JPH0597714A - ニトリル類の製造法 - Google Patents
ニトリル類の製造法Info
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- JPH0597714A JPH0597714A JP3255490A JP25549091A JPH0597714A JP H0597714 A JPH0597714 A JP H0597714A JP 3255490 A JP3255490 A JP 3255490A JP 25549091 A JP25549091 A JP 25549091A JP H0597714 A JPH0597714 A JP H0597714A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 アルデヒド類に、一般式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異って、それぞれ低級ア
ルキル基を、Ｘはハロゲン原子を、ｎは２又は３を示
す）で表わされるハロイミニウム塩を脱水剤として反応
せしめることを特徴とするニトリル類の製造法。 【効果】 本発明によれば、ほとんど中性で、かつ穏や
かな条件で、アルデヒドオキシム類よりニトリル類を効
率よく製造することができる。
ルキル基を、Ｘはハロゲン原子を、ｎは２又は３を示
す）で表わされるハロイミニウム塩を脱水剤として反応
せしめることを特徴とするニトリル類の製造法。 【効果】 本発明によれば、ほとんど中性で、かつ穏や
かな条件で、アルデヒドオキシム類よりニトリル類を効
率よく製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はニトリル類の製造法に関
し、更に詳細には新規な脱水剤を用いてアルデヒドオキ
シム類からニトリル類を製造する方法に関する。
し、更に詳細には新規な脱水剤を用いてアルデヒドオキ
シム類からニトリル類を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ニトリル類は、アミン、カルボン酸、ケ
トンあるいはイミンなどの化合物に容易に変換できるた
め、有機合成における重要な中間体である。またニトリ
ル類は複素環化合物構築において構成単位として利用さ
れるため、医薬品や農薬の重要な合成中間体である。
トンあるいはイミンなどの化合物に容易に変換できるた
め、有機合成における重要な中間体である。またニトリ
ル類は複素環化合物構築において構成単位として利用さ
れるため、医薬品や農薬の重要な合成中間体である。
【０００３】一方、アルデヒト類からアルデヒドオキシ
ムを経た脱水反応によりニトリル類を合成する方法は、
ハロゲン化物から置換反応によりニトリル類に変換する
方法と並んで最も一般的かつ重要な製造法である。そし
て、従来のアルデヒドオキシムの脱水によるニトリル類
の製造方法としては、脱水剤として無水酢酸、塩化チオ
ニル、ホスゲン、五酸化リン、五塩化リンあるいはトリ
フェニルホスフィン・四塩化炭素錯体等を用いる方法が
知られている。
ムを経た脱水反応によりニトリル類を合成する方法は、
ハロゲン化物から置換反応によりニトリル類に変換する
方法と並んで最も一般的かつ重要な製造法である。そし
て、従来のアルデヒドオキシムの脱水によるニトリル類
の製造方法としては、脱水剤として無水酢酸、塩化チオ
ニル、ホスゲン、五酸化リン、五塩化リンあるいはトリ
フェニルホスフィン・四塩化炭素錯体等を用いる方法が
知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、無水酢
酸を用いる方法〔Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，２，６２２
（１９４３）〕は、反応に無水酢酸の還流温度を必要と
する。また、塩化チオニル（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
１９５６，２８５３）、ホスゲン（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，１９７３，２７
６９）、五塩化リン等のハロゲン化物を脱水剤に用いる
方法は、腐食性の強いハロゲン化水素を発生するため工
業的規模での実施に際しては特殊な反応容器を必要と
し、アルカリ洗浄塔等の設備を備えなければならなかっ
た。また反応系が強酸性となるため、酸に弱い官能基を
有するアルデヒドオキシム類には適用できないか、又は
収率が低下するという欠点があった。トリフェニルホス
フィン−四塩化炭素錯体を用いる方法〔Ｃｈｅｍ．Ｂｅ
ｒ．，１０４，２０２５（１９７１）〕は、毒性の強い
