JPH0580317A - Electrode substrate for liquid crystal display panel - Google Patents
Electrode substrate for liquid crystal display panelInfo
- Publication number
- JPH0580317A JPH0580317A JP3149291A JP14929191A JPH0580317A JP H0580317 A JPH0580317 A JP H0580317A JP 3149291 A JP3149291 A JP 3149291A JP 14929191 A JP14929191 A JP 14929191A JP H0580317 A JPH0580317 A JP H0580317A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- liquid crystal
- transparent conductive
- layer
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、基板の少なくとも片面
に透明電極を設けた液晶表示パネル用電極基板に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode substrate for a liquid crystal display panel having a transparent electrode provided on at least one surface of the substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来から液晶表示パネル（ＬＣＤ）の主
流をなしてきているＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔ
ｉｃ）モードは、表示内容が複雑になる（大容量化）ほ
ど、すなわち走査側電極の数が増加するにつれて、コン
トラストの低下、視野角度の減少が生ずるという欠点が
ある。これを改良した１つがＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗ
ｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであり、液晶分子
の配向状態をＴＮモードの９０゜のねじれよりも大幅に
増やし、１８０〜２４０゜の範囲内としたものである。
もう１つが、アクティブマトリックスであり、これは各
画素に薄膜のダイオードやトランジスタを設けるもので
ある。製造コスト面では、ＳＴＮモードが有利である。2. Description of the Related Art TN (Twisted Nemat) has been the mainstream of liquid crystal display panels (LCD).
The ic) mode has a drawback that as the display content becomes more complicated (larger capacity), that is, as the number of scanning electrodes increases, the contrast decreases and the viewing angle decreases. One of the improvements is STN (Super Tw
This is an isotropic nematic mode, in which the alignment state of the liquid crystal molecules is significantly increased from the twist of 90 ° in the TN mode and is in the range of 180 to 240 °.
The other is an active matrix, which provides a thin film diode or transistor in each pixel. The STN mode is advantageous in terms of manufacturing cost.
【０００３】ＳＴＮ−ＬＣＤは、液晶の複屈折を用いた
干渉現象による色変化効果を表示に用いていることか
ら、ＬＣＤの表示が必然的に着色する。ブルーモード、
イエローモードといわれるものである。ところが表示の
コントラストの面などから、ディスプレイとしては白／
黒表示の要求が高く、ＳＴＮ−ＬＣＤがＯＡ機器分野を
はじめとして広く普及していくためにはこの着色問題の
解決が必要である。このＳＴＮ−ＬＣＤの着色の解消に
当っていくつかの方式が提案されたが、その中でＤ・Ｓ
ＴＮ（ＤＳＴ，Ｄｏｕｂｌｅ Ｌａｙｅｒｅｄ Ｓｕｐ
ｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）が実用化され
ている。Since the STN-LCD uses a color change effect due to an interference phenomenon using birefringence of liquid crystal for display, the display of the LCD is inevitably colored. Blue mode,
It is called the yellow mode. However, due to the contrast of the display etc., the display is white /
There is a strong demand for black display, and it is necessary to solve this coloring problem in order for STN-LCD to spread widely in the field of OA equipment and other fields. Several methods have been proposed to solve this STN-LCD discoloration. Among them, DS
TN (DST, Double Layered Sup
er Twisted Nematic) has been put to practical use.
【０００４】Ｄ・ＳＴＮ−ＬＣＤはＳＴＮ−ＬＣＤを２
層に重ね合わせた構造となっている。１層目は通常のＳ
ＴＮ−ＬＣＤと同じものであり、２層目は１層目の複屈
折効果で生じるその光の位相差を補償する補償用ＳＴＮ
−ＬＣＤである。この補償効果により、色の変化の少な
い高品位なペーパーホワイト色調（白黒表示化）を実現
している。しかし、ＬＣＤを２枚使うために表示部が厚
くなり、さらにコスト高になる欠点があった。The D-STN-LCD has two types of STN-LCD.
The structure is layered. The first layer is a normal S
It is the same as the TN-LCD, and the second layer is a compensation STN that compensates the phase difference of the light generated by the birefringence effect of the first layer.
-It is an LCD. Due to this compensation effect, high quality paper white color tone (black and white display) with little color change is realized. However, since two LCDs are used, the display section becomes thicker, and there is a drawback that the cost becomes higher.
