JPH06134469A - シリコン切削廃液の処理方法 - Google Patents
シリコン切削廃液の処理方法Info
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- JPH06134469A JPH06134469A JP4309317A JP30931792A JPH06134469A JP H06134469 A JPH06134469 A JP H06134469A JP 4309317 A JP4309317 A JP 4309317A JP 30931792 A JP30931792 A JP 30931792A JP H06134469 A JPH06134469 A JP H06134469A
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- cutting waste
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- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 既存の凝集沈殿分離処理装置や活性汚泥処理
装を使用して、シリコン切削廃液をＣＯＤを始め放流レ
ベルでの公共水域放流規制値を満足し、放流可能な廃水
処理を実現するシリコン切削廃液の処理方法の提供。 【構成】 シリコン切削廃液をカスケード式水槽１で受
け、水素放出並びにシリコン切削屑の沈殿分離を行い、
凝集沈殿処理槽２にて凝集剤を加え凝集沈殿させる。凝
集沈殿処理槽２に入れる前に、カスケード式水槽１から
の上澄水に原水槽４からの酸系排水を混合して所定のｐ
Ｈ域に調整することができる。さらにカスケード式水槽
１で十分に水素放出を行い凝集沈殿処理が十分に行われ
ているため、放出槽６容量を大きくし処理水の滞留時間
を長くすることで、ＣＯＤ処理が可能になる。
装を使用して、シリコン切削廃液をＣＯＤを始め放流レ
ベルでの公共水域放流規制値を満足し、放流可能な廃水
処理を実現するシリコン切削廃液の処理方法の提供。 【構成】 シリコン切削廃液をカスケード式水槽１で受
け、水素放出並びにシリコン切削屑の沈殿分離を行い、
凝集沈殿処理槽２にて凝集剤を加え凝集沈殿させる。凝
集沈殿処理槽２に入れる前に、カスケード式水槽１から
の上澄水に原水槽４からの酸系排水を混合して所定のｐ
Ｈ域に調整することができる。さらにカスケード式水槽
１で十分に水素放出を行い凝集沈殿処理が十分に行われ
ているため、放出槽６容量を大きくし処理水の滞留時間
を長くすることで、ＣＯＤ処理が可能になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、廃水処理、特に難溶
解性、難分解性であるシリコン切削廃液の処理方法の改
良に係り、シリコン切削廃液をカスケード式水槽で水素
放出し、その上澄水に他の酸性排水を混合して凝集沈殿
処理し、その際に所定ｐＨ範囲とすることにより、従来
困難であった凝集沈殿分離処理と活性汚泥処理が容易に
進行し、シリコン切削屑の分離回収率を高め、ＣＯＤ
（化学的酸素要求量）規制値を満足して、処理後放流が
可能になるシリコン切削廃液の処理方法に関する。
解性、難分解性であるシリコン切削廃液の処理方法の改
良に係り、シリコン切削廃液をカスケード式水槽で水素
放出し、その上澄水に他の酸性排水を混合して凝集沈殿
処理し、その際に所定ｐＨ範囲とすることにより、従来
困難であった凝集沈殿分離処理と活性汚泥処理が容易に
進行し、シリコン切削屑の分離回収率を高め、ＣＯＤ
（化学的酸素要求量）規制値を満足して、処理後放流が
可能になるシリコン切削廃液の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】シリコンウェーハ製作工程において、ス
ライシング工程あるいは研磨工程において発生する切
削、研磨廃液（以下切削廃液という）については、スラ
イシングあるいは研磨の際、使用する切削あるいは研磨
液が含まれており、これに凝集剤を加えて凝集沈殿処理
すると、シリコンが水中で水素を発生する性質上、凝集
性が悪く、沈降分離がなかなか進行しない問題があっ
た。
ライシング工程あるいは研磨工程において発生する切
削、研磨廃液（以下切削廃液という）については、スラ
イシングあるいは研磨の際、使用する切削あるいは研磨
液が含まれており、これに凝集剤を加えて凝集沈殿処理
すると、シリコンが水中で水素を発生する性質上、凝集
