JPH06168418A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH06168418A JPH06168418A JP33778592A JP33778592A JPH06168418A JP H06168418 A JPH06168418 A JP H06168418A JP 33778592 A JP33778592 A JP 33778592A JP 33778592 A JP33778592 A JP 33778592A JP H06168418 A JPH06168418 A JP H06168418A
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- Japan
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- substrate
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜磁気ヘッドにおいて、記録媒体の走行に
よって生じる、摺動面における基板と保護基板に挟まれ
た薄膜層の偏摩耗を防止すること。 【構成】 磁性基板6上に少なくとも電磁変換のための
MR素子層8を含む磁気回路層4、5、絶縁層7、10お
よび保護層3を形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、基板
および保護層のうち少なくとも一つの層をSiC、CrN
などの高硬度の材料で形成する。
よって生じる、摺動面における基板と保護基板に挟まれ
た薄膜層の偏摩耗を防止すること。 【構成】 磁性基板6上に少なくとも電磁変換のための
MR素子層8を含む磁気回路層4、5、絶縁層7、10お
よび保護層3を形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、基板
および保護層のうち少なくとも一つの層をSiC、CrN
などの高硬度の材料で形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録再生装置に用い
る長寿命の薄膜磁気ヘッドに関し、特に、コア部分の偏
摩耗を防ぎ、スペーシング・ロスによる出力低下を防ぐ
ように構成したものである。
る長寿命の薄膜磁気ヘッドに関し、特に、コア部分の偏
摩耗を防ぎ、スペーシング・ロスによる出力低下を防ぐ
ように構成したものである。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録再生装置の高記録密度
化、データの高転送速度化に対応して薄膜磁気ヘッドが
注目されている。
化、データの高転送速度化に対応して薄膜磁気ヘッドが
注目されている。
【0003】従来の磁気抵抗素子(以下、MR素子とい
う)を使用した薄膜磁気ヘッドは、図5の断面図に示す
ように、AlTiC等の非磁性基板12上に、例えば、パー
マロイ等の下部磁性層16を形成し、この上にSiO2等の
絶縁層10を介してAu等のバイアス層9を形成し、その
上にAl2O3等の絶縁層7を介してMR素子層8を形成
する。
う)を使用した薄膜磁気ヘッドは、図5の断面図に示す
ように、AlTiC等の非磁性基板12上に、例えば、パー
マロイ等の下部磁性層16を形成し、この上にSiO2等の
絶縁層10を介してAu等のバイアス層9を形成し、その
上にAl2O3等の絶縁層7を介してMR素子層8を形成
する。
【0004】次に、絶縁層7を介してSiO2のギャップ
層5を形成した後、パーマロイ等の上部磁性層4を形成
し、この上に、例えば、Al2O3等の保護層17を形成
し、保護層17を平坦化して、AlTiC等の保護基板1を
接着した後、所定の形状に加工して、摺動面2を有する
薄膜磁気ヘッドを形成する。
層5を形成した後、パーマロイ等の上部磁性層4を形成
し、この上に、例えば、Al2O3等の保護層17を形成
し、保護層17を平坦化して、AlTiC等の保護基板1を
接着した後、所定の形状に加工して、摺動面2を有する
薄膜磁気ヘッドを形成する。
【0005】薄膜磁気ヘッドにおいて、コア部は基板に
比べて摩耗しやすいので、コア部における凹部の生成を
減少するために、基板、保護層、コア部分の硬度を、基
板>保護層>コア部分の順に設定している。
比べて摩耗しやすいので、コア部における凹部の生成を
減少するために、基板、保護層、コア部分の硬度を、基
板>保護層>コア部分の順に設定している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の薄膜磁
気ヘッドにおいては、記録媒体を走行させた場合、摺動
面2における基板1と保護基板1に挟まれた薄膜層の摩
耗形状はなだらかになるが、摩耗の絶対値はあまり減少
しないため、スペーシング・ロスが大きくなっていた。
特に、コア部分が、材料の硬度に応じて摩耗(以後、偏
