JPH0615794A - 透かし彫り用紙 - Google Patents
透かし彫り用紙Info
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- JPH0615794A JPH0615794A JP3169021A JP16902191A JPH0615794A JP H0615794 A JPH0615794 A JP H0615794A JP 3169021 A JP3169021 A JP 3169021A JP 16902191 A JP16902191 A JP 16902191A JP H0615794 A JPH0615794 A JP H0615794A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 彫刻手段で所望の図柄等を表現する適性を有
し、改ざんが発見されやすく、且つ改ざんされにくい透
かし彫り用紙を提供する。 【構成】 支持体層と彫刻層とから成る透かし彫り用紙
において、支持体層の不透明度が70%以下、彫刻層の不
透明度が40%以上で、支持体層の不透明度が常に彫刻層
の不透明度より低い値であり、且つ支持体層と彫刻層の
不透明度の差が30%以上で、彫刻層から支持体層まで彫
刻するようにした。
し、改ざんが発見されやすく、且つ改ざんされにくい透
かし彫り用紙を提供する。 【構成】 支持体層と彫刻層とから成る透かし彫り用紙
において、支持体層の不透明度が70%以下、彫刻層の不
透明度が40%以上で、支持体層の不透明度が常に彫刻層
の不透明度より低い値であり、且つ支持体層と彫刻層の
不透明度の差が30%以上で、彫刻層から支持体層まで彫
刻するようにした。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックシ−トに
彫刻手段により所望の図柄等を直接表現出来る用紙であ
って、各種カ−ドに用いたり、パスポ−トや預金通帳等
に使用し、且つ改ざんされにくい透かし彫り用紙に関す
るものである。
彫刻手段により所望の図柄等を直接表現出来る用紙であ
って、各種カ−ドに用いたり、パスポ−トや預金通帳等
に使用し、且つ改ざんされにくい透かし彫り用紙に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】プラスチックシ−トの上に彫刻を施し、
図柄等を表現したシ−トは公知であって、身分を証明す
るカ−ドとして使われているほか、一部にはパスポ−ト
に用いられたこともある。しかし、これらの彫刻を施し
たものは反射光により視認するものであり、改ざんが発
見されにくいという問題点がある。このような問題点を
補うため、種々のものが提案されているが、未だ充分満
足すべきものは出現していない。
図柄等を表現したシ−トは公知であって、身分を証明す
るカ−ドとして使われているほか、一部にはパスポ−ト
に用いられたこともある。しかし、これらの彫刻を施し
たものは反射光により視認するものであり、改ざんが発
見されにくいという問題点がある。このような問題点を
補うため、種々のものが提案されているが、未だ充分満
足すべきものは出現していない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決
しようとする課題は、彫刻手段で所望の図柄等を表現す
る適性を有し、改ざんが発見されやすく、且つ改ざんさ
れにくい透かし彫り用紙を提供することである。
しようとする課題は、彫刻手段で所望の図柄等を表現す
る適性を有し、改ざんが発見されやすく、且つ改ざんさ
れにくい透かし彫り用紙を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
することを目的としてなされたもので、その構成は、支
持体層と彫刻層とから成る用紙において、支持体層の不
透明度が70%以下、彫刻層の不透明度が40%以上で、支
持体層の不透明度が常に彫刻層の不透明度より低い値で
あり、且つ支持体層と彫刻層の不透明度の差が30%以上
で、彫刻層から支持体層まで彫刻するようにしたことを
