JPH0616641A - キノリン−２−イル安息香酸誘導体およびその製造方法 - Google Patents
キノリン−２−イル安息香酸誘導体およびその製造方法Info
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- JPH0616641A JPH0616641A JP5121979A JP12197993A JPH0616641A JP H0616641 A JPH0616641 A JP H0616641A JP 5121979 A JP5121979 A JP 5121979A JP 12197993 A JP12197993 A JP 12197993A JP H0616641 A JPH0616641 A JP H0616641A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】化１で表される新規なキノリン−２−イル安息
香酸誘導体、およびイサチン類とアセチル安息香酸類と
を反応させ、次いで生成化合物のキノリン環上のカルボ
キシル基を脱炭酸するその製造方法。 【化１】 【効果】キノリン環を有するアンジオテンシンII拮抗剤
の中間体として有用な化合物であり、キノリン環形成反
応として従来法よりも容易でかつ置換基による制約の少
ない方法である。
香酸誘導体、およびイサチン類とアセチル安息香酸類と
を反応させ、次いで生成化合物のキノリン環上のカルボ
キシル基を脱炭酸するその製造方法。 【化１】 【効果】キノリン環を有するアンジオテンシンII拮抗剤
の中間体として有用な化合物であり、キノリン環形成反
応として従来法よりも容易でかつ置換基による制約の少
ない方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高血圧治療剤として有
望なアンジオテンシンII拮抗剤の中間原料として有用な
キノリン−２−イル安息香酸誘導体の製造方法である。
望なアンジオテンシンII拮抗剤の中間原料として有用な
キノリン−２−イル安息香酸誘導体の製造方法である。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】生体
の血圧は、交感神経系や昇圧系と降圧系のバランスなど
で調節されている。昇圧系に関与するものとしてレニン
−アンジオテンシン系がある。レニンはアンジオテンシ
ノーゲンに作用してアンジオテンシンI を生成する。ア
ンジオテンシンI はさらにアンジオテンシン変換酵素に
より、アンジオテンシンIIに変換される。アンジオテン
シンIIは強い血管収縮作用を有するとともに、副腎皮質
に作用してアルドステロンの分泌を促し、血圧の上昇を
もたらす。アンジオテンシンIIは細胞膜上のアンジオテ
ンシンII受容体を介して作用するので、その拮抗薬はア
ンジオテンシン変換酵素阻害剤と同様アンジオテンシン
IIによって引き起こされる高血圧症の治療薬として使用
できる。
の血圧は、交感神経系や昇圧系と降圧系のバランスなど
で調節されている。昇圧系に関与するものとしてレニン
−アンジオテンシン系がある。レニンはアンジオテンシ
ノーゲンに作用してアンジオテンシンI を生成する。ア
ンジオテンシンI はさらにアンジオテンシン変換酵素に
より、アンジオテンシンIIに変換される。アンジオテン
シンIIは強い血管収縮作用を有するとともに、副腎皮質
に作用してアルドステロンの分泌を促し、血圧の上昇を
もたらす。アンジオテンシンIIは細胞膜上のアンジオテ
ンシンII受容体を介して作用するので、その拮抗薬はア
ンジオテンシン変換酵素阻害剤と同様アンジオテンシン
IIによって引き起こされる高血圧症の治療薬として使用
できる。
【０００３】これまで、サララシンに代表されるペプチ
ド性アンジオテンシンII拮抗剤が知られていたが、ペプ
チド性であるために経口投与では有効でないことが知ら
れている。最近、非ペプチド性アンジオテンシンII拮抗
剤が報告されており（たとえば、特開昭５６−７１０７
４号公報、特表平３−５０１０２０号公報など）、経口
投与で有効であることが確認されている。
ド性アンジオテンシンII拮抗剤が知られていたが、ペプ
チド性であるために経口投与では有効でないことが知ら
れている。最近、非ペプチド性アンジオテンシンII拮抗
剤が報告されており（たとえば、特開昭５６−７１０７
４号公報、特表平３−５０１０２０号公報など）、経口
投与で有効であることが確認されている。
【０００４】本発明者らは、アンジオテンシンII拮抗作
用を有し、経口投与で有効である非ペプチド性化合物を
鋭意探索し、その結果、新規なキノリン誘導体が有効で
あることを見いだした。この新規なキノリン誘導体とし
ては、たとえば後記一般式（１）で表されるキノリン環
を有する化合物のＲ2 の位置にメチレン基を介して（１
Ｈ−イミダゾール−１−イル）骨格や（３Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｂ］ピリジン−３−イル）骨格が結合した化
合物がある。さらに、そのようなキノリン誘導体におい
て、Ｒ7 に代えてＣ結合テトラゾリル基が結合した化合
物もアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物として
有用である。本発明はこの新規なキノリン誘導体の合成
中間体であるキノリン−２−イル安息香酸誘導体にかか
わる発明である。
用を有し、経口投与で有効である非ペプチド性化合物を
鋭意探索し、その結果、新規なキノリン誘導体が有効で
あることを見いだした。この新規なキノリン誘導体とし
ては、たとえば後記一般式（１）で表されるキノリン環
を有する化合物のＲ2 の位置にメチレン基を介して（１
Ｈ−イミダゾール−１−イル）骨格や（３Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｂ］ピリジン−３−イル）骨格が結合した化
合物がある。さらに、そのようなキノリン誘導体におい
て、Ｒ7 に代えてＣ結合テトラゾリル基が結合した化合
物もアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物として
有用である。本発明はこの新規なキノリン誘導体の合成
中間体であるキノリン−２−イル安息香酸誘導体にかか
わる発明である。
【０００５】また本発明は上記キノリン−２−イル安息
香酸誘導体の製造方法にかかわる発明である。
香酸誘導体の製造方法にかかわる発明である。
【０００６】キノリン−２−イル安息香酸誘導体を合成
した例としてこれまで知られているのは、下記反応式に
示すごとく、２−ブロモキノリンにｎ−ブチルリチウム
を作用させてリチオ体とし、ジアルキルキノリニルボラ
ンに変換した後、ＫＯＨ、テトラブチルアンモニウムブ
ロミド、０価のパラジウム触媒の共存下にｏ−ブロモ安
息香酸メチルと反応させて、２−（２−キノリニル）安
息香酸メチルを合成する方法である（M. Terashima et
al., Heterocycles, 23, 2375,(1985)) 。
した例としてこれまで知られているのは、下記反応式に
示すごとく、２−ブロモキノリンにｎ−ブチルリチウム
を作用させてリチオ体とし、ジアルキルキノリニルボラ
ンに変換した後、ＫＯＨ、テトラブチルアンモニウムブ
ロミド、０価のパラジウム触媒の共存下にｏ−ブロモ安
息香酸メチルと反応させて、２−（２−キノリニル）安
息香酸メチルを合成する方法である（M. Terashima et
al., Heterocycles, 23, 2375,(1985)) 。
【０００７】
【化７】
【０００８】これまでに知られていたキノリン−２−イ
ル安息香酸誘導体の合成方法においては、キノリン環の
２位に置換基を導入するためにｎ−ブチルリチウムなど
の有機リチウム化合物を用いる必要があるが、これは工
業生産においては有利ではない。また、この合成法にお
いては、キノリン環上の置換基に制約を受けるため、置
換基を有するキノリン−２−イル安息香酸誘導体はこれ
までほとんど知られていない。本発明の製造方法はこれ
ら従来の問題点を解決するものである。
ル安息香酸誘導体の合成方法においては、キノリン環の
２位に置換基を導入するためにｎ−ブチルリチウムなど
の有機リチウム化合物を用いる必要があるが、これは工
業生産においては有利ではない。また、この合成法にお
いては、キノリン環上の置換基に制約を受けるため、置
換基を有するキノリン−２−イル安息香酸誘導体はこれ
までほとんど知られていない。本発明の製造方法はこれ
ら従来の問題点を解決するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記キノリン
−２−イル安息香酸誘導体、その製造方法、およびその
製造方法における中間体であるカルボキシフェニルキノ
リンカルボン酸類またはそのエステル、にかかわる下記
発明である。下記一般式（１）で表されるキノリン−２
−イル安息香酸誘導体。
−２−イル安息香酸誘導体、その製造方法、およびその
製造方法における中間体であるカルボキシフェニルキノ
リンカルボン酸類またはそのエステル、にかかわる下記
発明である。下記一般式（１）で表されるキノリン−２
−イル安息香酸誘導体。
【００１０】
【化８】
【００１１】下記一般式（２）で表されるイサチン類と
下記一般式（３）で表されるアセチル安息香酸類を反応
させて下記一般式（４）で表されるカルボキシフェニル
キノリンカルボン酸類を製造し、次いでベンゼン環上の
カルボキシル基を選択的に保護した後、キノリン環上の
カルボキシル基を脱炭酸することを特徴とする下記一般
式（１’）で表されるキノリン−２−イル安息香酸誘導
体の製造方法。
下記一般式（３）で表されるアセチル安息香酸類を反応
させて下記一般式（４）で表されるカルボキシフェニル
キノリンカルボン酸類を製造し、次いでベンゼン環上の
カルボキシル基を選択的に保護した後、キノリン環上の