トリフェニルホスフィンを用いなければならず、また、
反応終了後、フォスフォニウム塩とトリフェニルホスフ
ィンオキシドを大量に生ずるため分離精製が困難であっ
た。更に、無水酢酸や塩化チオニルを脱水剤として用い
た時にはニトロ基が置換されることもあることが報告さ
れている（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ＰｅｒｋｉｎＴｒ
ａｎｓ． １，１９７３，２７６９）。従って、原料ア
ルデヒドオキシムの性質に影響されず、高温に加熱する
必要がなく、工業的に有利にニトリル類を製造する方法
の開発が望まれていた。
酸を用いる方法〔Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，２，６２２
（１９４３）〕は、反応に無水酢酸の還流温度を必要と
する。また、塩化チオニル（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
１９５６，２８５３）、ホスゲン（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，１９７３，２７
６９）、五塩化リン等のハロゲン化物を脱水剤に用いる
方法は、腐食性の強いハロゲン化水素を発生するため工
業的規模での実施に際しては特殊な反応容器を必要と
し、アルカリ洗浄塔等の設備を備えなければならなかっ
た。また反応系が強酸性となるため、酸に弱い官能基を
有するアルデヒドオキシム類には適用できないか、又は
収率が低下するという欠点があった。トリフェニルホス
フィン−四塩化炭素錯体を用いる方法〔Ｃｈｅｍ．Ｂｅ
ｒ．，１０４，２０２５（１９７１）〕は、毒性の強い
トリフェニルホスフィンを用いなければならず、また、
反応終了後、フォスフォニウム塩とトリフェニルホスフ
ィンオキシドを大量に生ずるため分離精製が困難であっ
た。更に、無水酢酸や塩化チオニルを脱水剤として用い
た時にはニトロ基が置換されることもあることが報告さ
れている（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ＰｅｒｋｉｎＴｒ
ａｎｓ． １，１９７３，２７６９）。従って、原料ア
ルデヒドオキシムの性質に影響されず、高温に加熱する
必要がなく、工業的に有利にニトリル類を製造する方法
の開発が望まれていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】斯かる実情において、本
発明者は鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で表
わされるハロイミニウム塩を脱水剤として使用すれば、
ほぼ中性、かつ穏やかな条件で反応を行うことができ、
しかも高収率でニトリル類が得られることを見出し、本
発明を完成した。
発明者は鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で表
わされるハロイミニウム塩を脱水剤として使用すれば、
ほぼ中性、かつ穏やかな条件で反応を行うことができ、
しかも高収率でニトリル類が得られることを見出し、本
発明を完成した。
【０００６】本発明は次の反応式によって示される。
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異って、そ
れぞれ低級アルキル基を、Ｘはハロゲン原子を、ｎは２
又は３を、Ｒ3は有機基を、Ｂは塩基を示す）
れぞれ低級アルキル基を、Ｘはハロゲン原子を、ｎは２
又は３を、Ｒ3は有機基を、Ｂは塩基を示す）
【０００９】すなわち、本発明は、アルデヒドオキシム
類（２）にハロイミニウム塩（１）を脱水剤として反応
せしめてニトリル類（４）を製造する方法である。
類（２）にハロイミニウム塩（１）を脱水剤として反応
せしめてニトリル類（４）を製造する方法である。
【００１０】本発明方法で脱水剤として使用されるハロ
イミニウム塩において、式（１）中Ｒ1及びＲ2で示され
る低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基等が挙げられる。また、Ｘで示されるハロゲン原子
としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子が挙げられるが、その中でも塩素原子が特に好まし
い。ハロイミニウム塩（１）の好ましい具体例として
は、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムク
ロライド、２−クロロ−１，３−ジメチル−３，４，
５，６−テトラヒドロピリミジウムクロライド等が挙げ
られる。