性が悪く、沈降分離がなかなか進行しない問題があっ
た。
【０００３】従来、切削廃液に凝集剤を加えた後、中和
剤でｐＨ調整して凝集を促進させるも、やはり凝集性が
悪く、沈降分離が完全でなく上澄水のＣＯＤ（化学的酸
素要求量）濃度が高くなり、放流可能なＣＯＤ規制値を
満足できなかった。また、スラッジ分を脱水処理する
も、シリコン粒子が数μｍ程度と小さく分離脱水が困難
で、その処理水もＣＯＤ濃度が高くなり、放流可能なＣ
ＯＤ規制値を満足できなかった。
剤でｐＨ調整して凝集を促進させるも、やはり凝集性が
悪く、沈降分離が完全でなく上澄水のＣＯＤ（化学的酸
素要求量）濃度が高くなり、放流可能なＣＯＤ規制値を
満足できなかった。また、スラッジ分を脱水処理する
も、シリコン粒子が数μｍ程度と小さく分離脱水が困難
で、その処理水もＣＯＤ濃度が高くなり、放流可能なＣ
ＯＤ規制値を満足できなかった。
【０００４】そこで、シリコン切削廃液を全量活性炭吸
着させるか、オゾン酸化処理することによりＣＯＤ処理
できるが、設備費用ならびにランニングコストが膨大で
あり、工業的規模での実施が困難である。
着させるか、オゾン酸化処理することによりＣＯＤ処理
できるが、設備費用ならびにランニングコストが膨大で
あり、工業的規模での実施が困難である。
【０００５】また、所謂中空糸膜を使用してシリコン切
削廃液を処理する方法が提案（特開昭５９−１８９９８
７号、特平公４−３９３９８号公報）されているが、中
空糸膜の劣化が早く耐用期間が短くなり、ランニングコ
ストが嵩む問題があった。
削廃液を処理する方法が提案（特開昭５９−１８９９８
７号、特平公４−３９３９８号公報）されているが、中
空糸膜の劣化が早く耐用期間が短くなり、ランニングコ
ストが嵩む問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一方、工場内では種々
の廃液を処理するため、凝集沈殿分離処理装置、あるい
は活性汚泥処理装置が設置されており、各種廃液を公共
水域放流規制値以下まで浄化処理している。上述の如
く、従来のシリコン切削廃液の処理には多大のコストを
要するだけでなく、専用の処理設備を必要とするため、
既設の設備で処理が可能となると極めて至便であるが、
前述のごとく凝集沈殿分離処理は極めて困難であり、活
性汚泥処理は本来、ＢＯＤ（生物化学的酸素要求量）処
理が主目的であり、シリコン切削廃液の処理には不適で
ある。
の廃液を処理するため、凝集沈殿分離処理装置、あるい
は活性汚泥処理装置が設置されており、各種廃液を公共
水域放流規制値以下まで浄化処理している。上述の如
く、従来のシリコン切削廃液の処理には多大のコストを
要するだけでなく、専用の処理設備を必要とするため、
既設の設備で処理が可能となると極めて至便であるが、
前述のごとく凝集沈殿分離処理は極めて困難であり、活
性汚泥処理は本来、ＢＯＤ（生物化学的酸素要求量）処
理が主目的であり、シリコン切削廃液の処理には不適で
ある。
【０００７】この発明は、既存の凝集沈殿分離処理装置
や活性汚泥処理装置を使用して、シリコン切削廃液をＣ
ＯＤを始め放流レベルでの公共水域放流規制値を満足
し、放流可能な廃水処理を実現するシリコン切削廃液の
処理方法の提供を目的とする。
や活性汚泥処理装置を使用して、シリコン切削廃液をＣ
ＯＤを始め放流レベルでの公共水域放流規制値を満足
し、放流可能な廃水処理を実現するシリコン切削廃液の
処理方法の提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】発明者は、既存の凝集沈
殿分離処理装置にてシリコン切削廃液の処理を実現すべ
く種々検討した結果、まずシリコン切削廃液をカスケー
ド式水槽に受け、ここで水素放出並びにシリコン切削屑
の沈殿分離を行い、凝集剤添加時にｐＨ調整を行うこと
により、従来凝集剤を添加しても凝集沈殿分離が進行し
難い凝集沈殿分離処理が容易に進行することを知見し、
さらにカスケード式水槽で水素放出し凝集沈殿分離処理
した処理液を、活性汚泥処理で長時間の曝気処理するこ
とにより、本来、ＢＯＤ低減が主目的である活性汚泥処
理で公共水域放流規制値以下のＣＯＤ低減処理が可能に
なることを知見し、この発明を完成した。
殿分離処理装置にてシリコン切削廃液の処理を実現すべ
く種々検討した結果、まずシリコン切削廃液をカスケー
ド式水槽に受け、ここで水素放出並びにシリコン切削屑
の沈殿分離を行い、凝集剤添加時にｐＨ調整を行うこと
により、従来凝集剤を添加しても凝集沈殿分離が進行し
