JPH0593807A - 多色表示装置の製造方法 - Google Patents
多色表示装置の製造方法Info
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- JPH0593807A JPH0593807A JP25512191A JP25512191A JPH0593807A JP H0593807 A JPH0593807 A JP H0593807A JP 25512191 A JP25512191 A JP 25512191A JP 25512191 A JP25512191 A JP 25512191A JP H0593807 A JPH0593807 A JP H0593807A
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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- G—PHYSICS
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、より簡単な生産工程で着色不良・
寸法不良等のないカラーフィルタを得る多色表示装置の
製法を提供する。 【構成】 本発明は (I) 感光性樹脂層に所望のパターンを形成するマス
クを設定し、露光・現像して導電層の一部を露出する工
程、(II) 露出した導電層上に電着により所望の着色
層を形成する工程、(III) 上記(I)から(II)の工程を所
定の回数だけ繰り返した後、残りの感光性樹脂層を優先
的あるいは選択的に溶解する除去液を用いて除去し、導
電層を露出させる工程、からなる多色表示装置の製造方
法を提供する。
寸法不良等のないカラーフィルタを得る多色表示装置の
製法を提供する。 【構成】 本発明は (I) 感光性樹脂層に所望のパターンを形成するマス
クを設定し、露光・現像して導電層の一部を露出する工
程、(II) 露出した導電層上に電着により所望の着色
層を形成する工程、(III) 上記(I)から(II)の工程を所
定の回数だけ繰り返した後、残りの感光性樹脂層を優先
的あるいは選択的に溶解する除去液を用いて除去し、導
電層を露出させる工程、からなる多色表示装置の製造方
法を提供する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶などの表示素子を多
色化するために用いられる多色表示装置の製造方法に関
する。
色化するために用いられる多色表示装置の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルタを形成する方法として各
種提案されているが、現在注目されている方法は電着を
用いる方法である。例えば本発明者等の特願平３−１２
０１８号や特開昭６１−２７２７２０号公報には、基板
上に導電層を形成し、その上にポジ型の感光性被膜を形
成して露光し、露光部分を除去した後に必要な色の着色
層を、電着により形成する方法が開示されている。この
方法はポジ型の感光性被膜であるために、理想的には露
光部分のみが現像液に可溶化し、残った未露光部分は感
光性を保持しているので露光・現像を繰り返すことが出
来ることになる。
種提案されているが、現在注目されている方法は電着を
用いる方法である。例えば本発明者等の特願平３−１２
０１８号や特開昭６１−２７２７２０号公報には、基板
上に導電層を形成し、その上にポジ型の感光性被膜を形
成して露光し、露光部分を除去した後に必要な色の着色
層を、電着により形成する方法が開示されている。この
方法はポジ型の感光性被膜であるために、理想的には露
光部分のみが現像液に可溶化し、残った未露光部分は感
光性を保持しているので露光・現像を繰り返すことが出
来ることになる。
【０００３】しかしながら、上記方法を用いた場合、着
色層の外周部付近のポジ型感光性被膜は１回目の現像・
電着・加熱硬化などの工程により感光性機能の失われた
ものが残存し、２回目以降の着色層形成において、例え
ば額縁状の色抜けといった着色不良やパターンの直線性
不良といった寸法不良（図９参照）などを発生させる原
因となる。
色層の外周部付近のポジ型感光性被膜は１回目の現像・
電着・加熱硬化などの工程により感光性機能の失われた
ものが残存し、２回目以降の着色層形成において、例え
ば額縁状の色抜けといった着色不良やパターンの直線性
不良といった寸法不良（図９参照）などを発生させる原
因となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、より簡単な
生産工程で着色不良・寸法不良等のないカラーフィルタ
を得る多色表示装置の製法を提供する。
生産工程で着色不良・寸法不良等のないカラーフィルタ
を得る多色表示装置の製法を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち本発明は、 (I) 感光性樹脂層に所望のパターンを形成するマス
クを設定し、露光・現像して導電層の一部を露出する工
程、 (II) 露出した導電層上に電着により所望の着色層を
形成する工程、(III) 上記(I)から(II)の工程を所定の
回数だけ繰り返した後、残りの感光性樹脂層を優先的あ
るいは選択的に溶解する除去液を用いて除去し、導電層
を露出させる工程、からなる多色表示装置の製造方法、
あるいは (IV) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に電着により所望の着色層を形成する工程からな
る多色表示装置の製造方法、あるいは (V) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に所定の着色層を、塗布法を用いて形成する工程
からなる多色表示装置の製造方法、あるいは (VI) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に金属層をメッキ法を用いて形成する工程からな
る多色表示装置の製造方法、あるいは (VII) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層を酸化あるいは還元して着色する工程からなる多色
表示装置の製造方法を提供するものである。
クを設定し、露光・現像して導電層の一部を露出する工
程、 (II) 露出した導電層上に電着により所望の着色層を
形成する工程、(III) 上記(I)から(II)の工程を所定の
回数だけ繰り返した後、残りの感光性樹脂層を優先的あ
るいは選択的に溶解する除去液を用いて除去し、導電層
を露出させる工程、からなる多色表示装置の製造方法、