特徴とするものである。
することを目的としてなされたもので、その構成は、支
持体層と彫刻層とから成る用紙において、支持体層の不
透明度が70%以下、彫刻層の不透明度が40%以上で、支
持体層の不透明度が常に彫刻層の不透明度より低い値で
あり、且つ支持体層と彫刻層の不透明度の差が30%以上
で、彫刻層から支持体層まで彫刻するようにしたことを
特徴とするものである。
【0005】即ち、本発明は、上記の目的を達成するた
め、研究の結果、支持体層の上に彫刻層を設けて透かし
彫り用紙を構成するに際し、支持体層の不透明度が70%
以下、彫刻層の不透明度が40%以上で、支持体層の不透
明度を常に彫刻層の不透明度より低くすると共に、両層
の不透明度の差を30%以上とし、彫刻に際して彫刻層か
ら支持体層にまで彫刻を施せば、透過光によって鮮明な
彫刻画像を得られることを知得し、本発明を完成したの
であって、支持体層と彫刻層との間にそれぞれの色と異
なる1乃至複数の着色層を設けたり、支持体層の裏面に
裏面層又は裏面層及び地紋層を設けたり、或いは支持体
の表面と彫刻層又は着色層の間に地紋層を設けても良
い。
め、研究の結果、支持体層の上に彫刻層を設けて透かし
彫り用紙を構成するに際し、支持体層の不透明度が70%
以下、彫刻層の不透明度が40%以上で、支持体層の不透
明度を常に彫刻層の不透明度より低くすると共に、両層
の不透明度の差を30%以上とし、彫刻に際して彫刻層か
ら支持体層にまで彫刻を施せば、透過光によって鮮明な
彫刻画像を得られることを知得し、本発明を完成したの
であって、支持体層と彫刻層との間にそれぞれの色と異
なる1乃至複数の着色層を設けたり、支持体層の裏面に
裏面層又は裏面層及び地紋層を設けたり、或いは支持体
の表面と彫刻層又は着色層の間に地紋層を設けても良
い。
【0006】以下、本発明について詳細に説明する。支
持体層としては、一般に用いられるポリプロピレン,ポ
リエチレンテレフタレ−ト,塩化ビニル等の適宜のプラ
スチックシ−トが用いられる。然し乍ら、白色のポリエ
ステルフィルムやポリプロピレンフィルム等は不透明度
が高いので、好ましくない。また、支持体層まで彫刻す
るので、彫刻性の良い材質、例えばポリエステルフィル
ム等が好ましい。あまり柔らかい材質であると、彫刻の
際の切削粉が画像に付着,残留し、除去出来なくなる。
一方、脆い材質のものは、彫刻後の画像が欠落を起し、
保存性が悪くなるおそれがある。厚みは用途に応じ種々
選ばれるが、パスポ−トの場合等は、50〜200μm、好
ましくは75〜150μmが良い。
持体層としては、一般に用いられるポリプロピレン,ポ
リエチレンテレフタレ−ト,塩化ビニル等の適宜のプラ
スチックシ−トが用いられる。然し乍ら、白色のポリエ
ステルフィルムやポリプロピレンフィルム等は不透明度
が高いので、好ましくない。また、支持体層まで彫刻す
るので、彫刻性の良い材質、例えばポリエステルフィル
ム等が好ましい。あまり柔らかい材質であると、彫刻の
際の切削粉が画像に付着,残留し、除去出来なくなる。
一方、脆い材質のものは、彫刻後の画像が欠落を起し、
保存性が悪くなるおそれがある。厚みは用途に応じ種々
選ばれるが、パスポ−トの場合等は、50〜200μm、好
ましくは75〜150μmが良い。
【0007】彫刻層はバインダ−とフィラ−とから成る
塗液を通常用いられる手段により、塗工し乾燥して設け
られる。また、前記塗液に塗工が容易に行なわれるため
の湿潤剤,粘度調製剤等を混入してもよく、更に帯電防
止剤等も混入出来る。この彫刻層の厚みは3〜25μm、
好ましくは7〜12μmがよい。
塗液を通常用いられる手段により、塗工し乾燥して設け
られる。また、前記塗液に塗工が容易に行なわれるため
の湿潤剤,粘度調製剤等を混入してもよく、更に帯電防
止剤等も混入出来る。この彫刻層の厚みは3〜25μm、
好ましくは7〜12μmがよい。
【0008】彫刻層に用いられるバインダ−は、支持体
層との、また、アンダ−コ−ト層が用いられる場合はア
ンダ−コ−ト層との、それぞれ密着性が良ければ特に制
約されることはない。そして、支持体層がポリエステル
