JPH058179B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は6−デオキシ−アントラサイクリノン
類の製法に関する。本発明の製法によつて得られ
る6−デオキシアントラサイクリノン類は、抗腫
瘍剤として有用なアントラサイクリングコシド類
の合成中間体として有用である。 本発明は一般式 (式中、Rは水素原子、水酸基または低級アル
コキシ基を表わす)を有する6−デオキシアント
ラサイクリノン類の製法を提供する。後記反応ス
キームで説明されるこの方法は () ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ
−フタレート()を四塩化錫の存在下におけ
る酢酸無水物での処理によりアセチル化し、つ
いで穏和な塩基または穏和な酸で処理するこ
と、 () 生成するジメチル1,2,3,6−テト
ラヒドロ−4−アセチル−フタレート()を
トシルヒドラジンと反応させること、 () 生成するジメチル1,2,3,6−テト
ラヒドロ−4−(1−トシルヒドラゾノ−エチ
ル)フタレート()をカテコールボランで還
元しついで酢酸ナトリウムの存在下において二
重結合を環内から環外の位置に転位させるこ
と、 () 生成する1,2−ジ−(メトキシカルボ
ニル)−4−エチリデン−シクロヘキサン()
を過マンガン酸カリウムで酸化しそして生成す
るα−ヒドロキシケトンを触媒量のp−トルエ
ンスルホン酸の存在下においてエチレングリコ
ールで処理すること、 () 生成する2−メトキシカルボニル−5−
〔2−メチル−ジオキソラン−2−イル〕−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7
−オン()を式中Rが前述の定義を有する一
般式()の化合物(式中、Rが前述の定義を
有する一般式()の化合物にアルキルリチウ
ムを作用させることにより得られる)と縮合さ
せること、 () ラクトン環を開環しそして式中Rが前述
の定義を有する一般式()の生成化合物にお
けるジオキソラン保護されたケト基をメタノリ
シスにより脱保護(保護基除去)すること、 () Rが前述の定義を有する一般式(X)の
生成化合物のケト基をトリフルオロ酢酸の存在
下におけるピリジン−ボラン錯体での処理によ
り還元しそしてメトキシカルボニル基をフエニ
ルジアゾメタンでの処理によりベンジルオキシ
カルボニル基に変換すること、 () 4−ジメチルアミノピリジンの存在下に
ピリジン中において酢酸無水物で処理し、続い
てPd/C触媒の存在下にシクロヘキセンと共
に還流することにより式中Rが前述の定義を有
する一般式XIの生成化合物における水酸基を
エステル化しそしてベンジルオキシカルボニル
基を脱エステル化すること、 () 式中R′が水素原子、アセトキシ基また
は低級アルコキシ基を表わす一般式XIIの生成化
合物をトリフルオロ酢酸無水物およびトリフル
オロ酢酸の混合物で処理することにより環化し
そしてアセトキシ基をナトリウムメチラート加
水分解すること、 (x) 式中Rが前述の定義を有する一般式X
の生成する化合物の1−ヒドロキシエチル基を
炭酸銀で酸化しそして生成する化合物をニトロ
ベンゼン中において三塩化アルミニウムで酸化
的に脱メチル化すること、そして (x) 一般式Xの生成化合物の13−ケト基
をエチレングリコールでの処理により保護し、
c−7において生成する化合物を2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)の存在下におい
て臭素またはN−ブロモスクシンイミドで処理
することにより臭素化しそして7−ブロモ基お
よび13−ケタール基を加水分解することからな
る。 本発明による方法のための出発化合物は既知で
ある。2−ブロモ−1,4,5−トリメトキシナ
フタレン(,R=OCH3)はR.L.Haman氏等
による「J.Org.Chem.」第44巻第2153頁(1979)
に記載されていた。式の化合物と式の化合物
との間のカツプリング反応は高収率で局部選択的
に進行して主要中間体を与える。有機金属種は
メチルエステルのカルボニル基のみに影響し、ラ
クトンのそれには影響しない。 (x) 工程はC.M.Wong氏等による「Can.J.
Chem.」第51巻第446頁(1973)に記載の方法
にしたがつて実施されうる。すなわち2,2′−
アゾ−ビス(イソブチロニトリル)の存在下で
の臭素による臭素化、引き続いての7−ブロモ
誘導体の加水分解およびケタール基の酸処理に
よる除去によるか、あるいはまた2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)の存在下でのN
−ブロモ−スクシンイミドによる臭素化、照
射、酢酸銀での処理、ケタール基の酸性処理に
よる加水分解および最後においての酢酸塩のナ
トリウムメトキシドによる加水分解によつて実
施されうる。 式の化合物の光学分割はキラル分割剤を使用
してのジアステレオ異性誘導体への慣用の変換方
法によつて実施されうる。この点での分割では
(+)−4−デメトキシ−6−ジオキシ−4−(R
−置換)−ダウノマイシノンを得ることが可能
である。この6−デオキシアントラサイクリノン
は、Rが水素原子を表わすものを除いては新規
でありそして本発明の範囲内に包含される。異な
る方法で製造された4−デメトキシ−6−デオキ
シダウノマイシノンは本発明者等による英国特許
第2100257号明細書に記載されている。本発明方
法は前記方法よりも効率がよくしかも大規模生産
に適している。 本発明の製法によつて得られる6−デオキシア
ントラサイクリノン類は、抗腫瘍作用を有する一
般式X (式中、R1は水素原子または水酸基を表わし、
R2およびR3のうちの一方は水素原子を表わし、
他方は水素原子または水酸基を表わしそしてXは
水素原子またはトリフルオロアセチル基を表わす
が、但しXがトリフルオロアセチル基を表わす場
合にはR1は水素原子を表わす)を有するアント
ラサイクリングリコシド類の合成中間体として有
用である。これらの化合物は以下のように命名さ
れうる。 XVa:R1=R3=H,R2=OH,X=COCF3 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリフルオ
ロアセチル−ダウノルビシン, XVb:R1=R3=H,R2=OH,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ダウノルビシ
ン, XVc:R1=R2=H,R3=H,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ドキソルビシ
ン, XVd:R1=R2=H,R3=OH,X=COCF3 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリフルオ
ロアセチル−4′−エピーダウノルビシン, XVe:R1=R2=H,R3=OH,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ダウ
ノルビシン, XVf:R1=R3=OH,R2=H,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ドキ
ソルビシン, XVg:R1=R2=R3=H,X=COCF3 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−N−トリ
フルオロアセチル−ダウノルビシン、 XVh:R1=R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ダウノル
ビシン、 XVi:R1=OH,R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ドキソル
ビシン。 これらのアントラサイクリングリコシド類は、
4−デメチル−6−デオキシ−ダウノマイシノン
(,R=OH)を一般式X (式中、R2およびR3のうちの一方は水素原子
を表わしそして他方は水素原子またはトリフルオ
ロアセトキシ基を表わしそしてHalはハロゲン原
子、好ましくは塩素原子を表わす)を有する保護
されたハロ糖と縮合させることにより製造されう
る。この縮合は米国特許第4107423号明細書に記
載の方法にしたがつてトリフルオロメタンスルホ
ン酸銀の存在下で進行して7S:9Sおよび7R:9R
の、α−グリコシドのO−トリフルオロアセチル
保護誘導体の容易に分離しうる混合物を与える。
この反応のためにはハロ糖XによるXVa,
XVdおよびXVgが選択される。 前記O−トリフルオロアセチル基はメタノリシ
スにより除去されて式XVa,XVdおよびXVgの
化合物になり、これらは穏和なアルカリ加水分解
によつてそれぞれ、式XVb,XVeおよびXVhの
グリコシドに変換されうる。これらは米国特許第
3803124号明細書に記載の方法にしたがつて14−
臭素化しそしてぎ酸ナトリウム水溶液で処理する
ことにより対応する式XVc,XVfおよびXViのド
キソルビシン誘導体になる。これらの方法は本発
明の範囲内にある。 式XVのアントラサイクリングリコシド類は抗
腫瘍性質を有し、したがつて本発明はさらに式中
Xが水素原子を表わす一般式XVのアントラサイ
クリングリコシドまたはかかるグリコシドの薬学
的に許容しうる塩を薬学的に許容しうる稀釈剤ま
たは担体と一緒に含有する薬学的組成物をも提供
する。 以下に本発明を実施例により説明する。 実施例1 ジメチル1,2,3,6−テトラヒド
ロ−4−アセチル−フタレート() −5℃において10gのジメチル1,2,3,6
−テトラヒドロ−フタレート()を9ml四塩化
錫の存在下に25mlの酢酸無水物で処理した。この
反応混合物を氷冷水中に注ぎそしてジエチルエー
テルで抽出した。有機相を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液ついで水で洗浄しそして真空下で蒸発乾