イミニウム塩において、式（１）中Ｒ1及びＲ2で示され
る低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基等が挙げられる。また、Ｘで示されるハロゲン原子
としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子が挙げられるが、その中でも塩素原子が特に好まし
い。ハロイミニウム塩（１）の好ましい具体例として
は、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムク
ロライド、２−クロロ−１，３−ジメチル−３，４，
５，６−テトラヒドロピリミジウムクロライド等が挙げ
られる。
【００１１】ハロイミニウム塩（１）は、例えば入手容
易な溶剤として知られている前記一般式（５）で表わさ
れる化合物に、オキザリルハロゲニド、三ハロゲン化リ
ン、五ハロゲン化リン、オキシハロゲン化リン、ホスゲ
ン、トリクロロメチルクロロホルメート等のハロゲン化
剤を、反応せしめることによりに容易に得られる。この
反応は、化合物（５）又はハロゲン化剤の何れか一方を
四塩化炭素等の適当な溶媒に溶かしておき、これに他方
を少量ずつ添加し、更に室温〜７０℃で数時間〜十数時
間反応させることによって行われる。斯くして得られた
ハロイミニウム塩（１）は単離することもできるが、単
離することなく、その反応液を本発明方法の反応に使用
することもできる。
易な溶剤として知られている前記一般式（５）で表わさ
れる化合物に、オキザリルハロゲニド、三ハロゲン化リ
ン、五ハロゲン化リン、オキシハロゲン化リン、ホスゲ
ン、トリクロロメチルクロロホルメート等のハロゲン化
剤を、反応せしめることによりに容易に得られる。この
反応は、化合物（５）又はハロゲン化剤の何れか一方を
四塩化炭素等の適当な溶媒に溶かしておき、これに他方
を少量ずつ添加し、更に室温〜７０℃で数時間〜十数時
間反応させることによって行われる。斯くして得られた
ハロイミニウム塩（１）は単離することもできるが、単
離することなく、その反応液を本発明方法の反応に使用
することもできる。
【００１２】本発明方法の原料化合物であるアルデヒド
オキシム類は特に制限されず、式（２）中のＲ3で示さ
れる基としては、置換基を有していてもよいアルキル
基、アルケニル基、芳香族基、複素環式基等が挙げられ
る。またアルデヒドオキシム類がエーテル、ニトロ基、
オレフィンなどの置換基を有していても、あるいはフル
フラールなどの酸に鋭敏なアルデヒドから導かれたアル
デヒドオキシムであっても何らさしつかえない。本発明
方法において、アルデヒドオキシム類は、アルデヒドに
ヒドロキシルアミンを反応せしてめて得られるアルデヒ
ドオキシム類を単離することなく、反応物を無水硫酸マ
グネシウム、無水硫酸ナトリウム等で脱水するだけで、
本発明方法の原料として使用できる。
オキシム類は特に制限されず、式（２）中のＲ3で示さ
れる基としては、置換基を有していてもよいアルキル
基、アルケニル基、芳香族基、複素環式基等が挙げられ
る。またアルデヒドオキシム類がエーテル、ニトロ基、
オレフィンなどの置換基を有していても、あるいはフル
フラールなどの酸に鋭敏なアルデヒドから導かれたアル
デヒドオキシムであっても何らさしつかえない。本発明
方法において、アルデヒドオキシム類は、アルデヒドに
ヒドロキシルアミンを反応せしてめて得られるアルデヒ
ドオキシム類を単離することなく、反応物を無水硫酸マ
グネシウム、無水硫酸ナトリウム等で脱水するだけで、
本発明方法の原料として使用できる。
【００１３】本発明を実施するには、アルデヒドオキシ
ム類（２）１モルに対し、ハロイミニウム塩（１）約１
モル及び塩基（３）を約２モル加え、室温付近で反応さ
せればよい。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン等を使用することができる。ま
た、反応溶媒は、用いなくともよいが、ジクロルメタ
ン、ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、炭化水
素、エーテル類、芳香族炭化水素等の反応に関与しない
溶媒を用いることもできる。更に反応装置は、工業的規
模で行う場合であっても、グラスライニング等の特殊な
反応釜でなく、通常のステンレス反応釜を用いることが
できる。反応混合物より、目的とするニトリル類を単離
するには、蒸留、再結晶等の常法によって行われる。
ム類（２）１モルに対し、ハロイミニウム塩（１）約１
モル及び塩基（３）を約２モル加え、室温付近で反応さ
せればよい。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン等を使用することができる。ま