摩耗という)し、スペーシング・ロスが生じるという問
題があった。
気ヘッドにおいては、記録媒体を走行させた場合、摺動
面2における基板1と保護基板1に挟まれた薄膜層の摩
耗形状はなだらかになるが、摩耗の絶対値はあまり減少
しないため、スペーシング・ロスが大きくなっていた。
特に、コア部分が、材料の硬度に応じて摩耗(以後、偏
摩耗という)し、スペーシング・ロスが生じるという問
題があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の薄膜磁気ヘッドは、絶縁層および保護層の
うち少なくとも一つの層が基板より高硬度の材料で構成
したものである。
に、本発明の薄膜磁気ヘッドは、絶縁層および保護層の
うち少なくとも一つの層が基板より高硬度の材料で構成
したものである。
【0008】
【作用】本発明の薄膜磁気ヘッドは、このように構成す
ることによって、記録媒体の走行に基づく摺動面におけ
る基板と保護基板に挟まれた薄膜層、特に、コア部分の
偏摩耗を防ぎ、スペーシング・ロスによる出力低下を防
ぐことができる。
ることによって、記録媒体の走行に基づく摺動面におけ
る基板と保護基板に挟まれた薄膜層、特に、コア部分の
偏摩耗を防ぎ、スペーシング・ロスによる出力低下を防
ぐことができる。
【0009】
(第1実施例)本発明の磁気抵抗素子を使用した薄膜磁
気ヘッドは、図1の断面図に示すように、例えば、Ni
Znフェライト磁性基板6の上に、SiO2等の絶縁層10
を介してAu等のバイアス層9を形成し、その上にAl2
O3等の絶縁層7を介してMR素子層8を形成する。
気ヘッドは、図1の断面図に示すように、例えば、Ni
Znフェライト磁性基板6の上に、SiO2等の絶縁層10
を介してAu等のバイアス層9を形成し、その上にAl2
O3等の絶縁層7を介してMR素子層8を形成する。
【0010】次に、絶縁層7を介してSiO2のギャップ
層5を形成した後、例えば、アモルファス磁性体やセン
ダスト等の磁性層4を形成し、この上に磁性基板6より
も高硬度の材料層3、例えば、SiC層をスパッタリン
グ法により形成する。そして、高硬度の材料層3を平坦
化し、BaTiO3等の保護基板1を接着した後、所定の
形状に加工して、摺動面2を有する薄膜磁気ヘッドを形
成する。
層5を形成した後、例えば、アモルファス磁性体やセン
ダスト等の磁性層4を形成し、この上に磁性基板6より
も高硬度の材料層3、例えば、SiC層をスパッタリン
グ法により形成する。そして、高硬度の材料層3を平坦
化し、BaTiO3等の保護基板1を接着した後、所定の
形状に加工して、摺動面2を有する薄膜磁気ヘッドを形
成する。
【0011】この実施例の構成において、磁性基板6よ
り高硬度の材料層3は、コア部の摩耗を緩和するように
作用し、偏摩耗を防止する効果を奏することができる。
また、高硬度の材料としてSiCを選択すると、室温に
おいて容易に高硬度の薄膜を形成でき、さらに、SiC
は、Al2O3に比べて高硬度で、熱膨張が小さく、熱伝
導率が大きいので高硬度の材料層3に適している。
り高硬度の材料層3は、コア部の摩耗を緩和するように
作用し、偏摩耗を防止する効果を奏することができる。
また、高硬度の材料としてSiCを選択すると、室温に
おいて容易に高硬度の薄膜を形成でき、さらに、SiC
は、Al2O3に比べて高硬度で、熱膨張が小さく、熱伝
導率が大きいので高硬度の材料層3に適している。
【0012】この実施例においては、高硬度の材料層3
を平坦化した後、保護基板1を接着しているが、SiC
は硬度が高いので、Al2O3等を高硬度の材料層3上に
形成し、このAl2O3の層を平坦化した後、保護基板1
を接着しても同様に形成することができる。
を平坦化した後、保護基板1を接着しているが、SiC
は硬度が高いので、Al2O3等を高硬度の材料層3上に
形成し、このAl2O3の層を平坦化した後、保護基板1
を接着しても同様に形成することができる。
【0013】また、この実施例は、MR素子に適用して
いるが、インダクティブ型の薄膜磁気ヘッドに適用して
も同様な効果を奏することができる。
いるが、インダクティブ型の薄膜磁気ヘッドに適用して
も同様な効果を奏することができる。
【0014】(第2実施例)第2実施例の薄膜磁気ヘッ
ドの基本的な構成は、図1の断面図に示す第1実施例と
ほぼ同じであるが、磁性層4の上に形成される高硬度の
材料層3として、CrN層をスパッタリング法により形
成したものである。このように構成すると、第1実施例
と同様な作用・効果のほかに、CrN層が導電性を有す
るので、薄膜磁気ヘッドが受ける静電気による影響を回
避し得るという効果を奏することができ、さらに、Cr
Nを用いると、室温で容易に高硬度の薄膜を形成するこ
とができる。
ドの基本的な構成は、図1の断面図に示す第1実施例と
ほぼ同じであるが、磁性層4の上に形成される高硬度の
