JPH06136114A - 光学成形品用成形材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ブロックエラーレートの平均値が充分に小さ
い光学成形品を製造することのできる芳香族ポリカーボ
ネート樹脂よりなる成形材料を提供する。 【構成】 特定の方法で検出した珪素元素を含有する化
合物が特定量以下である芳香族ポリカーボネート樹脂よ
りなる光学成形品用成形材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学成形品例えば光学
的に情報の記録や再生を行うコンパクトディスク、ビデ
オディスク、光カード、追記型や書換型情報記録媒体等
の基板、位相差フィルム等に有用な芳香族ポリカーボネ
ート樹脂よりなる成形材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリカーボネート樹脂は、その優
れた透明性、耐熱性、寸法安定性等の特性を生かして光
情報ディスク用基板、レンズ等の光学部品の成形材料と
して使用されている。特に、光情報ディスク用基板にお
いてはブロックエラーレートの平均値の小さい、即ち異
物の少ない芳香族ポリカーボネート樹脂が要求されてい
る。この異物の測定には、通常芳香族ポリカーボネート
樹脂を有機溶媒に溶解してレーザーセンサー液体微粒子
カウント法により測定されており、この異物を減少させ
る方法としては、芳香族ポリカーボネート樹脂製造時の
精製工程や造粒工程等において芳香族ポリカーボネート
樹脂溶液をフィルターで濾過する方法（特開昭６１−９
０３４５号公報、特開昭６３−９１２３１号公報）が提
案されている。しかしながら、かかる方法によってもブ
ロックエラーレートの平均値が充分に小さい光学成形品
を得るのは困難である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ブロ
ックエラーレートの平均値が充分に小さい光学成形品を
製造することのできる芳香族ポリカーボネート樹脂より
なる成形材料を提供することである。

【０００４】上記目的を達成するには、成形材料中の異
物を少なくすればよいことはいうまでもない。従来、ブ
ロックエラーレートの平均値に影響する異物はレーザー
センサー液体微粒子カウント法でカウントされる異物量
が重要視されていた。しかしながら、このカウント法
は、光散乱法により測定しているので透明又は不定形の
異物に対しては正確な値をカウントせず、また０．５μ
m 以上の物質でも散乱光強度に満たない場合はカウント
されないという問題があることを知った。

【０００５】本発明者は、レーザーセンサー液体微粒子
カウント法による異物カウント数とブロックエラーレー
トの平均値との間に相関関係がみられないことから、異
物評価法の面から鋭意検討した結果、平均孔径０．１μ
m 、濾過面直径２０mmのフィルターで芳香族ポリカーボ
ネート樹脂の有機溶媒溶液を濾過し、捕集物を走査型電
子顕微鏡及びＸ線マイクロアナライザーにより分析した
ところ、珪素元素を含有する０．１μm 以上の透明又は
不定形の異物が多量存在し、これらの異物の量がブロッ
クエラーレートの平均値に大きく影響し、更にこれらの
異物が０．５μm 以上であってもレーザーセンサー液体
微粒子カウント法によってはカウントされないことを知
った。本発明はこの知見に基ずいて完成したものであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族ポリカ
ーボネート樹脂よりなる成形材料であってその１０gを
有機溶媒で溶解した後平均孔径０．１μm 、濾過面直径
２０mmのフィルターで濾過し、フィルター上残渣物を走
査型電子顕微鏡及びＸ線マイクロアナライザーを用いて
珪素元素を含有する化合物を分析し、該化合物の総断面
積が該フィルター濾過面積の５０％以下である芳香族ポ
リカーボネート樹脂よりなる光学成形品用成形材料に係
るものである。本発明で対象とする芳香族ポリカーボネ
ート樹脂は、下記一般式