た、反応溶媒は、用いなくともよいが、ジクロルメタ
ン、ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、炭化水
素、エーテル類、芳香族炭化水素等の反応に関与しない
溶媒を用いることもできる。更に反応装置は、工業的規
模で行う場合であっても、グラスライニング等の特殊な
反応釜でなく、通常のステンレス反応釜を用いることが
できる。反応混合物より、目的とするニトリル類を単離
するには、蒸留、再結晶等の常法によって行われる。
【００１４】
【発明の効果】本発明方法によれば、ほとんど中性で、
かつ穏やかな条件で、アルデヒドオキシム類よりニトリ
ル類を効率よく製造することができる。
かつ穏やかな条件で、アルデヒドオキシム類よりニトリ
ル類を効率よく製造することができる。
【００１５】
【実施例】次に実施例を挙げて説明する。
【００１６】実施例１ ３−ニトロベンゾニトリルの製
造 塩化メチレン１００ml中に、３−ニトロベンズアルデヒ
ドオキシム９．３ｇ（５６mmol）及びトリエチルアミン
１３．４ｇ（１３５mmol）を溶解し水冷した。この中に
２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロラ
イド１１．４ｇ（６７mmol）の塩化メチレン１００ml溶
液を１時間を要して滴下し、終了後水浴を除去し、更に
室温で２４時間攪拌した。反応液に水を加え、塩化メチ
レン層を分液し、塩化メチレン層は水洗３回後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、溶媒を減
圧下留去し、得られた結晶性残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（溶媒クロロホルム）にて精製し、３−ニト
ロベンゾニトリル８．２ｇ（収率９８．８％）を得た。
造 塩化メチレン１００ml中に、３−ニトロベンズアルデヒ
ドオキシム９．３ｇ（５６mmol）及びトリエチルアミン
１３．４ｇ（１３５mmol）を溶解し水冷した。この中に
２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロラ
イド１１．４ｇ（６７mmol）の塩化メチレン１００ml溶
液を１時間を要して滴下し、終了後水浴を除去し、更に
室温で２４時間攪拌した。反応液に水を加え、塩化メチ
レン層を分液し、塩化メチレン層は水洗３回後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、溶媒を減
圧下留去し、得られた結晶性残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（溶媒クロロホルム）にて精製し、３−ニト
ロベンゾニトリル８．２ｇ（収率９８．８％）を得た。
【００１７】実施例２ ３，４，５−トリメトキシベン
ゾニトリルの製造 塩化メチレン２００ml中に３，４，５−トリメトキシベ
ンズアルデヒドオキシム１０．１ｇ（４８mmol）及びト
リエチルアミン１１．６ｇ（１１５mmol）を溶解し水冷
した。この中に２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾ
リニウムクロライド９．７ｇ（５７mmol）の塩化メチレ
ン５０ml溶液を４５分間を要して滴下し、終了後水浴を
除去し、更に室温で１８時間攪拌した。次いで反応液を
実施例１と同様に処理し、３，４，５−トリメトキシベ
ンゾニトリル９．２ｇ（収率９９．１％）を得た。
ゾニトリルの製造 塩化メチレン２００ml中に３，４，５−トリメトキシベ
ンズアルデヒドオキシム１０．１ｇ（４８mmol）及びト
リエチルアミン１１．６ｇ（１１５mmol）を溶解し水冷
した。この中に２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾ
リニウムクロライド９．７ｇ（５７mmol）の塩化メチレ
ン５０ml溶液を４５分間を要して滴下し、終了後水浴を
除去し、更に室温で１８時間攪拌した。次いで反応液を
実施例１と同様に処理し、３，４，５−トリメトキシベ
ンゾニトリル９．２ｇ（収率９９．１％）を得た。
【００１８】実施例３ スチリルシアニドの製造 塩化メチレン２００ml中に桂皮アルデヒド１０．０ｇ
（７６mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン６．０ｇ（純
度９７％，８３mmol）を加え水冷した。この中にトリエ
チルアミン２６．８ｇ（２６５mmol）を３５分間を要し
て滴下し、終了後水浴を除去し、更に室温で１８時間攪
拌した。反応液に無水硫酸マグネシウム１５．０ｇを加