あるいは (IV) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に電着により所望の着色層を形成する工程からな
る多色表示装置の製造方法、あるいは (V) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に所定の着色層を、塗布法を用いて形成する工程
からなる多色表示装置の製造方法、あるいは (VI) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に金属層をメッキ法を用いて形成する工程からな
る多色表示装置の製造方法、あるいは (VII) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層を酸化あるいは還元して着色する工程からなる多色
表示装置の製造方法を提供するものである。
【０００６】まず図１(a)もしくは図１(b)に示すような
基板を準備する。この基板は導電性を示すならばその構
成に特に限定されない。例えばガラス、プラスチックに
代表される素材自体は導電性を示さないような基板１上
に、クロム・ニッケル・酸化インジウム等に代表される
導電性薄膜２を形成した基板、あるいは鉄・ステンレス
・銅等に代表される素材自体が導電性を示すような基板
１’どちらでも用いても問題ない。以下については図１
(a)の構成を用いて説明する。
基板を準備する。この基板は導電性を示すならばその構
成に特に限定されない。例えばガラス、プラスチックに
代表される素材自体は導電性を示さないような基板１上
に、クロム・ニッケル・酸化インジウム等に代表される
導電性薄膜２を形成した基板、あるいは鉄・ステンレス
・銅等に代表される素材自体が導電性を示すような基板
１’どちらでも用いても問題ない。以下については図１
(a)の構成を用いて説明する。
【０００７】次に図１(c)に示すように、該導電層２上
にポジ型感光性樹脂層３を形成する。このポジ型感光性
樹脂は、１回塗布された感光性樹脂層で複数回露光・現
像できるものであり、具体的にはカルボン酸に対して不
安定な枝分かれした基を有する重合体と露光時に酸を生
じる光重合開始剤とを含むポジ型感光性樹脂組成物であ
る(例えば本発明者等による特願平３−１２０１８号)。
この場合、酸に対して不安定な枝分かれした基を有する
重合体は、上記酸に対して不安定な基を有する重合性化
合物の単独重合体または共重合体である。酸に対して不
安定な枝分かれした基を有する重合性化合物の例として
はｐ−ブトキシカルボニルオキシ−α−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン、ｔ−
ブチル−ｐ−ビニルベンゾエート、ｔ−ブチル−ｐ−イ
ソプロペニルフェニルオキシアセテートおよびｔ−ブチ
ルメタクリレート等が挙げられる。上記単量体と共重合
しうる単量体の例としてはモノオレフィンおよびジオレ
フィン炭化水素類である。光照射（露光）により酸を生
じる光重合開始剤は、一般的にオニウム塩として従来よ
り知られている。
にポジ型感光性樹脂層３を形成する。このポジ型感光性
樹脂は、１回塗布された感光性樹脂層で複数回露光・現
像できるものであり、具体的にはカルボン酸に対して不
安定な枝分かれした基を有する重合体と露光時に酸を生
じる光重合開始剤とを含むポジ型感光性樹脂組成物であ
る(例えば本発明者等による特願平３−１２０１８号)。
この場合、酸に対して不安定な枝分かれした基を有する
重合体は、上記酸に対して不安定な基を有する重合性化
合物の単独重合体または共重合体である。酸に対して不
安定な枝分かれした基を有する重合性化合物の例として
はｐ−ブトキシカルボニルオキシ−α−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン、ｔ−
ブチル−ｐ−ビニルベンゾエート、ｔ−ブチル−ｐ−イ
ソプロペニルフェニルオキシアセテートおよびｔ−ブチ
ルメタクリレート等が挙げられる。上記単量体と共重合
しうる単量体の例としてはモノオレフィンおよびジオレ
フィン炭化水素類である。光照射（露光）により酸を生
じる光重合開始剤は、一般的にオニウム塩として従来よ
り知られている。
【０００８】このポジ型感光性樹脂組成物３上に所定の
パターンを有するマスク４を載置し(図１(d))、露光す
ることにより露光部分の感光性樹脂組成物層を溶出可能
にし、次いで所定の溶出液により溶出することによりパ
ターン化された基板を得る(図１(e))。マスクおよび溶
出技術は公知である。この基板は図１(e)に示すよう
に、着色必要箇所に導電層２が露出している形となって
いる。そして図１(f)に示されるように、導電層２に通
電して電着浴中で電着により着色層（例えば赤(Ｒ)５)
が形成される。この方法に用いる電着浴の造膜成分とし
て使用される合成高分子樹脂は、カチオン性、アニオン
性または両性のいずれであっても良く、従来公知の種々
のもの、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアミド樹脂、カルボキ
シル基導入ポリブタジエン、カルボキシル基導入アルキ
ド樹脂などが挙げられる。なお合成高分子樹脂のイオン
性によっては導電層２を侵すものもあり、この点を考慮
して造膜成分を選択する必要がある。電着浴その他の詳
しい内容は特開昭５９−１１４５９２号および本発明者
等による特開昭６３−２１０９０１号公報に詳細に記載
されている。この電着塗料は光硬化性または熱硬化性の
いずれであってもよい。
パターンを有するマスク４を載置し(図１(d))、露光す
ることにより露光部分の感光性樹脂組成物層を溶出可能
にし、次いで所定の溶出液により溶出することによりパ
ターン化された基板を得る(図１(e))。マスクおよび溶
出技術は公知である。この基板は図１(e)に示すよう
に、着色必要箇所に導電層２が露出している形となって
いる。そして図１(f)に示されるように、導電層２に通
電して電着浴中で電着により着色層（例えば赤(Ｒ)５)
が形成される。この方法に用いる電着浴の造膜成分とし
て使用される合成高分子樹脂は、カチオン性、アニオン
性または両性のいずれであっても良く、従来公知の種々
のもの、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアミド樹脂、カルボキ
シル基導入ポリブタジエン、カルボキシル基導入アルキ
ド樹脂などが挙げられる。なお合成高分子樹脂のイオン
性によっては導電層２を侵すものもあり、この点を考慮
して造膜成分を選択する必要がある。電着浴その他の詳
しい内容は特開昭５９−１１４５９２号および本発明者
等による特開昭６３−２１０９０１号公報に詳細に記載
されている。この電着塗料は光硬化性または熱硬化性の