【０００７】

【化１】

【０００８】［式中、Ｘは炭素数１〜５の置換又は非置
換アルキレン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、−Ｏ
−又は−ＣＯ−であり、Ｙは水素原子、炭素数１〜３の
アルキル基又はハロゲン原子である。］で表される二価
フェノールの一種又は二種以上と、ホスゲンやハロゲン
化ホルメート等のカーボネート前駆物質とを反応させ、
有機溶媒の存在下重縮合させて得られる芳香族ポリカー
ボネート樹脂であり、かかる芳香族ポリカーボネート樹
脂にテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボ
ン酸等の芳香族ジカルボン酸を共重合したポリエステル
カーボネート樹脂を包含する。特に二価フェノールとし
てビスフェノールＡを用いて得られる芳香族ポリカーボ
ネート樹脂が好ましく、その重合度は特に制限する必要
はないが、粘度平均分子量で表して１２，０００〜３
０，０００の範囲が好ましい。

【０００９】本発明で使用するフィルターは、平均孔径
０．１μm 、濾過面直径２０mmのフィルターであり、芳
香族ポリカーボネート樹脂の溶解に用いた有機溶媒によ
って侵されないものが用いられる。芳香族ポリカーボネ
ート樹脂の溶解に使用する有機溶媒は、芳香族ポリカー
ボネート樹脂を溶解するものであれば任意のものでよい
が、通常塩化メチレンが用いられ、その量も特定されな
いが、通常濃度が１０〜２０重量％程度になる量であ
る。

【００１０】本発明でいう珪素元素を含有する化合物
は、電子線（電子ビーム）を当てＸ線マイクロアナライ
ザー分析により珪素のピークを示すものであり、フィル
ター上残渣物中の珪素元素を含有する化合物の占める割
合は、Ｘ線マイクロアナライザー分析による珪素のピー
クを示す残渣物個々の断面積の総和を走査型電子顕微鏡
写真より画像解析装置を用いて測定した。

【００１１】本発明の成形材料は、上記芳香族ポリカー
ボネート樹脂１０g を有機溶媒で溶解した溶液を上記フ
ィルターで濾過した際に、フィルター上の残渣物中の珪
素元素を含有する化合物の断面積の総和が、上記フィル
ター濾過面積の５０％以下になるものであり、上記フィ
ルター濾過面積の３０％以下になるものが特に好まし
い。フィルター上の残渣物中の珪素元素を含有する化合
物の断面積の総和が、上記フィルター濾過面積の５０％
より多く占める芳香族ポリカーボネート樹脂は、ブロッ
クエラーレートの平均値が増大し、光学成形品用成形材
料として不適当である。

【００１２】このようにフィルター上の残渣物中の珪素
元素を含有する化合物の断面積の総和が、フィルター濾
過面積の５０％以下になる芳香族ポリカーボネート樹脂
は、二価フェノールとカーボネート前駆物質とを反応さ
せ、有機溶媒の存在下重縮合させて得られる芳香族ポリ
カーボネート樹脂の有機溶媒溶液の精製工程、この有機
溶媒溶液から芳香族ポリカーボネート樹脂の粉粒体を採
取する造粒工程及び得られた粉粒体の精製工程等におい
て使用する液体、特に最終工程において使用する液体例
えば水、非又は貧溶媒、不純物（低分子量体等）抽出用
溶媒等として、プラズマ発光分析計により分析して珪素
が検出されない液体を使用することにより得られる。

【００１３】本発明の成形材料は、例えば射出成形や押
出成形等により光ディスク、レンズ、シート等の光学成
形品に成形される。また、シートは光カード、位相差フ
ィルム等の光学成形品に加工される。

【００１４】

【実施例】以下に実施例をあげて更に説明する。なお、
評価は下記の方法によった。 (a) 含有珪素量（ppm)：プラズマ発光分析計により測定
した。 (b) レーザーセンサー液体微粒子カウント法（L/S ）に
よる異物数（個／g)：ペレット２０g を塩化メチレン２
０００mlに溶解してレーザーセンサー液体微粒子カウン
ト法により０．５μm 以上の異物の数を測定し、ペレッ
ト１g 当りに換算した。

【００１５】(c) Ｘ線マイクロアナライザー法（XMA ）
による珪素元素の有無：ペレット１０g を塩化メチレン
３００mlに溶解して平均孔径０．１μm 、濾過面直径２
０mmのフィルターで濾過し、フィルター上残渣物をＸ線
マイクロアナライザーにより珪素含有化合物の有無を分
析した。