カルボキシル基を脱炭酸することを特徴とする下記一般
式（１’）で表されるキノリン−２−イル安息香酸誘導
体の製造方法。
【００１２】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【００１３】下記一般式（４）で表されるカルボキシフ
ェニルキノリンカルボン酸類またはそのエステルからな
る化合物。
ェニルキノリンカルボン酸類またはそのエステルからな
る化合物。
【００１４】
【化１３】
【００１５】ただし、上記一般式においてＲ1 、Ｒ2 、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、およびＲ9 はそれぞれ
独立に下記のものを表す。 Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 ：それぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、アルコキシ
ル基、またはハロゲン置換低級アルキル基。 Ｒ7 ：−ＣＯＯＲ8 （ただし、Ｒ8 は水素原子、低級ア
ルキル基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリ
ール基、またはアルアルキル基を表す）。 Ｒ9 ：−ＣＯＯＲ10（ただし、Ｒ10は低級アルキル基、
アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、ア
ルアルキル基を表す）。
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、およびＲ9 はそれぞれ
独立に下記のものを表す。 Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 ：それぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、アルコキシ
ル基、またはハロゲン置換低級アルキル基。 Ｒ7 ：−ＣＯＯＲ8 （ただし、Ｒ8 は水素原子、低級ア
ルキル基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリ
ール基、またはアルアルキル基を表す）。 Ｒ9 ：−ＣＯＯＲ10（ただし、Ｒ10は低級アルキル基、
アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、ア
ルアルキル基を表す）。
【００１６】本明細書の以上の説明および以下の説明に
おいて、有機基が「低級」とは炭素原子１ないし６個を
意味する。「低級アルキル基」の適当な例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基などがあげられる。「アルケニル基」としては低
級アルケニル基が好ましく、特に炭素数４以下のアルケ
ニル基が好ましい。その適当な例としては、ビニル基、
アリル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基などがあ
げられる。また、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。「ハロゲ
ン置換低級アルキル基」としては、フッ素原子または塩
素原子が１以上置換した低級アルキル基が好ましく、特
にＣm Ｆ2m+1（ｍ＝１〜６）が好ましい。
おいて、有機基が「低級」とは炭素原子１ないし６個を
意味する。「低級アルキル基」の適当な例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基などがあげられる。「アルケニル基」としては低
級アルケニル基が好ましく、特に炭素数４以下のアルケ
ニル基が好ましい。その適当な例としては、ビニル基、
アリル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基などがあ
げられる。また、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味する。「ハロゲ
ン置換低級アルキル基」としては、フッ素原子または塩
素原子が１以上置換した低級アルキル基が好ましく、特
にＣm Ｆ2m+1（ｍ＝１〜６）が好ましい。
【００１７】「アルコキシル基」としては低級アルコキ
シル基が好ましく、特に炭素数４以下のアルコキシル基
が好ましい。その適当な例としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などがあげられる。
「シクロ低級アルキル基」とは環の炭素数が３〜６のシ
クロアルキル基を意味し、その適当な例としては、シク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などがあげられる。「アリール基」と
は、１価の芳香族炭化水素基をいい、フェニル基やその
誘導体が好ましい。その適当な例としては、フェニル
基、トリル基、ｐ−ハロフェニル基などがあげられる。
また、「アルアルキル基」とはアリール基置換アルキル
基をいい、アルキル基の炭素数は４以下が好ましい。そ
の適当な例としては、ベンジル基、ベンズヒドリル基、
トリチル基、フェネチル基などがあげられる。
シル基が好ましく、特に炭素数４以下のアルコキシル基
が好ましい。その適当な例としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などがあげられる。
「シクロ低級アルキル基」とは環の炭素数が３〜６のシ
クロアルキル基を意味し、その適当な例としては、シク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などがあげられる。「アリール基」と
は、１価の芳香族炭化水素基をいい、フェニル基やその
誘導体が好ましい。その適当な例としては、フェニル
基、トリル基、ｐ−ハロフェニル基などがあげられる。
また、「アルアルキル基」とはアリール基置換アルキル
基をいい、アルキル基の炭素数は４以下が好ましい。そ
の適当な例としては、ベンジル基、ベンズヒドリル基、
トリチル基、フェネチル基などがあげられる。
【００１８】一般式（１）で表されるキノリン−２−イ
ル安息香酸誘導体において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は
それぞれ独立に水素原子または低級アルキル基であるこ
とが好ましく、低級アルキル基としてはメチル基が好ま
しい。Ｒ5 、Ｒ6 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン
原子、または低級アルキル基であることが好ましく、ハ
ロゲン原子としては塩素原子または臭素原子が好まし
い。Ｒ8 は水素原子または低級アルキル基であることが
好ましい。Ｒ10は低級アルキル基であることが好まし
い。また、Ｒ7 はベンゼン環のオルト位に結合すること
が特に好ましい。同様に一般式（３）および（４）にお
けるカルボキシル基、および一般式（１’）におけるＲ
9 も、ベンゼン環のオルト位に結合することが特に好ま
しい。
ル安息香酸誘導体において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は
それぞれ独立に水素原子または低級アルキル基であるこ
とが好ましく、低級アルキル基としてはメチル基が好ま
しい。Ｒ5 、Ｒ6 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン
原子、または低級アルキル基であることが好ましく、ハ
ロゲン原子としては塩素原子または臭素原子が好まし
い。Ｒ8 は水素原子または低級アルキル基であることが
好ましい。Ｒ10は低級アルキル基であることが好まし
い。また、Ｒ7 はベンゼン環のオルト位に結合すること
が特に好ましい。同様に一般式（３）および（４）にお
けるカルボキシル基、および一般式（１’）におけるＲ
9 も、ベンゼン環のオルト位に結合することが特に好ま
しい。
【００１９】本発明製造方法で原料として用いるイサチ
ン類およびアセチル安息香酸類は、市販品として入手可
能であるか、あるいは容易に合成することができる。
ン類およびアセチル安息香酸類は、市販品として入手可
能であるか、あるいは容易に合成することができる。
【００２０】本発明製造方法によってキノリン−２−イ
ル安息香酸誘導体を製造するにはまず、一般式（２）で
表されるイサチン類と塩基、たとえば水酸化ナトリウム
や水酸化カリウムなどを水中で撹拌し、ついで一般式
（３）で表されるアセチル安息香酸類を加えて加熱す
る。この際、塩基はアセチル安息香酸類に対して１〜４
倍モル、好ましくは２〜３倍モル用い、アセチル安息香
酸類をイサチン類に対して0.5 〜10倍モル、好ましくは
0.5 〜２倍モル用い、反応温度50℃〜還流温度、好まし
くは80℃〜還流温度で行なう。反応時間は0.5 〜10時
間、好ましくは１〜３時間である。
ル安息香酸誘導体を製造するにはまず、一般式（２）で
表されるイサチン類と塩基、たとえば水酸化ナトリウム
や水酸化カリウムなどを水中で撹拌し、ついで一般式
（３）で表されるアセチル安息香酸類を加えて加熱す
る。この際、塩基はアセチル安息香酸類に対して１〜４
倍モル、好ましくは２〜３倍モル用い、アセチル安息香
酸類をイサチン類に対して0.5 〜10倍モル、好ましくは
0.5 〜２倍モル用い、反応温度50℃〜還流温度、好まし
くは80℃〜還流温度で行なう。反応時間は0.5 〜10時
間、好ましくは１〜３時間である。
【００２１】次いで、このようにして得られた反応混合
物を室温まで放冷したのち氷冷水に注ぎ、水層を適当な
有機溶媒、たとえばエーテルで洗浄した後希塩酸で酸性
にすることにより得られる沈殿を濾取して、一般式
（４）で表されるカルボキシフェニルキノリンカルボン
酸類が得られる。
物を室温まで放冷したのち氷冷水に注ぎ、水層を適当な
有機溶媒、たとえばエーテルで洗浄した後希塩酸で酸性
にすることにより得られる沈殿を濾取して、一般式
（４）で表されるカルボキシフェニルキノリンカルボン
酸類が得られる。
【００２２】次に、一般式（４）で表されるカルボキシ
フェニルキノリンカルボン酸類のベンゼン環上のカルボ
キシル基を選択的に保護する。カルボキシル基の保護と
してはエステル化が好ましいがこれに限られるものでは
ない。特に、低級アルキルエステル化して保護すること
が好ましい。以下このエステル化による保護の例を説明
する。ベンゼン環上のカルボキシル基の選択的なエステ
ル化は、カルボキシフェニルキノリンカルボン酸類の２
つのカルボキシル基を同時にエステル化し、次いでキノ
リン環上のエステル基を選択的に加水分解することによ
り容易に行うことができる。エステル化は、Ｒ9 を形成
する化合物、特に低級アルキルアルコールで行う。この
方法は、たとえば次のようにして行う。
フェニルキノリンカルボン酸類のベンゼン環上のカルボ
キシル基を選択的に保護する。カルボキシル基の保護と
してはエステル化が好ましいがこれに限られるものでは
ない。特に、低級アルキルエステル化して保護すること
が好ましい。以下このエステル化による保護の例を説明
する。ベンゼン環上のカルボキシル基の選択的なエステ
ル化は、カルボキシフェニルキノリンカルボン酸類の２
つのカルボキシル基を同時にエステル化し、次いでキノ
リン環上のエステル基を選択的に加水分解することによ
り容易に行うことができる。エステル化は、Ｒ9 を形成
する化合物、特に低級アルキルアルコールで行う。この
方法は、たとえば次のようにして行う。
【００２３】カルボキシフェニルキノリンカルボン酸類
をアルコール、たとえばメタノールに懸濁し、冷却下に
塩化チオニルを加える。この際、アルコールはカルボキ
シフェニルキノリンカルボン酸類１モルあたり100 〜10
000ml 好ましくは500 〜5000ml用い、冷却温度は−50〜
10℃、好ましくは−20〜０℃である。得られた反応混合
物を０℃〜還流温度、好ましくは、室温〜還流温度で一
昼夜撹拌し、減圧濃縮後精製してジエステル化合物が得
られる。これにアルコール、たとえばメタノールと水を
加え、0.5 〜1.5 当量、好ましくは１当量の塩基、たと
えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムを加えて０℃〜
還流温度、好ましくは室温〜還流温度で一昼夜撹拌し、
減圧濃縮することにより、キノリン環上のエステル基が
選択的に加水分解されたモノエステル化合物が得られ
る。
をアルコール、たとえばメタノールに懸濁し、冷却下に
塩化チオニルを加える。この際、アルコールはカルボキ
シフェニルキノリンカルボン酸類１モルあたり100 〜10
000ml 好ましくは500 〜5000ml用い、冷却温度は−50〜
10℃、好ましくは−20〜０℃である。得られた反応混合
物を０℃〜還流温度、好ましくは、室温〜還流温度で一
昼夜撹拌し、減圧濃縮後精製してジエステル化合物が得
られる。これにアルコール、たとえばメタノールと水を
加え、0.5 〜1.5 当量、好ましくは１当量の塩基、たと
えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムを加えて０℃〜
還流温度、好ましくは室温〜還流温度で一昼夜撹拌し、
減圧濃縮することにより、キノリン環上のエステル基が
選択的に加水分解されたモノエステル化合物が得られ
る。
【００２４】得られたモノエステル化合物に適当な溶
媒、たとえばジフェニルエーテルや「ダウサームＡ」を
加えて150 ℃〜還流温度、好ましくは180 ℃〜230 ℃、
で５分〜１０時間、好ましくは５分〜３時間、加熱して
脱炭酸を行い、室温まで放冷後精製して、一般式
（１’）で表されるキノリン−２−イル安息香酸類エス
テルが得られる。また、これを加水分解すれば、Ｒ7 が
カルボキシル基である一般式（１）で表されるキノリン
−２−イル安息香酸類が得られる。なお、一般式
（１’）で表されるキノリン−２−イル安息香酸類は、
一般式（１）で表されるキノリン−２−イル安息香酸類
のＲ7 がカルボキシル基でない（すなわち、Ｒ8 が水素
原子でない）ものをいう。
媒、たとえばジフェニルエーテルや「ダウサームＡ」を
加えて150 ℃〜還流温度、好ましくは180 ℃〜230 ℃、
で５分〜１０時間、好ましくは５分〜３時間、加熱して
脱炭酸を行い、室温まで放冷後精製して、一般式
（１’）で表されるキノリン−２−イル安息香酸類エス
テルが得られる。また、これを加水分解すれば、Ｒ7 が
カルボキシル基である一般式（１）で表されるキノリン
−２−イル安息香酸類が得られる。なお、一般式
（１’）で表されるキノリン−２−イル安息香酸類は、
一般式（１）で表されるキノリン−２−イル安息香酸類
のＲ7 がカルボキシル基でない（すなわち、Ｒ8 が水素
原子でない）ものをいう。
【００２５】また、一般式（４）で表されるカルボキシ
フェニルキノリンカルボン酸類のエステルとしては、上
記のように低級アルキルジエステルまたは低級アルキル
モノエステルが好ましく、モノエステルとしてはベンゼ
ン環上のカルボキシル基のみが選択的にエステル化され
たモノエステルが好ましい。
フェニルキノリンカルボン酸類のエステルとしては、上
記のように低級アルキルジエステルまたは低級アルキル
モノエステルが好ましく、モノエステルとしてはベンゼ
ン環上のカルボキシル基のみが選択的にエステル化され
たモノエステルが好ましい。
【００２６】前記したように、本発明の一般式（１）で
表されるキノリン−２−イル安息香酸類はアンジオテン
シンII拮抗作用を有する化合物の中間体として有用であ
る。本発明のこのキノリン−２−イル安息香酸類の置換
基、特にＲ2 を前記したような複素環骨格含有基に変え
てアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物が得られ
る。また、本発明のこのキノリン−２−イル安息香酸類
の置換基Ｒ8 をＣ結合テトラゾリル基に変えて得られる
化合物もアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物の
中間体として有用である。本発明のこのキノリン−２−
イル安息香酸類の置換基Ｒ7 をＣ結合テトラゾリル基に
変えることは容易であり、たとえば、Ｒ7 を−ＣＯＮＨ
2 基に変え、次にそれを−ＣＮ残基に変え、さらにそれ
をＣ結合テトラゾリル基に変えることができる。また、
キノリン環の４位にハロゲン原子、特に塩素原子あるい
は臭素原子、を導入したキノリン−２−イル安息香酸類
もアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物の中間体
として有用である。
表されるキノリン−２−イル安息香酸類はアンジオテン
シンII拮抗作用を有する化合物の中間体として有用であ
る。本発明のこのキノリン−２−イル安息香酸類の置換
基、特にＲ2 を前記したような複素環骨格含有基に変え
てアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物が得られ
る。また、本発明のこのキノリン−２−イル安息香酸類
の置換基Ｒ8 をＣ結合テトラゾリル基に変えて得られる
化合物もアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物の
中間体として有用である。本発明のこのキノリン−２−
イル安息香酸類の置換基Ｒ7 をＣ結合テトラゾリル基に
変えることは容易であり、たとえば、Ｒ7 を−ＣＯＮＨ
2 基に変え、次にそれを−ＣＮ残基に変え、さらにそれ
をＣ結合テトラゾリル基に変えることができる。また、
キノリン環の４位にハロゲン原子、特に塩素原子あるい
は臭素原子、を導入したキノリン−２−イル安息香酸類
もアンジオテンシンII拮抗作用を有する化合物の中間体
として有用である。
【００２７】以下、実施例により本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２８】
［参考例１］ ５−メチルイサチン
【００２９】包水クロラール16.7g(0.10mol)を水(222m
l) に溶解し、硫酸ナトリウム(243g)を加え、さらにｐ
−トルイジン10.0g(93.3mmol) の 4.4Ｎ塩酸溶液(64m
l)、およびヒドロキシルアミン塩酸塩20.5g(0.29mol)の
水溶液(242ml) を加えて、３０分加熱還流した。室温ま
で冷却した後、黄褐色の沈殿物を吸引濾取した。1.5N水
酸化ナトリウム溶液(500ml) に溶解し、2N塩酸で中和し
た。これを濾過した後、濾液を2N塩酸で酸性にした。沈
殿物を濾取し、氷冷水で洗浄して乾燥した。得られたイ
ソニトロソアセトアニリドを濃硫酸(62g) に６０℃で４
０分かけて加え、さらに７５℃で１０分間加熱した。室
温に冷却後氷冷水(160ml) に注ぎ沈殿を濾取して、５−
メチルイサチン10.0g を得た。
l) に溶解し、硫酸ナトリウム(243g)を加え、さらにｐ
−トルイジン10.0g(93.3mmol) の 4.4Ｎ塩酸溶液(64m
l)、およびヒドロキシルアミン塩酸塩20.5g(0.29mol)の
水溶液(242ml) を加えて、３０分加熱還流した。室温ま
で冷却した後、黄褐色の沈殿物を吸引濾取した。1.5N水
酸化ナトリウム溶液(500ml) に溶解し、2N塩酸で中和し
た。これを濾過した後、濾液を2N塩酸で酸性にした。沈
殿物を濾取し、氷冷水で洗浄して乾燥した。得られたイ
ソニトロソアセトアニリドを濃硫酸(62g) に６０℃で４
０分かけて加え、さらに７５℃で１０分間加熱した。室
温に冷却後氷冷水(160ml) に注ぎ沈殿を濾取して、５−
メチルイサチン10.0g を得た。
【００３０】NMR(CD3COCD3) δ=9.9(bs,1H),6.9-7.5(m,
3H),2.3(s,3H).
3H),2.3(s,3H).
【００３１】［参考例２］ イサチン
【００３２】包水クロラール33.4g(0.20mol)を水(350m
l) に溶解し、硫酸ナトリウム(500g)を加え、さらにア
ニリン17.7g(0.19 mol) の 4.4Ｎ塩酸溶液(128ml) 、お
よびヒドロキシルアミン塩酸塩41g(0.58mol)の水溶液(5
00ml) を加えて、３０分加熱還流した。室温まで冷却し
た後、黄褐色の沈殿物を吸引濾取した。1.5N水酸化ナト
リウム溶液(1000ml)に溶解し、2N塩酸で中和した。これ
を濾過した後、濾液を2N塩酸で酸性にした。沈殿物を濾
取し、氷冷水で洗浄して乾燥した。
l) に溶解し、硫酸ナトリウム(500g)を加え、さらにア
ニリン17.7g(0.19 mol) の 4.4Ｎ塩酸溶液(128ml) 、お
よびヒドロキシルアミン塩酸塩41g(0.58mol)の水溶液(5
00ml) を加えて、３０分加熱還流した。室温まで冷却し
た後、黄褐色の沈殿物を吸引濾取した。1.5N水酸化ナト
リウム溶液(1000ml)に溶解し、2N塩酸で中和した。これ
を濾過した後、濾液を2N塩酸で酸性にした。沈殿物を濾
取し、氷冷水で洗浄して乾燥した。
【００３３】得られたイソニトロソアセトアニリドを濃
硫酸(128g)に６０℃で１時間かけて加え、さらに７５℃
で２０分間加熱した。室温に冷却後氷冷水(320ml) に注
ぎ沈殿を濾取して、イサチン18.3g を得た。 NMR(CD3COCD3) δ=9.9(bs,1H),6.9-7.5(m,4H).
硫酸(128g)に６０℃で１時間かけて加え、さらに７５℃
で２０分間加熱した。室温に冷却後氷冷水(320ml) に注
ぎ沈殿を濾取して、イサチン18.3g を得た。 NMR(CD3COCD3) δ=9.9(bs,1H),6.9-7.5(m,4H).
【００３４】［参考例３］ ６−メチルイサチン
【００３５】参考例２でアニリンの代わりにｍ−トルイ
ジン(9.3g)を用い、同様の操作を行ない反応混合物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフ精製し、表掲化合物を得
た（3.2g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=9.8(bs,1H),7.0-7.5(m,3H),2.4(s,3
H).
ジン(9.3g)を用い、同様の操作を行ない反応混合物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフ精製し、表掲化合物を得
た（3.2g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=9.8(bs,1H),7.0-7.5(m,3H),2.4(s,3
H).
【００３６】［参考例４］ ７−メチルイサチン
【００３７】参考例２でアニリンの代わりにｏ−トルイ
ジン20.0g を用い、同様の操作により表掲化合物を得た
（15.3g)。 NMR(CD3COCD3) δ=9.8(bs,1H),7.0-7.5(m,3H),2.6(s,3
H).
ジン20.0g を用い、同様の操作により表掲化合物を得た
（15.3g)。 NMR(CD3COCD3) δ=9.8(bs,1H),7.0-7.5(m,3H),2.6(s,3
H).
【００３８】［実施例１］ ２−（２−カルボキシフェニル）−６−メチル−４−キ
ノリンカルボン酸
ノリンカルボン酸
【００３９】参考例１で製造した５−メチルイサチン5
4.0g(0.34mol)と水酸化ナトリウム40.2g(1.0mol) を水
(80ml)に懸濁し、ついで２−アセチル安息香酸55.0g(0.
34mol)を加え、２時間加熱還流した。室温まで放冷した
後氷冷水（１Ｌ）に注いだ。水層を酢酸エチルで洗浄後
濃塩酸で酸性にした。析出した沈殿を濾取し乾燥して、
２−（２−カルボキシフェニル）−６−メチル−４−キ
ノリンカルボン酸100.1gを得た。
4.0g(0.34mol)と水酸化ナトリウム40.2g(1.0mol) を水
(80ml)に懸濁し、ついで２−アセチル安息香酸55.0g(0.
34mol)を加え、２時間加熱還流した。室温まで放冷した
後氷冷水（１Ｌ）に注いだ。水層を酢酸エチルで洗浄後
濃塩酸で酸性にした。析出した沈殿を濾取し乾燥して、
２−（２−カルボキシフェニル）−６−メチル−４−キ
ノリンカルボン酸100.1gを得た。
【００４０】NMR(CD3COCD3) δ=7.70-8.70(m,8H),2.66
(s,3H).
(s,3H).
【００４１】［実施例２］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
【００４２】実施例１で製造した２−（２−カルボキシ
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸95.4
g(310mmol)をメタノール(720ml) に懸濁した。ここに塩
化チオニル46ml(620mmol) を−１０℃で加え、８０℃で
一昼夜加熱還流した。これを減圧濃縮した後、残渣をジ
クロロメタン(500ml) と2N水酸化ナトリウム水溶液(500
ml) に溶解し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した
後、濾過し減圧濃縮した。残渣をメタノールにより再結
晶し、２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−６−
メチル−４−キノリンカルボン酸メチル 83.4gを得た。
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸95.4
g(310mmol)をメタノール(720ml) に懸濁した。ここに塩
化チオニル46ml(620mmol) を−１０℃で加え、８０℃で
一昼夜加熱還流した。これを減圧濃縮した後、残渣をジ
クロロメタン(500ml) と2N水酸化ナトリウム水溶液(500
ml) に溶解し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した
後、濾過し減圧濃縮した。残渣をメタノールにより再結
晶し、２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−６−
メチル−４−キノリンカルボン酸メチル 83.4gを得た。
【００４３】NMR(CDCl3)δ=7.5-8.6(m,8H),4.0(s,3H),
3.6(s,3H),2.6(s,3H).
3.6(s,3H),2.6(s,3H).
【００４４】［実施例３］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル
−４−キノリンカルボン酸
−４−キノリンカルボン酸
【００４５】実施例２で製造した２−（２−メトキシカ
ルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボ
ン酸メチル30.4g(90.6mmol) と水酸化ナトリウム3.62g
(90.6mmol) をメタノール(180ml) に溶解し、水(180ml)
を加え一昼夜撹拌した。反応液を濾過して、濾液を減
圧濃縮した後残渣に水を加え、水層をアルカリ性にした
後、酢酸エチルで水層を洗浄した。水層を2N塩酸で酸性
にし、放置して析出する固体を濾取して乾燥することに
より、２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−６−
メチル−４−キノリンカルボン酸 11.3gを得た。
ルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボ
ン酸メチル30.4g(90.6mmol) と水酸化ナトリウム3.62g
(90.6mmol) をメタノール(180ml) に溶解し、水(180ml)
を加え一昼夜撹拌した。反応液を濾過して、濾液を減
圧濃縮した後残渣に水を加え、水層をアルカリ性にした
後、酢酸エチルで水層を洗浄した。水層を2N塩酸で酸性
にし、放置して析出する固体を濾取して乾燥することに
より、２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−６−
メチル−４−キノリンカルボン酸 11.3gを得た。
【００４６】NMR(CD3COCD3) δ=8.6-7.5(m,8H),3.6(s,3
H),2.6(s,3H).
H),2.6(s,3H).
【００４７】［実施例４］ ２−（６−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メチル
【００４８】実施例３で製造した２−（２−メトキシカ
ルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボ
ン酸15.2g(42.2mmol) をジフェニルエーテル47mlに懸濁
し、１８５℃で1.5 時間加熱した。室温まで放冷後濾過
し、濾液に2N塩酸を加えて分液し、水層を酢酸エチル(5
0ml)で洗浄した。水層を2N水酸化ナトリウム水溶液で中
和し、析出する固体を濾取、水洗した。濾滓をメタノー
ルで再結晶し、２−（６−メチルキノリン−２−イル）
安息香酸メチル 10.5gを得た。
ルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボ
ン酸15.2g(42.2mmol) をジフェニルエーテル47mlに懸濁
し、１８５℃で1.5 時間加熱した。室温まで放冷後濾過
し、濾液に2N塩酸を加えて分液し、水層を酢酸エチル(5
0ml)で洗浄した。水層を2N水酸化ナトリウム水溶液で中
和し、析出する固体を濾取、水洗した。濾滓をメタノー
ルで再結晶し、２−（６−メチルキノリン−２−イル）
安息香酸メチル 10.5gを得た。
【００４９】NMR(CDCl3)δ=7.4-8.1(m,9H),3.6(s,3H),
2.5(s,3H).
2.5(s,3H).
【００５０】［実施例５］ ２−（６−メチルキノリン−２−イル）安息香酸
【００５１】実施例４で製造した２−（６−メチルキノ
リン−２−イル）安息香酸メチル7.08g(25.5mmol) をメ
タノール75mlに懸濁し、水酸化ナトリウム3.06g(76.6mm
ol)の水溶液(35ml)を加え、６０℃で３時間加温した。
減圧濃縮し、残渣に水(200ml) 加え、2N塩酸で酸性とし
た。析出する固体を濾取、水洗し乾燥して、２−（６−
メチルキノリン−２−イル）安息香酸3.15g を得た。 NMR(CD3OD)δ=7.6-8.4(m,9H),2.6(s,3H).
リン−２−イル）安息香酸メチル7.08g(25.5mmol) をメ
タノール75mlに懸濁し、水酸化ナトリウム3.06g(76.6mm
ol)の水溶液(35ml)を加え、６０℃で３時間加温した。
減圧濃縮し、残渣に水(200ml) 加え、2N塩酸で酸性とし
た。析出する固体を濾取、水洗し乾燥して、２−（６−
メチルキノリン−２−イル）安息香酸3.15g を得た。 NMR(CD3OD)δ=7.6-8.4(m,9H),2.6(s,3H).
【００５２】［応用例１］ ２−（６−メチルキノリン−２−イル）ベンズアミド 実施例５で製造した２−（６−メチルキノリン−２−イ
ル）安息香酸2.47g(9.38mmol) にトルエン(30ml)を加え
て懸濁し、塩化チオニル1.37ml(18.76mmol) 、N,N-ジメ
チルホルムアミド(0.02 ml) を加えた。３時間加熱還流
して室温まで放冷し、固体を濾取した。濾滓をトルエン
(10ml)で３回洗浄し乾燥した。濃アンモニア水(30ml)を
氷冷し、激しく撹拌しながら、上記で得られた固体を１
５℃を超えないようにして添加した。一晩室温で撹拌
し、水(30ml)を加えて固体を濾取した。水(20ml)で３回
洗浄し、濾滓をジエチルエーテルに懸濁して濾取、乾燥
して、２−（６−メチルキノリン−２−イル）ベンズア
ミド2.05g を得た。
ル）安息香酸2.47g(9.38mmol) にトルエン(30ml)を加え
て懸濁し、塩化チオニル1.37ml(18.76mmol) 、N,N-ジメ
チルホルムアミド(0.02 ml) を加えた。３時間加熱還流
して室温まで放冷し、固体を濾取した。濾滓をトルエン
(10ml)で３回洗浄し乾燥した。濃アンモニア水(30ml)を
氷冷し、激しく撹拌しながら、上記で得られた固体を１
５℃を超えないようにして添加した。一晩室温で撹拌
し、水(30ml)を加えて固体を濾取した。水(20ml)で３回
洗浄し、濾滓をジエチルエーテルに懸濁して濾取、乾燥
して、２−（６−メチルキノリン−２−イル）ベンズア
ミド2.05g を得た。
【００５３】NMR(CDCl3)δ=7.5-8.2(m,9H),6.4(bs,1H),
5.6(bs,1H),2.6(s,3H).
5.6(bs,1H),2.6(s,3H).
【００５４】［応用例２］ ２−（６−メチルキノリン−２−イル）ベンゾニトリル
【００５５】応用例１で製造した２−（６−メチルキノ
リン−２−イル）ベンズアミド2.05g(7.82mmol) にピリ
ジン(15ml)を加えて撹拌し、塩化ｐ−トルエンスルホニ
ル1.49g(7.82mmol) を加えた。室温で２時間撹拌したの
ち、４０℃で２時間撹拌した。反応液を水(30ml)にあ
け、塩化メチレン(50ml)で抽出して硫酸マグネシウムで
乾燥した。濾過して濾液を減圧濃縮し、ヘキサン／酢酸
エチル（７：１）の混合溶媒を使用して、シリカゲルク
ロマトグラフ精製し、２−（６−メチルキノリン−２−
イル）ベンゾニトリル0.86g を得た。
リン−２−イル）ベンズアミド2.05g(7.82mmol) にピリ
ジン(15ml)を加えて撹拌し、塩化ｐ−トルエンスルホニ
ル1.49g(7.82mmol) を加えた。室温で２時間撹拌したの
ち、４０℃で２時間撹拌した。反応液を水(30ml)にあ
け、塩化メチレン(50ml)で抽出して硫酸マグネシウムで
乾燥した。濾過して濾液を減圧濃縮し、ヘキサン／酢酸
エチル（７：１）の混合溶媒を使用して、シリカゲルク
ロマトグラフ精製し、２−（６−メチルキノリン−２−
イル）ベンゾニトリル0.86g を得た。
【００５６】NMR(CDCl3)δ=7.5-8.2(m,9H),2.6(s,3H).
【００５７】［応用例３］ ５−［２−（６−メチルキノリン−２−イル）フェニ
ル］−２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾ−ル
ル］−２−トリフェニルメチル−２Ｈ−テトラゾ−ル
【００５８】応用例２で製造した２−（６−メチルキノ
リン−２−イル）ベンゾニトリル855mg(3.5mmol)にトル
エン(3.5ml) を加えて撹拌し、さらにアジ化ナトリウム
0.24g(3.68mmol) 、塩化トリブチルすず1ml(3.83mmol)
を加え、45時間加熱還流した。放冷しトルエン(7ml) で
希釈したのち、撹拌下10Ｎ水酸化ナトリウム水溶液0.4m
l(4mmol)、トリチルクロリド1.01g(3.61mmol) を加え
た。室温で1.5 時間撹拌した後、ヘキサン(15ml)を加え
た。固体を濾取し、水(10ml)で２回、メタノール(5ml)
で３回洗浄した。濾滓を乾燥して、５−［２−（６−メ
チルキノリン−２−イル）フェニル］−２−トリフェニ
ルメチル−２Ｈ−テトラゾ−ル1.36g を得た。
リン−２−イル）ベンゾニトリル855mg(3.5mmol)にトル
エン(3.5ml) を加えて撹拌し、さらにアジ化ナトリウム
0.24g(3.68mmol) 、塩化トリブチルすず1ml(3.83mmol)
を加え、45時間加熱還流した。放冷しトルエン(7ml) で
希釈したのち、撹拌下10Ｎ水酸化ナトリウム水溶液0.4m
l(4mmol)、トリチルクロリド1.01g(3.61mmol) を加え
た。室温で1.5 時間撹拌した後、ヘキサン(15ml)を加え
た。固体を濾取し、水(10ml)で２回、メタノール(5ml)
で３回洗浄した。濾滓を乾燥して、５−［２−（６−メ
チルキノリン−２−イル）フェニル］−２−トリフェニ
ルメチル−２Ｈ−テトラゾ−ル1.36g を得た。
【００５９】NMR(CDCl3)δ=6.8-8.1(m,24H),2.54(s,3
H).
H).
【００６０】［実施例６］ ２−（２−カルボキシフェニル）−４−キノリンカルボ
ン酸
ン酸
【００６１】参考例２で製造したイサチン29.0g(0.20mo
l)と水酸化ナトリウム24g(0.6mol)を水(48ml)に懸濁
し、ついで２−アセチル安息香酸33.0g(0.20mol)を加
え、2.5時間加熱還流した。室温まで放冷した後氷冷水
(600ml) に注いだ。水層を酢酸エチルで洗浄後濃塩酸で
酸性にした。析出した沈殿を濾取し乾燥して、２−（２
−カルボキシフェニル）−４−キノリンカルボン酸49.6
g を得た。 NMR(CD3COCD3) δ=7.70-8.70(m,9H).
l)と水酸化ナトリウム24g(0.6mol)を水(48ml)に懸濁
し、ついで２−アセチル安息香酸33.0g(0.20mol)を加
え、2.5時間加熱還流した。室温まで放冷した後氷冷水
(600ml) に注いだ。水層を酢酸エチルで洗浄後濃塩酸で
酸性にした。析出した沈殿を濾取し乾燥して、２−（２
−カルボキシフェニル）−４−キノリンカルボン酸49.6
g を得た。 NMR(CD3COCD3) δ=7.70-8.70(m,9H).
【００６２】［実施例７］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−キノリ
ンカルボン酸メチル
ンカルボン酸メチル
【００６３】実施例６で製造した２−（２−カルボキシ
フェニル）４−キノリンカルボン酸45.3g(0.155mol) を
メタノール(360ml) に懸濁した。ここに塩化チオニル23
ml(0.31mol) を−１０℃で加え、８０℃で加熱還流し
た。これを減圧濃縮した後、残渣をジクロロメタン(250
ml) と2N水酸化ナトリウム水溶液(250ml) に溶解し、有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過し減圧濃縮
した。残渣をメタノールにより再結晶し、２−（２−メ
トキシカルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸
メチル 47.2gを得た。
フェニル）４−キノリンカルボン酸45.3g(0.155mol) を
メタノール(360ml) に懸濁した。ここに塩化チオニル23
ml(0.31mol) を−１０℃で加え、８０℃で加熱還流し
た。これを減圧濃縮した後、残渣をジクロロメタン(250
ml) と2N水酸化ナトリウム水溶液(250ml) に溶解し、有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過し減圧濃縮
した。残渣をメタノールにより再結晶し、２−（２−メ
トキシカルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸
メチル 47.2gを得た。
【００６４】NMR(CDCl3)δ=7.5-8.6(m,9H),3.9(s,3H),
3.5(s,3H).
3.5(s,3H).
【００６５】［実施例８］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−キノリ
ンカルボン酸
ンカルボン酸
【００６６】実施例７で製造した２−（２−メトキシカ
ルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸メチル3
2.0g(0.10mol)と水酸化ナトリウム4.0g(0.10mol) をメ
タノール(60ml)に溶解し、水(60ml)を加え一昼夜撹拌し
た。反応液を濾過して、濾液を減圧濃縮した後残渣に水
を加え、水層をアルカリ性にした後、酢酸エチルで水層
を洗浄した。水層を2N塩酸で酸性にし、放置して析出す
る固体を濾取して乾燥することにより、２−（２−メト
キシカルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸 2
4.5gを得た。
ルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸メチル3
2.0g(0.10mol)と水酸化ナトリウム4.0g(0.10mol) をメ
タノール(60ml)に溶解し、水(60ml)を加え一昼夜撹拌し
た。反応液を濾過して、濾液を減圧濃縮した後残渣に水
を加え、水層をアルカリ性にした後、酢酸エチルで水層
を洗浄した。水層を2N塩酸で酸性にし、放置して析出す
る固体を濾取して乾燥することにより、２−（２−メト
キシカルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸 2
4.5gを得た。
【００６７】NMR(CD3COCD3) δ=7.5-8.4(m,9H),3.54(s,
3H).
3H).
【００６８】［実施例９］ ２−（キノリン−２−イル）安息香酸メチル
【００６９】実施例８で製造した２−（２−メトキシカ
ルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸 25.8g(8
4.4mmol)をジフェニルエーテル94mlに懸濁し、１８５℃
で2.0 時間加熱した。室温まで放冷後濾過し、濾液に2N
塩酸を加えて分液し、水層を酢酸エチル(150ml) で洗浄
した。水層を2N水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出
する固体を濾取、水洗した。濾滓をメタノールで再結晶
し、２−（キノリン−２−イル）安息香酸メチル 15.5g
を得た。
ルボニルフェニル）−４−キノリンカルボン酸 25.8g(8
4.4mmol)をジフェニルエーテル94mlに懸濁し、１８５℃
で2.0 時間加熱した。室温まで放冷後濾過し、濾液に2N
塩酸を加えて分液し、水層を酢酸エチル(150ml) で洗浄
した。水層を2N水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出
する固体を濾取、水洗した。濾滓をメタノールで再結晶
し、２−（キノリン−２−イル）安息香酸メチル 15.5g
を得た。
【００７０】NMR(CDCl3)δ=7.4-8.2(m,9H), 3.60(s,3
H).
H).
【００７１】［実施例１０］ ２−（２−カルボキシフェニル）−７−メチル−４−キ
ノリンカルボン酸 実施例１で５−メチルイサチンの代わりに、参考例３で
製造した６−メチルイサチン(80g) を用い、同様の操作
により表掲化合物を得た(122g)。NMR(CD3COCD3) δ=7.7
0-8.50(m,8H),2.52(s,3H).
ノリンカルボン酸 実施例１で５−メチルイサチンの代わりに、参考例３で
製造した６−メチルイサチン(80g) を用い、同様の操作
により表掲化合物を得た(122g)。NMR(CD3COCD3) δ=7.7
0-8.50(m,8H),2.52(s,3H).
【００７２】［実施例１１］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−７−メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
【００７３】実施例２で２−（２−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例１０で製造した２−（２−カルボキシフェニ
ル）−７−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(41.8g) 。 NMR(CDCl3)δ=7.5-8.4(m,8H),3.9(s,3H),3.6(s,3H),2.4
(s,3H).
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例１０で製造した２−（２−カルボキシフェニ
ル）−７−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(41.8g) 。 NMR(CDCl3)δ=7.5-8.4(m,8H),3.9(s,3H),3.6(s,3H),2.4
(s,3H).
【００７４】［実施例１２］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−７−メチル
−４−キノリンカルボン酸
−４−キノリンカルボン酸
【００７５】実施例３で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに実施例１１で製造した２−（２−メトキシ
カルボニルフェニル）−７−メチル−４−キノリンカル
ボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を得
た(20.8g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=8.5-7.5(m,8H),3.5(s,3H),2.5(s,3
H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに実施例１１で製造した２−（２−メトキシ
カルボニルフェニル）−７−メチル−４−キノリンカル
ボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を得
た(20.8g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=8.5-7.5(m,8H),3.5(s,3H),2.5(s,3
H).
【００７６】［実施例１３］ ２−（７−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メチル
【００７７】実施例４で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに実施例１２で製造した２−（２−メトキシカルボ
ニルフェニル）−７−メチル−４−キノリンカルボン酸
を用いて、同様の操作により表掲化合物を得た(14.3g)
。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.2(m,9H),3.6(s,3H),2.4(s,3H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに実施例１２で製造した２−（２−メトキシカルボ
ニルフェニル）−７−メチル−４−キノリンカルボン酸
を用いて、同様の操作により表掲化合物を得た(14.3g)
。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.2(m,9H),3.6(s,3H),2.4(s,3H).
【００７８】［実施例１４］ ２−（７−メチルキノリン−２−イル）安息香酸
【００７９】実施例５で、２−（６−メチルキノリン−
２−イル）安息香酸メチルの代わりに実施例１３で製造
した２−（７−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メ
チルを用い、同様の操作により表掲化合物を得た(14.9
g) 。 NMR(CD3OD)δ=7.7-8.4(m,9H),2.5(s,3H).
２−イル）安息香酸メチルの代わりに実施例１３で製造
した２−（７−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メ
チルを用い、同様の操作により表掲化合物を得た(14.9
g) 。 NMR(CD3OD)δ=7.7-8.4(m,9H),2.5(s,3H).
【００８０】［実施例１５］ ２−（２−カルボキシフェニル）−８−メチル−４−キ
ノリンカルボン酸
ノリンカルボン酸
【００８１】実施例１で、５−メチルイサチンの代わり
に、参考例４で製造した７−メチルイサチン(80g) を用
い、同様の操作により表掲化合物を得た(13.9g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.70-8.50(m,8H),2.45(s,3H).
に、参考例４で製造した７−メチルイサチン(80g) を用
い、同様の操作により表掲化合物を得た(13.9g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.70-8.50(m,8H),2.45(s,3H).
【００８２】［実施例１６］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−８−メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
【００８３】実施例２で２−（２−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例１５で製造した２−（２−カルボキシフェニ
ル）−８−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(9.8g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.4(m,8H),3.9(s,3H),3.5(s,3H),2.4
(s,3H).
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例１５で製造した２−（２−カルボキシフェニ
ル）−８−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(9.8g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.4(m,8H),3.9(s,3H),3.5(s,3H),2.4
(s,3H).
【００８４】［実施例１７］ ２−（２−メトキシカルボニルフェニル）−８−メチル
−４−キノリンカルボン酸
−４−キノリンカルボン酸
【００８５】実施例３で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに実施例１６で製造した２−（２−メトキシ
カルボニルフェニル）−８−メチル−４−キノリンカル
ボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を得
た(7.8g)。 NMR(CD3COCD3) δ=8.5-7.5(m,8H),3.6(s,3H),2.5(s,3
H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに実施例１６で製造した２−（２−メトキシ
カルボニルフェニル）−８−メチル−４−キノリンカル
ボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を得
た(7.8g)。 NMR(CD3COCD3) δ=8.5-7.5(m,8H),3.6(s,3H),2.5(s,3
H).
【００８６】［実施例１８］ ２−（８−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メチル
【００８７】実施例４で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに実施例１７で製造した２−（２−メトキシカルボ
ニルフェニル）−８−メチル−４−キノリンカルボン酸
を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(6.0g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.3(m,9H), 3.6(s,3H), 2.5(s,3H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに実施例１７で製造した２−（２−メトキシカルボ
ニルフェニル）−８−メチル−４−キノリンカルボン酸
を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(6.0g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.3(m,9H), 3.6(s,3H), 2.5(s,3H).
【００８８】［実施例１９］ ２−（８−メチルキノリン−２−イル）安息香酸
【００８９】実施例５で、２−（８−メチルキノリン−
２−イル）安息香酸メチルの代わりに実施例１８で製造
した２−（８−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メ
チルを用い、同様の操作により表掲化合物を得た(4.9
g)。 NMR(CD3OD)δ=7.5-8.4(m,9H),2.5(s,3H).
２−イル）安息香酸メチルの代わりに実施例１８で製造
した２−（８−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メ
チルを用い、同様の操作により表掲化合物を得た(4.9
g)。 NMR(CD3OD)δ=7.5-8.4(m,9H),2.5(s,3H).
【００９０】［実施例２０］ ２−（４−カルボキシフェニル）−６−メチル−４−キ
ノリンカルボン酸
ノリンカルボン酸
【００９１】実施例１で２−アセチル安息香酸の代わり
に、４−アセチル安息香酸35.0g を用い、同様の操作に
より表掲化合物を得た(48.3g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.70-8.70(m,8H),2.60(s,3H).
に、４−アセチル安息香酸35.0g を用い、同様の操作に
より表掲化合物を得た(48.3g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.70-8.70(m,8H),2.60(s,3H).
【００９２】［実施例２１］ ２−（４−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
【００９３】実施例２で２−（２−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例２０で製造した２−（４−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(39.8g）。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.6(m,8H),3.9(s,3H),3.5(s,3H),2.5
(s,3H).
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例２０で製造した２−（４−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(39.8g）。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.6(m,8H),3.9(s,3H),3.5(s,3H),2.5
(s,3H).
【００９４】［実施例２２］ ２−（４−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル
−４−キノリンカルボン酸
−４−キノリンカルボン酸
【００９５】実施例３で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに、実施例２１で製造した２−（４−メトキ
シカルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカ
ルボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を
得た(30.0g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=8.6-7.4(m,8H),3.8(s,3H),2.5(s,3
H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに、実施例２１で製造した２−（４−メトキ
シカルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカ
ルボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を
得た(30.0g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=8.6-7.4(m,8H),3.8(s,3H),2.5(s,3
H).
【００９６】［実施例２３］ ４−（６−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メチル
【００９７】実施例４で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに、実施例２２で製造した２−（４−メトキシカル
ボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン
酸を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(24.4g)
。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.2(m,9H),3.9(s,3H),2.6(s,3H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに、実施例２２で製造した２−（４−メトキシカル
ボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン
酸を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(24.4g)
。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.2(m,9H),3.9(s,3H),2.6(s,3H).
【００９８】［実施例２４］ ２−（３−カルボキシフェニル）−６−メチル−４−キ
ノリンカルボン酸
ノリンカルボン酸
【００９９】実施例１で２−アセチル安息香酸の代わり
に、３−アセチル安息香酸を用い、同様の操作により表
掲化合物を得た(50.5g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.6-8.7(m,8H),2.5(s,3H).
に、３−アセチル安息香酸を用い、同様の操作により表
掲化合物を得た(50.5g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.6-8.7(m,8H),2.5(s,3H).
【０１００】［実施例２５］ ２−（３−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
−４−キノリンカルボン酸メチル
【０１０１】実施例２で２−（２−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例２４で製造した２−（３−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(47.6g）。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.5(m,8H),3.9(s,3H),3.6(s,3H),2.5
(s,3H).
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例２４で製造した２−（３−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸を用い、同
様の操作により表掲化合物を得た(47.6g）。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.5(m,8H),3.9(s,3H),3.6(s,3H),2.5
(s,3H).
【０１０２】［実施例２６］ ２−（３−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル
−４−キノリンカルボン酸
−４−キノリンカルボン酸
【０１０３】実施例３で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに、実施例２５で製造した２−（３−メトキ
シカルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカ
ルボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を
得た(39.8g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=8.6-7.3(m,8H),3.6(s,3H),2.6(s,3
H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに、実施例２５で製造した２−（３−メトキ
シカルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカ
ルボン酸メチルを用い、同様の操作により表掲化合物を
得た(39.8g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=8.6-7.3(m,8H),3.6(s,3H),2.6(s,3
H).
【０１０４】［実施例２７］ ３−（６−メチルキノリン−２−イル）安息香酸メチル
【０１０５】実施例４で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに、実施例２６で製造した２−（３−メトキシカル
ボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン
酸を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(30.5g)
。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.4(m,9H),3.5(s,3H),2.6(s,3H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに、実施例２６で製造した２−（３−メトキシカル
ボニルフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン
酸を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(30.5g)
。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.4(m,9H),3.5(s,3H),2.6(s,3H).