いずれであってもよい。
【０００９】次に図１(g)に示すように基板１上に形成
された着色層とポジ型感光性樹脂層にマスク４'を載置
し、露光することにより前記と同様に露光部分の感光性
樹脂組成物層を溶出しパターン化された基板を得る(図
１(h))。なお、マスク４とマスク４'と同一であっても
特に問題とならない。
された着色層とポジ型感光性樹脂層にマスク４'を載置
し、露光することにより前記と同様に露光部分の感光性
樹脂組成物層を溶出しパターン化された基板を得る(図
１(h))。なお、マスク４とマスク４'と同一であっても
特に問題とならない。
【００１０】さらに図２(i)に示されるように導電層２
に通電して電着浴中で電着により着色層(例えば緑(G))
６が形成される。
に通電して電着浴中で電着により着色層(例えば緑(G))
６が形成される。
【００１１】次に３色目は図１(g)〜(h)および図２(h)
の繰り返しにより着色層(例えば青(B))７が形成される
(図２(j)〜(l))。このときもマスク４''は前述のマスク
４あるいはマスク４'と同一であっても、特に問題とな
らない。
の繰り返しにより着色層(例えば青(B))７が形成される
(図２(j)〜(l))。このときもマスク４''は前述のマスク
４あるいはマスク４'と同一であっても、特に問題とな
らない。
【００１２】一例として着色層(Ｒ、Ｇ、Ｂ)以外をすべ
て別の着色層（例えば黒）にしてしまう形態を選択する
場合、基板(図２(l))上に形成してある感光性樹脂層を
優先的あるいは選択的に溶解しうる除去液を用いて、取
り除き、導電層２を露出させた基板(図３(m))を得る。
この場合、上記の除去液は、前述の現像工程で用いられ
る現像液とは含有成分もしくは含有成分組成比が異なっ
ており区別される。
て別の着色層（例えば黒）にしてしまう形態を選択する
場合、基板(図２(l))上に形成してある感光性樹脂層を
優先的あるいは選択的に溶解しうる除去液を用いて、取
り除き、導電層２を露出させた基板(図３(m))を得る。
この場合、上記の除去液は、前述の現像工程で用いられ
る現像液とは含有成分もしくは含有成分組成比が異なっ
ており区別される。
【００１３】次に図３(n)に示されるように導電層２に
通電して電着浴中で電着により着色層(例えば黒(Ｂ
l))，８が形成される。
通電して電着浴中で電着により着色層(例えば黒(Ｂ
l))，８が形成される。
【００１４】また一例として着色層(Ｒ、Ｇ、Ｂ)以外を
部分的に着色層(例えば黒)を形成する形態を選択する場
合、前述の着色層(Ｒ、Ｇ、Ｂ)を形成する工程と同様
に、図４(o)〜(q)により着色層(例えば黒(K))９が形成
される。
部分的に着色層(例えば黒)を形成する形態を選択する場
合、前述の着色層(Ｒ、Ｇ、Ｂ)を形成する工程と同様
に、図４(o)〜(q)により着色層(例えば黒(K))９が形成
される。
【００１５】次に着色層と感光性樹脂層を形成した基板
(図４(q))上に形成してある感光性樹脂層を、感光性樹
脂層を優先的あるいは選択的に溶解しうる除去液を用い
て取り除き、導電層２を露出させた基板(図４(r))を得
る。この場合、上記の除去液は、前述の現像工程で用い
られる現像液とは含有成分もしくは含有成分組成比が異
なっており区別される。
(図４(q))上に形成してある感光性樹脂層を、感光性樹
脂層を優先的あるいは選択的に溶解しうる除去液を用い
て取り除き、導電層２を露出させた基板(図４(r))を得
る。この場合、上記の除去液は、前述の現像工程で用い
られる現像液とは含有成分もしくは含有成分組成比が異
なっており区別される。
【００１６】さらに図４(s)に示されるように導電層２
に通電して電着浴中で電着により着色層(例えば透明
(C))１０が形成される。
に通電して電着浴中で電着により着色層(例えば透明
(C))１０が形成される。
【００１７】この他に導電層２を、着色層形成後も電着
用電極以外の目的（例えば駆動用電極）で使用する場合
も考えられるが、その場合外部にこの導電層２を接続し
なければならない。この場合でも、例えば図４(s)の着
色層(Ｂl、Ｃ等)を前述の着色層(Ｒ、Ｇ、Ｂ)を形成す
る工程と同様に形成し、最後に感光性樹脂を優先的ある
いは選択的に溶解しうる除去液を用いて、導電層２を露
出させた基板を得ることも可能である(図４(t))。もち
ろん着色層(Ｂ１、Ｃ等)が不要な場合、前述の着色層
(Ｒ、Ｇ、Ｂ)を形成した後、前述の除去液を用いて感光
性樹脂を取り除けばよい(図４(u))。
用電極以外の目的（例えば駆動用電極）で使用する場合
も考えられるが、その場合外部にこの導電層２を接続し
なければならない。この場合でも、例えば図４(s)の着
色層(Ｂl、Ｃ等)を前述の着色層(Ｒ、Ｇ、Ｂ)を形成す
る工程と同様に形成し、最後に感光性樹脂を優先的ある
いは選択的に溶解しうる除去液を用いて、導電層２を露
出させた基板を得ることも可能である(図４(t))。もち
ろん着色層(Ｂ１、Ｃ等)が不要な場合、前述の着色層
(Ｒ、Ｇ、Ｂ)を形成した後、前述の除去液を用いて感光
性樹脂を取り除けばよい(図４(u))。
【００１８】本発明のメッキ法は無電解メッキ、電解メ
ッキまたはその複合であってもよい。
ッキまたはその複合であってもよい。
【００１９】本発明のカラーフィルタの製造方法によれ
ば、導電層の形状に影響される事なく任意の配列で着色
不良・寸法不良のない着色層を有するカラーフィルタを
製造することができる。
ば、導電層の形状に影響される事なく任意の配列で着色
不良・寸法不良のない着色層を有するカラーフィルタを
製造することができる。
【００２０】
【実施例】本発明を実施例により更に詳細に説明する。
なお本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２１】参考例１ (ポジ型感光性樹脂組成物の調
製) ２.０ｇのアゾビスイソブチロニトリルを含む５０ｇの
キシレン中にｔ−ブチルメタクリレート６５.０ｇ、ブ
チルアクリレート２０.０ｇおよびメチルメタクリレー
ト２０.０ｇを加え、窒素気流中で６０℃で１０時間加
熱撹拌を行った。冷却後反応生成物をテトラヒドロフラ
ンで希釈し、石油エーテル／メタノールで洗浄した。重
合体は９３.０g(収率９３％)および数平均分子量(ＧＰ
Ｃ)は２２０００であった。この重合体をテトラヒドロ
フラン中に固形物が２０重量％になるように溶解し、ト
リフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
を、重合体に対して２０重量％加えてポジ型感光性樹脂
組成物を得た。
製) ２.０ｇのアゾビスイソブチロニトリルを含む５０ｇの
キシレン中にｔ−ブチルメタクリレート６５.０ｇ、ブ