難い凝集沈殿分離処理が容易に進行することを知見し、
さらにカスケード式水槽で水素放出し凝集沈殿分離処理
した処理液を、活性汚泥処理で長時間の曝気処理するこ
とにより、本来、ＢＯＤ低減が主目的である活性汚泥処
理で公共水域放流規制値以下のＣＯＤ低減処理が可能に
なることを知見し、この発明を完成した。
【０００９】すなわち、この発明は、シリコン切削廃液
をカスケード式水槽で水素放出並びにシリコン切削屑の
沈殿分離を行った後、その上澄水に硫酸やりん酸などを
添加してｐＨ調整するか、あるいは酸系排水と混合して
ｐＨ調整し、かつ凝集剤を添加して凝集沈殿分離処理
し、さらにろ過して放流することを特徴とするシリコン
切削廃液の処理方法である。
をカスケード式水槽で水素放出並びにシリコン切削屑の
沈殿分離を行った後、その上澄水に硫酸やりん酸などを
添加してｐＨ調整するか、あるいは酸系排水と混合して
ｐＨ調整し、かつ凝集剤を添加して凝集沈殿分離処理
し、さらにろ過して放流することを特徴とするシリコン
切削廃液の処理方法である。
【００１０】また、この発明は、シリコン切削廃液をカ
スケード式水槽で水素放出並びにシリコン切削屑分離し
た後、その上澄水に硫酸やりん酸などを添加してｐＨ調
整するか、あるいは酸系排水と混合してｐＨ調整し、か
つ凝集剤を添加して凝集沈殿分離処理し、さらに活性汚
泥処理後にろ過して放流することを特徴とするシリコン
切削廃液の処理方法である。
スケード式水槽で水素放出並びにシリコン切削屑分離し
た後、その上澄水に硫酸やりん酸などを添加してｐＨ調
整するか、あるいは酸系排水と混合してｐＨ調整し、か
つ凝集剤を添加して凝集沈殿分離処理し、さらに活性汚
泥処理後にろ過して放流することを特徴とするシリコン
切削廃液の処理方法である。
【００１１】
【作用】この発明によるシリコン切削廃液の処理方法の
作用を図面に基づいて詳述する。図１はこの発明による
シリコン切削廃液の処理工程を示すブロック説明図であ
る。この発明の処理方法は、シリコン切削廃液をカスケ
ード式水槽１で受け、ここでシリコン粒子と水が反応し
て発生する水素の放出を行うことを特徴とし、またカス
ケード式水槽１では必然的にシリコン切削屑の沈殿分離
を行うことになる。カスケード式水槽１には、図示の２
槽式で十分であるが、必要に応じて３槽以上の多段槽と
することもできる。
作用を図面に基づいて詳述する。図１はこの発明による
シリコン切削廃液の処理工程を示すブロック説明図であ
る。この発明の処理方法は、シリコン切削廃液をカスケ
ード式水槽１で受け、ここでシリコン粒子と水が反応し
て発生する水素の放出を行うことを特徴とし、またカス
ケード式水槽１では必然的にシリコン切削屑の沈殿分離
を行うことになる。カスケード式水槽１には、図示の２
槽式で十分であるが、必要に応じて３槽以上の多段槽と
することもできる。
【００１２】カスケード式水槽１で水素放出並びにシリ
コン切削屑の沈殿分離を行った上澄水は、酸性排水と混
合し、さらにｐＨ調整槽３で例えば硫酸やりん酸などを
添加して、所定のｐＨ域に調整した後、凝集沈殿処理槽
２にて凝集剤を加え凝集沈殿させる。切削廃液はｐＨ１
０以上で水素を発生しやすくなるため、ｐＨ９以下にて
の凝集沈殿させるよう管理することが望ましい。この発
明ではカスケード式水槽１で十分に水素放出を行ってい
るため、凝集沈殿処理時、沈降性が極めて良好になり、
沈殿分離回収率が大きく向上する。凝集剤には、例えば
消石灰、硫酸バンド、高分子凝集剤等、公知の凝集剤を
適宜選定利用することができ、処理槽２を多段槽として
各段で凝集剤を変えて添加し、凝集沈殿処理させること
ができる。
コン切削屑の沈殿分離を行った上澄水は、酸性排水と混
合し、さらにｐＨ調整槽３で例えば硫酸やりん酸などを
添加して、所定のｐＨ域に調整した後、凝集沈殿処理槽
２にて凝集剤を加え凝集沈殿させる。切削廃液はｐＨ１
０以上で水素を発生しやすくなるため、ｐＨ９以下にて
の凝集沈殿させるよう管理することが望ましい。この発
明ではカスケード式水槽１で十分に水素放出を行ってい
るため、凝集沈殿処理時、沈降性が極めて良好になり、
沈殿分離回収率が大きく向上する。凝集剤には、例えば
消石灰、硫酸バンド、高分子凝集剤等、公知の凝集剤を
適宜選定利用することができ、処理槽２を多段槽として
各段で凝集剤を変えて添加し、凝集沈殿処理させること
ができる。
【００１３】また、凝集沈殿処理槽２に入れる前に、カ
スケード式水槽１からの上澄水に原水槽４からの酸系排
水、例えば硝酸、酢酸などのエッチング廃液を混合して