【００１６】(d) ブロックエラーレート値（BLER値）
（個/sec）：ペレットから射出成形した直径１２０mm、
厚さ１．２mmのディスクにアルミニュウム膜を蒸着し、
ソニー（株）製 CDP−X ３３ ES により測定して得られ
るブロックエラーレートの平均値である。

【００１７】(e) 走査型電子顕微鏡（SEM ）による異物
面積（％）：ペレット１０g を塩化メチレン３００mlに
溶解して平均孔径０．１μm 、濾過面直径２０mmのフィ
ルターで濾過し、このフィルターの任意の箇所を４×４
mmの測定片として切出し、フィルター上残渣物中のＸ線
マイクロアナライザー分析による珪素のピークを示す残
渣物個々の断面積を走査型電子顕微鏡写真より全自動画
像解析システム［ニコン（株）製ルーゼックス］を用い
て測定した。なお、フィルターの任意の箇所はフィルタ
ー１枚につき５箇所とし、その平均値より濾過面積に占
める異物面積の割合を求めた。

【００１８】

【実施例１】ビスフェノールＡを塩化メチレンの存在下
ホスゲンと反応させて得た粘度平均分子量１５２００の
芳香族ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液（濃度
１５重量％）を充分に精製した後、５０〜５２℃に保持
された蒸留水中に攪拌下投入し、塩化メチレンを除去し
て粉粒状の芳香族ポリカーボネート樹脂を得た。この粉
粒体をハンマーミルにより粉砕し、遠心分離機により脱
水した後熱風乾燥機により１４５℃で８時間乾燥した。
得られた粉粒体をベント付き押出機により２６０℃で押
出してペレット化した。このペレットを１２０℃で８時
間乾燥した後異物評価し、結果を表１に示した。更に、
この乾燥ペレットを用いてディスク用射出成形機により
シリンダー温度３３０℃でディスクを成形し、アルミニ
ュウムを蒸着し、ブロックエラーレートの平均値を測定
し、結果を表１に示した。

【００１９】

【実施例２】造粒時に用いた蒸留水に代えてイソプロピ
ルアルコールを使用する以外は実施例１と同様に実施
し、結果を表１に示した。

【００２０】

【実施例３】造粒時に用いた蒸留水に代えてヘプタンを
使用する以外は実施例１と同様に実施し、結果を表１に
示した。

【００２１】

【実施例４】造粒時に用いた蒸留水に代えて、蒸留水と
イオン交換水を３：１で混合したものを使用する以外は
実施例１と同様に実施し、結果を表１に示した。

【００２２】

【実施例５】造粒時に用いた蒸留水に代えて、蒸留水と
イオン交換水を１：１で混合したものを使用する以外は
実施例１と同様に実施し、結果を表１に示した。

【００２３】

【比較例１】造粒時に用いた蒸留水に代えてイオン交換
水を使用する以外は実施例１と同様に実施し、結果を表
１に示した。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【発明の効果】本発明の成形材料によれば、従来知見さ
れていなかった芳香族ポリカーボネート樹脂中に存在す
る珪素含有化合物の悪影響を排除し、ブロックエラーレ
ートの平均値の極めて小さい信頼性に優れた記録膜を有
する情報記録媒体の提供を可能にすることができ、その
奏する効果は格別のものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 篠原 恵子 東京都港区西新橋１丁目６番21号 帝人化 成株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ポリカーボネート樹脂よりなる成
   形材料であってその１０g を有機溶媒で溶解した溶液を
   平均孔径０．１μm 、濾過面直径２０mmのフィルターで
   濾過し、フィルター上残渣物を走査型電子顕微鏡及びＸ
   線マイクロアナライザーにより珪素元素を含有する化合
   物を分析し、該化合物の総断面積が該フィルター濾過面
   積の５０％以下である芳香族ポリカーボネート樹脂より
   なる光学成形品用成形材料。