え４０分間攪拌後、乾燥剤を濾除し塩化メチレンで洗浄
した。濾洗液を合し、水冷しながら２−クロロ−１，３
−ジメチルイミダゾリジニウムクロライド１５．４ｇ
（９１mmol）の塩化メチレン６０ml溶液を３０分間を要
して滴下し、終了後水浴を除去し、更に室温で４２時間
攪拌を続けた。反応液に水を加え、塩化メチレン層を分
液し、塩化メチレン層は水洗後無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤を濾去後、溶媒を減圧留去して得た残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒塩化メチレン
／ｎ−ヘキサン）にて精製しスチリルシアニドを９．７
ｇ（収率９８．７％）得た。
（７６mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン６．０ｇ（純
度９７％，８３mmol）を加え水冷した。この中にトリエ
チルアミン２６．８ｇ（２６５mmol）を３５分間を要し
て滴下し、終了後水浴を除去し、更に室温で１８時間攪
拌した。反応液に無水硫酸マグネシウム１５．０ｇを加
え４０分間攪拌後、乾燥剤を濾除し塩化メチレンで洗浄
した。濾洗液を合し、水冷しながら２−クロロ−１，３
−ジメチルイミダゾリジニウムクロライド１５．４ｇ
（９１mmol）の塩化メチレン６０ml溶液を３０分間を要
して滴下し、終了後水浴を除去し、更に室温で４２時間
攪拌を続けた。反応液に水を加え、塩化メチレン層を分
液し、塩化メチレン層は水洗後無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤を濾去後、溶媒を減圧留去して得た残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒塩化メチレン
／ｎ−ヘキサン）にて精製しスチリルシアニドを９．７
ｇ（収率９８．７％）得た。
【００１９】実施例４ ２−シアノフランの製造 塩化メチレン２００ml中に、フルフラール１０．０ｇ
（１０４mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン８．２ｇ
（純度９７％，１１４mmol）を加え氷冷した。この中に
トリエチルアミン３１．５ｇ（３１２mmol）を１０分間
を要して滴下し、終了後氷浴を除去し、更に室温で１７
時間攪拌した。反応液に無水硫酸ナトリウム１５．０ｇ
を加え３０分間攪拌後、乾燥剤を濾去し、塩化メチレン
で洗浄した。濾洗液を合し、氷冷しながら２−クロロ−
１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド２１．１
ｇ（１２５mmol）の塩化メチレン７０ml溶液を３５分間
を要して滴下し、終了後、氷浴を除去し、更に室温で２
３時間攪拌した。次いで反応液を実施例３と同様に処理
し２−シアノフラン８．１ｇ（収率８４％）を得た。
（１０４mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン８．２ｇ
（純度９７％，１１４mmol）を加え氷冷した。この中に
トリエチルアミン３１．５ｇ（３１２mmol）を１０分間
を要して滴下し、終了後氷浴を除去し、更に室温で１７
時間攪拌した。反応液に無水硫酸ナトリウム１５．０ｇ
を加え３０分間攪拌後、乾燥剤を濾去し、塩化メチレン
で洗浄した。濾洗液を合し、氷冷しながら２−クロロ−
１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド２１．１
ｇ（１２５mmol）の塩化メチレン７０ml溶液を３５分間
を要して滴下し、終了後、氷浴を除去し、更に室温で２
３時間攪拌した。次いで反応液を実施例３と同様に処理
し２−シアノフラン８．１ｇ（収率８４％）を得た。
【００２０】実施例５ ２−シアノチオフェンの製造 塩化メチレン１００ml中に、２−チオフェンアルデヒド
９．０ｇ（８０mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン５．
８ｇ（純度９７％，８０mmol）を加え水冷した。この中
にトリエチルアミン８．１ｇ（８０mmol）を５分間を要
して滴下し、終了後水浴を除去し室温で４０分攪拌し
た。反応液に無水硫酸マグネシウム１１．０ｇを加え３
０分間攪拌後乾燥剤を濾去し、塩化メチレンで洗浄し
た。濾洗液を合し、この中に水冷しながら２−クロロ−
１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド１６．３
ｇ（９７mmol）を加え、次いでトリエチルアミン１９．
５ｇ（１９３mmol）を滴下した。終了後、水浴を除去