フィルムの場合は、ポリエステル等が良い。然し乍ら、
彫刻後の保存のためには耐擦過性の良好な樹脂、例えば
ポリエステル,ポリウレタンが好ましい。
層との、また、アンダ−コ−ト層が用いられる場合はア
ンダ−コ−ト層との、それぞれ密着性が良ければ特に制
約されることはない。そして、支持体層がポリエステル
フィルムの場合は、ポリエステル等が良い。然し乍ら、
彫刻後の保存のためには耐擦過性の良好な樹脂、例えば
ポリエステル,ポリウレタンが好ましい。
【0009】一方、彫刻層に用いられるフィラ−として
は、不透明性を与えるものであれば何でも良く、酸化チ
タン,炭酸カルシウム,シリカ等が挙げられるが、耐擦
過性の上から、粒子が細かく、且つ少量の添加で不透明
性を与えるものが好ましく、酸化チタンが特に好まし
い。また、酸化チタンは予め水に分散させたものも用い
ることが出来る。
は、不透明性を与えるものであれば何でも良く、酸化チ
タン,炭酸カルシウム,シリカ等が挙げられるが、耐擦
過性の上から、粒子が細かく、且つ少量の添加で不透明
性を与えるものが好ましく、酸化チタンが特に好まし
い。また、酸化チタンは予め水に分散させたものも用い
ることが出来る。
【0010】尚、画像の保存のために、彫刻後、画像の
上から透明な樹脂をラミネ−トしたり、カバ−を施した
りしても良い。
上から透明な樹脂をラミネ−トしたり、カバ−を施した
りしても良い。
【0011】アンダコ−ト層は設けても設けなくても良
いが、設ける場合は、支持体と彫刻層の双方との密着性
の良好なバインダ−等から選ばれる。また、アンダ−コ
−ト層は透明,不透明いずれのものでも良いが、彫像に
細かい階調をつけるためには不透明の方が良い場合もあ
る。この場合は不透明度を高くするのに役立つ。このア
ンダ−コ−ト層の目的は彫刻層の密着を良好にすること
であり、また、偽造防止のためには、アンダ−コ−ト層
を着色層としてもよく、層の数を複数にしても良い。こ
の場合、着色層を支持体層と彫刻層のそれぞれの色と異
なるようにすれば、改ざんされにくくすることができ
る。更に、アンダ−コ−ト層として、地紋印刷を入れて
偽造防止するようにすることも可能である。而して、ア
ンダ−コ−ト層の厚さは彫刻層全体の厚みによるが、1
〜10μm程度で、その形成の方法は一般に用いられる塗
工方法やグラビア印刷による方法等がある。
いが、設ける場合は、支持体と彫刻層の双方との密着性
の良好なバインダ−等から選ばれる。また、アンダ−コ
−ト層は透明,不透明いずれのものでも良いが、彫像に
細かい階調をつけるためには不透明の方が良い場合もあ
る。この場合は不透明度を高くするのに役立つ。このア
ンダ−コ−ト層の目的は彫刻層の密着を良好にすること
であり、また、偽造防止のためには、アンダ−コ−ト層
を着色層としてもよく、層の数を複数にしても良い。こ
の場合、着色層を支持体層と彫刻層のそれぞれの色と異
なるようにすれば、改ざんされにくくすることができ
る。更に、アンダ−コ−ト層として、地紋印刷を入れて
偽造防止するようにすることも可能である。而して、ア
ンダ−コ−ト層の厚さは彫刻層全体の厚みによるが、1
〜10μm程度で、その形成の方法は一般に用いられる塗
工方法やグラビア印刷による方法等がある。
【0012】支持体の裏面に裏面層を設けても良い。裏
面層を設ける目的は、印字,印刷適性を良好にすること
で、その必要がないときは特に設けなくても良い。この
裏面層は支持体との密着性が良好なバインダ−を用いる
ことが望ましく、支持体がポリエチレンテレフタレ−ト
の場合はポリエステルが、一方、支持体がポリプロピレ
ンの場合は塩素化ポリプロピレンが、それぞれ好まし
い。また、裏面層の厚みは1〜15μmで、フィラ−とし
ては不透明性の低いもので印字性が良い微粉末シリカが
好ましい。
面層を設ける目的は、印字,印刷適性を良好にすること
で、その必要がないときは特に設けなくても良い。この
裏面層は支持体との密着性が良好なバインダ−を用いる
ことが望ましく、支持体がポリエチレンテレフタレ−ト
の場合はポリエステルが、一方、支持体がポリプロピレ