固させた。得られた油状物をベンゼンに溶解し、
塩化水素のメタノール溶液で処理した。この溶液
を蒸発乾固させそして残留物をシリカゲルのカラ
ム上でのクロマトグラフイーにより精製して9g
の前記表題化合物を75%全収率で得た。 質量スペクトル:m/z240(M+), IR(KBr):1720cm-1(エステルのC=O),1660
cm-1(α,β−不飽和ケトンのC=O), PMR(CDCl3):とりわけδ2.33(s,COCH3),
3.70(s,−COOCH3)および6.91(m,HC=
C)。 実施例2 1,2−ジ−(メトキシカルボニル)−
4−エチリデン−シクロヘキサン() 実施例1に記載のようにして製造された17gの
ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−ア
セチル−フタレートを無水エタノール中において
14.6gのトシルヒドラジンと共に還流した。溶媒
の除去後に24gのジメチル1,2,3,6−テト
ラヒドロ−4−(1−トシルヒドラゾノ−エチル)
フタレート()が水から晶出した。融点162°〜
163℃,m/z408(M+)。 この化合物をクロロホルムに溶解しそして0℃
において14mlのカテコールボランで処理した。反
応混合物に酢酸ナトリウムを加え、ついでこれを
還流した。水洗後、溶媒を蒸発させそして残留物
をシリカゲルのカラム上でのクロマトグラフイー
により精製して10gの前記表題化合物(収率80
%)を得た。m/z226(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.6(d,J=8Hz,CH
3−CH=),5.3(q,J=8Hz,CH3−CH
=)。 実施例3 2−メトキシカルボニル−5−(2−
メチルジオキソラン−2−イル)−6−オキサ
−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン
() 実施例2に記載のようにして製造された8gの
1,2−ジ−(メトキシカルボニル)−4−エチリ
デン−シクロヘキサンを4.8mlの酢酸を含有する
アセトン水溶液中に溶解した。過マンガン酸カリ
ウムの水溶液を加えそしてその混合物を室温で60
分間放置した。ついで過剰の酸化剤を破壊しそし
て反応混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出し
た。有機相を水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥させついで真空下で蒸発乾固させた。残留物
(9g)をベンゼンに溶解しそして触媒量のp−ト
ルエンスルホン酸の存在下で60分間還流した。4
mlのエチレングリコールを加えそしてその反応混
合物をさらに2時間還流した。通常の後処理をし
た後に、溶媒を蒸発させて得られた残留物を溶離
剤としてトルエン/アセトン混合物(15:1容量
比)を使用してシリカゲルのカラム上でクロマト
グラフイーにかけることにより精製した。3.0g
(収率33%)の前記表題化合物が単離された。 融点69°〜71℃,m/z271(M+)。 IR(KBr):1790cm-1(C=O 5員環ラクト
ン),1735cm-1(C=O エステル),1720cm
−1(C=O ケトン), PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(s,CH 3),3.65
(s,COOOCH 3),および3.9(s,−O−CH
2−CH 2−O−)。 実施例4 2−(1,4,5−トリメトキシ−3
−ナフチルカルボニル)−5−(2−メチル−ジ
オキソラン−2−イル)−6−オキサ−ビシク
ロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン(X,
R=OCH3) 7mlの1.65Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液
を30mlの無水テトラヒドロフランに溶解した。−
78℃においてこの溶液に30mlの無水テトラヒドロ
フラン中における3.3gの1,4,5−トリメトキ
シ−3−ブロモ−ナフタレン(,R=OCH3)
の溶液を加えた。実施例3に記載のようにして製
造された2.5gの2−メトキシカルボニル−5−
(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−オ
キサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オ
ンを50mlの無水テトラヒドロフランに溶解し、こ
れを前記反応混合物に加えた。この反応混合物を
−78℃で1時間放置しついで酢酸で急冷した。溶
媒は真空中で除去した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製して3g(73%収
率)の前記表題化合物を得た。 m/z456(M+) IR(KBr):1775cm-1(C=O 5員環ラクト
ン),1680cm-1(C=O ベンジルケトン), PMR(CDCl3):とりわけ81.3(s,CH 3),3.75
(s,OCH3)、3.95〜4.05(m,2個のOCH 3
および−O−CH 2−CH 2−O−),6.8(s,
芳香族CH)および6.8〜8.1(m,3個のH)。 実施例5 1−(1,4,5−トリメトキシ−3
−ナフチルメチル−2−ベンジルオキシカルボ
ニル)−4−(1−ヒドロキシエチル)−4−ヒ
ドロキシ−シクロヘキサン(XI、R =
OCH3) 実施例4に記載のようにして製造された1.6gの
2−(1,4,5−トリメトキシ−2−ナフチル
カルボニル)−5−(2−メチル−ジオキソラン−
2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕
オクタン−7−オンをメタノールに溶解しそして
室温において1時間、無水メタノール中における
塩化水素の1N溶液で処理した。溶媒を蒸発させ
た後にほぼ定量収率で1.5gの1−(1,4,5ト
リメトキシ−3−ナフチルカルボニル)−2−メ
トキシカルボニル−4−アセチル−4−ヒドロキ
シ−シクロヘキサン(X,R=OCH3)を得た。
m/z444(M+)、 IR(フイルム):3460cm-1(OH),1730-1(C=O
エステル)、1710cm-1(C=Oケトン)およ
び1665cm-1(C=Oベンジルケトン), PMR(CDCl3):とりわけδ2.3(s,CH 3CO),
3.75〜4.05(s,4個のOCH 3),6.8(s,芳
香族H)および6.85〜8.0(m,3個の芳香族
H)。 1.5gのこの化合物を15mlのトリフルオロ酢酸に
溶解しそして1.4mlのピリジン−ボラン錯体と共
に還流した。溶媒の除去後に残留物を10%水酸化
ナトリウム水溶液で処理した。穏和な酸性化の後
にその遊離酸を酢酸エチルで抽出した。溶媒を蒸
発させそして残留物をフエニルジアゾメタンのエ
ーテル溶液で直接処理して前記表題生成物を得
た。これをクロマトグラフイーにより精製した。
m/z508(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(d,CH3−CH),
3.70〜3.95(s,3個のOCH 3),5.15(d,
CH2Ph)および6.4〜8.1(m,9個の芳香族
H)。 実施例6 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−(1−ヒドロキシエチル)−
2−ヒドロキシ−6,7,11−トリメトキシ−
12−オキソナフタセン(X,R=OCH3) 実施例5に記載のようにして製造された0.48g
の1−(1,4,5−トリメトキシ−3−ナフチ
ルメチル)−2−ベンジルオキシカルボニル−4
−(1−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−シ
クロヘキサンを4−ジメチルアミノピリジンの存
在下において酢酸無水物およびピリジンで処理し
た。室温で一夜経過後にその反応混合物を氷冷水
中に注ぎついで酢酸エチルで抽出した。有機層を
水洗しそして濃縮した。粗生成物をメタノールに
溶解しそして10重量%Pd/Cの存在下でシクロ
ヘキセンと共に還流した。ついで触媒を去しそ
して溶液を小容量に濃縮し、0℃で60分間、トリ
フルオロ酢酸無水物およびトリフルオロ酢酸で処
理した。ついでこの溶液を酢酸エチルで希釈し、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄
し、乾燥させついで真空下で濃縮乾固させた。残
留物を触媒量のナトリウムメチラートの存在下で
メタノール中に溶解した。慣用手段で後処理しそ
してクロマトグラフイーにより精製した後に
0.18g(収率49%)の前記表題化合物を得た。m/
z400(M+)。 IR(KBr):3450cm-1(OH),1675cm-1(C=O,
ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.2(d,CH 3−CH),
3.7〜3.9(s,3個のOCH 3)および6.4〜8.0
(m,3個の芳香族水素)。 実施例7 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−アセチル−2−ヒドロキシ
−6,7,11−トリメトキシ−12−オキソ−ナ
フタセン 実施例6に記載のようにして製造された0.09g
の1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒ
ドロ−2−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロ
キシ−6,7,11−トリメトキシ−12−オキソ−
