や可視光線透過
率特性のレベルに達しないと認められていた。例えば約
３ｍｍ厚のガラスでは、可視光線透過率（Ｉｌｌ．Ｃ）
は通常、約７６％程度であり、Ｅｈは約０．２０〜０．
２２、Ｅｎは約０．１４〜０．１７である。この両反射
率はどちらかと言えば高いほうである。さらに、シート
抵抗（Ｒｓ）は比較的高い１５．８オーム／平方メート
ルである。（より望ましい値は約１０．５以下であ
る）。このように、耐久性はかなり向上し、しかもこれ
らの被膜形成は従来のシール材と両立する（従って、多
面窓における問題であった「エッジ落とし」の必要性を
克服でき、現在はそれを必要としなくなっている）こと
も証明できたが、太陽光に関する特性は多くの近代的建
築で必要とするレベルに達していない。
き抵抗、耐磨耗性、化学的安定性等の向上）を実現し、
熱分解被膜形成と比較してこの特性は良好なレベルを達
成するが、実用上の他の特性、つまり、低反射率の建築
用ガラスに通常必要とする赤外線反射率や可視光線透過
率特性のレベルに達しないと認められていた。例えば約
３ｍｍ厚のガラスでは、可視光線透過率（Ｉｌｌ．Ｃ）
は通常、約７６％程度であり、Ｅｈは約０．２０〜０．
２２、Ｅｎは約０．１４〜０．１７である。この両反射
率はどちらかと言えば高いほうである。さらに、シート
抵抗（Ｒｓ）は比較的高い１５．８オーム／平方メート
ルである。（より望ましい値は約１０．５以下であ
る）。このように、耐久性はかなり向上し、しかもこれ
らの被膜形成は従来のシール材と両立する（従って、多
面窓における問題であった「エッジ落とし」の必要性を
克服でき、現在はそれを必要としなくなっている）こと
も証明できたが、太陽光に関する特性は多くの近代的建
築で必要とするレベルに達していない。
【００１４】このエアコ社製装置による層の構成に加
え、赤外線反射および他の光線制御を目的として銀およ
び／あるいはＮｉ：Ｃｒ含有の他の被膜層が特許文献や
科学文献に報告されている。たとえば、ファブリー・ペ
ローのフィルタ、他の従来技術による被膜および形成技
術等が米国特許番号３、６８２、５２８および４、７９
９、７４５（また本明細書で述べた、あるいは記載した
従来技術）に記載されている。また、米国特許番号４、
１７９、１８１； ３、６９８、９４６； ３、９７
８、２７３； ３、９０１、９９７等の多くの特許に絶
縁体と金属のサンドイッチ構造等の例がある。こうした
塗布構造は公知であったり報告されているが、従来技術
のどれも高生産性のスパッタ被膜形成プロセスを使用す
る能力について教示も達成もしておらず、同時に、熱分
解式による被膜の耐久性と同等あるいは近接した特性の
他に、太陽光制御特性についても優れたレベルの建築用
ガラスを得ることについて、どの文献も触れていない。
え、赤外線反射および他の光線制御を目的として銀およ
び／あるいはＮｉ：Ｃｒ含有の他の被膜層が特許文献や
科学文献に報告されている。たとえば、ファブリー・ペ
ローのフィルタ、他の従来技術による被膜および形成技
術等が米国特許番号３、６８２、５２８および４、７９
９、７４５（また本明細書で述べた、あるいは記載した
従来技術）に記載されている。また、米国特許番号４、
１７９、１８１； ３、６９８、９４６； ３、９７
８、２７３； ３、９０１、９９７等の多くの特許に絶
縁体と金属のサンドイッチ構造等の例がある。こうした
塗布構造は公知であったり報告されているが、従来技術
のどれも高生産性のスパッタ被膜形成プロセスを使用す
る能力について教示も達成もしておらず、同時に、熱分
解式による被膜の耐久性と同等あるいは近接した特性の
他に、太陽光制御特性についても優れたレベルの建築用
ガラスを得ることについて、どの文献も触れていない。
【００１５】基本的なエアコ社製装置および操作の基本
的な方法は完全に受け入れられているようだが、その生
産性は不充分である。低い生産性の原因は、銀をスパッ
タ被膜形成の際に窒素ガスから隔離しなくてはならない
ことにあるようである。
的な方法は完全に受け入れられているようだが、その生
産性は不充分である。低い生産性の原因は、銀をスパッ
タ被膜形成の際に窒素ガスから隔離しなくてはならない
ことにあるようである。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、スパ
ッタ被膜形成システムでも熱分解被膜と同等あるいは近
似の耐久性を持ち、しかも最適な太陽光制御特性を達成
し、これにより通常の熱分解方法に付随する問題を克服
する必要性がある。この明細書で使用する「耐久性」、
「耐久性がある」という用語は当業界で公知の意味とし
て使用され、熱分解的プロセスによって得られるものと
同等あるいは近似の劣化に対する機械抵抗および化学抵
抗を表わす。また、マグネトロン・スパッタ被膜形成に
よって作られた被膜は、上記したエアコ社のプロセスで
得られる被膜の透過率、放射率、そして望ましくはシー
ト抵抗等について改良する必要性がある。同様に、この
従来プロセスの生産性も改良する必要性がある。本発明
の主たる目的は上記必要性を満たすことである。同様に
他の必要性は、以下に記載の説明から当業者が容易に考
え得るものである。
ッタ被膜形成システムでも熱分解被膜と同等あるいは近
似の耐久性を持ち、しかも最適な太陽光制御特性を達成
し、これにより通常の熱分解方法に付随する問題を克服
する必要性がある。この明細書で使用する「耐久性」、
「耐久性がある」という用語は当業界で公知の意味とし
て使用され、熱分解的プロセスによって得られるものと
同等あるいは近似の劣化に対する機械抵抗および化学抵
抗を表わす。また、マグネトロン・スパッタ被膜形成に
よって作られた被膜は、上記したエアコ社のプロセスで
得られる被膜の透過率、放射率、そして望ましくはシー
ト抵抗等について改良する必要性がある。同様に、この
従来プロセスの生産性も改良する必要性がある。本発明
の主たる目的は上記必要性を満たすことである。同様に
他の必要性は、以下に記載の説明から当業者が容易に考
え得るものである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のスパッタ被膜形成ガラス製品は以下の構成
を有する。すなわち、ガラス基板はその上に内側より外
方へ向けて、Ｓｉ3Ｎ4の下層、ニッケルまたはニッケル
合金の第１層、銀の層、ニッケルまたはニッケル合金の
第２層、Ｓｉ3Ｎ4の上層から成る層構成を有する。ガラ
ス基板が約２ｍｍ〜６ｍｍの厚さを有する時、望ましく
は、この被膜形成ガラスは可視光透過率約７８％以上
（Ｉｌｌ．Ｃ），通常放射率（Ｅｎ）は約０．１２未
満、半球放射率（Ｅｈ）は約０．１６未満を有する。
に、本発明のスパッタ被膜形成ガラス製品は以下の構成
を有する。すなわち、ガラス基板はその上に内側より外
方へ向けて、Ｓｉ3Ｎ4の下層、ニッケルまたはニッケル
合金の第１層、銀の層、ニッケルまたはニッケル合金の
第２層、Ｓｉ3Ｎ4の上層から成る層構成を有する。ガラ
ス基板が約２ｍｍ〜６ｍｍの厚さを有する時、望ましく
は、この被膜形成ガラスは可視光透過率約７８％以上
（Ｉｌｌ．Ｃ），通常放射率（Ｅｎ）は約０．１２未
満、半球放射率（Ｅｈ）は約０．１６未満を有する。
【００１８】本発明の望ましい実施例では、層構造は二
重となっており、また上記のように可視光透過率は約８
０％以上、最も望ましくは８０％を超える値である。ま
た、他の望ましい実施例では放射率はＥｈに対して約
０．１３以下、Ｅｎに対しては約０．１０以下である。
最も望ましい実施例では放射率はＥｈに対して約０．１
２〜０．１３、Ｅｎに対しては約０．０９〜０．１０で
ある。これら実施例では、シート抵抗の望ましい範囲は
１０．５オーム／平方メートル以下、最も望ましくは約
９〜１０オーム／平方メートルである。
重となっており、また上記のように可視光透過率は約８
０％以上、最も望ましくは８０％を超える値である。ま
た、他の望ましい実施例では放射率はＥｈに対して約
０．１３以下、Ｅｎに対しては約０．１０以下である。
最も望ましい実施例では放射率はＥｈに対して約０．１
２〜０．１３、Ｅｎに対しては約０．０９〜０．１０で
ある。これら実施例では、シート抵抗の望ましい範囲は
１０．５オーム／平方メートル以下、最も望ましくは約
９〜１０オーム／平方メートルである。
【００１９】本発明の望ましい実施例では、層構造は上
記５層より成り、他はない。本発明の他の望ましい実施
例では、本発明の被膜の基本的な品質を侵害しない他の
従来被膜を設けることによって本発明の層構造を増加す
ることが可能である。ある例では、この追加層はこの被
膜の基本的品質を実際に増大させることになった。例え
ば、本発明によって企図されたこの他の層構造は、ニッ
ケルベース（例えばニッケル・クロム）層を間に入れ銀
層を２層に分離させることによって７層構造とする。す
なわち、この層構造はガラス基板から外方へ向かって以
下のようになる。 Ｓｉ3Ｎ4／Ｎｉ：Ｃｒ／Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒ／Ａｇ／Ｎ
ｉ：Ｃｒ／Ｓｉ3Ｎ4 この７層構造は、一般的に前記の５層構造のものと比較
して、同等の高い赤外線反射率を有し、かつ多少高い耐
久性とひっかき抵抗特性を示す。さらに、必要に応じて
ひっかき抵抗を向上させるための上層を設けたり、接着
性の向上のために下層を追加して設けることが可能であ
る。しかし、上記したように本発明の最も望ましい実施
例は５層構造と７層構造である。
記５層より成り、他はない。本発明の他の望ましい実施
例では、本発明の被膜の基本的な品質を侵害しない他の
従来被膜を設けることによって本発明の層構造を増加す
ることが可能である。ある例では、この追加層はこの被
膜の基本的品質を実際に増大させることになった。例え
ば、本発明によって企図されたこの他の層構造は、ニッ
ケルベース（例えばニッケル・クロム）層を間に入れ銀
層を２層に分離させることによって７層構造とする。す
なわち、この層構造はガラス基板から外方へ向かって以
下のようになる。 Ｓｉ3Ｎ4／Ｎｉ：Ｃｒ／Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒ／Ａｇ／Ｎ
ｉ：Ｃｒ／Ｓｉ3Ｎ4 この７層構造は、一般的に前記の５層構造のものと比較
して、同等の高い赤外線反射率を有し、かつ多少高い耐
久性とひっかき抵抗特性を示す。さらに、必要に応じて
ひっかき抵抗を向上させるための上層を設けたり、接着
性の向上のために下層を追加して設けることが可能であ
る。しかし、上記したように本発明の最も望ましい実施
例は５層構造と７層構造である。
【００２０】本発明の望ましい実施例では、最適な放射
率と透過率特性を得るために、各層の厚さが重要な要素
となる。上記した従来のエアコ社製の５層構造の銀層厚
７０オングストロームより厚い層、すなわち、銀の層が
１層である時には銀層の連続性を確保し、適切な赤外線
反射率特性を確保するために２０％乃至３０％増しの厚
さを用いる。したがって、本発明ではエアコ社製の５層
構造の銀層厚７０オングストロームより厚い、銀層の総
厚さが約９０〜１０５オングストローム、望ましくは約
９５〜１０５オングストロームを用いる。
率と透過率特性を得るために、各層の厚さが重要な要素
となる。上記した従来のエアコ社製の５層構造の銀層厚
７０オングストロームより厚い層、すなわち、銀の層が
１層である時には銀層の連続性を確保し、適切な赤外線
反射率特性を確保するために２０％乃至３０％増しの厚
さを用いる。したがって、本発明ではエアコ社製の５層
構造の銀層厚７０オングストロームより厚い、銀層の総
厚さが約９０〜１０５オングストローム、望ましくは約
９５〜１０５オングストロームを用いる。
【００２１】本発明の５層構造、例えばＡｇ層が１層の
時には、約９５オングストロームの厚さが望ましい。銀
層がニッケルベースの層で２層に分けられた実施例で
は、その２層の総厚は９０〜１０５オングストローム、
望ましくは各層が約５０オングストロームである。この
場合、５０オングストロームの銀層はいくぶん不連続と
なる。この不連続はエアコ社製のものでは問題となった
が、本発明の実施からは有害な影響は生じない。
時には、約９５オングストロームの厚さが望ましい。銀
層がニッケルベースの層で２層に分けられた実施例で
は、その２層の総厚は９０〜１０５オングストローム、
望ましくは各層が約５０オングストロームである。この
場合、５０オングストロームの銀層はいくぶん不連続と
なる。この不連続はエアコ社製のものでは問題となった
が、本発明の実施からは有害な影響は生じない。
【００２２】本発明で用いられるニッケルベースの層は
エアコ社製のもので使用したのと同じＮｉ：Ｃｒ（８０
／２０）ニクロムが望ましい。しかし、エアコ社製のも
のが１０オングストローム（あるいはそれ以上）の厚さ
を使用していたが、本発明では通常約７オングストロー
ム未満（たとえば、６オングストローム以下、あるいは
約１５〜２０％ほど少ない）の厚さにする。
エアコ社製のもので使用したのと同じＮｉ：Ｃｒ（８０
／２０）ニクロムが望ましい。しかし、エアコ社製のも
のが１０オングストローム（あるいはそれ以上）の厚さ
を使用していたが、本発明では通常約７オングストロー
ム未満（たとえば、６オングストローム以下、あるいは
約１５〜２０％ほど少ない）の厚さにする。
【００２３】銀層と同様に、本発明のＳｉ3Ｎ4層の各々
はエアコ社製のものより増加させる。望ましい実施例で
は、その増加率は銀層と同じレベル、すなわち約２０％
以上である。したがって、エアコ社製の下層および上層
のＳｉ3Ｎ4層の厚さが約３２０オングストロームと４５
０オングストローム（下層が上層より多少薄い）であっ
たのに対し、本発明の望ましい実施例では下層のＳｉ3
Ｎ4層厚は約４００オングストローム以上で上層は約５
４０オングストロームである。最も望ましい値は、下層
が４００オングストローム〜４２５オングストロームで
上層が５４０オングストローム〜５７５オングストロー
ムである。このＳｉ3Ｎ4層の目的は主として対反射、色
の制御、化学抵抗、ひっかき抵抗、磨耗抵抗である。
はエアコ社製のものより増加させる。望ましい実施例で
は、その増加率は銀層と同じレベル、すなわち約２０％
以上である。したがって、エアコ社製の下層および上層
のＳｉ3Ｎ4層の厚さが約３２０オングストロームと４５
０オングストローム（下層が上層より多少薄い）であっ
たのに対し、本発明の望ましい実施例では下層のＳｉ3
Ｎ4層厚は約４００オングストローム以上で上層は約５
４０オングストロームである。最も望ましい値は、下層
が４００オングストローム〜４２５オングストロームで
上層が５４０オングストローム〜５７５オングストロー
ムである。このＳｉ3Ｎ4層の目的は主として対反射、色
の制御、化学抵抗、ひっかき抵抗、磨耗抵抗である。
【００２４】多面窓は建築業界で一般的であり、本発明
の層構造は多面窓で使用される従来のシール材と両立す
るので、エアコ社製の層構造が多面窓における問題を克
服するのと同程度は解決できる。従って、本発明の望ま
しい実施例では「エッジ落とし」は不要である。
の層構造は多面窓で使用される従来のシール材と両立す
るので、エアコ社製の層構造が多面窓における問題を克
服するのと同程度は解決できる。従って、本発明の望ま
しい実施例では「エッジ落とし」は不要である。
【００２５】本発明の発想は当業界の今までの常識に対
立するものである。すなわち、ここで企図する望ましい
層構造について、スパッタ被膜形成の際に銀を窒素から
隔離する必要がないばかりか、その窒素雰囲気中で銀と
ニッケルベースの両者を共にスパッタ被膜形成がおこな
えるという利点もある。銀の能力はほとんど損失するこ
とはなく、また、ニッケルベースの層がクロムを含み、
そのクロムがスパッタリングの際に窒化物に変化すると
驚異的に透過率が増大するという予期せぬ効果を導く。
したがって、本発明の望ましい実施例では、ニッケルベ
ースのターゲットはＮｉ：Ｃｒ合金で、スパッタリング
の際に銀と同じスパッタゾーンでそのＣｒは少なくとも
部分的にＣｒの窒化物に変化する。これは、前述のよう
に最終製品の可視光透過率がかなり増大することが分か
った。さらに、銀のスパッタを行うのと同じゾーンでこ
の窒化物を作ることにより、コストを下げしかも生産性
を増大させることになる。
立するものである。すなわち、ここで企図する望ましい
層構造について、スパッタ被膜形成の際に銀を窒素から
隔離する必要がないばかりか、その窒素雰囲気中で銀と
ニッケルベースの両者を共にスパッタ被膜形成がおこな
えるという利点もある。銀の能力はほとんど損失するこ
とはなく、また、ニッケルベースの層がクロムを含み、
そのクロムがスパッタリングの際に窒化物に変化すると
驚異的に透過率が増大するという予期せぬ効果を導く。
したがって、本発明の望ましい実施例では、ニッケルベ
ースのターゲットはＮｉ：Ｃｒ合金で、スパッタリング
の際に銀と同じスパッタゾーンでそのＣｒは少なくとも
部分的にＣｒの窒化物に変化する。これは、前述のよう
に最終製品の可視光透過率がかなり増大することが分か
った。さらに、銀のスパッタを行うのと同じゾーンでこ
の窒化物を作ることにより、コストを下げしかも生産性
を増大させることになる。
【００２６】エアコ・プロセスに比べ生産性の向上とコ
スト低下は以下のようにして経験的に得られる。エアコ
・プロセス（および他のプロセス）では、Ｓｉのスパッ
タリングはターゲット（エアコ・プロセスでは筒状ター
ゲット）への出力を増大させなくてはならず、また、ス
パッタリング・ゾーンの雰囲気は窒素ガス１００％を使
用し、通常は装置に限界があり困難となる。銀は窒素含
有環境内ではスパッタをかけてはならず、またクロムを
窒化物に変化させることを望むという設定では、Ｎｉ：
Ｃｒターゲットは分離ゾーン内に入れなくてはならず、
これによって費用が増える。あるいは、このターゲット
をＳｉと同じ窒素含有ゾーン内でスパッタを行う方法も