所定のｐＨ域に調整することができる。この場合、酸系
排水との混合比率を任意で設定できるため、処理状況に
より対応が可能になり至便である。
スケード式水槽１からの上澄水に原水槽４からの酸系排
水、例えば硝酸、酢酸などのエッチング廃液を混合して
所定のｐＨ域に調整することができる。この場合、酸系
排水との混合比率を任意で設定できるため、処理状況に
より対応が可能になり至便である。
【００１４】凝集沈殿処理槽２を出た廃液は、活性汚泥
処理槽５にて活性汚泥処理を行うが、処理槽は図示の放
出槽６と沈殿槽７の２槽式構成など公知のいずれの構成
も適用することができる。本来、活性汚泥処理において
は、ＢＯＤ処理が主目的であるが、カスケード式水槽１
で十分に水素放出を行い凝集沈殿処理が十分に行われて
いるため、曝気槽６容量を大きくし処理水の滞留時間を
実施例の如く２日以上と長くすることで、ＣＯＤ処理が
可能になる。シリコン切削廃液が主体の廃液では、その
ほとんどが微生物のえさにはなり難く、ＣＯＤ値として
検知されるため、活性汚泥処理ができないと考えられて
きたが、発明者は処理水の滞留時間を長くすることによ
りＣＯＤ処理が可能になり、実施例のようにＣＯＤ値の
９０％以上を除去できることを知見した。
処理槽５にて活性汚泥処理を行うが、処理槽は図示の放
出槽６と沈殿槽７の２槽式構成など公知のいずれの構成
も適用することができる。本来、活性汚泥処理において
は、ＢＯＤ処理が主目的であるが、カスケード式水槽１
で十分に水素放出を行い凝集沈殿処理が十分に行われて
いるため、曝気槽６容量を大きくし処理水の滞留時間を
実施例の如く２日以上と長くすることで、ＣＯＤ処理が
可能になる。シリコン切削廃液が主体の廃液では、その
ほとんどが微生物のえさにはなり難く、ＣＯＤ値として
検知されるため、活性汚泥処理ができないと考えられて
きたが、発明者は処理水の滞留時間を長くすることによ
りＣＯＤ処理が可能になり、実施例のようにＣＯＤ値の
９０％以上を除去できることを知見した。
【００１５】活性汚泥処理まで完了した時点の廃液は、
シリコン切削屑が十分に分離されているため、簡単なろ
過装置８でろ過するだけで、シリコン切削屑の残留量な
らびにＣＯＤ値が公共水域放流規制値以下となり、容易
に放流することができる。ろ過装置には、例えば砂ろ過
装置などが利用できる。
シリコン切削屑が十分に分離されているため、簡単なろ
過装置８でろ過するだけで、シリコン切削屑の残留量な
らびにＣＯＤ値が公共水域放流規制値以下となり、容易
に放流することができる。ろ過装置には、例えば砂ろ過
装置などが利用できる。
【００１６】この発明の処理方法は、まずシリコン切削
廃液をカスケード式水槽１に受けることにより、シリコ
ンが水中で発生する水素を逃がすことができ、凝集沈殿
時、沈降性が良好となるため、従来、処理が困難であっ
た凝集沈殿処理を主体にしたシリコン切削廃液処理を実
現できた。
廃液をカスケード式水槽１に受けることにより、シリコ
ンが水中で発生する水素を逃がすことができ、凝集沈殿
時、沈降性が良好となるため、従来、処理が困難であっ
た凝集沈殿処理を主体にしたシリコン切削廃液処理を実
現できた。
【００１７】
【実施例】シリコン切削廃液を、上述の図１に示す如
く、カスケード式水槽１に受け、その上澄水を酸系廃水
と一定比率で混合しｐＨ９以下に管理し、凝集沈殿処理
槽２で消石灰、硫酸バンド、高分子凝集剤の添加による
凝集沈殿処理を実施し、さらに、活性汚泥処理において
も、沈殿槽７内での処理水の滞留時間を２日間とした。
その結果、活性汚泥処理後でシリコン切削廃液原水レベ
ルでのＣＯＤ値の９０％以上を除去できた。この際のＢ
ＯＤ値は１ｐｐｍ以下であり、この発明による処理方法
はＢＯＤ処理へ何らの影響を与えていないことが分か
る。さらに、ろ過装置８に砂ろ過装置を用いてろ過した
結果、ＳＳ量（浮遊物質量）１０ｐｐｍ以下、ＣＯＤ１
０ｐｐｍ以下となり、それぞれ２０ｐｐｍ以下の放流水
規制値を十分にクリアできた。
く、カスケード式水槽１に受け、その上澄水を酸系廃水
と一定比率で混合しｐＨ９以下に管理し、凝集沈殿処理
槽２で消石灰、硫酸バンド、高分子凝集剤の添加による
凝集沈殿処理を実施し、さらに、活性汚泥処理において
も、沈殿槽７内での処理水の滞留時間を２日間とした。
その結果、活性汚泥処理後でシリコン切削廃液原水レベ
ルでのＣＯＤ値の９０％以上を除去できた。この際のＢ
ＯＤ値は１ｐｐｍ以下であり、この発明による処理方法
はＢＯＤ処理へ何らの影響を与えていないことが分か