ナフタセンのベンゼン中における溶液に0.8gの炭
酸銀を加えそしてその混合物を還流した。固体を
去しそして溶媒を真空中で蒸発させた後に
0.08g(90%収率)の前記表題化合物が得られた。 IR(KBr):3360cm-1(OH),1705cm-1(C=O
ケトン),1680cm-1(C=O,ベンジルケト
ン) PMR(CDCl3):とりわけδ2.2(s,CH3CO),
3.65〜3.90(s,3個のOCH3)。 実施例8 6,7−ジデオキシカルミノマイシノ
ン(X,R=OH) 実施例7に記載のようにして製造された0.06g
の1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒ
ドロ−2−アセチル−2−ヒドロキシ−6,7,
11−トリメトキシ−12−オキソナフタセンをニト
ロベンゼン中に溶解しそして0.12gの三塩化アル
ミニウムで処理した。この混合物をもはや出発物
質が検出され得なくなるまで70℃に保持した。こ
の反応混合物をしゆう酸の飽和水溶液中に注ぎそ
して酢酸エチルで抽出した。有機相を分離し、水
洗し、乾燥させついで蒸発乾固させた。シリカゲ
ルのカラム上で精製した残留物より、純粋な6,
7−ジデオキシカルミノマイシノンを40%収率で
得た。m/z(M+)、 IR(KBr):3420cm-1(OH),1705cm-1(C=O
ケトン)および1625cm-1(C=O,キレート
化されたキノン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.7〜2.2(m,CH2),
2.3(s,CH3CO),2.8〜3.2(m,2個のベン
ジルCH2)7.0〜7.9(m,4個の芳香族H)、
12.6(s,フエノールOH)および12.9(s,
フエノールOH)。 実施例9 6−デオキシカルミノマイシノン
(:R=OH) 実施例8に記載のようにして製造された6,7
−ジデオキシカルミノマイシノンのベンゼン中に
おける溶液を還流温度で4時間触媒量のp−トル
エンスルホン酸の存在下において1.2mlのエチレ
ングリコールで処理して対応する13−ケタール誘
導体を得た。この化合物を四塩化炭素に溶解しそ
して2,2′−アゾ−ビス(イソブチロニトリル)
の存在下において45℃で6時間32mlの四塩化炭素
中における3.2gの臭素の溶液2mlで処理した。反
応混合物を冷却し、これを1N水酸化ナトリウム
水溶液で抽出しそしてその着色した水性相をPH
8.5に調整しついでクロロホルムで抽出した。有
機抽出物を蒸発乾固させて6−デオキシ−13−ケ
タール−カルミノマイシノンを得た。これを塩化
水素含有のアセトン(300mlの0.25N溶液)に溶
解しそしてケタール基を加水分解させるために室
温で3時間保持した。所望の6−デオキシカルミ
ノマイシノンが得られた。 (別法) 0.14ミリモルのN−ブロモスクシンイミドおよ
び0.06ミリモルの2,2′−アゾ−ビス(イソブチ
ロニトリル)を含有する20mlの四塩化炭素中にお
ける50mg(0.125ミリモル)の6,7−ジデオキ
シカルミノマイシノンの13−ケタール誘導体の溶
液を25分間還流した。真空下で溶媒を蒸発させて
得られた残留物を氷酢酸に溶解し、ついで80mgの
酢酸銀で処理した。この混合物を5時間室温で攪
拌した。溶媒を蒸発させ、残留物を酢酸エチルに
溶解しついで過した。液を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および水で洗浄し、乾燥させついで
濃縮した。残留物を0℃で酢酸水溶液(90容量
%)中に溶解しそして90分間攪拌した。溶媒の除
去後、残留物をメタノールに溶解し、ナトリウム
メトキシドを加えそしてその混合物を90分間攪拌
した。これを中和し、抽出しそして水洗した後に
残留物をメチレンジクロライド/アセトン(16:
1容量比)でフラツシユクロマトグラフイーによ
り精製した。所望の6−デオキシカルミノマイシ
ノンが34%の全収率で得られた。m/z368(M+)、
融点211〜213℃。溶離溶媒としてトルエン/アセ
トン(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレー
ト(メルクF254)上でのTLCにおけるRf=0.3。 PMR(200MHz,CDCl3):δ2.1〜2.3(m,2H,H
−8),2.3(s,3H,−COCH3),2.7〜3.1
(q,2H,H−10),4.1(d,1H,OH−
7),4.4(s,1H,OH−9),4.8(d,1H,
H−7),7.3(d,1H,H−3),7.7(t,
1H,H−2),7.8(d,1H,H−1),8.1
(s,1H,H−6),12.8(s,1H,OH−
4),13.2(s,1H,OH−11)。 実施例10 2−(1,4−ジメトキシ−3−ナフ
チルカルボニル)−5−(2−メチル−ジオキソ
ラン−2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,
2,1〕オクタン−7−オン(,R=H) 実施例4に記載の方法にしたがつて無水テトラ
ヒドロフラン中における3.2gの1,4−ジメトキ
シ−3−ブロモ−ナフタレンの溶液を−78℃にお
いてn−ブチルリチウムで処理しついでこれを
2.7gの実施例3で製造された化合物の無水テトラ
ヒドロフラン中における溶液に加えた。シリカゲ
ルカラムでの精製後に2.8gの前記表題化合物が得
られた。(65%収率)。 m/z426(M+) IR(フイルム):1780cm-1(C=O,5員環ラク
トン)、1670cm-1(C=O,ベンジルケト
ン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.4(s,CH 3),3.85
(s,2個のOCH3 ),3.9(s,−O−CH2 −
CH2−O−),6.9(s,芳香族H)および7.4
〜8.4(m,4個の芳香族H)。 実施例11 1−(1,4−ジメトキシ−3−ナフ
チルメチル)−2−ベンジルオキシカルボニル
−4−(1−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキ
シ−シクロヘキサン(X,R=H) 実施例5に記載のように操作して2−(1,4
−ジメトキシ−3−ナフチルカルボニル)−5−
(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−オ
キサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オ
ン(実施例10の記載により製造)をメタノール中
における塩化水素の溶液で処理してほぼ定量的収
率で1−(1,4−ジメトキシ−3−ナフチルカ
ルボニル)−2−メトキシカルボニル−4−アセ
チル−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(X,R
=H)を得た。 m/z414(M+)、 IR(フイルム):3460cm-1(OH),1730cm-1(C
=Oエステル)、1710cm-1(C=Oケトン)
および1670cm-1(C=Oベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけ:δ2.3(s,CH3 CO)、
2.9〜3.6(m,2個のH)、3.7〜3.9(s,3個
のOCH3 )、6.9(s,芳香族H)および7.4〜
8.4(m,4個の芳香族H)。 この化合物1gはピリジン−ボラン錯体で還元
し、塩基処理しそして最後にフエニルジアゾメタ
ンでエステル化することにより前記表題化合物に
変換された(0.7g、全収率63%)。 m/z478(M+) IR(フイルム):3450cm-1(OH),1725cm-1(C
=O,エステル), PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4Hz,
CH3−CH),3.85〜3.9(s,2個のOCH3 ),
5.1(s,CH2 −ベンジル),6.6(s、芳香族
H)および7.2〜8.4(m,9個の芳香族水
素)。 実施例12 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−(1−ヒドロキシエチル)−
2−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−12−オ
キソ−ナフタセン(X,R=H) 実施例6に記載のように操作して0.44gの1−
(1,4−ジメトキシ−3−ナフチルメチル)−2
−ベンジルオキシカルボニル−4−(1−ヒドロ
キシエチル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン
(実施例11の記載により製造)を4−ジメチルア
ミノ−ピリジンおよびピリジンの存在下において
酢酸無水物で処理した。相当する酢酸塩をそのベ
ンジル基の除去のために10重量%Pd/Cの存在
下においてシクロヘキセンで処理した。この酸を
0℃においてトリフルオロ酢酸無水物およびトリ
フルオロ酢酸の混合物で処理することにより環化
した。最後にナトリウムメチラートでの処理によ
りアセチルO−保護基を除去し、シリカゲルカラ
ム上でのクロマトグラフイーにより精製した後に
0.225gの前記表題化合物を得た(全収率66%)。 IR(フイルム):3450cm-1(OH),1675-1(C=
O,ベンジルケトン)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4Hz,
CH3−CH),1.6〜3.5(m,3H),3.85(s,
OCH3),3.90(s,OCH3),7.2〜8.4(m,4
個の芳香族H)。 実施例13 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−アセチル−ヒドロキシ−
6,11−ジメトキシ−12−オキソ−ナフタセン ベンゼン中における0.1gの1,2,3,4,
4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2−(1−ヒ
ドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,11−ジ
メトキシ−12−オキソ−ナフタセン(実施例12の
記載により製造)を還流温度において1gの炭酸
銀で処理した。無機固体分を去しそして溶媒を
除去した後に、0.1gの前記表題生成物が得られ
た。 IR(フイルム):3460cm-1(OH),1710cm-1(C
=O,ケトン),1680cm-1(C=Oベンジル
ケトン), PMR(CDCl3):とりわけδ2.4(s,CH3CO)、
3.85(s,OCH3),3.90(s,OCH3),7.2〜
8.4(m,4個の芳香族H)。 実施例14 4−デメトキシ−6,7−ジデオキシ
ダウノマイシノン(X,R=H) 実施例8に記載のように操作して3mlのニトロ
ベンゼン中における0.1gの1,2,3,4,4a,
5,12,12a−オクタヒドロ−2−アセチル−2
−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−12−オキソ
−ナフタセン(実施例13の記載により製造)の溶
液を室温で一夜0.25gの三塩化アルミニウムで処
理した。これをシリカゲルカラムでのクロマトグ
ラフイーにかけた後に0.055g(63%収率)の前記
表題化合物を得た。融点203〜204℃。 参考例1 6−デオキシ−4−デメチルダウノル
ビシン(Xb) 実施例9に記載のようにして製造された90mg
(0.24ミリモル)のラセミ6−デオキシ−カルミ
ノマイシノンを無水ジクロロメタンに溶解しそし
てその溶液を5〜10℃に冷却した。「Cancer
Chemotherapy Reports」第3部第6巻第2号第
123頁に記載の操作にしたがつて製造された2.4mg
(0.6ミリモル)の1−クロロ−N,O−ジトリフ
ルオロアセチル−ダウノサミンのジエチルエーテ
ル中における溶液およびジクロロメタン中におけ
る154mg(0.6ミリモル)のトリフルオロメタンス
ルホン酸銀の溶液を激しい攪拌下に同時かつ迅速
に加えた。 5分後、さらに別の0.3ミリモルのハロ糖およ
び0.3ミリモルのトリフルオロメタンスルホン酸
銀を加えた。5分後、この反応をコリジンで急冷
させた。この混合物を過し、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および水で洗浄し、乾燥させそして
真空下で濃縮した。得られた帯赤色油状物を100
mlのメタノールで希釈しそして室温で一夜放置し
てO−トリフルオロアセチル基を除去した。生成
する粗生成物をジクロロメタン/メタノール/ア
セトン(20:1:1容量比)を用いてのシリカゲ
ル上でのフラツシユクロマトグラフイーにより精
製して式XVaのアントラサイクリンα−グリコ
シド(7s:9s)を得た。20mg、融点210〜212℃。
溶離剤としてメチレンジクロライド/アセトン
(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート
(メルクF254)上のTLCにおけるRf=0.27。 m/z593(M+)。 PMR(2000MHz,CDCl3):とりわけδ1.44(d,
J=6.6Hz,3H,CH3−5′),2.42(s,3H,
COCH3),3.25〜3.05(two d,J=19Hz,
2H,H−10),4.22(s,1H,OH−9),
5.01(t,J=3.6Hz,1H,H−7),5.20
(t,J=2.7Hz,1H,H−1′),6.66(bd,
J=9Hz,1H,NH),7.80(s,1H,H−
6),12.62(s,1H,OH−4),13.06(s,
1H,OH−11);m/z593(M+)7R:9R25
mg,m.p.174〜178℃。 溶離剤としてメチレンジクロライド/アセトン
(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート
(メルクF254)上のTLCにおけるRf=0.23。 m/z593(M+)。 PMR(200MHz,CDCl3):とりわけδ1.44(d,J
=6.5Hz,3H,CH3−5′),2.41(s,3H,
COCH3),2.96(d,J=19Hz,1H,H−
10ax)、3.30(dd,J=1,19Hz,1H,H−
10eq),4.25(s,1H,OH−9),5.07(t,
J=3.3Hz,1H,H−7),5.27(t,J=
1.8Hz,1H,H−1′),6.64(bd,J=9Hz,
1H,NH),7.74(s,1H,H−6),12.66
(s,1H,OH−4),13.10(s,1H,OH−
11)。 式XVaの化合物を穏和なアルカリ加水分解に
付してN−トリフルオロアセチル基を除去するこ
とにより前記表題化合物が定量的収率で得られ
た。溶離剤としてメチレンジクロライド/メタノ
ール/酢酸/水(80:20:7:3容量比)を使用
しての珪藻土プレート(メルクF254)上のTLCの
Rf=0.47。 参考例2 6−デオキシ−4−デメチル−ドキソ
ルビシン(XVc) メタノールおよびジオキサンの混合物中におけ
る6−デオキシ−4−デメチル−ダウノルビシン
(実施例15の記載により製造)の溶液を臭素で処
理して14−ブロモ誘導体を生成させた。この14−
ブロモ誘導体を室温において100時間ぎ酸ナトリ
ウム水溶液で処理して6−デオキシ−4−デメチ
ル−ドキソルビシンを得た。融点167〜170℃。 溶媒系CH2Cl2/MeOH/AcOH/H2O(8:
2:0.7:0.3v/v)を使用してのTLC(メルク
F254)上のクロマトグラフイーによるRf=0.47。
類の製法に関する。本発明の製法によつて得られ
る6−デオキシアントラサイクリノン類は、抗腫
瘍剤として有用なアントラサイクリングコシド類
の合成中間体として有用である。 本発明は一般式 (式中、Rは水素原子、水酸基または低級アル
コキシ基を表わす)を有する6−デオキシアント
ラサイクリノン類の製法を提供する。後記反応ス
キームで説明されるこの方法は () ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ
−フタレート()を四塩化錫の存在下におけ
る酢酸無水物での処理によりアセチル化し、つ
いで穏和な塩基または穏和な酸で処理するこ
と、 () 生成するジメチル1,2,3,6−テト
ラヒドロ−4−アセチル−フタレート()を
トシルヒドラジンと反応させること、 () 生成するジメチル1,2,3,6−テト
ラヒドロ−4−(1−トシルヒドラゾノ−エチ
ル)フタレート()をカテコールボランで還
元しついで酢酸ナトリウムの存在下において二
重結合を環内から環外の位置に転位させるこ
と、 () 生成する1,2−ジ−(メトキシカルボ
ニル)−4−エチリデン−シクロヘキサン()
を過マンガン酸カリウムで酸化しそして生成す
るα−ヒドロキシケトンを触媒量のp−トルエ
ンスルホン酸の存在下においてエチレングリコ
ールで処理すること、 () 生成する2−メトキシカルボニル−5−
〔2−メチル−ジオキソラン−2−イル〕−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7
−オン()を式中Rが前述の定義を有する一
般式()の化合物(式中、Rが前述の定義を
有する一般式()の化合物にアルキルリチウ
ムを作用させることにより得られる)と縮合さ
せること、 () ラクトン環を開環しそして式中Rが前述
の定義を有する一般式()の生成化合物にお
けるジオキソラン保護されたケト基をメタノリ
シスにより脱保護(保護基除去)すること、 () Rが前述の定義を有する一般式(X)の
生成化合物のケト基をトリフルオロ酢酸の存在
下におけるピリジン−ボラン錯体での処理によ
り還元しそしてメトキシカルボニル基をフエニ
ルジアゾメタンでの処理によりベンジルオキシ
カルボニル基に変換すること、 () 4−ジメチルアミノピリジンの存在下に
ピリジン中において酢酸無水物で処理し、続い
てPd/C触媒の存在下にシクロヘキセンと共
に還流することにより式中Rが前述の定義を有
する一般式XIの生成化合物における水酸基を
エステル化しそしてベンジルオキシカルボニル
基を脱エステル化すること、 () 式中R′が水素原子、アセトキシ基また
は低級アルコキシ基を表わす一般式XIIの生成化
合物をトリフルオロ酢酸無水物およびトリフル
オロ酢酸の混合物で処理することにより環化し
そしてアセトキシ基をナトリウムメチラート加
水分解すること、 (x) 式中Rが前述の定義を有する一般式X
の生成する化合物の1−ヒドロキシエチル基を
炭酸銀で酸化しそして生成する化合物をニトロ
ベンゼン中において三塩化アルミニウムで酸化
的に脱メチル化すること、そして (x) 一般式Xの生成化合物の13−ケト基
をエチレングリコールでの処理により保護し、
c−7において生成する化合物を2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)の存在下におい
て臭素またはN−ブロモスクシンイミドで処理
することにより臭素化しそして7−ブロモ基お
よび13−ケタール基を加水分解することからな
る。 本発明による方法のための出発化合物は既知で
ある。2−ブロモ−1,4,5−トリメトキシナ
フタレン(,R=OCH3)はR.L.Haman氏等
による「J.Org.Chem.」第44巻第2153頁(1979)
に記載されていた。式の化合物と式の化合物
との間のカツプリング反応は高収率で局部選択的
に進行して主要中間体を与える。有機金属種は
メチルエステルのカルボニル基のみに影響し、ラ
クトンのそれには影響しない。 (x) 工程はC.M.Wong氏等による「Can.J.
Chem.」第51巻第446頁(1973)に記載の方法
にしたがつて実施されうる。すなわち2,2′−
アゾ−ビス(イソブチロニトリル)の存在下で
の臭素による臭素化、引き続いての7−ブロモ
誘導体の加水分解およびケタール基の酸処理に
よる除去によるか、あるいはまた2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)の存在下でのN
−ブロモ−スクシンイミドによる臭素化、照
射、酢酸銀での処理、ケタール基の酸性処理に
よる加水分解および最後においての酢酸塩のナ
トリウムメトキシドによる加水分解によつて実
施されうる。 式の化合物の光学分割はキラル分割剤を使用
してのジアステレオ異性誘導体への慣用の変換方
法によつて実施されうる。この点での分割では
(+)−4−デメトキシ−6−ジオキシ−4−(R
−置換)−ダウノマイシノンを得ることが可能
である。この6−デオキシアントラサイクリノン
は、Rが水素原子を表わすものを除いては新規
でありそして本発明の範囲内に包含される。異な
る方法で製造された4−デメトキシ−6−デオキ
シダウノマイシノンは本発明者等による英国特許
第2100257号明細書に記載されている。本発明方
法は前記方法よりも効率がよくしかも大規模生産
に適している。 本発明の製法によつて得られる6−デオキシア
ントラサイクリノン類は、抗腫瘍作用を有する一
般式X (式中、R1は水素原子または水酸基を表わし、
R2およびR3のうちの一方は水素原子を表わし、
他方は水素原子または水酸基を表わしそしてXは
水素原子またはトリフルオロアセチル基を表わす
が、但しXがトリフルオロアセチル基を表わす場
合にはR1は水素原子を表わす)を有するアント
ラサイクリングリコシド類の合成中間体として有
用である。これらの化合物は以下のように命名さ
れうる。 XVa:R1=R3=H,R2=OH,X=COCF3 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリフルオ
ロアセチル−ダウノルビシン, XVb:R1=R3=H,R2=OH,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ダウノルビシ
ン, XVc:R1=R2=H,R3=H,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ドキソルビシ
ン, XVd:R1=R2=H,R3=OH,X=COCF3 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリフルオ
ロアセチル−4′−エピーダウノルビシン, XVe:R1=R2=H,R3=OH,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ダウ
ノルビシン, XVf:R1=R3=OH,R2=H,X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ドキ
ソルビシン, XVg:R1=R2=R3=H,X=COCF3 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−N−トリ
フルオロアセチル−ダウノルビシン、 XVh:R1=R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ダウノル
ビシン、 XVi:R1=OH,R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ドキソル
ビシン。 これらのアントラサイクリングリコシド類は、
4−デメチル−6−デオキシ−ダウノマイシノン
(,R=OH)を一般式X (式中、R2およびR3のうちの一方は水素原子
を表わしそして他方は水素原子またはトリフルオ
ロアセトキシ基を表わしそしてHalはハロゲン原
子、好ましくは塩素原子を表わす)を有する保護
されたハロ糖と縮合させることにより製造されう
る。この縮合は米国特許第4107423号明細書に記
載の方法にしたがつてトリフルオロメタンスルホ
ン酸銀の存在下で進行して7S:9Sおよび7R:9R
の、α−グリコシドのO−トリフルオロアセチル
保護誘導体の容易に分離しうる混合物を与える。
この反応のためにはハロ糖XによるXVa,
XVdおよびXVgが選択される。 前記O−トリフルオロアセチル基はメタノリシ
スにより除去されて式XVa,XVdおよびXVgの
化合物になり、これらは穏和なアルカリ加水分解
によつてそれぞれ、式XVb,XVeおよびXVhの
グリコシドに変換されうる。これらは米国特許第
3803124号明細書に記載の方法にしたがつて14−
臭素化しそしてぎ酸ナトリウム水溶液で処理する
ことにより対応する式XVc,XVfおよびXViのド
キソルビシン誘導体になる。これらの方法は本発
明の範囲内にある。 式XVのアントラサイクリングリコシド類は抗
腫瘍性質を有し、したがつて本発明はさらに式中
Xが水素原子を表わす一般式XVのアントラサイ
クリングリコシドまたはかかるグリコシドの薬学
的に許容しうる塩を薬学的に許容しうる稀釈剤ま
たは担体と一緒に含有する薬学的組成物をも提供
する。 以下に本発明を実施例により説明する。 実施例1 ジメチル1,2,3,6−テトラヒド
ロ−4−アセチル−フタレート() −5℃において10gのジメチル1,2,3,6
−テトラヒドロ−フタレート()を9ml四塩化
錫の存在下に25mlの酢酸無水物で処理した。この
反応混合物を氷冷水中に注ぎそしてジエチルエー
テルで抽出した。有機相を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液ついで水で洗浄しそして真空下で蒸発乾
固させた。得られた油状物をベンゼンに溶解し、
塩化水素のメタノール溶液で処理した。この溶液
を蒸発乾固させそして残留物をシリカゲルのカラ
ム上でのクロマトグラフイーにより精製して9g
の前記表題化合物を75%全収率で得た。 質量スペクトル:m/z240(M+), IR(KBr):1720cm-1(エステルのC=O),1660
cm-1(α,β−不飽和ケトンのC=O), PMR(CDCl3):とりわけδ2.33(s,COCH3),
3.70(s,−COOCH3)および6.91(m,HC=
C)。 実施例2 1,2−ジ−(メトキシカルボニル)−
4−エチリデン−シクロヘキサン() 実施例1に記載のようにして製造された17gの
ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−ア
セチル−フタレートを無水エタノール中において
14.6gのトシルヒドラジンと共に還流した。溶媒
の除去後に24gのジメチル1,2,3,6−テト
ラヒドロ−4−(1−トシルヒドラゾノ−エチル)
フタレート()が水から晶出した。融点162°〜
163℃,m/z408(M+)。 この化合物をクロロホルムに溶解しそして0℃
において14mlのカテコールボランで処理した。反
応混合物に酢酸ナトリウムを加え、ついでこれを
還流した。水洗後、溶媒を蒸発させそして残留物
をシリカゲルのカラム上でのクロマトグラフイー
により精製して10gの前記表題化合物(収率80
%)を得た。m/z226(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.6(d,J=8Hz,CH
3−CH=),5.3(q,J=8Hz,CH3−CH
=)。 実施例3 2−メトキシカルボニル−5−(2−
メチルジオキソラン−2−イル)−6−オキサ
−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン
() 実施例2に記載のようにして製造された8gの
1,2−ジ−(メトキシカルボニル)−4−エチリ
デン−シクロヘキサンを4.8mlの酢酸を含有する
アセトン水溶液中に溶解した。過マンガン酸カリ
ウムの水溶液を加えそしてその混合物を室温で60
分間放置した。ついで過剰の酸化剤を破壊しそし
て反応混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出し
た。有機相を水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥させついで真空下で蒸発乾固させた。残留物
(9g)をベンゼンに溶解しそして触媒量のp−ト
ルエンスルホン酸の存在下で60分間還流した。4
mlのエチレングリコールを加えそしてその反応混
合物をさらに2時間還流した。通常の後処理をし
た後に、溶媒を蒸発させて得られた残留物を溶離
剤としてトルエン/アセトン混合物(15:1容量
比)を使用してシリカゲルのカラム上でクロマト
グラフイーにかけることにより精製した。3.0g
(収率33%)の前記表題化合物が単離された。 融点69°〜71℃,m/z271(M+)。 IR(KBr):1790cm-1(C=O 5員環ラクト
ン),1735cm-1(C=O エステル),1720cm
−1(C=O ケトン), PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(s,CH 3),3.65
(s,COOOCH 3),および3.9(s,−O−CH
2−CH 2−O−)。 実施例4 2−(1,4,5−トリメトキシ−3
−ナフチルカルボニル)−5−(2−メチル−ジ
オキソラン−2−イル)−6−オキサ−ビシク
ロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン(X,
R=OCH3) 7mlの1.65Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液
を30mlの無水テトラヒドロフランに溶解した。−
78℃においてこの溶液に30mlの無水テトラヒドロ
フラン中における3.3gの1,4,5−トリメトキ
シ−3−ブロモ−ナフタレン(,R=OCH3)
の溶液を加えた。実施例3に記載のようにして製
造された2.5gの2−メトキシカルボニル−5−
(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−オ
キサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オ
ンを50mlの無水テトラヒドロフランに溶解し、こ
れを前記反応混合物に加えた。この反応混合物を
−78℃で1時間放置しついで酢酸で急冷した。溶
媒は真空中で除去した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製して3g(73%収
率)の前記表題化合物を得た。 m/z456(M+) IR(KBr):1775cm-1(C=O 5員環ラクト
ン),1680cm-1(C=O ベンジルケトン), PMR(CDCl3):とりわけ81.3(s,CH 3),3.75
(s,OCH3)、3.95〜4.05(m,2個のOCH 3
および−O−CH 2−CH 2−O−),6.8(s,
芳香族CH)および6.8〜8.1(m,3個のH)。 実施例5 1−(1,4,5−トリメトキシ−3
−ナフチルメチル−2−ベンジルオキシカルボ
ニル)−4−(1−ヒドロキシエチル)−4−ヒ
ドロキシ−シクロヘキサン(XI、R =
OCH3) 実施例4に記載のようにして製造された1.6gの
2−(1,4,5−トリメトキシ−2−ナフチル
カルボニル)−5−(2−メチル−ジオキソラン−
2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕
オクタン−7−オンをメタノールに溶解しそして
室温において1時間、無水メタノール中における
塩化水素の1N溶液で処理した。溶媒を蒸発させ
た後にほぼ定量収率で1.5gの1−(1,4,5ト
リメトキシ−3−ナフチルカルボニル)−2−メ
トキシカルボニル−4−アセチル−4−ヒドロキ
シ−シクロヘキサン(X,R=OCH3)を得た。
m/z444(M+)、 IR(フイルム):3460cm-1(OH),1730-1(C=O
エステル)、1710cm-1(C=Oケトン)およ
び1665cm-1(C=Oベンジルケトン), PMR(CDCl3):とりわけδ2.3(s,CH 3CO),
3.75〜4.05(s,4個のOCH 3),6.8(s,芳
香族H)および6.85〜8.0(m,3個の芳香族
H)。 1.5gのこの化合物を15mlのトリフルオロ酢酸に
溶解しそして1.4mlのピリジン−ボラン錯体と共
に還流した。溶媒の除去後に残留物を10%水酸化
ナトリウム水溶液で処理した。穏和な酸性化の後
にその遊離酸を酢酸エチルで抽出した。溶媒を蒸
発させそして残留物をフエニルジアゾメタンのエ
ーテル溶液で直接処理して前記表題生成物を得
た。これをクロマトグラフイーにより精製した。
m/z508(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(d,CH3−CH),
3.70〜3.95(s,3個のOCH 3),5.15(d,
CH2Ph)および6.4〜8.1(m,9個の芳香族
H)。 実施例6 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−(1−ヒドロキシエチル)−
2−ヒドロキシ−6,7,11−トリメトキシ−
12−オキソナフタセン(X,R=OCH3) 実施例5に記載のようにして製造された0.48g
の1−(1,4,5−トリメトキシ−3−ナフチ
ルメチル)−2−ベンジルオキシカルボニル−4
−(1−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−シ
クロヘキサンを4−ジメチルアミノピリジンの存
在下において酢酸無水物およびピリジンで処理し
た。室温で一夜経過後にその反応混合物を氷冷水
中に注ぎついで酢酸エチルで抽出した。有機層を
水洗しそして濃縮した。粗生成物をメタノールに
溶解しそして10重量%Pd/Cの存在下でシクロ
ヘキセンと共に還流した。ついで触媒を去しそ
して溶液を小容量に濃縮し、0℃で60分間、トリ
フルオロ酢酸無水物およびトリフルオロ酢酸で処
理した。ついでこの溶液を酢酸エチルで希釈し、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄
し、乾燥させついで真空下で濃縮乾固させた。残
留物を触媒量のナトリウムメチラートの存在下で
メタノール中に溶解した。慣用手段で後処理しそ
してクロマトグラフイーにより精製した後に
0.18g(収率49%)の前記表題化合物を得た。m/
z400(M+)。 IR(KBr):3450cm-1(OH),1675cm-1(C=O,
ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.2(d,CH 3−CH),
3.7〜3.9(s,3個のOCH 3)および6.4〜8.0
(m,3個の芳香族水素)。 実施例7 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−アセチル−2−ヒドロキシ
−6,7,11−トリメトキシ−12−オキソ−ナ
フタセン 実施例6に記載のようにして製造された0.09g
の1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒ
ドロ−2−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロ
キシ−6,7,11−トリメトキシ−12−オキソ−
ナフタセンのベンゼン中における溶液に0.8gの炭
酸銀を加えそしてその混合物を還流した。固体を
去しそして溶媒を真空中で蒸発させた後に
0.08g(90%収率)の前記表題化合物が得られた。 IR(KBr):3360cm-1(OH),1705cm-1(C=O
ケトン),1680cm-1(C=O,ベンジルケト
ン) PMR(CDCl3):とりわけδ2.2(s,CH3CO),
3.65〜3.90(s,3個のOCH3)。 実施例8 6,7−ジデオキシカルミノマイシノ
ン(X,R=OH) 実施例7に記載のようにして製造された0.06g
の1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒ
ドロ−2−アセチル−2−ヒドロキシ−6,7,
11−トリメトキシ−12−オキソナフタセンをニト
ロベンゼン中に溶解しそして0.12gの三塩化アル
ミニウムで処理した。この混合物をもはや出発物
質が検出され得なくなるまで70℃に保持した。こ
の反応混合物をしゆう酸の飽和水溶液中に注ぎそ
して酢酸エチルで抽出した。有機相を分離し、水
洗し、乾燥させついで蒸発乾固させた。シリカゲ
ルのカラム上で精製した残留物より、純粋な6,
7−ジデオキシカルミノマイシノンを40%収率で
得た。m/z(M+)、 IR(KBr):3420cm-1(OH),1705cm-1(C=O
ケトン)および1625cm-1(C=O,キレート
化されたキノン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.7〜2.2(m,CH2),
2.3(s,CH3CO),2.8〜3.2(m,2個のベン
ジルCH2)7.0〜7.9(m,4個の芳香族H)、
12.6(s,フエノールOH)および12.9(s,
フエノールOH)。 実施例9 6−デオキシカルミノマイシノン
(:R=OH) 実施例8に記載のようにして製造された6,7
−ジデオキシカルミノマイシノンのベンゼン中に
おける溶液を還流温度で4時間触媒量のp−トル
エンスルホン酸の存在下において1.2mlのエチレ
ングリコールで処理して対応する13−ケタール誘
導体を得た。この化合物を四塩化炭素に溶解しそ
して2,2′−アゾ−ビス(イソブチロニトリル)
の存在下において45℃で6時間32mlの四塩化炭素
中における3.2gの臭素の溶液2mlで処理した。反
応混合物を冷却し、これを1N水酸化ナトリウム
水溶液で抽出しそしてその着色した水性相をPH
8.5に調整しついでクロロホルムで抽出した。有
機抽出物を蒸発乾固させて6−デオキシ−13−ケ
タール−カルミノマイシノンを得た。これを塩化
水素含有のアセトン(300mlの0.25N溶液)に溶
解しそしてケタール基を加水分解させるために室
温で3時間保持した。所望の6−デオキシカルミ
ノマイシノンが得られた。 (別法) 0.14ミリモルのN−ブロモスクシンイミドおよ
び0.06ミリモルの2,2′−アゾ−ビス(イソブチ
ロニトリル)を含有する20mlの四塩化炭素中にお
ける50mg(0.125ミリモル)の6,7−ジデオキ
シカルミノマイシノンの13−ケタール誘導体の溶
液を25分間還流した。真空下で溶媒を蒸発させて
得られた残留物を氷酢酸に溶解し、ついで80mgの
酢酸銀で処理した。この混合物を5時間室温で攪
拌した。溶媒を蒸発させ、残留物を酢酸エチルに
溶解しついで過した。液を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および水で洗浄し、乾燥させついで
濃縮した。残留物を0℃で酢酸水溶液(90容量
%)中に溶解しそして90分間攪拌した。溶媒の除
去後、残留物をメタノールに溶解し、ナトリウム
メトキシドを加えそしてその混合物を90分間攪拌
した。これを中和し、抽出しそして水洗した後に
残留物をメチレンジクロライド/アセトン(16:
1容量比)でフラツシユクロマトグラフイーによ
り精製した。所望の6−デオキシカルミノマイシ
ノンが34%の全収率で得られた。m/z368(M+)、
融点211〜213℃。溶離溶媒としてトルエン/アセ
トン(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレー
ト(メルクF254)上でのTLCにおけるRf=0.3。 PMR(200MHz,CDCl3):δ2.1〜2.3(m,2H,H
−8),2.3(s,3H,−COCH3),2.7〜3.1
(q,2H,H−10),4.1(d,1H,OH−
7),4.4(s,1H,OH−9),4.8(d,1H,
H−7),7.3(d,1H,H−3),7.7(t,
1H,H−2),7.8(d,1H,H−1),8.1
(s,1H,H−6),12.8(s,1H,OH−
4),13.2(s,1H,OH−11)。 実施例10 2−(1,4−ジメトキシ−3−ナフ
チルカルボニル)−5−(2−メチル−ジオキソ
ラン−2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,
2,1〕オクタン−7−オン(,R=H) 実施例4に記載の方法にしたがつて無水テトラ
ヒドロフラン中における3.2gの1,4−ジメトキ
シ−3−ブロモ−ナフタレンの溶液を−78℃にお
いてn−ブチルリチウムで処理しついでこれを
2.7gの実施例3で製造された化合物の無水テトラ
ヒドロフラン中における溶液に加えた。シリカゲ
ルカラムでの精製後に2.8gの前記表題化合物が得
られた。(65%収率)。 m/z426(M+) IR(フイルム):1780cm-1(C=O,5員環ラク
トン)、1670cm-1(C=O,ベンジルケト
ン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.4(s,CH 3),3.85
(s,2個のOCH3 ),3.9(s,−O−CH2 −
CH2−O−),6.9(s,芳香族H)および7.4
〜8.4(m,4個の芳香族H)。 実施例11 1−(1,4−ジメトキシ−3−ナフ
チルメチル)−2−ベンジルオキシカルボニル
−4−(1−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキ
シ−シクロヘキサン(X,R=H) 実施例5に記載のように操作して2−(1,4
−ジメトキシ−3−ナフチルカルボニル)−5−
(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−オ
キサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オ
ン(実施例10の記載により製造)をメタノール中
における塩化水素の溶液で処理してほぼ定量的収
率で1−(1,4−ジメトキシ−3−ナフチルカ
ルボニル)−2−メトキシカルボニル−4−アセ
チル−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(X,R
=H)を得た。 m/z414(M+)、 IR(フイルム):3460cm-1(OH),1730cm-1(C
=Oエステル)、1710cm-1(C=Oケトン)
および1670cm-1(C=Oベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけ:δ2.3(s,CH3 CO)、
2.9〜3.6(m,2個のH)、3.7〜3.9(s,3個
のOCH3 )、6.9(s,芳香族H)および7.4〜
8.4(m,4個の芳香族H)。 この化合物1gはピリジン−ボラン錯体で還元
し、塩基処理しそして最後にフエニルジアゾメタ
ンでエステル化することにより前記表題化合物に
変換された(0.7g、全収率63%)。 m/z478(M+) IR(フイルム):3450cm-1(OH),1725cm-1(C
=O,エステル), PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4Hz,
CH3−CH),3.85〜3.9(s,2個のOCH3 ),
5.1(s,CH2 −ベンジル),6.6(s、芳香族
H)および7.2〜8.4(m,9個の芳香族水
素)。 実施例12 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−(1−ヒドロキシエチル)−
2−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−12−オ
キソ−ナフタセン(X,R=H) 実施例6に記載のように操作して0.44gの1−
(1,4−ジメトキシ−3−ナフチルメチル)−2
−ベンジルオキシカルボニル−4−(1−ヒドロ
キシエチル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン
(実施例11の記載により製造)を4−ジメチルア
ミノ−ピリジンおよびピリジンの存在下において
酢酸無水物で処理した。相当する酢酸塩をそのベ
ンジル基の除去のために10重量%Pd/Cの存在
下においてシクロヘキセンで処理した。この酸を
0℃においてトリフルオロ酢酸無水物およびトリ
フルオロ酢酸の混合物で処理することにより環化
した。最後にナトリウムメチラートでの処理によ
りアセチルO−保護基を除去し、シリカゲルカラ
ム上でのクロマトグラフイーにより精製した後に
0.225gの前記表題化合物を得た(全収率66%)。 IR(フイルム):3450cm-1(OH),1675-1(C=
O,ベンジルケトン)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4Hz,
CH3−CH),1.6〜3.5(m,3H),3.85(s,
OCH3),3.90(s,OCH3),7.2〜8.4(m,4
個の芳香族H)。 実施例13 1,2,3,4,4a,5,12,12a−
オクタヒドロ−2−アセチル−ヒドロキシ−
6,11−ジメトキシ−12−オキソ−ナフタセン ベンゼン中における0.1gの1,2,3,4,
4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2−(1−ヒ
ドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,11−ジ
メトキシ−12−オキソ−ナフタセン(実施例12の
記載により製造)を還流温度において1gの炭酸
銀で処理した。無機固体分を去しそして溶媒を
除去した後に、0.1gの前記表題生成物が得られ
た。 IR(フイルム):3460cm-1(OH),1710cm-1(C
=O,ケトン),1680cm-1(C=Oベンジル
ケトン), PMR(CDCl3):とりわけδ2.4(s,CH3CO)、
3.85(s,OCH3),3.90(s,OCH3),7.2〜
8.4(m,4個の芳香族H)。 実施例14 4−デメトキシ−6,7−ジデオキシ
ダウノマイシノン(X,R=H) 実施例8に記載のように操作して3mlのニトロ
ベンゼン中における0.1gの1,2,3,4,4a,
5,12,12a−オクタヒドロ−2−アセチル−2
−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−12−オキソ
−ナフタセン(実施例13の記載により製造)の溶
液を室温で一夜0.25gの三塩化アルミニウムで処
理した。これをシリカゲルカラムでのクロマトグ
ラフイーにかけた後に0.055g(63%収率)の前記
表題化合物を得た。融点203〜204℃。 参考例1 6−デオキシ−4−デメチルダウノル
ビシン(Xb) 実施例9に記載のようにして製造された90mg
(0.24ミリモル)のラセミ6−デオキシ−カルミ
ノマイシノンを無水ジクロロメタンに溶解しそし
てその溶液を5〜10℃に冷却した。「Cancer
Chemotherapy Reports」第3部第6巻第2号第
123頁に記載の操作にしたがつて製造された2.4mg
(0.6ミリモル)の1−クロロ−N,O−ジトリフ
ルオロアセチル−ダウノサミンのジエチルエーテ
ル中における溶液およびジクロロメタン中におけ
る154mg(0.6ミリモル)のトリフルオロメタンス
ルホン酸銀の溶液を激しい攪拌下に同時かつ迅速
に加えた。 5分後、さらに別の0.3ミリモルのハロ糖およ
び0.3ミリモルのトリフルオロメタンスルホン酸
銀を加えた。5分後、この反応をコリジンで急冷
させた。この混合物を過し、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および水で洗浄し、乾燥させそして
真空下で濃縮した。得られた帯赤色油状物を100
mlのメタノールで希釈しそして室温で一夜放置し
てO−トリフルオロアセチル基を除去した。生成
する粗生成物をジクロロメタン/メタノール/ア
セトン(20:1:1容量比)を用いてのシリカゲ
ル上でのフラツシユクロマトグラフイーにより精
製して式XVaのアントラサイクリンα−グリコ
シド(7s:9s)を得た。20mg、融点210〜212℃。
溶離剤としてメチレンジクロライド/アセトン
(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート
(メルクF254)上のTLCにおけるRf=0.27。 m/z593(M+)。 PMR(2000MHz,CDCl3):とりわけδ1.44(d,
J=6.6Hz,3H,CH3−5′),2.42(s,3H,
COCH3),3.25〜3.05(two d,J=19Hz,
2H,H−10),4.22(s,1H,OH−9),
5.01(t,J=3.6Hz,1H,H−7),5.20
(t,J=2.7Hz,1H,H−1′),6.66(bd,
J=9Hz,1H,NH),7.80(s,1H,H−
6),12.62(s,1H,OH−4),13.06(s,
1H,OH−11);m/z593(M+)7R:9R25
mg,m.p.174〜178℃。 溶離剤としてメチレンジクロライド/アセトン
(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート
(メルクF254)上のTLCにおけるRf=0.23。 m/z593(M+)。 PMR(200MHz,CDCl3):とりわけδ1.44(d,J
=6.5Hz,3H,CH3−5′),2.41(s,3H,
COCH3),2.96(d,J=19Hz,1H,H−
10ax)、3.30(dd,J=1,19Hz,1H,H−
10eq),4.25(s,1H,OH−9),5.07(t,
J=3.3Hz,1H,H−7),5.27(t,J=
1.8Hz,1H,H−1′),6.64(bd,J=9Hz,
1H,NH),7.74(s,1H,H−6),12.66
(s,1H,OH−4),13.10(s,1H,OH−
11)。 式XVaの化合物を穏和なアルカリ加水分解に
付してN−トリフルオロアセチル基を除去するこ
とにより前記表題化合物が定量的収率で得られ
た。溶離剤としてメチレンジクロライド/メタノ
ール/酢酸/水(80:20:7:3容量比)を使用
しての珪藻土プレート(メルクF254)上のTLCの
Rf=0.47。 参考例2 6−デオキシ−4−デメチル−ドキソ
ルビシン(XVc) メタノールおよびジオキサンの混合物中におけ
る6−デオキシ−4−デメチル−ダウノルビシン
(実施例15の記載により製造)の溶液を臭素で処
理して14−ブロモ誘導体を生成させた。この14−
ブロモ誘導体を室温において100時間ぎ酸ナトリ
ウム水溶液で処理して6−デオキシ−4−デメチ
ル−ドキソルビシンを得た。融点167〜170℃。 溶媒系CH2Cl2/MeOH/AcOH/H2O(8:
2:0.7:0.3v/v)を使用してのTLC(メルク
F254)上のクロマトグラフイーによるRf=0.47。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 のジメチル1,2,3,6−テトラヒドロフタレ
ートを四塩化錫の存在下において酢酸無水物で処
理し、続いて穏和な塩基または穏和な酸で処理す
ることにより式 のジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−
アセチルフタレートに変換し、これをトシルヒド
ラジンと反応させて対応する式 のジメチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−4
−(1−トシルヒドラゾノーエチル)−フタレート
を得、これをカテコ−ルボランで還元しそして引
き続いて酢酸ナトリウムの存在下で二重結合を環
内から環外位置へ転位させて式 の1,2−ジ(メトキシカルボニル)−4−エチ
リデン−シクロヘキサンを得、これより過マンガ
ン酸カリウムでの酸化処理後に対応するα−ヒド
ロキシケトンを得そして引き続いて触媒量のp−
トルエンスルホン酸の存在下においてエチレング
リコールと反応させて式 の2−メトキシ−5−〔2−メチル−ジオキソラ
ン−2−イル〕−6−オキサ−ビシクロ〔3,2,
1〕−オクタン−7−オンを得、これを無水テト
ラヒドロフランに溶解して−78℃の温度で1時間
式 (式中、Rは水素原子、水酸基または低級アル
コキシ基を表わす)のアルキルリチウム誘導体と
縮合させて式 (式中、Rは前述の定義を有する)のラクトン
を得、この化合物のラクトン環をメタノリシスに
より開環しそして同時に酸性処理によりジオキソ
ラン保護ケト基を脱保護して式 (式中、Rは前述の定義を有する)の化合物を
得、この化合物のケト基をトリフルオロ酢酸の存
在下におけるビリジン−ボラン錯体での処理によ
り還元しそしてメトキシカルボニル基をフエニル
ジアゾメタンでの処理によりベンジルオキシカル
ボニル基に変換して式XI (式中、Rは前述の定義を表わす)の化合物を
得、ついで4−ジメチルアミノ−ピリジンの存在
下でのピリジン中における酢酸無水物での処理、
続いてのPd/炭素触媒の存在下におけるシクロ
ヘキセンとの還流によりこの化合物の水酸基をエ
ステル化しそしてベンジルオキシカルボニル基を
脱エステル化して式XII (式中 R′は水素原子、アセトキシ基または
低級アルコキシ基を表わす)の化合物を得、これ
をトリフルオロ酢酸無水物およびトリフルオロ酢
酸の混合物で処理することにより環化しついでア
セトキシ基をナトリウムメチラートで加水分解し
て式X (式中、Rは前述の定義を有する)の化合物を
得、これより1−ヒドロキシエチル基を炭酸銀で
酸化処理しそして生成する化合物をニトロベンゼ
ン中において三塩化アルミニウムで脱メチル化し
て式X (式中、Rは前述の定義を有する)の化合物を
得、これより13−ケト基をエチレングリコールで
の処理により保護した後にC−7において生成す
る化合物を2,2−アゾ−ビス(イソブチロニト
リル)の存在下において臭素で臭素化し、続いて
7−ブロモ誘導体を加水分解しついでケタール基
を酸処理により除去するかあるいはまた2,2′−
アゾ−ビス(イソブチロニトリル)の存在下にお
いてN−ブロモ−スクシンイミドで臭素化し、照
射し、酢酸銀で処理し、ケタールを酸処理により
加水分解しそして最後に酢酸塩をナトリウムメト
キシドで加水分解して最終的に所望の式 (式中、Rは前述の定義を有する)の化合物を
得ることを特徴とする、上記一般式を有する6
−デオキシアントラサイクリノン類の新規な製
法。 2 前記式を有する化合物が4−デメチル−6
−デオキシ−ダウノマイシノンである、前記特許
請求の範囲第1項に記載の製法。 3 前記式を有する化合物が6−デオキシ−ダ
ウノマイノシンである、前記特許請求の範囲第1
項に記載の製法。
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