ンの場合は塩素化ポリプロピレンが、それぞれ好まし
い。また、裏面層の厚みは1〜15μmで、フィラ−とし
ては不透明性の低いもので印字性が良い微粉末シリカが
好ましい。
【0013】尚、本発明において、支持体層の不透明度
は、裏面層がある場合は裏面層と合わせた不透明度をい
い、彫刻層の不透明度は、アンダ−コ−ト層がある場合
はアンダ−コ−ト層を合わせた不透明度をいう。
は、裏面層がある場合は裏面層と合わせた不透明度をい
い、彫刻層の不透明度は、アンダ−コ−ト層がある場合
はアンダ−コ−ト層を合わせた不透明度をいう。
【0014】而して、本発明透かし彫り用紙は、上述の
通り、支持体層の表面に直接又は1乃至複数のアンダ−
コ−ト層を介在させて彫刻層を設けて構成されるのであ
るが、印字や印刷適性を付与するために、支持体層の裏
面に裏面層を設けたり、改ざんされるのを防止するため
に支持体層の裏面又は表面に地紋印刷を施すことによっ
て、目的に応じた透かし彫り用紙とすることが出来る。
通り、支持体層の表面に直接又は1乃至複数のアンダ−
コ−ト層を介在させて彫刻層を設けて構成されるのであ
るが、印字や印刷適性を付与するために、支持体層の裏
面に裏面層を設けたり、改ざんされるのを防止するため
に支持体層の裏面又は表面に地紋印刷を施すことによっ
て、目的に応じた透かし彫り用紙とすることが出来る。
【0015】次に、本発明透かし彫り用紙の構成例を図
により説明する。図1は支持体層1の裏面に裏面層2を
設け、同じく表面にアンダ−コ−ト層3を介して彫刻層
4を設けた透かし彫り用紙の一例を示す断面拡大図で、
このように構成された透かし彫り用紙は、図2に示すよ
うに、画像部5を彫刻し、その両側に背影部6,6を支
持体層1まで彫刻して、裏面から透過光を当てると、陰
影がはっきりし画像が鮮明に視認できる。また、図3は
支持体層1の表面に着色アンダ−コ−ト層3を3層形成
し、その上に彫刻層4を設けた透かし彫り用紙の断面拡
大図、図4は支持体層1の裏面に裏面層2を設け、同じ
く表面に地紋印刷7を施し、その上に着色アンダ−コ−
ト層3を介して彫刻層4を設けた透かし彫り用紙の断面
拡大図、図5は支持体層1の裏面に地紋印刷7を施し、
その上に更に裏面層2を設け、支持体層1の表面にアン
ダ−コ−ト層3を介して彫刻層4を設けた透かし彫り用
紙の断面拡大図であって、これらの透かし彫り用紙は、
図2に示すような彫刻を施すことにより、透過光によっ
て鮮明な画像を視認することが出来る。
により説明する。図1は支持体層1の裏面に裏面層2を
設け、同じく表面にアンダ−コ−ト層3を介して彫刻層
4を設けた透かし彫り用紙の一例を示す断面拡大図で、
このように構成された透かし彫り用紙は、図2に示すよ
うに、画像部5を彫刻し、その両側に背影部6,6を支
持体層1まで彫刻して、裏面から透過光を当てると、陰
影がはっきりし画像が鮮明に視認できる。また、図3は
支持体層1の表面に着色アンダ−コ−ト層3を3層形成
し、その上に彫刻層4を設けた透かし彫り用紙の断面拡
大図、図4は支持体層1の裏面に裏面層2を設け、同じ
く表面に地紋印刷7を施し、その上に着色アンダ−コ−
ト層3を介して彫刻層4を設けた透かし彫り用紙の断面
拡大図、図5は支持体層1の裏面に地紋印刷7を施し、
その上に更に裏面層2を設け、支持体層1の表面にアン
ダ−コ−ト層3を介して彫刻層4を設けた透かし彫り用
紙の断面拡大図であって、これらの透かし彫り用紙は、
図2に示すような彫刻を施すことにより、透過光によっ
て鮮明な画像を視認することが出来る。
【0016】
【発明の効果】本発明は透かし彫り用紙は上述の通りで
あって、支持体層と彫刻層とから成る透かし彫り用紙に
おいて、支持体層の不透明度が70%以下、彫刻層の不透
明度が40%以上で、支持体層の不透明度が常に彫刻層の
不透明度より低い値であり、且つ支持体層と彫刻層の不
透明度の差が30%以上で、彫刻層から支持体層まで彫刻
するようにしたから、上記の彫刻を施した場合、彫刻画
像が反射光では見えにくく、透過光では鮮明に見えるの
で、偽造が極めて困難となり、また、画像彫刻後に画像
を爪等で擦っても剥離することはなく、従って、パスポ