チルアクリレート２０.０ｇおよびメチルメタクリレー
ト２０.０ｇを加え、窒素気流中で６０℃で１０時間加
熱撹拌を行った。冷却後反応生成物をテトラヒドロフラ
ンで希釈し、石油エーテル／メタノールで洗浄した。重
合体は９３.０g(収率９３％)および数平均分子量(ＧＰ
Ｃ)は２２０００であった。この重合体をテトラヒドロ
フラン中に固形物が２０重量％になるように溶解し、ト
リフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
を、重合体に対して２０重量％加えてポジ型感光性樹脂
組成物を得た。
【００２２】参考例２ (ポジ型感光性樹脂組成物現像
液の調整) 次のポジ型感光性樹脂組成物現像液を作成した。 水酸化ナトリウム ５部 純水 ９９５部
液の調整) 次のポジ型感光性樹脂組成物現像液を作成した。 水酸化ナトリウム ５部 純水 ９９５部
【００２３】参考例３ （カラーフィルタ形成用のアニ
オン性電着浴液の調製） 次のアニオン電着樹脂組成物を作成した。 アニオン性ポリエステル樹脂 ９５.０部 メラミン樹脂 １８.０部 ブチルセロソルブ ２５.０部 エチルセロソルブ ５.０部 n−ブタノール １８.０部 トリエチルアミン ２.５部 イオン交換水 ８３６.５部 この電着樹脂組成物に以下のように顔料を配合すること
により、３色のアニオン電着溶液を作成した。
オン性電着浴液の調製） 次のアニオン電着樹脂組成物を作成した。 アニオン性ポリエステル樹脂 ９５.０部 メラミン樹脂 １８.０部 ブチルセロソルブ ２５.０部 エチルセロソルブ ５.０部 n−ブタノール １８.０部 トリエチルアミン ２.５部 イオン交換水 ８３６.５部 この電着樹脂組成物に以下のように顔料を配合すること
により、３色のアニオン電着溶液を作成した。
【００２４】 青 緑 赤 黒 アニオン性電着樹脂組成物 995.0 995.0 995.0 992.5 フタロシアニンブルー 5.0 − − − フタロシアニングリーン − 5.0 − − アゾ金属塩赤顔料 − − 5.0 − カーボンブラック − − − 7.5
【００２５】参考例４ （ポジ型感光性樹脂組成物除去
液の調製） 次に示すポジ型感光性樹脂組成物除去液１を作成した。 エタノールアミン ８５部 ブチルセロソルブ １１５部 フルフリルアルコール ３００部 ジプロピレングリコールメチルエーテル ５００部
液の調製） 次に示すポジ型感光性樹脂組成物除去液１を作成した。 エタノールアミン ８５部 ブチルセロソルブ １１５部 フルフリルアルコール ３００部 ジプロピレングリコールメチルエーテル ５００部
【００２６】さらにこのポジ型感光性樹脂組成物除去液
１を純水で希釈したポジ型感光性樹脂組成物除去液２を
作成した。 エタノールアミン ６８部 ブチルセロソルブ ９２部 フルフリルアルコール ２４０部 ジプロピレングリコールメチルエーテル ４００部 純水 ２００部
１を純水で希釈したポジ型感光性樹脂組成物除去液２を
作成した。 エタノールアミン ６８部 ブチルセロソルブ ９２部 フルフリルアルコール ２４０部 ジプロピレングリコールメチルエーテル ４００部 純水 ２００部
【００２７】また次に示すポジ型感光性樹脂組成物除去
液３を作成した。 イソプロピルアルコール ９０部 ジエタノールアミン １０部
液３を作成した。 イソプロピルアルコール ９０部 ジエタノールアミン １０部
【００２８】参考例５ （クロムメッキ浴の調製） 次に示すクロムメッキ浴を作成した。 無水クロム酸 ４００.０g／ｌ 水酸化ナトリウム ６０.０g／ｌ 炭酸バリウム ７.５g／ｌ ケイフッ酸 １.０ml／ｌ
【００２９】参考例６ （電解還元液の調製） 塩酸水溶液を４％濃度で作成した。
【００３０】実施例１ ガラス基板１上に透明導電膜層２(ＩＴＯ(酸化インジウ
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
【００３１】次に所定のパターンを有するマスク４を介
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
【００３２】次にこの基板にパターンをずらしたマスク
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
【００３３】さらに同様にこの基板にパターンをずらし
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
【００３４】そしてポジ型感光性樹脂組成物と赤、緑、
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物剥離液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(l))。
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物剥離液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(l))。
【００３５】以上の工程を経て製作したカラーフィルタ
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した
(図８参照)。
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した
(図８参照)。
【００３６】またポジ型感光性樹脂組成物除去液１を、
ポジ型感光性樹脂組成物除去液２あるいはポジ型感光性
樹脂組成物除去液３に変更して前述と同じ工程で赤、
緑、青の着色層を持つカラーフィルタを製作したが、同
等の結果であった。
ポジ型感光性樹脂組成物除去液２あるいはポジ型感光性
樹脂組成物除去液３に変更して前述と同じ工程で赤、
緑、青の着色層を持つカラーフィルタを製作したが、同
等の結果であった。
【００３７】実施例２ ガラス基板１上に透明導電膜層２(ＩＴＯ(酸化インジウ
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
【００３８】次に所定のパターンを有するマスク４を介
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
【００３９】次にこの基板にパターンをずらしたマスク
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
【００４０】さらに同様にこの基板にパターンをずらし
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
【００４１】そしてポジ型感光性樹脂組成物と赤、緑、