る。さらに、ろ過装置８に砂ろ過装置を用いてろ過した
結果、ＳＳ量（浮遊物質量）１０ｐｐｍ以下、ＣＯＤ１
０ｐｐｍ以下となり、それぞれ２０ｐｐｍ以下の放流水
規制値を十分にクリアできた。
【００１８】
【発明の効果】この発明によるシリコン切削廃液の処理
方法は、難溶解性、難分解性であるシリコン切削廃液
を、まずカスケード式水槽で受け、水素放出並びにシリ
コン切削屑を分離することにより、あるいはさらにその
上澄水に他の酸性排水と混合して所定ｐＨ範囲とするこ
とにより、従来困難であった凝集沈殿分離処理と活性汚
泥処理が容易に進行し、シリコン切削屑の分離回収率を
高め、ＢＯＤ、ＣＯＤ規制値を満足して、処理後放流す
ることができる。また、この発明は、処理に際し何らの
新規な装置や設備を必要とせず、既存の凝集沈殿分離処
理と活性汚泥処理設備を使用でき、シリコン切削廃液の
処理を他の廃液と同時に処理できる利点がある。
方法は、難溶解性、難分解性であるシリコン切削廃液
を、まずカスケード式水槽で受け、水素放出並びにシリ
コン切削屑を分離することにより、あるいはさらにその
上澄水に他の酸性排水と混合して所定ｐＨ範囲とするこ
とにより、従来困難であった凝集沈殿分離処理と活性汚
泥処理が容易に進行し、シリコン切削屑の分離回収率を
高め、ＢＯＤ、ＣＯＤ規制値を満足して、処理後放流す
ることができる。また、この発明は、処理に際し何らの
新規な装置や設備を必要とせず、既存の凝集沈殿分離処
理と活性汚泥処理設備を使用でき、シリコン切削廃液の
処理を他の廃液と同時に処理できる利点がある。
【図１】この発明によるシリコン切削廃液の処理工程を
示すブロック説明図である。
示すブロック説明図である。
１ カスケード式水槽 ２ 凝集沈殿処理槽 ３ ｐＨ調整槽 ４ 原水槽 ５ 活性汚泥処理槽 ６ 放出槽 ７ 沈殿槽 ８ ろ過装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 9/00 ＺＡＢ Ｚ 7446−4Ｄ Ｈ０１Ｌ 21/304 ＺＡＢ 8831−4Ｍ ３２１ Ｚ 8831−4Ｍ
Claims (3)
- 【請求項１】 シリコン切削廃液をカスケード式水槽で
水素放出並びにシリコン切削屑の沈殿分離を行った後、
その上澄水にｐＨ調整しかつ凝集剤を添加して凝集沈殿
分離処理し、さらにろ過して放流することを特徴とする
シリコン切削廃液の処理方法。 - 【請求項２】 凝集沈殿分離処理後にさらに活性汚泥処
理することを特徴とする請求項１記載のシリコン切削廃
液の処理方法。 - 【請求項３】 カスケード式水槽で処理した上澄水と酸
系排水と混合し、ｐＨ調整することを特徴とする請求項
１、請求項２記載のシリコン切削廃液の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4309317A JPH06134469A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | シリコン切削廃液の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4309317A JPH06134469A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | シリコン切削廃液の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06134469A true JPH06134469A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=17991565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4309317A Pending JPH06134469A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | シリコン切削廃液の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06134469A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1992
- 1992-10-22 JP JP4309317A patent/JPH06134469A/ja active Pending
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