−トのような偽造防止の必要なものの透かし彫り用紙と
して好適である。
あって、支持体層と彫刻層とから成る透かし彫り用紙に
おいて、支持体層の不透明度が70%以下、彫刻層の不透
明度が40%以上で、支持体層の不透明度が常に彫刻層の
不透明度より低い値であり、且つ支持体層と彫刻層の不
透明度の差が30%以上で、彫刻層から支持体層まで彫刻
するようにしたから、上記の彫刻を施した場合、彫刻画
像が反射光では見えにくく、透過光では鮮明に見えるの
で、偽造が極めて困難となり、また、画像彫刻後に画像
を爪等で擦っても剥離することはなく、従って、パスポ
−トのような偽造防止の必要なものの透かし彫り用紙と
して好適である。
【0017】
実施例 1 両面に易接着処理を施した75μm厚のポリエステルフィ
ルムから成る支持体の裏面に下記組成の塗液を塗工し乾
燥して、シ−トを得た。このシ−トの乾燥後の塗工厚み
は10μmであり、また、不透明度は43%であった(測定
はJIS-P-8138による)。 塗液の組成 水性ポリエステル樹脂(東洋紡績社製 バイロナ−ルMD1200) 50 重量部 ポリビニルアセタ−ル樹脂(積水化学社製 KX-1) 10 会合性増粘剤(ロ−ムアンドハ−ス社製 10%EXP) 5 微粉シリカ 10 軽質炭酸カルシウム 6 サイジング剤 0.16 帯電防止剤(三洋化成社製 ケミスタット6120) 4 水性ポリオレフィンディスパ−ジョン 6 水 120
ルムから成る支持体の裏面に下記組成の塗液を塗工し乾
燥して、シ−トを得た。このシ−トの乾燥後の塗工厚み
は10μmであり、また、不透明度は43%であった(測定
はJIS-P-8138による)。 塗液の組成 水性ポリエステル樹脂(東洋紡績社製 バイロナ−ルMD1200) 50 重量部 ポリビニルアセタ−ル樹脂(積水化学社製 KX-1) 10 会合性増粘剤(ロ−ムアンドハ−ス社製 10%EXP) 5 微粉シリカ 10 軽質炭酸カルシウム 6 サイジング剤 0.16 帯電防止剤(三洋化成社製 ケミスタット6120) 4 水性ポリオレフィンディスパ−ジョン 6 水 120
【0018】次に、前記シ−トの表面に白色グラビアイ
ンキ(大阪印刷インキ社製 PXAO-白665)を乾燥後の厚み
が2μmになるように塗工し乾燥させて、アンダ−コ−
ト層を形成した。更に、上記のアンダ−コ−ト層の上
に、下記組成の塗液を、乾燥後の厚みが10μmとなるよ
うに塗工し乾燥させて、彫刻層を形成した。このシ−ト
の彫刻層の不透明度は85%であった。 彫刻層塗液の組成 水性ポリエステル樹脂(東洋紡績社製 GXW-27) 50 重量部 水性ポリウレタン樹脂(大日本インキ社製 AP-40) 38.5 フッ素系界面活性剤 0.08 酸化チタン 13 軽質炭酸カルシウム 5.8 水分散酸化チタン 75 帯電防止剤 (三洋化成社製 ケミスタット6120) 3 水 15
ンキ(大阪印刷インキ社製 PXAO-白665)を乾燥後の厚み
が2μmになるように塗工し乾燥させて、アンダ−コ−
ト層を形成した。更に、上記のアンダ−コ−ト層の上
に、下記組成の塗液を、乾燥後の厚みが10μmとなるよ
うに塗工し乾燥させて、彫刻層を形成した。このシ−ト
の彫刻層の不透明度は85%であった。 彫刻層塗液の組成 水性ポリエステル樹脂(東洋紡績社製 GXW-27) 50 重量部 水性ポリウレタン樹脂(大日本インキ社製 AP-40) 38.5 フッ素系界面活性剤 0.08 酸化チタン 13 軽質炭酸カルシウム 5.8 水分散酸化チタン 75 帯電防止剤 (三洋化成社製 ケミスタット6120) 3 水 15
【0019】以上により構成される透かし彫り用紙の構
成は図1に示す通りである。この用紙の彫刻層の面から
カ−ド彫刻機により支持体層まで彫刻し、裏面から照明
を当てて観察したところ、鮮明な画像が視認出来た。ま
た、この彫刻画像は爪で擦っても表面の脱落は見られ
ず、堅牢なものであった。尚、前記画像は反射光では極
めてみにくく、上記の透過光によってのみ鮮明に視認さ
れた。
成は図1に示す通りである。この用紙の彫刻層の面から