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物除去液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物除去液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
【００４２】最後に黒色電着を３ボルトの直流電圧を２
０秒間印加した。水洗乾燥後、黒色着色層が透明導電膜
露出部に形成され(図２(n))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
０秒間印加した。水洗乾燥後、黒色着色層が透明導電膜
露出部に形成され(図２(n))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
【００４３】以上の工程を経て製作したカラーフィルタ
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
【００４４】実施例３ ガラス基板１上に透明導電膜層２(ＩＴＯ(酸化インジウ
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
【００４５】次に所定のパターンを有するマスク４を介
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
【００４６】次にこの基板にパターンをずらしたマスク
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
【００４７】さらに同様にこの基板にパターンをずらし
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(k))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(k))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
【００４８】そしてポジ型感光性樹脂組成物と赤、緑、
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物除去液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物除去液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
【００４９】最後に市販の黒色レジストをスピンコート
法を用いて基板１の着色層が形成された面に塗布して乾
燥させた(図５(v))。次に基板１の黒色レジストが塗布
されていない面から高圧水銀ランプを用いて露光しさら
に市販の黒色レジスト現像液を用いて現像すると、赤、
緑、青の着色層の隙間に黒色層１１が形成された(図５
(w))。この時の黒色層の膜厚は２ミクロンであった。
法を用いて基板１の着色層が形成された面に塗布して乾
燥させた(図５(v))。次に基板１の黒色レジストが塗布
されていない面から高圧水銀ランプを用いて露光しさら
に市販の黒色レジスト現像液を用いて現像すると、赤、
緑、青の着色層の隙間に黒色層１１が形成された(図５
(w))。この時の黒色層の膜厚は２ミクロンであった。
【００５０】以上の工程を経て製作したカラーフィルタ
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
【００５１】実施例４ ガラス基板１上に透明導電膜層２(ＩＴＯ(酸化インジウ
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
ム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型感
光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透明
導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した(図
１(c))。
【００５２】次に所定のパターンを有するマスク４を介
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
【００５３】次にこの基板にパターンをずらしたマスク
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
【００５４】さらに同様にこの基板にパターンをずらし
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
たマスク４(図２(j))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
【００５５】そしてポジ型感光性樹脂組成物と赤、緑、
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物除去液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物除去液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
【００５６】最後に透明導電膜層２が露出した基板１を
陰極化して参考例５のクロムメッキ浴中に浸し、陽極に
鉛−錫合金板を用いて５Ｖの直流電圧を２０秒間印加す
るとクロムメッキ１２が透明導電膜層２の上に形成され
た(図６(x))。
陰極化して参考例５のクロムメッキ浴中に浸し、陽極に
鉛−錫合金板を用いて５Ｖの直流電圧を２０秒間印加す
るとクロムメッキ１２が透明導電膜層２の上に形成され
た(図６(x))。
【００５７】以上の工程を経て製作したカラーフィルタ
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
【００５８】実施例５ ガラス基板１上に透明導電膜層２(ＩＴＯ（酸化インジ
ウム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型
感光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透
明導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した
(図１(c))。
ウム))を形成した基板(図１(a))に、参考例１のポジ型
感光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させて透
明導電膜上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した
(図１(c))。
【００５９】次に所定のパターンを有するマスク４を介
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
して(図１(d))高圧水銀ランプで露光し、さらに１００
℃で３分間加熱しこれを前述のポジ型感光性樹脂組成物
現像液で現像すると、露光部は塩を形成して溶出し、透
明導電膜層２が露出した。次に前述の赤色のアニオン性
電着樹脂組成物の電着浴中に透明導電膜層２が露出され
た基板１(図１(e))を浸し、透明導電膜を陽電極として
３０ボルトの直流電圧を５秒間印加した。その後、基板
を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜上にあ
るポジ型感光性樹脂組成物の上には電着樹脂組成物は付
着せず水洗により洗い流されるが、電圧を印加した透明
導電膜上に付着した高分子は水に不溶性となっているた
め、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥させると透明
導電膜上には透明性のよい赤色高分子膜５が形成され
(図１(f))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロンであっ
た。
【００６０】次にこの基板にパターンをずらしたマスク
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
４を介して(図１(g))高圧水銀ランプで露光し、さらに
１００℃で３分間加熱し、さらにポジ型感光性樹脂組成
物現像液で現像すると同様に透明導電膜層２の表面が露
出した。次に前述の緑色のアニオン性電着樹脂組成物の
電着浴中に透明導電膜層２が露出された赤色着色層が形
成された基板１(図１(h))を浸し、透明導電膜を陽電極
として３５ボルトの直流電圧を５秒間印加して、その後
基板を引き上げ十分に水洗した。この際、透明導電膜の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物は付着せず、水洗により洗い流される。
水洗後、乾燥させると透明性のよい緑色高分子膜６が形
成され(図２(i))、この時の着色膜の膜厚は２ミクロン
であった。
【００６１】さらに同様にこの基板にパターンをずらし
たマスク４(図２(i))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
たマスク４(図２(i))で露光し、加熱・現像した(図２
(k))のち、青色電着を３０ボルトの直流電圧で５秒間印
加の条件で行った。その後水洗乾燥後、青色高分子膜７
が同様に形成され(図２(l))、この時の着色膜の膜厚は
２ミクロンであった。
【００６２】そしてポジ型感光性樹脂組成物と赤、緑、
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物剥離液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
青の着色層の形成された基板１を、参考例４のポジ型感
光性樹脂組成物剥離液１に３分間撹拌しながら浸した
後、水洗乾燥すると、着色層を残してポジ型感光性樹脂
組成物だけが溶出して、透明導電膜層２の表面が露出し
た(図３(m))。
【００６３】最後に透明導電膜層２が露出した基板１を
陰極にして参考例６に示す電解還元液中に浸し、陽極に
ステンレス板を用いて２５Ｖの直流電圧を５秒間印加す
ると透明導電膜層２が電解還元されて黒色層１３が形成
された(図７(y))。
陰極にして参考例６に示す電解還元液中に浸し、陽極に
ステンレス板を用いて２５Ｖの直流電圧を５秒間印加す
ると透明導電膜層２が電解還元されて黒色層１３が形成
された(図７(y))。
【００６４】以上の工程を経て製作したカラーフィルタ
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
は、着色不良・寸法不良等も無く良好な性能を示した。
【００６５】
【発明の効果】本発明によれば、特に着色層の外周部付
近の感光性被膜の感光性機能が失われ、その結果着色層
の外周部に前述の感光性被膜のうち感光性機能の失われ
たものが残存した場合でも、着色不良・寸法不良などの
問題も無い表示品質のよいカラーフィルタが製造でき、
さらに製造工程も短縮できるという効果が得られる。
近の感光性被膜の感光性機能が失われ、その結果着色層
の外周部に前述の感光性被膜のうち感光性機能の失われ
たものが残存した場合でも、着色不良・寸法不良などの
問題も無い表示品質のよいカラーフィルタが製造でき、
さらに製造工程も短縮できるという効果が得られる。
【図１】 本発明の製造方法の一例を示す工程図であ
り、(a)〜(h)は断面図である。
り、(a)〜(h)は断面図である。
【図２】 本発明の製造方法の一例を示す工程図であ
り、(i)〜(l)は断面図である。
り、(i)〜(l)は断面図である。
【図３】 本発明の製造方法の一例を示す工程図であ
り、(m)および(n)は断面図である。
り、(m)および(n)は断面図である。
【図４】 本発明の製造方法の一例を示す工程図であ
り、(o)〜(u)は断面図である。
り、(o)〜(u)は断面図である。
【図５】 本発明の製造方法の一例を示す工程図であ
り、(v)および(w)は断面図である。
り、(v)および(w)は断面図である。
【図６】 本発明の製造方法の一例を示す工程図であ
り、(x)は断面図である。
り、(x)は断面図である。
【図７】 本発明の製造方法の一例を示す工程図であ
り、(y)は断面図である。
り、(y)は断面図である。
【図８】 本発明製法により得られたカラーフィルタの
拡大写真を図示した図であり、実際に得られた写真を参
考写真２として物件提出書で提出する。
拡大写真を図示した図であり、実際に得られた写真を参
考写真２として物件提出書で提出する。
【図９】 従来技術方法により得られたカラーフィルタ
の拡大写真を図示した図であり、実際に得られた写真を
参考写真１として物件提出書で提出する。
の拡大写真を図示した図であり、実際に得られた写真を
参考写真１として物件提出書で提出する。
１：ガラス基板 ２：透明導電層（ＩＴＯ） ３：ポジ型感光性樹脂組成物 ４：マスク ４'：マスク ４''：マスク ５：赤色着色層 ６：緑色着色層 ７：青色着色層 ８：黒色着色層 ９：黒色着色層 １０：透明層 １１：黒色着色層 １２：クロムメッキ層 １３：電解還元層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年１０月１５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
フロントページの続き (72)発明者 大畑 雅史 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内 (72)発明者 松村 晃 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】(I) 感光性樹脂層に所望のパターンを
形成するマスクを設定し、露光・現像して導電層の一部
を露出する工程、 (II) 露出した導電層上に電着により所望の着色層を
形成する工程、 (III) 上記(I)から(II)の工程を所定の回数だけ繰り返
した後、残りの感光性樹脂層を優先的あるいは選択的に
溶解する除去液を用いて除去し、導電層を露出させる工
程、 からなる多色表示装置の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において (IV) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に電着により所望の着色層を形成する工程 からなる多色表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１において (V) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に所定の着色層を、塗布法を用いて形成する工程 からなる多色表示装置の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１において (VI) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層上に金属層をメッキ法を用いて形成する工程 からなる多色表示装置の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１において (VII) 前述の(I)から(III)の工程の後、露出させた導
電層を酸化あるいは還元して着色する工程 からなる多色表示装置の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25512191A JP3092869B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 多色表示装置の製造方法 |
| US08/070,352 US5439582A (en) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | Process for producing multicolor display |
| PCT/JP1992/001273 WO1993007518A1 (en) | 1991-10-02 | 1992-10-02 | Process for manufacturing multicolor display |
| KR1019930701640A KR930703618A (ko) | 1991-10-02 | 1992-10-02 | 다색표시장치의 제조방법 |
| TW081108438A TW207007B (ja) | 1991-10-02 | 1992-10-22 | |
| EP92920906A EP0572672A4 (en) | 1991-10-02 | 1993-04-20 | Process for manufacturing multicolor display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25512191A JP3092869B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 多色表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0593807A true JPH0593807A (ja) | 1993-04-16 |
| JP3092869B2 JP3092869B2 (ja) | 2000-09-25 |
Family
ID=17274385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25512191A Expired - Lifetime JP3092869B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 多色表示装置の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5439582A (ja) |
| EP (1) | EP0572672A4 (ja) |
| JP (1) | JP3092869B2 (ja) |
| KR (1) | KR930703618A (ja) |
| TW (1) | TW207007B (ja) |
| WO (1) | WO1993007518A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06281806A (ja) * | 1993-12-27 | 1994-10-07 | Asahi Glass Co Ltd | カラーフィルタの形成方法 |
| KR100433660B1 (ko) * | 1996-12-18 | 2004-12-29 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정표시소자및그제조방법 |
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| US5503952A (en) * | 1994-03-22 | 1996-04-02 | Shinto Paint Co., Ltd. | Method for manufacture of color filter and liquid crystal display |
| JPH08179302A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-12 | Seiko Instr Inc | 多色液晶表示装置の製造方法 |
| US6057900A (en) * | 1995-02-09 | 2000-05-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Color liquid crystal display device and method for producing color filter substrate |
| JP4046783B2 (ja) * | 1995-03-31 | 2008-02-13 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| US5708264A (en) * | 1995-11-07 | 1998-01-13 | Eastman Kodak Company | Planar color filter array for CCDs from dyed and mordant layers |
| US5677202A (en) * | 1995-11-20 | 1997-10-14 | Eastman Kodak Company | Method for making planar color filter array for image sensors with embedded color filter arrays |
| US5756241A (en) * | 1996-04-08 | 1998-05-26 | Industrial Technology Research Institute | Self-aligned method for forming a color display screen |
| US6208404B1 (en) * | 1996-05-16 | 2001-03-27 | Tryonics Corporation | Black matrix |
| TW531492B (en) * | 2002-07-03 | 2003-05-11 | Prodisc Technology Inc | Method for manufacturing optical device |
| KR101055187B1 (ko) * | 2003-12-18 | 2011-08-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 컬러필터 어레이 기판의 제조방법 |
| JP5046639B2 (ja) * | 2006-08-23 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| CN105259694B (zh) * | 2015-11-13 | 2019-01-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 彩色滤光片的制作方法及彩色滤光片 |
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| US4491628A (en) * | 1982-08-23 | 1985-01-01 | International Business Machines Corporation | Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone |
| JPS6111703A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-20 | Citizen Watch Co Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| JPH0727082B2 (ja) * | 1985-05-28 | 1995-03-29 | セイコー電子工業株式会社 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| JPS61279803A (ja) * | 1985-06-05 | 1986-12-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| JPS63210901A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-01 | Nippon Paint Co Ltd | カラ−表示装置の製法 |
| JPS6450023A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of color filter |
| JPH01145626A (ja) * | 1987-12-01 | 1989-06-07 | Seiko Instr & Electron Ltd | 多色表示装置及びその製造方法 |
| JPH01170902A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Seiko Instr & Electron Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
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1991
- 1991-10-02 JP JP25512191A patent/JP3092869B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-02 US US08/070,352 patent/US5439582A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-10-02 KR KR1019930701640A patent/KR930703618A/ko not_active Application Discontinuation
- 1992-10-02 WO PCT/JP1992/001273 patent/WO1993007518A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1992-10-22 TW TW081108438A patent/TW207007B/zh not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-04-20 EP EP92920906A patent/EP0572672A4/en not_active Withdrawn
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0572672A1 (en) | 1993-12-08 |
| JP3092869B2 (ja) | 2000-09-25 |
| US5439582A (en) | 1995-08-08 |
| TW207007B (ja) | 1993-06-01 |
| KR930703618A (ko) | 1993-11-30 |
| EP0572672A4 (en) | 1995-10-25 |
| WO1993007518A1 (en) | 1993-04-15 |
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