あるが、これは使用可能なＳｉターゲットの数が減少す
ることにより生産性が低下する。一方、本発明の方法に
よればクロムの窒化物を作るという利点と、窒素ガスが
スパッタを行う際に銀に悪影響を与えないという利点の
両方を有し、２個のＮｉ：Ｃｒターゲットを銀のターゲ
ットと同じゾーンにいれ、従来必要と考えられていた純
粋なアルゴン雰囲気とは反対にアルゴン／窒素雰囲気内
でスパッタを行えるので、従来プロセスの高価で生産性
の悪い方法が不要になる。したがって、望ましい実施例
では雰囲気はアルゴン／窒素が体積比で５０％／５０％
を使用するが、その使用可能範囲はアルゴン０〜７５
％、窒素１００％〜２５％である。
スト低下は以下のようにして経験的に得られる。エアコ
・プロセス（および他のプロセス）では、Ｓｉのスパッ
タリングはターゲット（エアコ・プロセスでは筒状ター
ゲット）への出力を増大させなくてはならず、また、ス
パッタリング・ゾーンの雰囲気は窒素ガス１００％を使
用し、通常は装置に限界があり困難となる。銀は窒素含
有環境内ではスパッタをかけてはならず、またクロムを
窒化物に変化させることを望むという設定では、Ｎｉ：
Ｃｒターゲットは分離ゾーン内に入れなくてはならず、
これによって費用が増える。あるいは、このターゲット
をＳｉと同じ窒素含有ゾーン内でスパッタを行う方法も
あるが、これは使用可能なＳｉターゲットの数が減少す
ることにより生産性が低下する。一方、本発明の方法に
よればクロムの窒化物を作るという利点と、窒素ガスが
スパッタを行う際に銀に悪影響を与えないという利点の
両方を有し、２個のＮｉ：Ｃｒターゲットを銀のターゲ
ットと同じゾーンにいれ、従来必要と考えられていた純
粋なアルゴン雰囲気とは反対にアルゴン／窒素雰囲気内
でスパッタを行えるので、従来プロセスの高価で生産性
の悪い方法が不要になる。したがって、望ましい実施例
では雰囲気はアルゴン／窒素が体積比で５０％／５０％
を使用するが、その使用可能範囲はアルゴン０〜７５
％、窒素１００％〜２５％である。
【００２７】前述のように、エアコ・プロセスは窒素ガ
ス１００％内でＳｉのスパッタを行うことを教示してい
る。これは現在、本発明によるＳｉのスパッタを行う一
方法であるが、特定の環境（たとえば、小さなユニッ
ト、低容量製造）下において、Ｓｉのスパッタを行う際
にアルゴンを窒素に加え、Ｓｉ3Ｎ4を許容量程度は形成
するがＳｉのスパッタ率を向上させる。
ス１００％内でＳｉのスパッタを行うことを教示してい
る。これは現在、本発明によるＳｉのスパッタを行う一
方法であるが、特定の環境（たとえば、小さなユニッ
ト、低容量製造）下において、Ｓｉのスパッタを行う際
にアルゴンを窒素に加え、Ｓｉ3Ｎ4を許容量程度は形成
するがＳｉのスパッタ率を向上させる。
【００２８】上記特性を有する製品を得るために、本発
明の新規な方法はクロムの窒化物を作るに充分な窒素ガ
スを含んだ雰囲気を有する同じゾーン内でＮｉ：Ｃｒ／
Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒターゲットのスパッタ被膜形成を行う
ことである。望ましくは、この雰囲気はアルゴンを０〜
７５体積％、窒素を１００〜２５体積％含む。最も望ま
しくは、アルゴン５０体積％、窒素５０体積％である。
一実施例では、下層および上層スパッタ被膜形成は窒素
１００％雰囲気内でおこなわれ、一方、他の実施例では
生産性を向上させるために、３〜５０体積％のアルゴン
ガスを窒素と共に使用する。
明の新規な方法はクロムの窒化物を作るに充分な窒素ガ
スを含んだ雰囲気を有する同じゾーン内でＮｉ：Ｃｒ／
Ａｇ／Ｎｉ：Ｃｒターゲットのスパッタ被膜形成を行う
ことである。望ましくは、この雰囲気はアルゴンを０〜
７５体積％、窒素を１００〜２５体積％含む。最も望ま
しくは、アルゴン５０体積％、窒素５０体積％である。
一実施例では、下層および上層スパッタ被膜形成は窒素
１００％雰囲気内でおこなわれ、一方、他の実施例では
生産性を向上させるために、３〜５０体積％のアルゴン
ガスを窒素と共に使用する。
【００２９】
【実施例】添付図面を参照にして本発明の望ましい実施
例を詳細に説明する。図１は、エアコ社製の装置のよう
な従来のマグネトロン・スパッタ被膜形成装置の説明図
である。本発明では、第１ゾーン〜第５ゾーンから成る
５ゾーン構成を使用する。（矢印Ａ方向へガラス基板が
進み、層が連続的に形成される。）第１ゾーンは珪素
（Ｓｉ）の筒状ターゲット（たとえば導電性を得るため
にアルミニュウムを３〜５重量％添加したＳｉ）を６本
（ｔ1〜ｔ6）有する。第２ゾーンも同じターゲットｔ7
〜ｔ12を有する。同じように、第４ゾーン、第５ゾーン
もそれぞれ同 じターゲットｔ19〜ｔ24、ｔ25〜ｔ30を
有する。
例を詳細に説明する。図１は、エアコ社製の装置のよう
な従来のマグネトロン・スパッタ被膜形成装置の説明図
である。本発明では、第１ゾーン〜第５ゾーンから成る
５ゾーン構成を使用する。（矢印Ａ方向へガラス基板が
進み、層が連続的に形成される。）第１ゾーンは珪素
（Ｓｉ）の筒状ターゲット（たとえば導電性を得るため
にアルミニュウムを３〜５重量％添加したＳｉ）を６本
（ｔ1〜ｔ6）有する。第２ゾーンも同じターゲットｔ7
〜ｔ12を有する。同じように、第４ゾーン、第５ゾーン
もそれぞれ同 じターゲットｔ19〜ｔ24、ｔ25〜ｔ30を
有する。
【００３０】中間の第３ゾーンは、図３に示したように
５層構造を形成するために３個の平板ターゲットＰ1〜
Ｐ3（それぞれ図１の３１、１６、３３で示す）を有す
るか、図４に示すように７層構造を形成するために５〜
６個のターゲット（筒状あるいは平板状）を有する。図
示した３個の平板ターゲットシステムは、もちろん図２
に示した従来例のエアコ社製の層構造を作るためにも使
用できる。図４の７層構造用の第３ゾーンのターゲット
配置は当業者が適宜選択できるものであり、省略した。
第１〜第２ゾーンおよび第４〜第５ゾーンの６本のター
ゲット位置の効用はこの装置の代表とするなら、比較的
薄い３枚のニッケルベース（たとえばニクロム）層を形
成するに必要とされ、用いられる一技術はニッケルベー
ス・ターゲットとしてターゲット３１、３３（つまり、
Ｐ1とＰ3）を使用し、ターゲット１６（Ｐ2）の代わり
にＰ1とＰ3間にｔ13が銀、ｔ14がニッケルベース、ｔ15
かｔ1 6の一方が銀という一続きのターゲットを使用す
る。
５層構造を形成するために３個の平板ターゲットＰ1〜
Ｐ3（それぞれ図１の３１、１６、３３で示す）を有す
るか、図４に示すように７層構造を形成するために５〜
６個のターゲット（筒状あるいは平板状）を有する。図
示した３個の平板ターゲットシステムは、もちろん図２
に示した従来例のエアコ社製の層構造を作るためにも使
用できる。図４の７層構造用の第３ゾーンのターゲット
配置は当業者が適宜選択できるものであり、省略した。
第１〜第２ゾーンおよび第４〜第５ゾーンの６本のター
ゲット位置の効用はこの装置の代表とするなら、比較的
薄い３枚のニッケルベース（たとえばニクロム）層を形
成するに必要とされ、用いられる一技術はニッケルベー
ス・ターゲットとしてターゲット３１、３３（つまり、
Ｐ1とＰ3）を使用し、ターゲット１６（Ｐ2）の代わり
にＰ1とＰ3間にｔ13が銀、ｔ14がニッケルベース、ｔ15
かｔ1 6の一方が銀という一続きのターゲットを使用す
る。
【００３１】操作の際は、第１ゾーン〜第５ゾーンは適
切なカーテンＣによって分けられ、これによって各ゾー
ン内をスパッタ被膜形成技術で公知の従来装置によって
所定の制御状態にした雰囲気とすることが可能となる。
上記したように、スパッタ被膜形成操作で銀をターゲッ
トとして使用する時は、できる限りそのゾーン（第３ゾ
ーン）から窒素が無いようにすることが重要というのが
従来よりの常識であった。したがって、図２の従来構造
を製造するプロセスでは、アルゴンガス１００％の雰囲
気を使用していた。また、Ｓｉのスパッタリングは窒素
ガス１００％の中で行わなくてはならないと信じられて
いた。
切なカーテンＣによって分けられ、これによって各ゾー
ン内をスパッタ被膜形成技術で公知の従来装置によって
所定の制御状態にした雰囲気とすることが可能となる。
上記したように、スパッタ被膜形成操作で銀をターゲッ
トとして使用する時は、できる限りそのゾーン（第３ゾ
ーン）から窒素が無いようにすることが重要というのが
従来よりの常識であった。したがって、図２の従来構造
を製造するプロセスでは、アルゴンガス１００％の雰囲
気を使用していた。また、Ｓｉのスパッタリングは窒素
ガス１００％の中で行わなくてはならないと信じられて
いた。
【００３２】従ってこの装置と雰囲気を用いて、スパッ
タリング操作用に速度および電力を制御することにより
従来のエアコプロセスは図２に示した層構造を製造し
た。図２ではガラス基板はＧで表わされる。このガラス
基板は２〜６ｍｍ厚の板ガラスが望ましく、通常、従来
のフロートプロセスによって製造されたソーダ−石灰−
シリカ組成を有した。第１、第２ゾーンでは、Ｓｉ3Ｎ4
から成る第１下層１１１が形成された。その名目上の厚
さは約３２５オングストロームであった。第１、第２ゾ
ーンはほぼ１００％の窒素ガス内で行った。次に、第３
ゾーンでは、実質的に１００％のアルゴンガスを用いて
８０／２０ニクロムの薄い層１１２（例えば、７オング
ストローム以上）を初めに設け、続いて銀の比較的厚め
の層１１５（例えば、約７０オングストローム）を設け
た。銀層１１５は不連続であり、その不連続部は図２で
空白部１１７で示した。この同じ第３ゾーンで、この銀
層に別の比較的薄い（例えば、７オングストローム以
上）の８０／２０ニクロム層１１９を設けた。第４、第
５ゾーンで、Ｓｉ3Ｎ4から成る最上層１２１を下層１１
１の厚さよりいくぶん厚め（例えば、約４５０オングス
トローム）に設けた。このガラスは望ましい太陽光制御
特性より劣っており、この例は以下「標準エアコ」とし
て記載する。
タリング操作用に速度および電力を制御することにより
従来のエアコプロセスは図２に示した層構造を製造し
た。図２ではガラス基板はＧで表わされる。このガラス
基板は２〜６ｍｍ厚の板ガラスが望ましく、通常、従来
のフロートプロセスによって製造されたソーダ−石灰−
シリカ組成を有した。第１、第２ゾーンでは、Ｓｉ3Ｎ4
から成る第１下層１１１が形成された。その名目上の厚
さは約３２５オングストロームであった。第１、第２ゾ
ーンはほぼ１００％の窒素ガス内で行った。次に、第３
ゾーンでは、実質的に１００％のアルゴンガスを用いて
８０／２０ニクロムの薄い層１１２（例えば、７オング
ストローム以上）を初めに設け、続いて銀の比較的厚め
の層１１５（例えば、約７０オングストローム）を設け
た。銀層１１５は不連続であり、その不連続部は図２で
空白部１１７で示した。この同じ第３ゾーンで、この銀
層に別の比較的薄い（例えば、７オングストローム以
上）の８０／２０ニクロム層１１９を設けた。第４、第
５ゾーンで、Ｓｉ3Ｎ4から成る最上層１２１を下層１１
１の厚さよりいくぶん厚め（例えば、約４５０オングス
トローム）に設けた。このガラスは望ましい太陽光制御
特性より劣っており、この例は以下「標準エアコ」とし
て記載する。
【００３３】図３は本発明の図１に示した装置を利用し
て形成した２種の実施例を示している。これはフロート
ガラス基板Ｇ（厚さ２〜６ｍｍ）上に形成した５層構造
である。第１層はＳｉ3Ｎ4から成り、ほぼ１００％の窒
素ガス雰囲気の第１、第２ゾーン内で形成する。オプシ
ョンとして、特定の条件（例えば、サイズが小さい）で
は、多少のアルゴンガスを導入して（例えば、第２ゾー
ンへ）Ｓｉのスパッタリングを増加させる。次に、第３
ゾーンで層２１３（２１３’）、２１５、２１９（２１
９’）を形成する。
て形成した２種の実施例を示している。これはフロート
ガラス基板Ｇ（厚さ２〜６ｍｍ）上に形成した５層構造
である。第１層はＳｉ3Ｎ4から成り、ほぼ１００％の窒
素ガス雰囲気の第１、第２ゾーン内で形成する。オプシ
ョンとして、特定の条件（例えば、サイズが小さい）で
は、多少のアルゴンガスを導入して（例えば、第２ゾー
ンへ）Ｓｉのスパッタリングを増加させる。次に、第３
ゾーンで層２１３（２１３’）、２１５、２１９（２１
９’）を形成する。
【００３４】本発明の一実施例では、第３ゾーンで使用
する雰囲気は実質的にアルゴンガス１００％である。タ
ーゲットＰ1（３１）は望ましくは８０／２０のニクロ
ムであるが、ニッケルまたはニッケルベース合金も必要
により使用可能である。太陽光制御特性の向上および図
２の製品の問題を克服するために、実質的に純粋な金属
層である層２１３は約７オングストローム未満の厚さを
維持する。これは図２の製品を作る時のターゲットＰ1
（３１）への消費電力を約２０％以上減少させる。さら
に、図 ２の製品と比較して、ターゲットＰ2（１６）か
ら作られる銀層２１５は層１１ ５の厚さより厚く（例
えば、約９０〜１０５オングストローム）され、層２１
５をほぼ連続層とする。これは、ターゲットＰ2への電
力を１１５形成時と比べ約２０〜３３％増 加すること
によって得られる。
する雰囲気は実質的にアルゴンガス１００％である。タ
ーゲットＰ1（３１）は望ましくは８０／２０のニクロ
ムであるが、ニッケルまたはニッケルベース合金も必要
により使用可能である。太陽光制御特性の向上および図
２の製品の問題を克服するために、実質的に純粋な金属
層である層２１３は約７オングストローム未満の厚さを
維持する。これは図２の製品を作る時のターゲットＰ1
（３１）への消費電力を約２０％以上減少させる。さら
に、図 ２の製品と比較して、ターゲットＰ2（１６）か
ら作られる銀層２１５は層１１ ５の厚さより厚く（例
えば、約９０〜１０５オングストローム）され、層２１
５をほぼ連続層とする。これは、ターゲットＰ2への電
力を１１５形成時と比べ約２０〜３３％増 加すること
によって得られる。
【００３５】次に、層２１３の形成時と同じ方法、同じ
厚さで、別の８０／２０のニクロム（またはニッケルベ
ース）純金属層２１９を形成する。これに、次の第４、
第５ゾーンでＳｉ3Ｎ4の最上層２２１を下層２１１形成
時と同じように形成する。最上層２２１は通常、下層２
１１よりいくぶん厚くする。例えば、層２１１が約４０
０オングストロームに対して層２２１は約５４０オング
ストロームである。本発明によるＳｉ3Ｎ4の上層２２１
（３２１）と下層２１１（３１１）の厚さの比率はエア
コ製品と同じであるが、本発明の望ましい実施例では各
層はエアコ製品に比べて厚くする。これは第１、第２ゾ
ーンおよび第４、第５ゾーンのスパッタリング電力を約
２０％以上増加させることによって得られる。こうして
得られた層構造は図２の製品の層構造に少しひっかき抵
抗が劣るが、ほぼ同じ耐久性を持ち、極めて優れた放射
率、透過率、シート抵抗特性を有する。つまり、透過率
は８０％のレベルに近付き、放射率とシート抵抗（Ｒ
ｓ）値はかなり低い。
厚さで、別の８０／２０のニクロム（またはニッケルベ
ース）純金属層２１９を形成する。これに、次の第４、
第５ゾーンでＳｉ3Ｎ4の最上層２２１を下層２１１形成
時と同じように形成する。最上層２２１は通常、下層２
１１よりいくぶん厚くする。例えば、層２１１が約４０
０オングストロームに対して層２２１は約５４０オング
ストロームである。本発明によるＳｉ3Ｎ4の上層２２１
（３２１）と下層２１１（３１１）の厚さの比率はエア
コ製品と同じであるが、本発明の望ましい実施例では各
層はエアコ製品に比べて厚くする。これは第１、第２ゾ
ーンおよび第４、第５ゾーンのスパッタリング電力を約
２０％以上増加させることによって得られる。こうして
得られた層構造は図２の製品の層構造に少しひっかき抵
抗が劣るが、ほぼ同じ耐久性を持ち、極めて優れた放射
率、透過率、シート抵抗特性を有する。つまり、透過率
は８０％のレベルに近付き、放射率とシート抵抗（Ｒ
ｓ）値はかなり低い。
【００３６】図３の層構造を形成する他の望ましい実施
例では、図１の装置を使用し、より良好な太陽光制御特
性を得る個性的な方法を用いる。この方法では、従来の
常識に反して第３ゾーンでアルゴンガスと共に窒素ガス
を用い、またニッケル・クロム合金をターゲットＰ
1（３１）とＰ3（３３）のどちらか、望ましくは両者に
使用して、クロム金属をその窒化物としてＮｉ：Ｃｒ層
に形成（つまり、層２１３’、層２１９’のどちらか、
あるいは両方）するということを除けば、前記の第１実
施例と同じ工程を有する。アルゴンと窒素の比率は必要
に応じて変えることができ、一般的にはアルゴン０〜７
５体積％対窒素１００〜２５体積％の範囲で、望ましく
は５０％対５０％であり、この比率では第１実施例の製
品より特性が向上する（たとえば、透過率とシート抵抗
Ｒｓ）。この実施例の望ましい形態では、厚さは第１実
施例の製品と同じにする。代表的な電力レベルは後述す
る。
例では、図１の装置を使用し、より良好な太陽光制御特
性を得る個性的な方法を用いる。この方法では、従来の
常識に反して第３ゾーンでアルゴンガスと共に窒素ガス
を用い、またニッケル・クロム合金をターゲットＰ
1（３１）とＰ3（３３）のどちらか、望ましくは両者に
使用して、クロム金属をその窒化物としてＮｉ：Ｃｒ層
に形成（つまり、層２１３’、層２１９’のどちらか、
あるいは両方）するということを除けば、前記の第１実
施例と同じ工程を有する。アルゴンと窒素の比率は必要
に応じて変えることができ、一般的にはアルゴン０〜７
５体積％対窒素１００〜２５体積％の範囲で、望ましく
は５０％対５０％であり、この比率では第１実施例の製
品より特性が向上する（たとえば、透過率とシート抵抗
Ｒｓ）。この実施例の望ましい形態では、厚さは第１実
施例の製品と同じにする。代表的な電力レベルは後述す
る。
【００３７】図４に示した層構造は、上記の実質的に純
金属層としてニッケルベース層を形成する方法による