し、室温にて２１時間攪拌後反応液を実施例３と同様に
処理し２−シアノチオフェン７．０ｇ（収率７９．７
％）を得た。
９．０ｇ（８０mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン５．
８ｇ（純度９７％，８０mmol）を加え水冷した。この中
にトリエチルアミン８．１ｇ（８０mmol）を５分間を要
して滴下し、終了後水浴を除去し室温で４０分攪拌し
た。反応液に無水硫酸マグネシウム１１．０ｇを加え３
０分間攪拌後乾燥剤を濾去し、塩化メチレンで洗浄し
た。濾洗液を合し、この中に水冷しながら２−クロロ−
１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド１６．３
ｇ（９７mmol）を加え、次いでトリエチルアミン１９．
５ｇ（１９３mmol）を滴下した。終了後、水浴を除去
し、室温にて２１時間攪拌後反応液を実施例３と同様に
処理し２−シアノチオフェン７．０ｇ（収率７９．７
％）を得た。
【００２１】実施例６ ３−シアノピリジンの製造 塩化メチレン２００ml中に、３−ピリジンアルデヒド１
０．０ｇ（９３mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン７．
４ｇ（純度９７％，１０３mmol）を加え水冷した。この
中にトリエチルアミン３５．３ｇ（３５０mmol）を２５
分間で滴下し、終了後水浴を除去し室温で１６分間攪拌
した。反応液に無水硫酸マグネシウム１５．０ｇを加
え、４時間攪拌後乾燥剤を濾去し、塩化メチレンで洗浄
した。濾洗液を合し、水冷しながら２−クロロ−１，３
−ジメチルイミダゾリニウムクロライド２０．８ｇ（１
２３mmol）の塩化メチレン１００ml溶液を４５分間で滴
下し、終了後、水浴を除去し、室温で１８時間攪拌し
た。次いで反応液を実施例３と同様に処理し３−シアノ
ピリジン８．０ｇ（収率８２％）を得た。
０．０ｇ（９３mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミン７．
４ｇ（純度９７％，１０３mmol）を加え水冷した。この
中にトリエチルアミン３５．３ｇ（３５０mmol）を２５
分間で滴下し、終了後水浴を除去し室温で１６分間攪拌
した。反応液に無水硫酸マグネシウム１５．０ｇを加
え、４時間攪拌後乾燥剤を濾去し、塩化メチレンで洗浄
した。濾洗液を合し、水冷しながら２−クロロ−１，３
−ジメチルイミダゾリニウムクロライド２０．８ｇ（１
２３mmol）の塩化メチレン１００ml溶液を４５分間で滴
下し、終了後、水浴を除去し、室温で１８時間攪拌し
た。次いで反応液を実施例３と同様に処理し３−シアノ
ピリジン８．０ｇ（収率８２％）を得た。
【００２２】実施例７ ３−フェニルプロピオニトリル
の製造 塩化メチレン２００ml中に、３−フェニルプロピオンア
ルデヒド１０．０ｇ（７５mmol）及び塩酸ヒドロキシル
アミン５．９ｇ（純度９７％，８２mmol）を加え水冷し
た。この中にトリエチルアミン２８．２ｇ（２７９mmo
l）を２６分間で滴下し、終了後水浴を除去し、室温で
２２．５時間攪拌した。反応液に無水硫酸マグネシウム
１５．０ｇを加え３０分間攪拌後、乾燥剤を濾去し、塩
化メチレンで洗浄した。濾洗液を合し、水冷しながら２
−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライ
ド１６．６ｇ（９８mmol）の塩化メチレン１００ml溶液
を４０分間で滴下し、終了後、水浴を除去し、室温で４
６時間攪拌した。次いで反応液を実施例３と同様に処理
し３−フェニルプロピオニトリル７．４ｇ（収率７５．
８％）を得た。
の製造 塩化メチレン２００ml中に、３−フェニルプロピオンア
ルデヒド１０．０ｇ（７５mmol）及び塩酸ヒドロキシル
アミン５．９ｇ（純度９７％，８２mmol）を加え水冷し
た。この中にトリエチルアミン２８．２ｇ（２７９mmo
l）を２６分間で滴下し、終了後水浴を除去し、室温で
２２．５時間攪拌した。反応液に無水硫酸マグネシウム
１５．０ｇを加え３０分間攪拌後、乾燥剤を濾去し、塩
化メチレンで洗浄した。濾洗液を合し、水冷しながら２
−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライ
ド１６．６ｇ（９８mmol）の塩化メチレン１００ml溶液
を４０分間で滴下し、終了後、水浴を除去し、室温で４
６時間攪拌した。次いで反応液を実施例３と同様に処理
し３−フェニルプロピオニトリル７．４ｇ（収率７５．
８％）を得た。
【００２３】実施例８ ２−エチルヘキサンニトリルの
製造 塩化メチレン２００ml中に、２−エチルヘキシルアルデ