【０１０６】［実施例２８］ ２−（３−クロロ−２−カルボキシフェニル）−６−メ
チル−４−キノリンカルボン酸 実施例１で２−アセチル安息香酸の代わりに、３−クロ
ロ−２−アセチル安息香酸を用い、同様の操作により表
掲化合物を得た(10.5g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.6-8.7(m,7H), 2.6(s,3H).
チル−４−キノリンカルボン酸 実施例１で２−アセチル安息香酸の代わりに、３−クロ
ロ−２−アセチル安息香酸を用い、同様の操作により表
掲化合物を得た(10.5g) 。 NMR(CD3COCD3) δ=7.6-8.7(m,7H), 2.6(s,3H).
【０１０７】［実施例２９］ ２−（３−クロロ−２−メトキシカルボニルフェニル）
−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチル
−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチル
【０１０８】実施例２で２−（２−カルボキシフェニ
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例２８で製造した２−（３−クロロ−２−カル
ボキシフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン
酸を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(8.8g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.5(m,7H),3.9(s,3H),3.8(s,3H),2.7
(s,3H).
ル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代わり
に、実施例２８で製造した２−（３−クロロ−２−カル
ボキシフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン
酸を用い、同様の操作により表掲化合物を得た(8.8g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.5(m,7H),3.9(s,3H),3.8(s,3H),2.7
(s,3H).
【０１０９】［実施例３０］ ２−（３−クロロ−２−メトキシカルボニルフェニル）
−６−メチル−４−キノリンカルボン酸
−６−メチル−４−キノリンカルボン酸
【０１１０】実施例３で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに、実施例２９で製造した２−（３−クロロ
−２−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル−４
−キノリンカルボン酸メチルを用い、同様の操作により
表掲化合物を得た(3.8g)。 NMR(CD3COCD3) δ=8.7-7.3(m,7H),3.7(s,3H),2.6(s,3
H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸メチ
ルの代わりに、実施例２９で製造した２−（３−クロロ
−２−メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル−４
−キノリンカルボン酸メチルを用い、同様の操作により
表掲化合物を得た(3.8g)。 NMR(CD3COCD3) δ=8.7-7.3(m,7H),3.7(s,3H),2.6(s,3
H).
【０１１１】［実施例３１］ ２−クロロ−６−（６−メチルキノリン−２−イル）安
息香酸メチル
息香酸メチル
【０１１２】実施例４で２−（２−メトキシカルボニル
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに、実施例３０で製造した２−（３−クロロ−２−
メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノ
リンカルボン酸を用い、同様の操作により表掲化合物を
得た(2.0g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.6(m,8H),3.7(s,3H),2.5(s,3H).
フェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸の代
わりに、実施例３０で製造した２−（３−クロロ−２−
メトキシカルボニルフェニル）−６−メチル−４−キノ
リンカルボン酸を用い、同様の操作により表掲化合物を
得た(2.0g)。 NMR(CDCl3)δ=7.4-8.6(m,8H),3.7(s,3H),2.5(s,3H).
【０１１３】
【発明の効果】高血圧治療剤として有望なアンジオテン
シンII拮抗剤の中間原料として有用なキノリン−２−イ
ル安息香酸誘導体を有機リチウム化合物を使うなどの煩
雑な操作なしに、入手容易なイサチン類とアセチル安息
香酸類から製造することができる。
シンII拮抗剤の中間原料として有用なキノリン−２−イ
ル安息香酸誘導体を有機リチウム化合物を使うなどの煩
雑な操作なしに、入手容易なイサチン類とアセチル安息
香酸類から製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 知子 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 森澤 義富 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内
Claims (12)
- 【請求項１】下記一般式（１）で表されるキノリン−２
−イル安息香酸誘導体。 【化１】 ただし、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ア
ルコキシル基、またはハロゲン置換低級アルキル基、Ｒ
7 は−ＣＯＯＲ8 を表す。Ｒ8 は水素原子、低級アルキ
ル基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール
基、またはアルアルキル基を表す。 - 【請求項２】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 がそれぞれ独立に
水素原子または低級アルキル基である、請求項１の誘導
体。 - 【請求項３】Ｒ5 、Ｒ6 がそれぞれ独立に水素原子、ハ
ロゲン原子、または低級アルキル基である、請求項１の
誘導体。 - 【請求項４】Ｒ8 が水素原子または低級アルキル基であ
る、請求項１の誘導体。 - 【請求項５】２−（６−メチルキノリン−２−イル）安
息香酸またはその低級アルキルエステルである、請求項
１の誘導体。 - 【請求項６】下記一般式（２）で表されるイサチン類と
下記一般式（３）で表されるアセチル安息香酸類を反応
させて下記一般式（４）で表されるカルボキシフェニル
キノリンカルボン酸類を製造し、次いでベンゼン環上の
カルボキシル基を選択的に保護した後、キノリン環上の
カルボキシル基を脱炭酸することを特徴とする下記一般
式（１’）で表されるキノリン−２−イル安息香酸誘導
体の製造方法。 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 ただし、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ア
ルコキシル基、またはハロゲン置換低級アルキル基、Ｒ
9 は−ＣＯＯＲ10を表す。Ｒ10は低級アルキル基、アル
ケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール基、または
アルアルキル基を表す。 - 【請求項７】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 がそれぞれ独立に
水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ5 、Ｒ6 がそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、または低級アル
キル基であり、Ｒ10が低級アルキル基である、請求項６
の製造方法。 - 【請求項８】一般式（４）で表されるカルボキシフェニ
ルキノリンカルボン酸類のベンゼン環上のカルボキシル
基の選択的な保護を、カルボキシフェニルキノリンカル
ボン酸類の２つのカルボキシル基をいずれもエステル化
し、次いでキノリン環上のエステルを選択的に加水分解
することによって行う、請求項６の製造方法。 - 【請求項９】一般式（２）で表される化合物が５−メチ
ルイサチンであり、一般式（３）で表される化合物が２
−アセチル安息香酸であり、一般式（４）で表される化
合物が２−（２−カルボキシフェニル）−６−メチル−
４−キノリンカルボン酸であり、一般式（１’）で表さ
れる化合物が２−（６−メチルキノリン−２−イル）安
息香酸低級アルキルエステルである、請求項６の製造方
法。 - 【請求項１０】下記一般式（４）で表されるカルボキシ
フェニルキノリンカルボン酸類またはそのエステルから
なる化合物。 【化６】 ただし、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ア
ルコキシル基、またはハロゲン置換低級アルキル基を表
す。 - 【請求項１１】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 がそれぞれ独立
に水素原子または低級アルキル基であ、Ｒ5 、Ｒ6 がそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、または低級アル
キル基である、請求項１０の化合物。 - 【請求項１２】２−（２−カルボキシフェニル）−６−
メチル−４−キノリンカルボン酸、その低級アルキルジ
エステル、またはその低級アルキルモノエステルであ
る、請求項１０の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5121979A JPH0616641A (ja) | 1992-05-08 | 1993-04-26 | キノリン−２−イル安息香酸誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14340792 | 1992-05-08 | ||
| JP4-143407 | 1992-05-08 | ||
| JP5121979A JPH0616641A (ja) | 1992-05-08 | 1993-04-26 | キノリン−２−イル安息香酸誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0616641A true JPH0616641A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=26459215
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5121979A Pending JPH0616641A (ja) | 1992-05-08 | 1993-04-26 | キノリン−２−イル安息香酸誘導体およびその製造方法 |
| JP12505393A Pending JPH0616659A (ja) | 1992-05-08 | 1993-04-28 | キノリン誘導体 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12505393A Pending JPH0616659A (ja) | 1992-05-08 | 1993-04-28 | キノリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPH0616641A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0709377A1 (en) | 1994-10-27 | 1996-05-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing quinolin-2-yl benzoic acid compounds |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09202774A (ja) | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Green Cross Corp:The | ２−アリールキノリン類およびその製造方法 |
-
1993
- 1993-04-26 JP JP5121979A patent/JPH0616641A/ja active Pending
- 1993-04-28 JP JP12505393A patent/JPH0616659A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0709377A1 (en) | 1994-10-27 | 1996-05-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing quinolin-2-yl benzoic acid compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0616659A (ja) | 1994-01-25 |
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