か、窒素含有アルゴン雰囲気とニッケル・クロム合金を
１個以上のターゲットに用いる方法によって製造し、１
以上（望ましくは全部）のＮｉ：Ｃｒ層のクロム窒化物
の発生を介して良好な結果を得る。この実施例では、さ
らに、図３の単一な銀層２１５をニッケルベース層をそ
の間に入れることによって２層に分割する。こうして、
図４の実施例は第３ゾーンで適当な数のターゲット（図
示せず）を使用して、第１、第２ゾーンでＳｉ3Ｎ4の下
層３１１を形成し、第４、第５ゾーンでＳｉ3Ｎ4の上層
３２１を形成することによって製造する。層３１１、３
２１の層厚は層２１１、２２１と同じが望ましい。
金属層としてニッケルベース層を形成する方法による
か、窒素含有アルゴン雰囲気とニッケル・クロム合金を
１個以上のターゲットに用いる方法によって製造し、１
以上（望ましくは全部）のＮｉ：Ｃｒ層のクロム窒化物
の発生を介して良好な結果を得る。この実施例では、さ
らに、図３の単一な銀層２１５をニッケルベース層をそ
の間に入れることによって２層に分割する。こうして、
図４の実施例は第３ゾーンで適当な数のターゲット（図
示せず）を使用して、第１、第２ゾーンでＳｉ3Ｎ4の下
層３１１を形成し、第４、第５ゾーンでＳｉ3Ｎ4の上層
３２１を形成することによって製造する。層３１１、３
２１の層厚は層２１１、２２１と同じが望ましい。
【００３８】図４と図３の層構造の主たる相違は、図４
は第３ゾーンにおいて初めに約７オングストローム未満
の厚さを有するニッケルベース（望ましくは８０／２０
ニクロム）の金属層３１３あるいはその置換窒化物３１
３’を形成することである。その後、厚さ約５０オング
ストロームの第１銀層３１５Ａを形成し、さらに厚さ約
７オングストローム未満の別のニッケルベース金属層３
１４またはその置換窒化物３１４’を形成する。また、
厚さ約５０オングストロームを有する第２銀層３１５Ｂ
を形成し、厚さ約７オングストローム未満の別のニッケ
ルベース金属層３１９またはその置換窒化物３１９’を
形成する。この実施例では、第１、第２の銀層の総合厚
さは約９０〜１０５オングストロームの間にあるのが望
ましい。そして、Ｓｉ3Ｎ4の上層３２１を形成すること
によって完了する。
は第３ゾーンにおいて初めに約７オングストローム未満
の厚さを有するニッケルベース（望ましくは８０／２０
ニクロム）の金属層３１３あるいはその置換窒化物３１
３’を形成することである。その後、厚さ約５０オング
ストロームの第１銀層３１５Ａを形成し、さらに厚さ約
７オングストローム未満の別のニッケルベース金属層３
１４またはその置換窒化物３１４’を形成する。また、
厚さ約５０オングストロームを有する第２銀層３１５Ｂ
を形成し、厚さ約７オングストローム未満の別のニッケ
ルベース金属層３１９またはその置換窒化物３１９’を
形成する。この実施例では、第１、第２の銀層の総合厚
さは約９０〜１０５オングストロームの間にあるのが望
ましい。そして、Ｓｉ3Ｎ4の上層３２１を形成すること
によって完了する。
【００３９】予期したように、図４の実施例では銀層３
１５Ａ，３１５Ｂのそれぞれの厚さはわずか５０オング
ストロームであり、空白部３１７で示すように図２の空
白部１１７と同様な不連続が発生する。こうした不連続
は図２の製品では重大な欠点だったが、図４の製品では
実用上欠点とはならない。
１５Ａ，３１５Ｂのそれぞれの厚さはわずか５０オング
ストロームであり、空白部３１７で示すように図２の空
白部１１７と同様な不連続が発生する。こうした不連続
は図２の製品では重大な欠点だったが、図４の製品では
実用上欠点とはならない。
【００４０】図４の７層構造は図３の２種の実施例より
耐久性があり、それより透過率は低いが（つまり、最小
７６％レベルをほんの少し上回る）、その放射率とシー
ト抵抗（Ｒｓ）値は図３のものより良好である。この正
確な理由は不明であるが、銀層を２層に分離し、Ｎｉベ
ース（Ｎｉ：Ｃｒ）層を中間層として結合させたことが
原因と考えられる。したがって、Ｎｉベース中間層は大
きな耐久性を得る助けをする重要で機能的な層である。
特に、Ｎｉ：Ｃｒの合金（例えば、８０／２０ニクロ
ム）でクロムがその窒化物に変化したものでは顕著であ
る。次に、本発明を詳細に説明する例を以下に示す。
耐久性があり、それより透過率は低いが（つまり、最小
７６％レベルをほんの少し上回る）、その放射率とシー
ト抵抗（Ｒｓ）値は図３のものより良好である。この正
確な理由は不明であるが、銀層を２層に分離し、Ｎｉベ
ース（Ｎｉ：Ｃｒ）層を中間層として結合させたことが
原因と考えられる。したがって、Ｎｉベース中間層は大
きな耐久性を得る助けをする重要で機能的な層である。
特に、Ｎｉ：Ｃｒの合金（例えば、８０／２０ニクロ
ム）でクロムがその窒化物に変化したものでは顕著であ
る。次に、本発明を詳細に説明する例を以下に示す。
【００４１】例 図２に示された通常の標準（ＳＴＤ）エアコ層構造物
と、図３に示した本発明の２種の実施例による層構造物
を図１に示した装置で製造した。本発明の第１実施例を
Ａタイプ、第２実施例（窒化物が２１３’と２１９’の
両層に形成される）をＢタイプとする。使用したターゲ
ットはエアコの筒状アルミニュウム添加Ｓｉターゲット
ｔ1-12およびｔ19-30であった。ターゲットＰ1（３１）
とＰ3（３３）はＮｉ８０重量％とＣｒ２０重量％であ
った。ターゲットＰ2（１６）は銀（Ａｇ）であった。
使用したガラスはガーディアン工業会社（Ｇｕａｒｄｉ
ａｎＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｃｏｒｐ．）製の、厚さ３
ｍｍ（０．１２３インチ）の従来のソーダ石灰シリカ・
フロートガラスであった。ライン速度は３４５インチ／
分で、第１、第２、第４、第５ゾーンの圧力は２．５ｘ
１０-3Ｔｏｒｒであった。そのゾーンでは窒素１００％
雰囲気を使用した。標準エアコおよび本発明のＡタイプ
用にアルゴン１００％雰囲気を使用した。Ｂタイプ用に
はアルゴン／窒素５０％／５０％雰囲気を使用した。各
ターゲット用の供給エネルギーは別紙の表１、表２、表
３、表４に示すとおりであった。
と、図３に示した本発明の２種の実施例による層構造物
を図１に示した装置で製造した。本発明の第１実施例を
Ａタイプ、第２実施例（窒化物が２１３’と２１９’の
両層に形成される）をＢタイプとする。使用したターゲ
ットはエアコの筒状アルミニュウム添加Ｓｉターゲット
ｔ1-12およびｔ19-30であった。ターゲットＰ1（３１）
とＰ3（３３）はＮｉ８０重量％とＣｒ２０重量％であ
った。ターゲットＰ2（１６）は銀（Ａｇ）であった。
使用したガラスはガーディアン工業会社（Ｇｕａｒｄｉ
ａｎＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｃｏｒｐ．）製の、厚さ３
ｍｍ（０．１２３インチ）の従来のソーダ石灰シリカ・
フロートガラスであった。ライン速度は３４５インチ／
分で、第１、第２、第４、第５ゾーンの圧力は２．５ｘ
１０-3Ｔｏｒｒであった。そのゾーンでは窒素１００％
雰囲気を使用した。標準エアコおよび本発明のＡタイプ
用にアルゴン１００％雰囲気を使用した。Ｂタイプ用に
はアルゴン／窒素５０％／５０％雰囲気を使用した。各
ターゲット用の供給エネルギーは別紙の表１、表２、表
３、表４に示すとおりであった。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
【００４４】
【表３】
【００４５】
【表４】
【００４６】
【表５】
【００４７】
【表６】
【００４８】本発明の他の２種の例や、層（特にＮｉベ
ースの層）の厚さの影響についての実験において透過率
や赤外線エネルギー反射率について行うことができるよ
うに、２枚のＢタイプガラスが第１、第２ゾーンおよび
第４、第５ゾーンとほぼ同一の条件、すなわち窒素１０
０％雰囲気内でＳｉ3Ｎ4の下層と上層が形成される条件
を用いて作られた。第１、第２ゾーンおよび第４、第５
ゾーンのターゲットはアルミニュウム添加Ｓｉターゲッ
トであり、Ｐ1（３１）とＰ3（３３）は８０／２０ニク
ロムでＰ2（１６）は銀（Ａｇ）であった。唯一異なる
のは、以下の表で示すように第３ゾーン内で異なった電
力レベルを使用したことである。ガラスは厚さ３ｍｍの
ソーダ石灰シリカ・フロートガラスであった。
ースの層）の厚さの影響についての実験において透過率
や赤外線エネルギー反射率について行うことができるよ
うに、２枚のＢタイプガラスが第１、第２ゾーンおよび
第４、第５ゾーンとほぼ同一の条件、すなわち窒素１０
０％雰囲気内でＳｉ3Ｎ4の下層と上層が形成される条件
を用いて作られた。第１、第２ゾーンおよび第４、第５
ゾーンのターゲットはアルミニュウム添加Ｓｉターゲッ
トであり、Ｐ1（３１）とＰ3（３３）は８０／２０ニク
ロムでＰ2（１６）は銀（Ａｇ）であった。唯一異なる
のは、以下の表で示すように第３ゾーン内で異なった電
力レベルを使用したことである。ガラスは厚さ３ｍｍの
ソーダ石灰シリカ・フロートガラスであった。
【００４９】
【表７】
【００５０】表７より明らかなように、２枚のＮｉ：Ｃ
ｒ（窒化物）層の厚さは若干増加し、銀層の厚さは若干
減少し、赤外線反射率と透過率値は減少した。しかし、
この両ガラスは実際の建築物の多面窓用に使用可能であ
る。さらに、以下の表に示したように種々のゾーンで異
なった電力レベルを用いてＡタイプガラスのサンプルを
作った。ガラス厚は３ｍｍで表７で使用したものと同じ
ソーダ石灰シリカ・フロートガラスを用いた。
ｒ（窒化物）層の厚さは若干増加し、銀層の厚さは若干
減少し、赤外線反射率と透過率値は減少した。しかし、
この両ガラスは実際の建築物の多面窓用に使用可能であ
る。さらに、以下の表に示したように種々のゾーンで異
なった電力レベルを用いてＡタイプガラスのサンプルを
作った。ガラス厚は３ｍｍで表７で使用したものと同じ
ソーダ石灰シリカ・フロートガラスを用いた。
【００５１】
【表８】
【００５２】
【効果】本発明によるスパッタ被膜形成ガラスはスパッ
タ被膜形成の際に銀を窒素から隔離する必要がないばか
りか、その窒素雰囲気中で銀とニッケルベースの両者を
共にスパッタ被膜形成がおこなえるという利点もある。
銀の能力はほとんど損失することはなく、また、ニッケ
ルベースの層がクロムを含み、そのクロムがスパッタリ
ングの際に窒化物に変化すると驚異的に透過率が増大す
るという期待以上の効果がある。また、最終製品の可視
光透過率がかなり増大する。さらに、銀のスパッタを行
うのと同じゾーンでこの窒化物を作ることにより、コス
トを下げ、しかも生産性を増大させることになる。
タ被膜形成の際に銀を窒素から隔離する必要がないばか
りか、その窒素雰囲気中で銀とニッケルベースの両者を
共にスパッタ被膜形成がおこなえるという利点もある。
銀の能力はほとんど損失することはなく、また、ニッケ
ルベースの層がクロムを含み、そのクロムがスパッタリ
ングの際に窒化物に変化すると驚異的に透過率が増大す
るという期待以上の効果がある。また、最終製品の可視
光透過率がかなり増大する。さらに、銀のスパッタを行
うのと同じゾーンでこの窒化物を作ることにより、コス
トを下げ、しかも生産性を増大させることになる。
【図１】本発明で使用するエアコ社製の装置の基本的な
構成を示す概略説明図である。
構成を示す概略説明図である。
【図２】従来のエアコ社プロセスによる層構造を示す部
分断面図である。
分断面図である。
【図３】本発明の一実施例による層構造を示す部分断面
図である。
図である。
【図４】本発明の他の実施例による層構造を示す部分断
面図である。
面図である。
１〜１２ 筒状ターゲット １６ 平板状ターゲット １９〜３０ 筒状ターゲット ３１、３３ 平板状ターゲット １１１ 下層 １１３ ニクロム層 １１５ 銀層 １１７ 空白部 １１９ ニクロム層 １２１ 上層 Ｇ ガラス基板 ２１１ 下層 ２１３、２１３’ニッケルまたはニッケルベース金属層 ２１５ 銀層 ２１９、２１９’ニッケルまたはニッケルベース金属層 ２２１ 上層 ３１１ 下層 ３１３、３１３’ニッケルまたはニッケルベース金属層 ３１５Ａ 第１銀層 ３１４、３１４’ニッケルベース金属層 ３１５Ｂ 第２銀層 ３１７ 空白部 ３１９、３１９’ニッケルまたはニッケルベース金属層 ３２１ 上層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年６月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
Claims (35)
- 【請求項１】 ガラス基板はその上に内側より外方へ向
けて、Ｓｉ3Ｎ4の下層、ニッケルまたはニッケル合金の
第１層、銀の層、ニッケルまたはニッケル合金の第２
層、Ｓｉ3Ｎ4の上層から成る層構造を有し、ガラス基板
が約２ｍｍ〜６ｍｍの厚さを有する時、通常放射率（Ｅ
ｎ）は約０．１２未満、半球放射率（Ｅｈ）は約０．１
６未満を有することを特徴とするスパッタ被膜形成ガラ
ス製品。 - 【請求項２】 該層構造は耐久性があり、その可視光透
過率は約７８％以上であることを特徴とする請求項１記
載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項３】 該可視光透過率は８０％より大きいこと
を特徴とする請求項２記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項４】 該放射率Ｅｈは約０．１３以下、Ｅｎは
約０．１０以下であることを特徴とする請求項２記載の
被膜形成ガラス製品。 - 【請求項５】 該放射率Ｅｈは約０．１２〜０．１３、
Ｅｎは約０．０９〜０．１０であることを特徴とする請
求項４記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項６】 さらに、シート抵抗は１０．５オーム／
平方メートル以下を有することを特徴とする請求項２記
載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項７】 該シート抵抗は約９〜１０オーム／平方
メートルであることを特徴とする請求項６記載の被膜形
成ガラス製品。 - 【請求項８】 該ニッケルあるいはニッケル合金層は約
７オングストローム未満の厚さであり、銀層が１層の時
には該銀層の厚さは約９０オングストロームより厚いこ
とを特徴とする請求項１記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項９】 該銀層の厚さは約９０〜１０５オングス
トロームであることを特徴とする請求項８記載の被膜形
成ガラス製品。 - 【請求項１０】 該下層のＳｉ3Ｎ4層厚は約４００オン
グストローム以上で上層のＳｉ3Ｎ4層厚は約５４０オン
グストロームであることを特徴とする請求項８記載の被
膜形成ガラス製品。 - 【請求項１１】 該層構造は基本的に該５層から構成す
ることを特徴とする請求項１記載の被膜形成ガラス製
品。 - 【請求項１２】 該層構造はガラス基板から外方に向か
い、Ｓｉ3Ｎ4の第１層、ニクロムの第２層、銀の第３
層、ニクロムの第４層、銀の第５層、ニクロムの第６
層、Ｓｉ3Ｎ4の第７層から構成したことを特徴とする請
求項１記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項１３】 該銀層の各々は約５０オングストロー
ムの厚さ、該ニクロム層の各々は約７オングストローム
未満の厚さであることを特徴とする請求項１２記載の被
膜形成ガラス製品。 - 【請求項１４】 該ニッケルあるいはニッケル合金層の
少なくとも一方はニッケル、クロム合金であり、該クロ
ムの部分はクロムの窒化物であることを特徴とする請求
項１記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項１５】 該ニッケルあるいはニッケル合金層の
すべてはニッケル、クロム合金であり、該クロムの部分
はクロムの窒化物であることを特徴とする請求項１４記
載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項１６】 該ニッケル、クロム合金は約８０重量
％のニッケルと約２０重量％のクロムから成ることを特
徴とする請求項１５記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項１７】 該透過率は約８０％以上、放射率Ｅｈ
は約０．１３以下、Ｅｎは約０．１０以下であることを
特徴とする請求項１６記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項１８】 該被膜形成ガラスはシート抵抗約１
０．５オーム／平方メートル以下を有することを特徴と
する請求項１７記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項１９】 該ニッケル層は約７オングストローム
未満の厚さであり、該銀層の総厚さは約９０〜１０５オ
ングストロームであることを特徴とする請求項１８記載
の被膜形成 - 【請求項２０】 厚さ約９５オングストロームの銀層が
１層のみ存在することを特徴とする請求項１９記載の被
膜形成ガラス製品。 - 【請求項２１】 ニクロム層で分けられた２層の銀層
で、その各々の厚さは約５０オングストロームであるこ
とを特徴とする請求項１９記載の被膜形成ガラス製品。 - 【請求項２２】 スパッタ被膜形成によってガラス基板
上に連続的に次に示す工程によって層を塗布形成する方
法において、 ａ）窒素含有雰囲気中でＳｉ3Ｎ4の下層を形成する工程
と、 ｂ）窒素含有雰囲気中でニッケル・クロム合金中のクロ
ム部分が窒化物となったニッケル・クロム合金の第１層
を形成する工程と、 ｃ）工程ｂ）で使用した同じ雰囲気内で、少なくとも１
層の銀層を形成する工程と、 ｄ）工程ｂ）および工程ｃ）で使用した同じ雰囲気内
で、ニッケル・クロム合金中のクロム部分が窒化物とな
ったニッケル・クロム合金の第２層を形成する工程と、 ｅ）窒素含有雰囲気中でＳｉ3Ｎ4の上層を形成する工程
から成り、該ガラス基板の厚さが約２ｍｍ〜６ｍｍの時
に、この被膜形成ガラスは通常放射率（Ｅｎ）が約０．
１２未満、半球状放射率（Ｅｈ）が約０．１６未満であ
ることを特徴とするガラス基板上に薄く、耐久性があ
り、太陽光制御能力のある層構造を形成する方法。 - 【請求項２３】 該スパッタ被膜形成は互いに分離した
複数のゾーン内で行われ、スパッタ被膜形成によってＳ
ｉ3Ｎ4層を形成する工程は各々がほぼ１００％の窒素雰
囲気を有する少なくとも２個の分離ゾーン内で行われ、
該Ｎｉ：Ｃｒ窒化物層と銀層の形成工程はアルゴンガス
約０〜７５体積％、窒素ガス１００％〜２５体積％から
成る同一混合雰囲気内でスパッタ被膜形成が行われるこ
とを特徴とする請求項２２記載の方法。 - 【請求項２４】 該窒素・アルゴン混合気体の比率は各
々約５０体積％であることを特徴とする請求項２３記載
の方法。 - 【請求項２５】 スパッタ被膜形成によって該Ｓｉ3Ｎ4
層を形成する工程では実質的に珪素（Ｓｉ）から成る筒
状ターゲットを使用し、該Ｎｉ：Ｃｒ窒化物層と銀層の
形成工程ではニクロムと銀の平面ターゲットをそれぞれ
使用することを特徴とする請求項２４記載の方法。 - 【請求項２６】 該透過率は８０％より大であることを
特徴とする請求項２５記載の方法。 - 【請求項２７】 該通常放射率（Ｅｎ）は約０．１０以
下、半球状放射率（Ｅｈ）は約０．１３以下であること
を特徴とする請求項２６記載の方法。 - 【請求項２８】 該被膜形成ガラスはシート抵抗１０．
５オーム／平方メートル以下を有することを特徴とする
請求項２７記載の方法。 - 【請求項２９】 該Ｎｉ：Ｃｒ窒化物層は約７オングス
トローム未満の厚さを有し、該銀層の総厚さは約９０〜
１０５オングストロームであることを特徴とする請求項
２８記載の方法。 - 【請求項３０】 該層構造は該工程ａ）〜ｅ）によって
形成された５層から成ることを特徴とする請求項２２記
載の方法。 - 【請求項３１】 該層構造は７層から成り、Ｎｉ：Ｃｒ
窒化物の中間層を間に有する少なくとも２層の銀層を形
成する工程を有することを特徴とする請求項２２記載の
方法。 - 【請求項３２】 該Ｓｉのスパッタ被膜形成は窒素・ア
ルゴン混合気体から成る雰囲気中で行われることを特徴
とする請求項２２記載の方法。 - 【請求項３３】 請求項２２記載の該方法によって製造
されるガラス製品。 - 【請求項３４】 請求項３０記載の該方法によって製造
されるガラス製品。 - 【請求項３５】 請求項３１記載の該方法によって製造
されるガラス製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/876,350 US5344718A (en) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | High performance, durable, low-E glass |
| US876350 | 1992-04-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06171984A true JPH06171984A (ja) | 1994-06-21 |
| JP2588831B2 JP2588831B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=25367504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5117845A Expired - Lifetime JP2588831B2 (ja) | 1992-04-30 | 1993-04-21 | 高性能、高耐久性、低放射率ガラスおよびその製法 |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5344718A (ja) |
| EP (1) | EP0567735B2 (ja) |
| JP (1) | JP2588831B2 (ja) |
| KR (1) | KR960010585B1 (ja) |
| CN (1) | CN1044358C (ja) |
| AT (1) | ATE172701T1 (ja) |
| AU (1) | AU659714B2 (ja) |
| BR (1) | BR9301659A (ja) |
| CA (1) | CA2089421C (ja) |
| CZ (1) | CZ284490B6 (ja) |
| DE (1) | DE69321754T3 (ja) |
| DK (1) | DK0567735T3 (ja) |
| ES (1) | ES2125920T3 (ja) |
| HU (1) | HU212342B (ja) |
| MX (1) | MX9301838A (ja) |
| NO (1) | NO931570L (ja) |
| NZ (1) | NZ247491A (ja) |
| PL (1) | PL175403B1 (ja) |
| RU (1) | RU2090919C1 (ja) |
| SK (1) | SK39393A3 (ja) |
| TR (1) | TR28296A (ja) |
| ZA (1) | ZA932087B (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10217378A (ja) * | 1996-12-12 | 1998-08-18 | Saint Gobain Vitrage | 薄層積重体を備えた基材を含むグレージング集成体 |
| JP2010500270A (ja) * | 2006-08-11 | 2010-01-07 | フオン・アルデンネ・アンラーゲンテヒニク・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング | 焼入れ可能な赤外線反射層系およびその製造方法 |
| JP4818558B2 (ja) * | 1999-12-06 | 2011-11-16 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 調和性で低ｅ値のｉ．ｇ．ユニットと積層物およびその製造方法 |
| JP2017516743A (ja) * | 2014-05-23 | 2017-06-22 | サン−ゴバン グラス フランス | 部分的金属膜を有する積層体を備えた基板、グレージングユニット、利用および方法 |
| JP2017522259A (ja) * | 2014-05-23 | 2017-08-10 | サン−ゴバン グラス フランス | 部分的金属膜を有する積層体を備えた基板、グレージングユニット、利用および方法 |
Families Citing this family (202)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW250618B (ja) * | 1993-01-27 | 1995-07-01 | Mitsui Toatsu Chemicals | |
| CA2120877A1 (en) * | 1993-04-28 | 1994-10-29 | Jesse D. Wolfe | Durable first and second surface mirrors |
| CA2120875C (en) * | 1993-04-28 | 1999-07-06 | The Boc Group, Inc. | Durable low-emissivity solar control thin film coating |
| US5395698A (en) * | 1993-06-04 | 1995-03-07 | Ppg Industries, Inc. | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making |
| US5688585A (en) | 1993-08-05 | 1997-11-18 | Guardian Industries Corp. | Matchable, heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same |
| US6673438B1 (en) * | 1994-05-03 | 2004-01-06 | Cardinal Cg Company | Transparent article having protective silicon nitride film |
| DK0758306T3 (da) * | 1994-05-03 | 1999-05-10 | Cardinal Ig Co | Transparent genstand med beskyttelsesfilm af siliciumnitrid |
| US5521765A (en) * | 1994-07-07 | 1996-05-28 | The Boc Group, Inc. | Electrically-conductive, contrast-selectable, contrast-improving filter |
| US5514476A (en) * | 1994-12-15 | 1996-05-07 | Guardian Industries Corp. | Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| US5557462A (en) * | 1995-01-17 | 1996-09-17 | Guardian Industries Corp. | Dual silver layer Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom |
| AU680786B2 (en) * | 1995-06-07 | 1997-08-07 | Guardian Industries Corporation | Heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same |
| US6086210A (en) * | 1995-06-29 | 2000-07-11 | Cardinal Ig Company | Bendable mirrors and method of manufacture |
| US6142642A (en) * | 1995-06-29 | 2000-11-07 | Cardinal Ig Company | Bendable mirrors and method of manufacture |
| US5770321A (en) * | 1995-11-02 | 1998-06-23 | Guardian Industries Corp. | Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom |
| MX9605168A (es) * | 1995-11-02 | 1997-08-30 | Guardian Industries | Sistema de recubrimiento con vidrio de baja emisividad, durable, de alto funcionamiento, neutro, unidades de vidrio aislante elaboradas a partir del mismo, y metodos para la fabricacion de los mismos. |
| US6316111B1 (en) * | 1996-03-01 | 2001-11-13 | Cardinal Cg Company | Heat-emperable coated glass article |
| US6231999B1 (en) * | 1996-06-21 | 2001-05-15 | Cardinal Ig Company | Heat temperable transparent coated glass article |
| DE19643550A1 (de) * | 1996-10-24 | 1998-05-14 | Leybold Systems Gmbh | Lichttransparentes, Wärmestrahlung reflektierendes Schichtensystem |
| US20050096288A1 (en) * | 1997-06-13 | 2005-05-05 | Aragene, Inc. | Lipoproteins as nucleic acid vectors |
| US6495251B1 (en) | 1997-06-20 | 2002-12-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silicon oxynitride protective coatings |
| US6132881A (en) * | 1997-09-16 | 2000-10-17 | Guardian Industries Corp. | High light transmission, low-E sputter coated layer systems and insulated glass units made therefrom |
| EP1051364B1 (en) | 1997-10-31 | 2002-04-10 | Cardinal CG Company | Heat-bendable mirrors |
| US6040939A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-21 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates |
| US6398925B1 (en) * | 1998-12-18 | 2002-06-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods and apparatus for producing silver based low emissivity coatings without the use of metal primer layers and articles produced thereby |
| US6416194B1 (en) * | 1999-02-11 | 2002-07-09 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Thermostable back-surface mirrors |
| US6797388B1 (en) | 1999-03-18 | 2004-09-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby |
| US6461731B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-10-08 | Guardian Industries Corp. | Solar management coating system including protective DLC |
| US6284377B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-09-04 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6261693B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-07-17 | Guardian Industries Corporation | Highly tetrahedral amorphous carbon coating on glass |
| US6368664B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-04-09 | Guardian Industries Corp. | Method of ion beam milling substrate prior to depositing diamond like carbon layer thereon |
| US6447891B1 (en) * | 1999-05-03 | 2002-09-10 | Guardian Industries Corp. | Low-E coating system including protective DLC |
| US6280834B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-28 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC and/or FAS on substrate |
| US6312808B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-11-06 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating with DLC & FAS on substrate |
| US6273488B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-14 | Guardian Industries Corporation | System and method for removing liquid from rear window of a vehicle |
| US6338901B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-15 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6277480B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-21 | Guardian Industries Corporation | Coated article including a DLC inclusive layer(s) and a layer(s) deposited using siloxane gas, and corresponding method |
| US6475573B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-11-05 | Guardian Industries Corp. | Method of depositing DLC inclusive coating on substrate |
| US6303225B1 (en) | 2000-05-24 | 2001-10-16 | Guardian Industries Corporation | Hydrophilic coating including DLC on substrate |
| US6335086B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-01 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| US6078425A (en) * | 1999-06-09 | 2000-06-20 | The Regents Of The University Of California | Durable silver coating for mirrors |
| US6495263B2 (en) | 1999-12-06 | 2002-12-17 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles and methods of making same |
| US6475626B1 (en) | 1999-12-06 | 2002-11-05 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles and methods of making same |
| WO2001066483A1 (en) | 2000-03-06 | 2001-09-13 | Guardian Industries, Inc. | Low-emissivity glass coatings having a layer of nitrided nichrome and methods of making same |
| US20020031674A1 (en) | 2000-03-06 | 2002-03-14 | Laird Ronald E. | Low-emissivity glass coatings having a layer of silicon oxynitride and methods of making same |
| US6389772B2 (en) | 2000-04-19 | 2002-05-21 | William B. Gleckman | Universal building unit for building structures |
| US6576349B2 (en) | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US6887575B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-05-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s) |
| US6445503B1 (en) | 2000-07-10 | 2002-09-03 | Guardian Industries Corp. | High durable, low-E, heat treatable layer coating system |
| US7462398B2 (en) * | 2004-02-27 | 2008-12-09 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with zinc oxide over IR reflecting layer and corresponding method |
| US7344782B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-03-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7879448B2 (en) * | 2000-07-11 | 2011-02-01 | Guardian Industires Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7267879B2 (en) | 2001-02-28 | 2007-09-11 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon oxynitride adjacent glass |
| US7462397B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-12-09 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon nitride inclusive layer adjacent glass |
| US6416872B1 (en) | 2000-08-30 | 2002-07-09 | Cp Films, Inc. | Heat reflecting film with low visible reflectance |
| US6336999B1 (en) | 2000-10-11 | 2002-01-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et Al Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Apparatus for sputter-coating glass and corresponding method |
| US20020172775A1 (en) * | 2000-10-24 | 2002-11-21 | Harry Buhay | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US7311961B2 (en) * | 2000-10-24 | 2007-12-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| DE10105199C1 (de) * | 2001-02-06 | 2002-06-20 | Saint Gobain | Vorspannbares Low-E-Schichtsystem für Fensterscheiben sowie mit dem Low-E-Schichtsystem beschichtete transparente Scheibe |
| EP1961712A1 (en) | 2001-02-08 | 2008-08-27 | Guardian Industries Corp. | Low E-matchable coated articles and methods of making same |
| US6524714B1 (en) * | 2001-05-03 | 2003-02-25 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with metal nitride layer and methods of making same |
| US6627317B2 (en) | 2001-05-17 | 2003-09-30 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with anti-migration barrier layer between dielectric and solar control layers, and methods of making same |
| US6667121B2 (en) | 2001-05-17 | 2003-12-23 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with anti-migration barrier between dielectric and solar control layer portion, and methods of making same |
| US20030043464A1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-03-06 | Dannenberg Rand David | Optical coatings and associated methods |
| US20030049464A1 (en) | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Afg Industries, Inc. | Double silver low-emissivity and solar control coatings |
| US6605358B1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-08-12 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles, and methods |
| EP1903013A1 (en) * | 2001-09-13 | 2008-03-26 | Guardian, Industries Corp. | Low-E matchable coated articles, and methods of making the same |
| US6942923B2 (en) | 2001-12-21 | 2005-09-13 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
| US6936347B2 (en) | 2001-10-17 | 2005-08-30 | Guardian Industries Corp. | Coated article with high visible transmission and low emissivity |
| US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
| US6602608B2 (en) * | 2001-11-09 | 2003-08-05 | Guardian Industries, Corp. | Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same |
| US6589658B1 (en) | 2001-11-29 | 2003-07-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
| US6586102B1 (en) | 2001-11-30 | 2003-07-01 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
| US6830817B2 (en) * | 2001-12-21 | 2004-12-14 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
| WO2003074442A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-12 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| US6919133B2 (en) | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| US6749941B2 (en) | 2002-03-14 | 2004-06-15 | Guardian Industries Corp. | Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with silicon-rich silicon nitride layer |
| AU2003239167B2 (en) * | 2002-04-25 | 2007-01-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated articles having a protective coating and cathode targets for making the coated articles |
| CZ307527B6 (cs) * | 2002-04-25 | 2018-11-14 | Vitro, S.A.B. De C.V. | Výrobek s povlakovým souvrstvím obsahujícím bariérový povlak a způsob výroby tohoto výrobku |
| CA2483260C (en) * | 2002-05-06 | 2008-12-09 | Guardian Industries Corp. | Sputter coating apparatus including ion beam source(s), and corresponding method |
| DE10235154B4 (de) * | 2002-08-01 | 2005-01-05 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Vorspannbares Schichtsystem für Glasscheiben |
| US6787005B2 (en) | 2002-09-04 | 2004-09-07 | Guardian Industries Corp. | Methods of making coated articles by sputtering silver in oxygen inclusive atmosphere |
| US20040111806A1 (en) * | 2002-12-11 | 2004-06-17 | Scheper William Michael | Compositions comprising glycol ether solvents and methods employing same |
| GB2396436B (en) | 2002-12-19 | 2006-06-28 | Thales Plc | An optical filter |
| US7005190B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-02-28 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with reduced color shift at high viewing angles |
| US6994910B2 (en) * | 2003-01-09 | 2006-02-07 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium nitride IR reflecting layer |
| WO2004074531A2 (en) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | Guardian, Industries Corp. | Coated articles with nitrided layer and methods of making same |
| US6852419B2 (en) * | 2003-02-21 | 2005-02-08 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium chromium nitride IR reflecting layer and method of making same |
| EP1611265B1 (en) * | 2003-03-28 | 2017-05-03 | Vitro, S.A.B. de C.V. | Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials |
| US6974630B1 (en) | 2003-05-20 | 2005-12-13 | Guardian Industries Corp. | Coated article with niobium chromium inclusive barrier layer(s) and method of making same |
| DE602004011062T2 (de) | 2003-06-24 | 2009-01-02 | Cardinal Cg Co., Eden Prairie | Konzentrationsmodulierte beschichtungen |
| US20050223500A1 (en) * | 2003-06-27 | 2005-10-13 | The Procter & Gamble Company | Solvent treatment of fabric articles |
| US7153579B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-12-26 | Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique S.A, (C.R.V.C.) | Heat treatable coated article with tin oxide inclusive layer between titanium oxide and silicon nitride |
| US7087309B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-08-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with tin oxide, silicon nitride and/or zinc oxide under IR reflecting layer and corresponding method |
| US7223479B2 (en) * | 2003-09-29 | 2007-05-29 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with dual layer undercoat |
| FR2862961B1 (fr) * | 2003-11-28 | 2006-02-17 | Saint Gobain | Substrat transparent utilisable alternativement ou cumulativement pour le controle thermique, le blindage electromagnetique et le vitrage chauffant. |
| US7081302B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer |
| US9051211B2 (en) * | 2004-04-27 | 2015-06-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Effects of methods of manufacturing sputtering targets on characteristics of coatings |
| ATE459092T1 (de) | 2004-05-05 | 2010-03-15 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Beschichtungsvorrichtung mit grossflächiger anordnung von drehbaren magnetronkathoden |
| US8500965B2 (en) * | 2004-05-06 | 2013-08-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | MSVD coating process |
| US8524051B2 (en) * | 2004-05-18 | 2013-09-03 | Centre Luxembourg de Recherches pour le Verre et al Ceramique S. A. (C.R.V.C.) | Coated article with oxidation graded layer proximate IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7108889B2 (en) * | 2004-05-18 | 2006-09-19 | Guardian Industries Corp. | Glass interleaving material and method |
| US7550067B2 (en) * | 2004-06-25 | 2009-06-23 | Guardian Industries Corp. | Coated article with ion treated underlayer and corresponding method |
| US7585396B2 (en) | 2004-06-25 | 2009-09-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with ion treated overcoat layer and corresponding method |
| US7563347B2 (en) * | 2004-06-25 | 2009-07-21 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Method of forming coated article using sputtering target(s) and ion source(s) and corresponding apparatus |
| US7311975B2 (en) * | 2004-06-25 | 2007-12-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article having low-E coating with ion beam treated IR reflecting layer and corresponding method |
| US7229533B2 (en) * | 2004-06-25 | 2007-06-12 | Guardian Industries Corp. | Method of making coated article having low-E coating with ion beam treated and/or formed IR reflecting layer |
| US7419725B2 (en) * | 2004-09-01 | 2008-09-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7198851B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-04-03 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7189458B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-03-13 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7217461B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-05-15 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US20060065350A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Guardian Industries Corp. | Method of making heat treated coated glass article, and intermediate product used in same |
| US7291251B2 (en) * | 2004-10-19 | 2007-11-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Method of making coated article with IR reflecting layer(s) using krypton gas |
| US7267748B2 (en) * | 2004-10-19 | 2007-09-11 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. | Method of making coated article having IR reflecting layer with predetermined target-substrate distance |
| US7390572B2 (en) * | 2004-11-05 | 2008-06-24 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer(s) and method of making same |
| US20060246218A1 (en) | 2005-04-29 | 2006-11-02 | Guardian Industries Corp. | Hydrophilic DLC on substrate with barrier discharge pyrolysis treatment |
| US7597962B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
| US7166359B2 (en) * | 2005-06-27 | 2007-01-23 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Blue colored coated article with low-E coating |
| US7597963B2 (en) * | 2005-07-08 | 2009-10-06 | Guardian Industries Corp. | Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with specific color characteristics and low sheet resistance |
| DE102005038139B4 (de) * | 2005-08-12 | 2008-05-21 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem und dessen Verwendung |
| US7572511B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-08-11 | Cardinal Cg Company | High infrared reflection coatings |
| US7339728B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-04 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient |
| US7342716B2 (en) | 2005-10-11 | 2008-03-11 | Cardinal Cg Company | Multiple cavity low-emissivity coatings |
| US8377524B2 (en) | 2005-12-27 | 2013-02-19 | Guardian Industries Corp. | High R-value window unit |
| US7845142B2 (en) * | 2005-12-27 | 2010-12-07 | Guardian Industries Corp. | High R-value window unit with vacuum IG unit and insulating frame |
| DE102006014796B4 (de) * | 2006-03-29 | 2009-04-09 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für transparente Substrate |
| DE102006023115A1 (de) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Schott Ag | Backlightsystem mit IR-Absorptionseigenschaften |
| US8420162B2 (en) * | 2006-07-07 | 2013-04-16 | Guardian Industries Corp. | Method of making coated article using rapid heating for reducing emissivity and/or sheet resistance, and corresponding product |
| CN100595172C (zh) * | 2006-10-19 | 2010-03-24 | 林嘉宏 | 可钢化低辐射镀膜玻璃及其生产方法 |
| US8203073B2 (en) | 2006-11-02 | 2012-06-19 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
| US8076571B2 (en) | 2006-11-02 | 2011-12-13 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
| US7964788B2 (en) | 2006-11-02 | 2011-06-21 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
| FR2911130B1 (fr) * | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
| US7655313B2 (en) * | 2007-03-15 | 2010-02-02 | Guardian Industries Corp. | Low-E coated articles and methods of making same |
| CN101100354B (zh) * | 2007-06-25 | 2011-01-19 | 沈阳建筑大学 | 一种低辐射玻璃的制作方法 |
| DE102007033338B4 (de) * | 2007-07-16 | 2010-06-02 | Schott Ag | Hartstoffbeschichteter Glas- oder Glaskeramik-Artikel und Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Glas- oder Glaskeramik-Artikels |
| FR2922886B1 (fr) * | 2007-10-25 | 2010-10-29 | Saint Gobain | Substrat verrier revetu de couches a resistivite amelioree. |
| US7888594B2 (en) | 2007-11-20 | 2011-02-15 | Guardian Industries Corp. | Photovoltaic device including front electrode having titanium oxide inclusive layer with high refractive index |
| EA020277B1 (ru) | 2008-03-20 | 2014-10-30 | Агк Гласс Юроп | Остекление с защитными слоями |
| US8409717B2 (en) * | 2008-04-21 | 2013-04-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
| US8263227B2 (en) † | 2008-06-25 | 2012-09-11 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including zirconium oxide and/or zirconium silicon oxynitride and methods of making same |
| US8722210B2 (en) * | 2008-08-14 | 2014-05-13 | Lg Hausys, Ltd. | Low emissivity glass and method for manufacturing the same |
| US8022291B2 (en) | 2008-10-15 | 2011-09-20 | Guardian Industries Corp. | Method of making front electrode of photovoltaic device having etched surface and corresponding photovoltaic device |
| FR2937366B1 (fr) † | 2008-10-17 | 2010-10-29 | Saint Gobain | Vitrage multiple incorporant au moins un revetement antireflet et utilisation d'un revetement antireflet dans un vitrage multiple |
| US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
| US8834976B2 (en) | 2010-02-26 | 2014-09-16 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same |
| US8524337B2 (en) * | 2010-02-26 | 2013-09-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treated coated article having glass substrate(s) and indium-tin-oxide (ITO) inclusive coating |
| US8939606B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-01-27 | Guardian Industries Corp. | Heatable lens for luminaires, and/or methods of making the same |
| US8815059B2 (en) | 2010-08-31 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation |
| US10654747B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings with subcritical copper |
| US10654748B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings providing increased absorption or tint |
| US9932267B2 (en) * | 2010-03-29 | 2018-04-03 | Vitro, S.A.B. De C.V. | Solar control coatings with discontinuous metal layer |
| US20120090246A1 (en) * | 2010-10-15 | 2012-04-19 | Guardian Industries Corp. | Refrigerator/freezer door, and/or method of making the same |
| US9487437B2 (en) * | 2011-02-11 | 2016-11-08 | Guardian Industries Corp. | Substrates or assemblies having indirectly laser-fused frits, and/or method of making the same |
| US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
| CN102653455B (zh) | 2011-03-01 | 2015-05-13 | 苏州大学 | 低辐射薄膜、低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
| US8709604B2 (en) * | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US8679633B2 (en) * | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
| KR20130034334A (ko) * | 2011-09-28 | 2013-04-05 | 한국전자통신연구원 | 태양 전지를 포함하는 진공창 및 그 제조 방법 |
| FR2988387B1 (fr) * | 2012-03-21 | 2017-06-16 | Saint Gobain | Vitrage de controle solaire |
| US9150003B2 (en) | 2012-09-07 | 2015-10-06 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating having absorbing layers for low film side reflectance and low visible transmission |
| RU2018145297A (ru) | 2013-02-28 | 2019-01-22 | Гардиан Индастриз Корп. | Оконные модули, изготовленные с использованием керамической фритты, которая растворяет покрытия, нанесенные методом физического осаждения из паровой фазы (pvd), и/или соответствующие способы |
| CN103848576A (zh) * | 2013-09-05 | 2014-06-11 | 洛阳新晶润工程玻璃有限公司 | 一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法 |
| CN103802379B (zh) * | 2014-01-26 | 2015-08-05 | 林嘉佑 | 一种含银合金的可钢化低辐射镀膜玻璃 |
| WO2015171340A1 (en) | 2014-05-09 | 2015-11-12 | 3M Innovative Properties Company | Article with hardcoat and method of making the same |
| DE102014108679A1 (de) | 2014-06-20 | 2015-12-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optisches Element mit einer reflektierenden Beschichtung |
| US10526244B2 (en) | 2014-10-20 | 2020-01-07 | Pilkington Group Limited | Insulated glazing unit |
| US10723102B2 (en) | 2015-04-20 | 2020-07-28 | 3M Innovative Properties Company | Durable low emissivity window film constructions |
| FR3052769B1 (fr) * | 2016-06-15 | 2018-07-13 | Saint-Gobain Glass France | Feuille de verre avec email reflechissant le rayonnement infrarouge |
| US10227819B2 (en) | 2017-02-24 | 2019-03-12 | Guardian Glass, LLC | Coated article with low-E coating having doped silver IR reflecting layer(s) |
| US10233532B2 (en) | 2017-03-01 | 2019-03-19 | Guardian Glass, LLC | Coated article with low-E coating having reflecting system with silver and zinc based barrier layer(s) |
| US10233531B2 (en) | 2017-03-01 | 2019-03-19 | Guardian Glass, LLC | Coated article with low-E coating having protective doped silver layer for protecting silver based IR reflecting layer(s), and method of making same |
| US10253560B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-04-09 | Guardian Glass, LLC | Coated article with IR reflecting layer(s) and overcoat for improving solar gain and visible transmission |
| US10196735B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-02-05 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and doped titanium oxide dielectric layer(s) and method of making same |
| US10179946B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-01-15 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and niobium bismuth based high index layer and method of making same |
| US10287673B2 (en) | 2017-03-07 | 2019-05-14 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(S) and yttrium inclusive high index nitrided dielectric layer |
| US10266937B2 (en) | 2017-03-09 | 2019-04-23 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and hafnium inclusive high index nitrided dielectric layer |
| US10138159B2 (en) | 2017-03-09 | 2018-11-27 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric film having multiple layers |
| US10138158B2 (en) | 2017-03-10 | 2018-11-27 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric layers |
| CN111051929B (zh) | 2017-04-17 | 2024-07-12 | 3E纳诺公司 | 能量控制涂层、结构、装置及其制造方法 |
| US10556821B2 (en) | 2017-04-26 | 2020-02-11 | Guardian Glass, LLC | Laminated window including different glass substrates with low-E coating adjacent vehicle or building interior and/or methods of making the same |
| US10472274B2 (en) | 2017-07-17 | 2019-11-12 | Guardian Europe S.A.R.L. | Coated article having ceramic paint modified surface(s), and/or associated methods |
| US20190043640A1 (en) | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Vitro Flat Glass, LLC | Protective Layer Over a Functional Coating |
| US10650935B2 (en) | 2017-08-04 | 2020-05-12 | Vitro Flat Glass Llc | Transparent conductive oxide having an embedded film |
| US20190040523A1 (en) | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Vitro Flat Glass, LLC | Method of Decreasing Sheet Resistance in an Article Coated with a Transparent Conductive Oxide |
| US11078718B2 (en) | 2018-02-05 | 2021-08-03 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings with quadruple metallic layers |
| KR20200120936A (ko) | 2018-02-15 | 2020-10-22 | 비트로 플랫 글래스 엘엘씨 | 규소 질화물 및/또는 규소 산소질화물을 함유하는 보호 코팅을 갖는 코팅된 물품 |
| US20190345754A1 (en) | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Guardian Glass, LLC | Vacuum insulating glass (vig) window unit |
| US10590031B2 (en) | 2018-05-11 | 2020-03-17 | Guardian Glass, LLC | Method and system utilizing ellipsometry to detect corrosion on glass |
| US10562812B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-02-18 | Guardian Glass, LLC | Coated article having metamaterial-inclusive layer, coating having metamaterial-inclusive layer, and/or method of making the same |
| US10830933B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-11-10 | Guardian Glass, LLC | Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same |
| WO2020083691A1 (en) | 2018-10-25 | 2020-04-30 | Agc Glass Europe | Low reflectance solar control glazing |
| US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
| JP7332709B2 (ja) | 2019-03-19 | 2023-08-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 疎水性及び疎氷性コーティング |
| US10696584B1 (en) * | 2019-11-26 | 2020-06-30 | Guardian Europe S.A.R.L. | Coated article with low-E coating having protective contact layer including Ag, Ni, and Cr for protecting silver based IR reflecting layer(s), and method of making same |
| CN111876738A (zh) * | 2020-07-25 | 2020-11-03 | 童玲 | 一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机 |
| US11959272B1 (en) | 2020-11-25 | 2024-04-16 | Herbert L. deNourie | Building construction |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3272986A (en) * | 1963-09-27 | 1966-09-13 | Honeywell Inc | Solar heat absorbers comprising alternate layers of metal and dielectric material |
| US3649359A (en) * | 1969-10-27 | 1972-03-14 | Optical Coating Laboratory Inc | Multilayer filter with metal dielectric period |
| US3698946A (en) * | 1969-11-21 | 1972-10-17 | Hughes Aircraft Co | Transparent conductive coating and process therefor |
| US3682528A (en) * | 1970-09-10 | 1972-08-08 | Optical Coating Laboratory Inc | Infra-red interference filter |
| DE2203943C2 (de) * | 1972-01-28 | 1974-02-21 | Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth | Wärmerefexionsscheibe, die gute Farbgleichmäßigkeit aufweist, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
| US3846152A (en) * | 1972-05-12 | 1974-11-05 | Ppg Industries Inc | Selective reflecting metal/metal oxide coatings |
| US3900673A (en) * | 1972-08-28 | 1975-08-19 | Libbey Owens Ford Co | Automotive glazing structure |
| DE2256441C3 (de) * | 1972-11-17 | 1978-06-22 | Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth | In Durchsicht und Draufsicht farbneutrale wärmereflektierende Scheibe und ihre Verwendung in Verbundsicherheits- und Doppelscheiben |
| DE2334152B2 (de) * | 1973-07-05 | 1975-05-15 | Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth | Wärmereflektierende, 20 bis 60% des sichtbaren Lichtes durchlassende Fensterscheibe mit verbesserter Farbneutralltät In der Ansicht und ihre Verwendung |
| US3990784A (en) * | 1974-06-05 | 1976-11-09 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Coated architectural glass system and method |
| US3962488A (en) * | 1974-08-09 | 1976-06-08 | Ppg Industries, Inc. | Electrically conductive coating |
| US4337990A (en) * | 1974-08-16 | 1982-07-06 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| US4556277A (en) * | 1976-05-27 | 1985-12-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| US4179181A (en) * | 1978-04-03 | 1979-12-18 | American Optical Corporation | Infrared reflecting articles |
| US4223974A (en) * | 1978-08-02 | 1980-09-23 | American Optical Corporation | Enhanced bonding of silicon oxides and silver by intermediate coating of metal |
| US4204942A (en) * | 1978-10-11 | 1980-05-27 | Heat Mirror Associates | Apparatus for multilayer thin film deposition |
| FR2474701A1 (fr) * | 1979-12-19 | 1981-07-31 | France Etat | Filtre optique interferentiel de protection contre les radiations infrarouges et application |
| DE3039821A1 (de) * | 1980-10-22 | 1982-06-03 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Mehrschichtsystem fuer waermeschutzanwendung |
| US4335166A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-15 | Cardinal Insulated Glass Co. | Method of manufacturing a multiple-pane insulating glass unit |
| US4422916A (en) * | 1981-02-12 | 1983-12-27 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
| US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
| JPS57195207A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Olympus Optical Co Ltd | Light absorbing film |
| US4444635A (en) * | 1981-07-22 | 1984-04-24 | Hitachi, Ltd. | Film forming method |
| JPS5890604A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-05-30 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 赤外線遮蔽積層体 |
| DE3370195D1 (en) * | 1982-06-30 | 1987-04-16 | Teijin Ltd | Optical laminar structure |
| DE3311815C3 (de) * | 1983-03-31 | 1997-12-04 | Leybold Ag | Verfahren zum Herstellen von Scheiben |
| US4780372A (en) * | 1984-07-20 | 1988-10-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Silicon nitride protective coatings for silvered glass mirrors |
| US4716086A (en) * | 1984-12-19 | 1987-12-29 | Ppg Industries, Inc. | Protective overcoat for low emissivity coated article |
| US4799745A (en) * | 1986-06-30 | 1989-01-24 | Southwall Technologies, Inc. | Heat reflecting composite films and glazing products containing the same |
| US4847157A (en) * | 1986-08-28 | 1989-07-11 | Libbey-Owens-Ford Co. | Glass coating method and resulting article |
| US5201926A (en) * | 1987-08-08 | 1993-04-13 | Leybold Aktiengesellschaft | Method for the production of coated glass with a high transmissivity in the visible spectral range and with a high reflectivity for thermal radiation |
| CA2041038C (en) † | 1990-05-10 | 2001-01-02 | Jesse D. Wolfe | Durable low-emissivity thin film interference filter |
| DE4135701C2 (de) * | 1991-10-30 | 1995-09-28 | Leybold Ag | Scheibe mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung |
| US5229194A (en) * | 1991-12-09 | 1993-07-20 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable sputter-coated glass systems |
-
1992
- 1992-04-30 US US07/876,350 patent/US5344718A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-02-12 CA CA002089421A patent/CA2089421C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-02-19 AU AU33191/93A patent/AU659714B2/en not_active Ceased
- 1993-02-25 ES ES93102994T patent/ES2125920T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-25 DK DK93102994T patent/DK0567735T3/da active
- 1993-02-25 DE DE69321754T patent/DE69321754T3/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-02-25 AT AT93102994T patent/ATE172701T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-02-25 EP EP93102994A patent/EP0567735B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-24 ZA ZA932087A patent/ZA932087B/xx unknown
- 1993-03-31 MX MX9301838A patent/MX9301838A/es not_active IP Right Cessation
- 1993-04-07 TR TR00309/93A patent/TR28296A/xx unknown
- 1993-04-21 JP JP5117845A patent/JP2588831B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-26 CZ CZ93735A patent/CZ284490B6/cs unknown
- 1993-04-26 NZ NZ247491A patent/NZ247491A/en unknown
- 1993-04-26 KR KR1019930007014A patent/KR960010585B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-04-26 SK SK393-93A patent/SK39393A3/sk unknown
- 1993-04-27 BR BR9301659A patent/BR9301659A/pt not_active IP Right Cessation
- 1993-04-28 PL PL93298732A patent/PL175403B1/pl unknown
- 1993-04-29 NO NO93931570A patent/NO931570L/no not_active Application Discontinuation
- 1993-04-30 RU RU9393004817A patent/RU2090919C1/ru active
- 1993-04-30 HU HU9301271A patent/HU212342B/hu not_active IP Right Cessation
- 1993-04-30 CN CN93105250A patent/CN1044358C/zh not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-01-10 US US08/179,129 patent/US5425861A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10217378A (ja) * | 1996-12-12 | 1998-08-18 | Saint Gobain Vitrage | 薄層積重体を備えた基材を含むグレージング集成体 |
| JP4633872B2 (ja) * | 1996-12-12 | 2011-02-16 | サン−ゴバン グラス フランス | 薄層積重体を備えた基材を含むグレージング集成体 |
| JP4818558B2 (ja) * | 1999-12-06 | 2011-11-16 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 調和性で低ｅ値のｉ．ｇ．ユニットと積層物およびその製造方法 |
| JP2010500270A (ja) * | 2006-08-11 | 2010-01-07 | フオン・アルデンネ・アンラーゲンテヒニク・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング | 焼入れ可能な赤外線反射層系およびその製造方法 |
| JP2017516743A (ja) * | 2014-05-23 | 2017-06-22 | サン−ゴバン グラス フランス | 部分的金属膜を有する積層体を備えた基板、グレージングユニット、利用および方法 |
| JP2017522259A (ja) * | 2014-05-23 | 2017-08-10 | サン−ゴバン グラス フランス | 部分的金属膜を有する積層体を備えた基板、グレージングユニット、利用および方法 |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2588831B2 (ja) | 高性能、高耐久性、低放射率ガラスおよびその製法 | |
| US6059909A (en) | Neutral, high visible, durable low-E glass coating system, insulating glass units made therefrom, and methods of making same | |
| US5800933A (en) | Neutral, high performance, durable low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom | |
| JP4763569B2 (ja) | 高赤外反射コーティング、薄膜コーティング堆積方法および関連技術 | |
| US7342716B2 (en) | Multiple cavity low-emissivity coatings | |
| US6863928B2 (en) | Low-E matchable coated articles and methods of making same | |
| US7534497B2 (en) | Temperable high shading performance coatings | |
| US6287675B1 (en) | Transparent substrate provided with a stack of thin layers | |
| AU2019311836B2 (en) | Coated article with IR reflecting layer(s) and silicon zirconium oxynitride layer(s) and method of making same | |
| HU219378B (en) | A sputter coated glass and insulating glass | |
| JPH07172872A (ja) | 熱処理可能な被膜ガラス及びその製法 | |
| HU217948B (hu) | Szórt bevonatú üveg, valamint hőszigetelő üvegezés |