材料層3として、CrN層をスパッタリング法により形
成したものである。このように構成すると、第1実施例
と同様な作用・効果のほかに、CrN層が導電性を有す
るので、薄膜磁気ヘッドが受ける静電気による影響を回
避し得るという効果を奏することができ、さらに、Cr
Nを用いると、室温で容易に高硬度の薄膜を形成するこ
とができる。
【0015】さらに、この実施例において、高硬度の材
料層3となるCrN層とバイアス層9等との絶縁を確保
するために、CrN層を形成する前に、図2に示すよう
に、予めSiO2等の絶縁層11を形成しておくことによ
り、同様の効果を奏することができる。
料層3となるCrN層とバイアス層9等との絶縁を確保
するために、CrN層を形成する前に、図2に示すよう
に、予めSiO2等の絶縁層11を形成しておくことによ
り、同様の効果を奏することができる。
【0016】(第3実施例)次に、インダクティブ型の
薄膜磁気ヘッドを構成する第3実施例について説明す
る。
薄膜磁気ヘッドを構成する第3実施例について説明す
る。
【0017】図3の断面図に示すように、AlTiC等の
非磁性基板12上に、この基板12よりも高硬度の第1の高
硬度の材料層13、例えば、SiC層をスッパタリング法
により形成し、その上に、例えば、アモルファス磁性体
やセンダスト等の下部磁性層16を形成する。次に、Si
O2等の絶縁層10を介してコイル層14を形成し、その上
にSiO2等の絶縁層7を介してSiO2のギャップ層5を
形成した後、上部磁性層4を形成し、この上に第2の高
硬度の材料層3、例えば、SiC層をスパッタリング法
によって形成する。
非磁性基板12上に、この基板12よりも高硬度の第1の高
硬度の材料層13、例えば、SiC層をスッパタリング法
により形成し、その上に、例えば、アモルファス磁性体
やセンダスト等の下部磁性層16を形成する。次に、Si
O2等の絶縁層10を介してコイル層14を形成し、その上
にSiO2等の絶縁層7を介してSiO2のギャップ層5を
形成した後、上部磁性層4を形成し、この上に第2の高
硬度の材料層3、例えば、SiC層をスパッタリング法
によって形成する。
【0018】次に、第2高硬度の材料層層3を平坦化
し、AlTiC等の保護基板1を接着した後、所定の形状
に加工して、摺動面2を有する薄膜磁気ヘッドを形成す
る。
し、AlTiC等の保護基板1を接着した後、所定の形状
に加工して、摺動面2を有する薄膜磁気ヘッドを形成す
る。
【0019】このように構成することにより、厚さの薄
いコア部4、5、16が、基板1、12より高硬度の材料層
3、13で挟まれているから、記録媒体が走行した場合、
高硬度の材料層3、13が記録媒体を受けとめ、記録媒体
がコア部に入り込んで接触するのを妨げるから、コア部
のみの摩耗を防いで、偏摩耗を少なくすることができ
る。
いコア部4、5、16が、基板1、12より高硬度の材料層
3、13で挟まれているから、記録媒体が走行した場合、
高硬度の材料層3、13が記録媒体を受けとめ、記録媒体
がコア部に入り込んで接触するのを妨げるから、コア部
のみの摩耗を防いで、偏摩耗を少なくすることができ
る。
【0020】また、高硬度の材料層3、13にSiCの代
わりにCrNを用いても同様の効果を奏することができ
る。
わりにCrNを用いても同様の効果を奏することができ
る。
【0021】なお、この第3実施例において、非磁性基
板12の上に形成する第1の高硬度の材料層13、上部磁性
層4の上に形成する第2の高硬度の材料層3のうち、第
1の高硬度の材料層13をSiC、第2の高硬度の材料層
3をCrNで形成しても、また第1の高硬度の材料層13
をCrN、第2の高硬度の材料層3をSiCで形成しても
よく、また、他に基板1、12より高硬度な材料どうしを
組合せて両高硬度の材料層を形成しても同様の効果を奏
することができる。
板12の上に形成する第1の高硬度の材料層13、上部磁性
層4の上に形成する第2の高硬度の材料層3のうち、第
1の高硬度の材料層13をSiC、第2の高硬度の材料層
3をCrNで形成しても、また第1の高硬度の材料層13
をCrN、第2の高硬度の材料層3をSiCで形成しても
よく、また、他に基板1、12より高硬度な材料どうしを
組合せて両高硬度の材料層を形成しても同様の効果を奏
することができる。
【0022】(その他の実施例)以上の各実施例におい
ては、SiC、CrN等の高硬度の材料層をスパッタリン
グ法によって形成しているが、高硬度の材料層の形成方
法として、真空薄膜形成プロセスを用いた方法、例え
ば、CVD、イオンプレーティング、蒸着等の方法を用
いることができる。
ては、SiC、CrN等の高硬度の材料層をスパッタリン
グ法によって形成しているが、高硬度の材料層の形成方
法として、真空薄膜形成プロセスを用いた方法、例え
ば、CVD、イオンプレーティング、蒸着等の方法を用
いることができる。
【0023】また、高硬度の材料層と他の膜あるいは他
の材料との接着力が弱い場合には、SiO2等の膜を介在
させることにより、高硬度の材料層との接着力を強化さ
せることができる。
の材料との接着力が弱い場合には、SiO2等の膜を介在
させることにより、高硬度の材料層との接着力を強化さ
せることができる。
【0024】以上の各実施例で用いた基板および高硬度
の材料の各硬度は、次の表に示すとおりである。
の材料の各硬度は、次の表に示すとおりである。
【0025】
【0026】次に、本発明の薄膜磁気ヘッドをオートリ
バース式の音響用磁気記録再生装置に適用した態様につ
いて説明する。図4に示すように、リール21、22に巻か
れている磁気テープ23が、キャプスタン26およびピンチ
ローラ27によって矢印の方向に走行しており、薄膜磁気
ヘッド20は、磁気テープ23に押し付けられて、電磁変換
を行なう。読み取られた信号は、増幅器24で増幅されて
スピーカ25等に出力される。
バース式の音響用磁気記録再生装置に適用した態様につ
いて説明する。図4に示すように、リール21、22に巻か
れている磁気テープ23が、キャプスタン26およびピンチ
ローラ27によって矢印の方向に走行しており、薄膜磁気
ヘッド20は、磁気テープ23に押し付けられて、電磁変換
を行なう。読み取られた信号は、増幅器24で増幅されて
スピーカ25等に出力される。
【0027】第1実施例の薄膜磁気ヘッドを搭載した磁
気記録再生装置と、従来の薄膜磁気ヘッドを搭載した同
じ磁気記録再生装置とにより摩耗試験をした結果を以下
に示す。
気記録再生装置と、従来の薄膜磁気ヘッドを搭載した同
じ磁気記録再生装置とにより摩耗試験をした結果を以下
に示す。
【0028】室温25℃、湿度50%の環境で、それぞ
れの磁気記録再生装置に同じCrO2系の磁気テープを5
00時間走行させて表面粗さ計で段差を測定したとこ
ろ、どちらの薄膜磁気ヘッドにおいてもコア部と基板と
の初期段差が100Åであったものが、従来の薄膜磁気
ヘッドにおいては、断面形状が図7に示すようになっ
て、生成された凹部19の段差が2000Åになり、この
スペーシングのために出力が、12dB低下したのに対
し、第1実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、断面形状
が図6に示すようになって、段差が200Åにとどま
り、出力は1dB低下しただけであった。
れの磁気記録再生装置に同じCrO2系の磁気テープを5
00時間走行させて表面粗さ計で段差を測定したとこ
ろ、どちらの薄膜磁気ヘッドにおいてもコア部と基板と
の初期段差が100Åであったものが、従来の薄膜磁気
ヘッドにおいては、断面形状が図7に示すようになっ
て、生成された凹部19の段差が2000Åになり、この
スペーシングのために出力が、12dB低下したのに対
し、第1実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、断面形状
が図6に示すようになって、段差が200Åにとどま
り、出力は1dB低下しただけであった。
【0029】従って、本発明のように構成すれば、磁気
テープが走行しても、薄膜磁気ヘッドの偏摩耗がほとん
どなくなり、ヘッドが長寿命になるという効果を奏す
る。
テープが走行しても、薄膜磁気ヘッドの偏摩耗がほとん
どなくなり、ヘッドが長寿命になるという効果を奏す
る。
【0030】以上で、本発明の薄膜磁気ヘッドを固定ヘ
ッドとして使用する磁気記録再生装置について説明した
が、ハードディスク等の磁気記録再生装置や回転シリン
ダーを用いた他の磁気記録再生装置にも適用できること
は言うまでもない。
ッドとして使用する磁気記録再生装置について説明した
が、ハードディスク等の磁気記録再生装置や回転シリン
ダーを用いた他の磁気記録再生装置にも適用できること
は言うまでもない。
【0031】
【発明の効果】以上の実施例に基づく説明から明らかな
ように、本発明の薄膜磁気ヘッドによると、絶縁層およ
び保護層のうちの少なくとも一つの層を基板より高硬度
の材料で形成することにより、テープの走行によるヘッ
ドの薄膜部分、特に、コア部分の偏摩耗を少なくするこ
とができるので、長期間使用してもスペーシング・ロス
を少なくできるという効果を奏することができる。
ように、本発明の薄膜磁気ヘッドによると、絶縁層およ
び保護層のうちの少なくとも一つの層を基板より高硬度
の材料で形成することにより、テープの走行によるヘッ
ドの薄膜部分、特に、コア部分の偏摩耗を少なくするこ
とができるので、長期間使用してもスペーシング・ロス
を少なくできるという効果を奏することができる。
【図1】本発明の薄膜磁気ヘッドの第1実施例を示す断
面図、
面図、
【図2】本発明の薄膜磁気ヘッドの第2実施例を示す断
面図、
面図、
【図3】本発明の薄膜磁気ヘッドの第3実施例を示す断
面図、
面図、
【図4】本発明の薄膜磁気ヘッドを適用した磁気記録再
生装置を示す概略図、
生装置を示す概略図、
【図5】従来の薄膜磁気ヘッドの断面図、
【図6】本発明の第1実施例の薄膜磁気ヘッドに磁気テ
ープを一定時間走行させた後の状態を示す断面図、
ープを一定時間走行させた後の状態を示す断面図、
【図7】従来の薄膜磁気ヘッドに磁気テープを一定時間
走行させた後の状態を示す断面図である。
走行させた後の状態を示す断面図である。
1 保護基板 2 摺動面 3、13 高硬度の材料層 4 上部磁性層 5 ギャップ層 6、16 下部磁性基板 7、10、11 絶縁層 8 MR素子層 9 バイアス層 12 非磁性基板 14 コイル層
Claims (3)
- 【請求項1】 基板上に電磁変換のための磁気回路層、
絶縁層および保護層を形成した薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記基板および前記保護層のうちの少なくとも一つ
の層が高硬度の材料からなることを特徴とする薄膜磁気
ヘッド。 - 【請求項2】 基板および保護層のうち少なくとも一つ
の層がSiCからなることを特徴とする請求項1記載の
薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項3】 基板および保護層のうち少なくとも一つ
の層がCrNからなることを特徴とする請求項1記載の
薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33778592A JPH06168418A (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33778592A JPH06168418A (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06168418A true JPH06168418A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=18311946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33778592A Pending JPH06168418A (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06168418A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU675942B2 (en) * | 1992-05-22 | 1997-02-27 | Phairson Medical Ab | New pharmaceutical uses of krill enzymes |
US7787215B2 (en) | 2007-03-29 | 2010-08-31 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head in which thermal protrusion is suppressed and method of forming the same |
US7848056B2 (en) | 2007-03-29 | 2010-12-07 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having thermal expansion layer for suppressing thermal protrusion |
-
1992
- 1992-11-26 JP JP33778592A patent/JPH06168418A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU675942B2 (en) * | 1992-05-22 | 1997-02-27 | Phairson Medical Ab | New pharmaceutical uses of krill enzymes |
US7787215B2 (en) | 2007-03-29 | 2010-08-31 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head in which thermal protrusion is suppressed and method of forming the same |
US7848056B2 (en) | 2007-03-29 | 2010-12-07 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having thermal expansion layer for suppressing thermal protrusion |
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