ヒド１０．０ｇ（７８mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミ
ン６．１ｇ（純度９７％，８６mmol）を加え水冷した。
この中にトリエチルアミン２９．５ｇ（２９２mmol）を
滴下し、終了後水浴を除去し、室温で２３時間攪拌し
た。反応液に無水硫酸マグネシウム１５．０ｇを加え３
０分間攪拌後、乾燥剤を濾去し、塩化メチレンで洗浄し
た。濾洗液を合し、水洗しながら２−クロロ−１，３−
ジメチルイミダゾリニウムクロライド１７．４ｇ（１０
３mmol）の塩化メチレン１００ml溶液を５０分間で滴下
し、終了後、水浴を除去し、室温で４９時間攪拌した。
次いで反応液を実施例３と同様に処理し２−エチルヘキ
サンニトリル６．２ｇ（収率６３．９％）を得た。
製造 塩化メチレン２００ml中に、２−エチルヘキシルアルデ
ヒド１０．０ｇ（７８mmol）及び塩酸ヒドロキシルアミ
ン６．１ｇ（純度９７％，８６mmol）を加え水冷した。
この中にトリエチルアミン２９．５ｇ（２９２mmol）を
滴下し、終了後水浴を除去し、室温で２３時間攪拌し
た。反応液に無水硫酸マグネシウム１５．０ｇを加え３
０分間攪拌後、乾燥剤を濾去し、塩化メチレンで洗浄し
た。濾洗液を合し、水洗しながら２−クロロ−１，３−
ジメチルイミダゾリニウムクロライド１７．４ｇ（１０
３mmol）の塩化メチレン１００ml溶液を５０分間で滴下
し、終了後、水浴を除去し、室温で４９時間攪拌した。
次いで反応液を実施例３と同様に処理し２−エチルヘキ
サンニトリル６．２ｇ（収率６３．９％）を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 255/50 6917−4Ｈ 255/54 6917−4Ｈ
Claims (1)
- 【請求項１】 アルデヒドオキシム類に、一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異って、それぞれ低級ア
ルキル基を、Ｘはハロゲン原子を、ｎは２又は３を示
す）で表わされるハロイミニウム塩を脱水剤として反応
せしめることを特徴とするニトリル類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255490A JPH0597714A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | ニトリル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255490A JPH0597714A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | ニトリル類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597714A true JPH0597714A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=17279480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3255490A Pending JPH0597714A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | ニトリル類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0597714A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008503452A (ja) * | 2004-06-19 | 2008-02-07 | アルキミカ、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 無水アルキルホスホン酸類でのアルデヒドオキシム類から水の脱離によるニトリル類の製造方法 |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP3255490A patent/JPH0597714A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008503452A (ja) * | 2004-06-19 | 2008-02-07 | アルキミカ、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 無水アルキルホスホン酸類でのアルデヒドオキシム類から水の脱離によるニトリル類の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |