JPH0590238A - 回転式基板処理装置の基板回転保持具 - Google Patents
回転式基板処理装置の基板回転保持具Info
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- JPH0590238A JPH0590238A JP27691591A JP27691591A JPH0590238A JP H0590238 A JPH0590238 A JP H0590238A JP 27691591 A JP27691591 A JP 27691591A JP 27691591 A JP27691591 A JP 27691591A JP H0590238 A JPH0590238 A JP H0590238A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 構成を簡素化し、オリエンテーションフラッ
ト等の切り欠きを有する基板でも基板の向きを整合する
必要が無く、しかも、上記切り欠きの有無に関係なく、
基板を空転することなく回転保持できる基板の回転保持
具を提供する。 【構成】 水平回転自在に設けられた回転台1と、回転
台1上に配置付設された複数の基板支持部3及び空転規制
部4とにより回転式基板処理装置の基板回転保持具を構
成する。上記各基板支持部3で円形ないし略円形の基板W
を回転台1の上面から離間させて水平に支持する。上記
各空転規制部4に内接する内接円Rの中心Gが回転台1の回
転中心Zから偏位するように、各空転規制部4を円形に配
置し、各空転規制部4に上記基板Wの外周縁を当接させ、
その偏位に伴う遠心作用により当該基板Wを回転台1と一
体回転させる。
ト等の切り欠きを有する基板でも基板の向きを整合する
必要が無く、しかも、上記切り欠きの有無に関係なく、
基板を空転することなく回転保持できる基板の回転保持
具を提供する。 【構成】 水平回転自在に設けられた回転台1と、回転
台1上に配置付設された複数の基板支持部3及び空転規制
部4とにより回転式基板処理装置の基板回転保持具を構
成する。上記各基板支持部3で円形ないし略円形の基板W
を回転台1の上面から離間させて水平に支持する。上記
各空転規制部4に内接する内接円Rの中心Gが回転台1の回
転中心Zから偏位するように、各空転規制部4を円形に配
置し、各空転規制部4に上記基板Wの外周縁を当接させ、
その偏位に伴う遠心作用により当該基板Wを回転台1と一
体回転させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハのよう
にオリエンテーションフラットやノッチ等の切り欠きが
形成された略円形の基板、あるいは光ディスク用基板等
のように全く切り欠きを有しない円形の基板を回転台に
載置し、基板の上面に洗浄液やエッチング液等の各種処
理液を供給する回転式基板処理装置に関し、特に回転式
基板処理装置において基板を回転保持する回転保持具に
関する。
にオリエンテーションフラットやノッチ等の切り欠きが
形成された略円形の基板、あるいは光ディスク用基板等
のように全く切り欠きを有しない円形の基板を回転台に
載置し、基板の上面に洗浄液やエッチング液等の各種処
理液を供給する回転式基板処理装置に関し、特に回転式
基板処理装置において基板を回転保持する回転保持具に
関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の装置としては従来より、例えば
図７に示すもの（以下従来例１という）、あるいは図８
〜図９に示すもの（以下従来例２という）が知られてい
る。
図７に示すもの（以下従来例１という）、あるいは図８
〜図９に示すもの（以下従来例２という）が知られてい
る。
【０００３】従来例１は、本出願人の提案により特公平
３−９６０７号公報に開示されたもので、水平回転自在
に設けられた回転台５１と、回転台５１の上面に付設さ
れた複数の基板保持部材５２・５２とを具備してなり、
基板保持部材５２の内のいくつかを可動爪５２ａとして
構成し、可動爪５２ａの基板支持部５３で円形ないし略
円形の基板Ｗを回転台５１の上面から離間して水平に支
持するとともに、その基板Ｗを爪部５４で挟持して回転
台５１上に保持するように構成されている。なお同図中
の符号５５は可動爪操作リンク、５６はリンク回動板で
あり、図示しない付勢手段にて爪部５４が基板Ｗを挟持
した状態で、基板Ｗは回転台５１と一体回転する。
３−９６０７号公報に開示されたもので、水平回転自在
に設けられた回転台５１と、回転台５１の上面に付設さ
れた複数の基板保持部材５２・５２とを具備してなり、
基板保持部材５２の内のいくつかを可動爪５２ａとして
構成し、可動爪５２ａの基板支持部５３で円形ないし略
円形の基板Ｗを回転台５１の上面から離間して水平に支
持するとともに、その基板Ｗを爪部５４で挟持して回転
台５１上に保持するように構成されている。なお同図中
の符号５５は可動爪操作リンク、５６はリンク回動板で
あり、図示しない付勢手段にて爪部５４が基板Ｗを挟持
した状態で、基板Ｗは回転台５１と一体回転する。
【０００４】また従来例２は図８〜図９に示すように、
水平回転自在に設けられた回転台１０１と、回転台１０
１上に配置付設された複数の基板保持部材１０２とから
成り、複数の基板保持部材１０２の各基板支持部１０３
で略円形の基板Ｗを回転台１０１の上面から離間して水
平に支持する。そしてこの従来例では、基板保持部材１
０２の各空転規制部１０４に基板Ｗの外周縁を当接さ
せ、特に基板保持部材１０２の１つ１０２ａを基板Ｗの
オリエンテーションフラットＷ0に対応させて、他の基
板保持部材よりも基板の中心側に偏位させて配置し、そ
の余の空転規制部１０３は、それに内接する内接円Ｒの
中心Ｇが回転台１０１の回転中心Ｚと一致するように配
置されている。
水平回転自在に設けられた回転台１０１と、回転台１０
１上に配置付設された複数の基板保持部材１０２とから
成り、複数の基板保持部材１０２の各基板支持部１０３
で略円形の基板Ｗを回転台１０１の上面から離間して水
平に支持する。そしてこの従来例では、基板保持部材１
０２の各空転規制部１０４に基板Ｗの外周縁を当接さ
せ、特に基板保持部材１０２の１つ１０２ａを基板Ｗの
オリエンテーションフラットＷ0に対応させて、他の基
板保持部材よりも基板の中心側に偏位させて配置し、そ
の余の空転規制部１０３は、それに内接する内接円Ｒの
中心Ｇが回転台１０１の回転中心Ｚと一致するように配
置されている。
【０００５】なお、この従来例２では、基板保持部材１
０２ａの空転規制部１０４ｂに、基板Ｗのオリエンテー
ションフラットＷ0が当接することで、回転台１０１上
で基板Ｗが空転するのが阻止され、基板Ｗ回転台１０１
と一体に回転する。ここで、基板の空転を阻止する基板
回転保持具を採用するのは、回転処理の最中に基板Ｗが
回転保持具に対して空回りすると、基板の下面が擦れて
発塵したり、処理液の流動を不均一にしたり、あるいは
基板の下面を傷つける等の弊害を生じるので、かかる弊
害を回避して円滑な回転処理を行うためである。
０２ａの空転規制部１０４ｂに、基板Ｗのオリエンテー
ションフラットＷ0が当接することで、回転台１０１上
で基板Ｗが空転するのが阻止され、基板Ｗ回転台１０１
と一体に回転する。ここで、基板の空転を阻止する基板
回転保持具を採用するのは、回転処理の最中に基板Ｗが
回転保持具に対して空回りすると、基板の下面が擦れて
発塵したり、処理液の流動を不均一にしたり、あるいは
基板の下面を傷つける等の弊害を生じるので、かかる弊
害を回避して円滑な回転処理を行うためである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例１は、基板
保持部材５２の内のいくつかを可動爪５２ａとして構成
したことから、その構成が複雑でコスト高を招く。また
従来例２は、基板保持部材１０２の内の１つ１０２ａを
基板ＷのオリエンテーションフラットＷ0に対応させて
配置したことから、基板Ｗの着脱に際して、回転台１０
１の方向と基板Ｗの方向とを共に整合させる必要があ
る。このため、基板の供給装置側と回転台１０１側とに
それぞれ回転位置整合手段を設ける必要がある。
保持部材５２の内のいくつかを可動爪５２ａとして構成
したことから、その構成が複雑でコスト高を招く。また
従来例２は、基板保持部材１０２の内の１つ１０２ａを
基板ＷのオリエンテーションフラットＷ0に対応させて
配置したことから、基板Ｗの着脱に際して、回転台１０
１の方向と基板Ｗの方向とを共に整合させる必要があ
る。このため、基板の供給装置側と回転台１０１側とに
それぞれ回転位置整合手段を設ける必要がある。
【０００７】また近年ではオリエンテーションフラット
Ｗ0に代えて、Ｖ字状に切り欠いたノッチを有する基板
が登場するようになってきたが、ノッチはオリエンテー
ションフラットＷ0ほど基板の中心へ大きく入り込んだ
切り欠きではないので、ノッチに対応させて空転規制部
を少し偏位させるだけでは基板の空転を阻止することが
困難であり、また、光ディスク基板のように全く切り欠
きのない円形の基板では、空転規制部を偏位させること
もできず、なおさら基板が空回りするのを阻止すること
が困難である。従って、従来例２では、オリエンテーシ
ョンフラットが形成された半導体ウエハのように、ある
程度大きな切り欠きを有する基板しか、回転保持の対象
とすることができない。
Ｗ0に代えて、Ｖ字状に切り欠いたノッチを有する基板
が登場するようになってきたが、ノッチはオリエンテー
ションフラットＷ0ほど基板の中心へ大きく入り込んだ
切り欠きではないので、ノッチに対応させて空転規制部
を少し偏位させるだけでは基板の空転を阻止することが
困難であり、また、光ディスク基板のように全く切り欠
きのない円形の基板では、空転規制部を偏位させること
もできず、なおさら基板が空回りするのを阻止すること
が困難である。従って、従来例２では、オリエンテーシ
ョンフラットが形成された半導体ウエハのように、ある
程度大きな切り欠きを有する基板しか、回転保持の対象
とすることができない。
【０００８】本発明はこのような事情を考慮してなされ
たもので、イ．構成の簡素化により製造コストの低減を
図ること、ロ．オリエンテーションフラットＷ0のよう
な大きな切り欠きを有する基板を基板回転保持具に載置
する際に、基板の切り欠きの向きと基板回転保持具の向
きとが整合するように、基板の向きを位置決めすること
を不要にすること、ハ．オリエンテーションフラットＷ
0のような大きな切り欠きではなく、ノッチしか有しな
い略円形の基板や、全く切り欠きを有しない円形の基板
でも、空回りすることなく回転保持できる基板の回転保
持具を提供すること、を技術課題とする。
たもので、イ．構成の簡素化により製造コストの低減を
図ること、ロ．オリエンテーションフラットＷ0のよう
な大きな切り欠きを有する基板を基板回転保持具に載置
する際に、基板の切り欠きの向きと基板回転保持具の向
きとが整合するように、基板の向きを位置決めすること
を不要にすること、ハ．オリエンテーションフラットＷ
0のような大きな切り欠きではなく、ノッチしか有しな
い略円形の基板や、全く切り欠きを有しない円形の基板
でも、空回りすることなく回転保持できる基板の回転保
持具を提供すること、を技術課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するものとして、以下のように構成される。即ち、円形
ないし略円形の基板を水平回転し、基板の上面に処理液
を供給する回転式基板処理装置において、円形ないし略
円形の基板を載置する回転台と、回転台に設けられて、
基板の外縁が当接することにより基板を回転台と一体に
回転するよう規制する空転規制部とから成り、空転規制
部を、回転台の回転中心から偏位した円形に沿って配備
することを特徴とする回転式基板処理装置の基板回転保
持具である。
するものとして、以下のように構成される。即ち、円形
ないし略円形の基板を水平回転し、基板の上面に処理液
を供給する回転式基板処理装置において、円形ないし略
円形の基板を載置する回転台と、回転台に設けられて、
基板の外縁が当接することにより基板を回転台と一体に
回転するよう規制する空転規制部とから成り、空転規制
部を、回転台の回転中心から偏位した円形に沿って配備
することを特徴とする回転式基板処理装置の基板回転保
持具である。
【００１０】
【作 用】本発明は、上記各空転規制部に内接する内接
円の中心が回転台の回転中心から偏位するように、各空
転規制部を円形に配置したことから、円形ないし略円形
の基板を回転台上に載置したとき、当該基板の重心位置
は回転台の回転中心から偏位する。従って回転台を回転
したとき、当該基板には重心位置の偏位に伴う遠心力が
作用し、基板を偏位方向に位置する空転規制部に押圧付
勢する。この押圧付勢により当該基板は回転台と一体回
転する。これにより、従来例１のような可動爪は不要と
なり、また従来例２のように、基板保持部材を基板Ｗの
オリエンテーションフラットに対応させて配置する必要
もなくなる。
円の中心が回転台の回転中心から偏位するように、各空
転規制部を円形に配置したことから、円形ないし略円形
の基板を回転台上に載置したとき、当該基板の重心位置
は回転台の回転中心から偏位する。従って回転台を回転
したとき、当該基板には重心位置の偏位に伴う遠心力が
作用し、基板を偏位方向に位置する空転規制部に押圧付
勢する。この押圧付勢により当該基板は回転台と一体回
転する。これにより、従来例１のような可動爪は不要と
なり、また従来例２のように、基板保持部材を基板Ｗの
オリエンテーションフラットに対応させて配置する必要
もなくなる。
【００１１】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。図１は本発明の実施例に係る回転保持具の平面図、
図２はその側面図、図３は図２の要部拡大断面図、図４
は上記基板回転保持具を備えた回転式基板処理装置の一
部を切り欠いた側面図である。
る。図１は本発明の実施例に係る回転保持具の平面図、
図２はその側面図、図３は図２の要部拡大断面図、図４
は上記基板回転保持具を備えた回転式基板処理装置の一
部を切り欠いた側面図である。
【００１２】この回転式基板処理装置は、図４に示すよ
うに、モータ２１によって回転駆動される基板回転保持
具２０と、基板Ｗの上面に、例えば酸やアルカリ、各種
溶剤、純水等からなる洗浄液や、フォトレジスト液、現
像液、あるいはエッチング液等の各種処理液を供給する
処理液供給ノズル２２と、モータ２１の回転駆動軸を挿
通し、基板Ｗの側方及び下方を囲って、基板Ｗから飛散
する処理液を回収する処理液回収カップ２３とを具備し
て成り、基板回転保持具２０で保持した基板Ｗの上面
に、所要の処理液を供給して、基板Ｗの表面処理をする
ように構成されている。
うに、モータ２１によって回転駆動される基板回転保持
具２０と、基板Ｗの上面に、例えば酸やアルカリ、各種
溶剤、純水等からなる洗浄液や、フォトレジスト液、現
像液、あるいはエッチング液等の各種処理液を供給する
処理液供給ノズル２２と、モータ２１の回転駆動軸を挿
通し、基板Ｗの側方及び下方を囲って、基板Ｗから飛散
する処理液を回収する処理液回収カップ２３とを具備し
て成り、基板回転保持具２０で保持した基板Ｗの上面
に、所要の処理液を供給して、基板Ｗの表面処理をする
ように構成されている。
【００１３】この実施例に係る基板回転保持具２０は、
図１〜図２に示すように、モータ２１によって水平回転
される回転台１と、回転台１上の周縁部に配置付設され
た複数の基板保持部材２とを具備して成る。上記各基板
保持部材２は、図３で示すように、基端ねじ部２ａと基
板支持部３及び空転規制部４とを一体に形成して成り、
基端ねじ部２ａが回転台１にねじ込み固定されている。
そして各基板支持部３のゆるい円錐面で円形基板Ｗの外
周部を支えて、基板Ｗを回転台１から離間して水平に支
持するとともに、各空転規制部４に円形基板Ｗの外周縁
が当接するように構成されている。
図１〜図２に示すように、モータ２１によって水平回転
される回転台１と、回転台１上の周縁部に配置付設され
た複数の基板保持部材２とを具備して成る。上記各基板
保持部材２は、図３で示すように、基端ねじ部２ａと基
板支持部３及び空転規制部４とを一体に形成して成り、
基端ねじ部２ａが回転台１にねじ込み固定されている。
そして各基板支持部３のゆるい円錐面で円形基板Ｗの外
周部を支えて、基板Ｗを回転台１から離間して水平に支
持するとともに、各空転規制部４に円形基板Ｗの外周縁
が当接するように構成されている。
【００１４】そして図１に示すように、上記各基板保持
部材２は、その空転規制部４に内接する内接円Ｒの中心
Ｇが回転台１の回転中心ＺからＬだけ偏位するように、
円形に配置され、円形ないし円形の基板Ｗの偏位に伴う
前記遠心作用により、当該基板Ｗを回転台１と一体回転
させるように構成されている。従って従来例１のような
可動爪は不要となり、また従来例２のように、基板保持
部材を基板ＷのオリエンテーションフラットＷ0に対応
させて配置する必要もなくなる。
部材２は、その空転規制部４に内接する内接円Ｒの中心
Ｇが回転台１の回転中心ＺからＬだけ偏位するように、
円形に配置され、円形ないし円形の基板Ｗの偏位に伴う
前記遠心作用により、当該基板Ｗを回転台１と一体回転
させるように構成されている。従って従来例１のような
可動爪は不要となり、また従来例２のように、基板保持
部材を基板ＷのオリエンテーションフラットＷ0に対応
させて配置する必要もなくなる。
【００１５】なお、本発明は上記実施例に限るものでは
なく、例えば図５で示すように、基板支持部３及び空転
規制部４とを別体に形成してもよい。また、本発明の特
許請求の範囲でいう「回転体」の形状は、前記実施例の
ように円盤状、つまり円形の板状体であるものに限ら
ず、例えば図６で示すように、花弁のように放射状に斜
め上方へ延出する８つの腕状の部分から成る放射状支持
部材１１でもよく、その形状については限定しない。ま
た、基板保持部材２は、前記実施例のように、回転台１
にねじ込み式に固定するものに限らず、例えば基板保持
部材２と回転台１とが一体形成された単一の部材であっ
てもよい。また、図５に示す実施例において、基板支持
部３を設けずに、基板Ｗを回転台１にじか置きするよう
にしてもよい。その他、本発明に係る基板回転保持具
は、前記実施例に示すものに適宜変更を加えて実施し得
ることは、多言を要しない。
なく、例えば図５で示すように、基板支持部３及び空転
規制部４とを別体に形成してもよい。また、本発明の特
許請求の範囲でいう「回転体」の形状は、前記実施例の
ように円盤状、つまり円形の板状体であるものに限ら
ず、例えば図６で示すように、花弁のように放射状に斜
め上方へ延出する８つの腕状の部分から成る放射状支持
部材１１でもよく、その形状については限定しない。ま
た、基板保持部材２は、前記実施例のように、回転台１
にねじ込み式に固定するものに限らず、例えば基板保持
部材２と回転台１とが一体形成された単一の部材であっ
てもよい。また、図５に示す実施例において、基板支持
部３を設けずに、基板Ｗを回転台１にじか置きするよう
にしてもよい。その他、本発明に係る基板回転保持具
は、前記実施例に示すものに適宜変更を加えて実施し得
ることは、多言を要しない。
【００１６】
【発明の効果】本発明は、上記各空転規制部に内接する
内接円の中心が回転台の回転中心から偏位するように、
各空転規制部を円形に配置したことから、以下の効果を
奏する。 イ．円形ないし略円形の基板を回転台上に載置したと
き、基板の重心位置が回転台の回転中心から偏位し、こ
の重心位置の偏位に伴う遠心作用により、基板は回転台
と一体回転するので、従来例１のような可動爪は不要と
なり、構造の簡素化により製造コストの低減を図ること
ができる。 ロ．また、基板を基板保持具に載置する際に、従来例２
のように、基板Ｗのオリエンテーションフラットの向き
と基板回転保持具の向きとが整合するように、基板の向
きを位置決めすることが不要になり、回転式基板処理装
置への基板の搬入に要する作業時間が節約でき、基板の
向きを整合するための装置も不要にできる。 ハ．オリエンテーションフラットのような大きな切り欠
きではなく、ノッチしか有しない略円形の基板や、全く
切り欠きを有しない円形の基板でも、空回りすることな
く回転保持できる。
内接円の中心が回転台の回転中心から偏位するように、
各空転規制部を円形に配置したことから、以下の効果を
奏する。 イ．円形ないし略円形の基板を回転台上に載置したと
き、基板の重心位置が回転台の回転中心から偏位し、こ
の重心位置の偏位に伴う遠心作用により、基板は回転台
と一体回転するので、従来例１のような可動爪は不要と
なり、構造の簡素化により製造コストの低減を図ること
ができる。 ロ．また、基板を基板保持具に載置する際に、従来例２
のように、基板Ｗのオリエンテーションフラットの向き
と基板回転保持具の向きとが整合するように、基板の向
きを位置決めすることが不要になり、回転式基板処理装
置への基板の搬入に要する作業時間が節約でき、基板の
向きを整合するための装置も不要にできる。 ハ．オリエンテーションフラットのような大きな切り欠
きではなく、ノッチしか有しない略円形の基板や、全く
切り欠きを有しない円形の基板でも、空回りすることな
く回転保持できる。
【図１】本発明の実施例に係る回転保持具の平面図であ
る。
る。
【図２】本発明の実施例に係る回転保持具の側面図であ
る。
る。
【図３】図２の要部拡大断面図である。
【図４】本発明に係る基板回転保持具を備えた回転式基
板処理装置の一部を切り欠いた側面図である。
板処理装置の一部を切り欠いた側面図である。
【図５】本発明の別の実施例に係る基板回転保持具の側
面図である。
面図である。
【図６】本発明のさらに別の実施例に係る基板回転保持
具の側面図である。
具の側面図である。
【図７】従来例１の基板回転保持具の側面図である。
【図８】従来例２の基板回転保持具の平面図である。
【図９】従来例２の基板回転保持具の側面図である。
１…回転台、 ３…基板支持部、 ４…空転
規制部、Ｗ…基板、 Ｒ…内接円、 Ｇ…内
接円の中心、Ｚ…回転台の回転中心。
規制部、Ｗ…基板、 Ｒ…内接円、 Ｇ…内
接円の中心、Ｚ…回転台の回転中心。
Claims (1)
- 【請求項１】 円形ないし略円形の基板を水平回転し、
基板の上面に処理液を供給する回転式基板処理装置にお
いて、 円形ないし略円形の基板を載置する回転台と、回転台に
設けられて、基板の外縁が当接することにより基板を回
転台と一体に回転するよう規制する空転規制部とから成
り、 空転規制部を、回転台の回転中心から偏位した円形に沿
って配備することを特徴とする回転式基板処理装置の基
板回転保持具。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27691591A JPH0590238A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 回転式基板処理装置の基板回転保持具 |
| US07/952,281 US5322079A (en) | 1991-09-27 | 1992-09-28 | Substrate holding apparatus of a simple structure for holding a rotating substrate, and a substrate processing apparatus including the substrate holding apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27691591A JPH0590238A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 回転式基板処理装置の基板回転保持具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0590238A true JPH0590238A (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=17576164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27691591A Pending JPH0590238A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 回転式基板処理装置の基板回転保持具 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5322079A (ja) |
| JP (1) | JPH0590238A (ja) |
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