カ−ド彫刻機により支持体層まで彫刻し、裏面から照明
を当てて観察したところ、鮮明な画像が視認出来た。ま
た、この彫刻画像は爪で擦っても表面の脱落は見られ
ず、堅牢なものであった。尚、前記画像は反射光では極
めてみにくく、上記の透過光によってのみ鮮明に視認さ
れた。
【0020】上記の透かし彫り用紙の支持体層の不透明
度と彫刻層の不透明度を種々変え、カ−ド彫刻機により
彫刻して画像を得た。上記の不透明度と画像の鮮明さを
観察した結果、表1に示す通りであった。
度と彫刻層の不透明度を種々変え、カ−ド彫刻機により
彫刻して画像を得た。上記の不透明度と画像の鮮明さを
観察した結果、表1に示す通りであった。
【0021】
【表1】
【0022】
【表2】
【0023】実施例 2 75μm厚のポリエステルフィルムを支持体とし、その裏
面に実施例1と同様にして裏面層を設けた。次に、前記
支持体層の表面に青色のグラビアインキを、乾燥後の厚
みが2μmとなるように、塗工し乾燥して、アンダ−コ
−ト層を形成した。更に、前記アンダ−コ−ト層の上に
実施例1と同様の彫刻層を設けて、透かし彫り用紙を得
た。この透かし彫り用紙の彫刻層の面からカ−ド彫刻機
により支持体層にまで彫刻し、透過光を当てたところ、
鮮明な画像が視認出来た。
面に実施例1と同様にして裏面層を設けた。次に、前記
支持体層の表面に青色のグラビアインキを、乾燥後の厚
みが2μmとなるように、塗工し乾燥して、アンダ−コ
−ト層を形成した。更に、前記アンダ−コ−ト層の上に
実施例1と同様の彫刻層を設けて、透かし彫り用紙を得
た。この透かし彫り用紙の彫刻層の面からカ−ド彫刻機
により支持体層にまで彫刻し、透過光を当てたところ、
鮮明な画像が視認出来た。
【0024】以下、同様に表2のように、アンダ−コ−
ト層,彫刻層の色を変え、様々な組み合わせで反射光及
び透過光を見たところ、画像の色は反射光では概略彫刻
層の色となり、透過光ではアンダ−コ−ト層と彫刻層の
混色の色相を帯びるが、彫刻層の色に近くなる。
ト層,彫刻層の色を変え、様々な組み合わせで反射光及
び透過光を見たところ、画像の色は反射光では概略彫刻
層の色となり、透過光ではアンダ−コ−ト層と彫刻層の
混色の色相を帯びるが、彫刻層の色に近くなる。
【0025】実施例 3 75μm厚のポリエチレンテレフタレ−トフィルムから成
る支持体に、実施例1と同様にしてアンダ−コ−ト層を
3層形成し、その上に彫刻層を設けて、透かし彫り用紙
を得た。この透かし彫り用紙の構成は図3に示す通りで
あり、彫刻層の面から支持体層にまで彫刻し、透過光を
当てたところ、鮮明な画像が視認出来た。
る支持体に、実施例1と同様にしてアンダ−コ−ト層を
3層形成し、その上に彫刻層を設けて、透かし彫り用紙
を得た。この透かし彫り用紙の構成は図3に示す通りで
あり、彫刻層の面から支持体層にまで彫刻し、透過光を
当てたところ、鮮明な画像が視認出来た。
【0026】また、アンダ−コ−ト層の各層の色及び彫
刻層の色を変え、上記と同様にして反射光及び透過光を
見たところ、表3の通りであった。
刻層の色を変え、上記と同様にして反射光及び透過光を
見たところ、表3の通りであった。
【0027】
【表3】
【0028】実施例 4 75μm厚のポリエチレンテレフタレ−トフィルムから成
る支持体の裏面に、実施例1と同様に裏面層を設け、前
記支持体の表面に白色グラビアインクにより地紋印刷を
施し、その上に上記と同インクでアンダ−コ−ト層を設
け、更にその上に彫刻層を設けて、透かし彫り用紙を得
た。この透かし彫り用紙の構成は図4に示す通りであ
り、反射光では地紋印刷は観察されなかったが、透過光
でははっきり観察された。この透かし彫り用紙に彫刻を
施したところ、鮮明な画像が得られた。
る支持体の裏面に、実施例1と同様に裏面層を設け、前
記支持体の表面に白色グラビアインクにより地紋印刷を
施し、その上に上記と同インクでアンダ−コ−ト層を設
け、更にその上に彫刻層を設けて、透かし彫り用紙を得
た。この透かし彫り用紙の構成は図4に示す通りであ
り、反射光では地紋印刷は観察されなかったが、透過光
でははっきり観察された。この透かし彫り用紙に彫刻を
施したところ、鮮明な画像が得られた。
【0029】実施例 5 75μm厚のポリエチレンテレフタレ−トフィルムから成
る支持体の裏面に、白グラビアインクにより地紋印刷を
施し、その上に前記と同様に裏面層を設け、前記支持体
の表面に白グラビアインクによりアンダ−コ−ト層を設
け、更にその上に彫刻層を設けて、透かし彫り用紙を得
た。この透かし彫り用紙の構成は図5に示す通りであ
り、反射光では地紋印刷は観察されなかったが、透過光
でははっきり観察出来た。この用紙に彫刻を施したとこ
ろ、鮮明な画像が得られた。
る支持体の裏面に、白グラビアインクにより地紋印刷を
施し、その上に前記と同様に裏面層を設け、前記支持体
の表面に白グラビアインクによりアンダ−コ−ト層を設
け、更にその上に彫刻層を設けて、透かし彫り用紙を得
た。この透かし彫り用紙の構成は図5に示す通りであ
り、反射光では地紋印刷は観察されなかったが、透過光
でははっきり観察出来た。この用紙に彫刻を施したとこ
ろ、鮮明な画像が得られた。
【図1】本発明透かし彫り用紙の一例を示す断面拡大
図。
図。
【図2】図1の用紙に彫刻を施した状態の断面拡大図。
【図3】本発明の別例の断面拡大図。
【図4】本発明の他の別例の断面拡大図。
【図5】本発明の更に他の別例の断面拡大図。
1 支持体層 2 裏面層 3 アンダ−コ−ト層 4 彫刻層 5 画像部 6 背影部 7 地紋印刷
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B42D 15/10 531 B 9111−2C C08J 7/04 D21H 21/40 (72)発明者 御 園 生 詔 司 東京都千代田区神田錦町三丁目拾弐番地六 株式会社竹尾内 (72)発明者 福 田 耕 三 東京都足立区西新井栄町1−18−1 日清 紡績株式会社西新井化成工場内 (72)発明者 石 井 尚 之 東京都足立区西新井栄町1−18−1 日清 紡績株式会社西新井化成工場内
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体層と彫刻層とから成る透かし彫り
用紙において、支持体層の不透明度が70%以下、彫刻層
の不透明度が40%以上で、支持体層の不透明度が常に彫
刻層の不透明度より低い値であり、且つ支持体層と彫刻
層の不透明度の差が30%以上で、彫刻層から支持体層ま
で彫刻するようにしたことを特徴とする透かし彫り用
紙。 - 【請求項2】 支持体層と彫刻層の間にそれぞれの色と
異なる着色層を介在させた請求項1に記載の透かし彫り
用紙。 - 【請求項3】 着色層が複数の層から成る請求項2に記
載の透かし彫り用紙。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3169021A JPH0813539B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 透かし彫り用紙 |
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CA002071119A CA2071119A1 (en) | 1991-06-14 | 1992-06-12 | Engraving sheet structure |
DE69216302T DE69216302T2 (de) | 1991-06-14 | 1992-06-12 | Gravierte Schichtstruktur |
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US07/928,042 US5298307A (en) | 1991-06-14 | 1992-10-08 | Engraving sheet structure |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3169021A JPH0813539B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 透かし彫り用紙 |
US07/928,042 US5298307A (en) | 1991-06-14 | 1992-10-08 | Engraving sheet structure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0615794A true JPH0615794A (ja) | 1994-01-25 |
JPH0813539B2 JPH0813539B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=26492508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3169021A Expired - Lifetime JPH0813539B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 透かし彫り用紙 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0813539B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1332820C (zh) * | 2003-03-13 | 2007-08-22 | 北京邮票厂 | 一种纸面雕刻防伪方法 |
WO2009066476A1 (ja) | 2007-11-22 | 2009-05-28 | Semco Corporation | セキュリティシート |
KR101463863B1 (ko) * | 2007-11-16 | 2014-11-21 | 세무코 가부시키 가이샤 | 화상카드, 화상조각장치 및 화상조각방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09254340A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-09-30 | Oji Yuka Synthetic Paper Co Ltd | 透かし彫り偽造防止用紙 |
EP1445096A4 (en) | 2001-07-16 | 2009-01-14 | Yupo Corp | ANTI-FALSIFICATION FILM |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60194594U (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-25 | 国際ケミカル株式会社 | 彫刻盤 |
JPH0359197A (ja) * | 1989-07-21 | 1991-03-14 | Ookurashiyou Insatsu Kyokucho | 虹彩色を有する透かし文様作成法及びその製品 |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP3169021A patent/JPH0813539B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101463863B1 (ko) * | 2007-11-16 | 2014-11-21 | 세무코 가부시키 가이샤 | 화상카드, 화상조각장치 및 화상조각방법 |
KR101463865B1 (ko) * | 2007-11-16 | 2014-11-25 | 세무코 가부시키 가이샤 | 화상카드, 화상조각장치 및 화상조각방법 |
WO2009066476A1 (ja) | 2007-11-22 | 2009-05-28 | Semco Corporation | セキュリティシート |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0813539B2 (ja) | 1996-02-14 |
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