【０００５】そこでかかる欠点を解決するため、補償用
ＳＴＮ−ＬＣＤの代わりにＳＴＮ−ＬＣＤと同じリター
デーション値を有する位相差フィルム、例えば一軸延伸
配向させたポリカーボネートフィルム等を貼り合わすこ
とにより、Ｄ・ＳＴＮ−ＬＣＤとほとんど遜色のない白
黒表示液晶パネルが可能となった。しかし、液晶パネル
の製造工程で位相差フィルム、更に偏光フィルムを貼り
合わせるのは光軸を合わせることも含めてうまく積層す
ることが難しく、歩留り、コスト等、製造工程上の問題
があった。Therefore, in order to solve such a defect, a retardation film having the same retardation value as STN-LCD, for example, a uniaxially stretched polycarbonate film or the like is attached instead of the compensating STN-LCD, so that D. A black-and-white display liquid crystal panel almost comparable to STN-LCD has become possible. However, it is difficult to successfully laminate the retardation film and the polarizing film in the manufacturing process of the liquid crystal panel, including adjusting the optical axis, and there are problems in the manufacturing process such as yield and cost.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので、ＳＴＮ型白黒表示液晶パネルの
より一層の軽量化をはかると共に、位相差フィルム、偏
光フィルムを位置合わせして貼り合わせる工程を省略し
て、該液晶パネルの製造工程の簡略化、歩留り向上、コ
ストダウンをはかることの可能な液晶表示パネル用電極
基板を提供することを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and aims to further reduce the weight of an STN type monochrome display liquid crystal panel, and at the same time, a retardation film and a polarizing film are aligned and attached. An object of the present invention is to provide an electrode substrate for a liquid crystal display panel, which can omit the step of matching and simplify the manufacturing process of the liquid crystal panel, improve the yield, and reduce the cost.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、偏光フィルム
Ａ、位相差フィルムＢ、および透明導電膜Ｃが、順次、
積層されてなる、偏光フィルム、位相差フィルム、透明
電極を一体型にした液晶表示パネル用電極基板を提供す
るものである。In the present invention, a polarizing film A, a retardation film B, and a transparent conductive film C are sequentially
It is intended to provide an electrode substrate for a liquid crystal display panel in which a polarizing film, a retardation film and a transparent electrode which are laminated are integrated.
【０００８】以下本発明を詳細に説明する。本発明に用
いられる偏光フィルムＡとしては、ポリビニルアルコー
ル系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール
系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フ
ィルム、セルロース系フィルムの如き親水性高分子系フ
ィルムに沃素および／または二色性有機染料を吸着配向
せしめてなる沃素および／または二色性有機染料系偏光
フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを脱水処理
してポリエンを形成して配向せしめてなるポリエン系偏
光フィルム、ポリ塩化ビニルフィルムを脱塩酸処理して
ポリエンを形成して配向せしめてなるポリエン系偏光フ
ィルムなどが挙げられ、これらは通常１０〜８０μｍの
厚みを有するものが使用される。The present invention will be described in detail below. Examples of the polarizing film A used in the present invention include polyvinyl alcohol-based films, partially formalized polyvinyl alcohol-based films, ethylene-vinyl acetate copolymer-based saponified films, and cellulose-based films such as iodine and / Alternatively, an iodine and / or dichroic organic dye-based polarizing film obtained by adsorbing and orienting a dichroic organic dye, a polyene-based polarizing film obtained by dehydrating a polyvinyl alcohol-based film to form polyene and orienting it, and a polychlorinated film Examples thereof include polyene-based polarizing films obtained by dehydrochlorinating a vinyl film to form polyenes and orienting them, and those having a thickness of 10 to 80 μm are usually used.
【０００９】また、偏光フィルムＡとしては、疎水性ポ
リマーにあらかじめ二色性有機染料を配合した後、公知
の方法によりフィルム状に成形し、少なくとも一方向に
延伸し、さらに熱固定して製造したフィルムも使用でき
る。該疎水性ポリマーとしては、１００℃以下の温度、
相対湿度８０％の条件で収縮、膨潤等の変化を起こさな
い素材であれば良く、具体的にはポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト等のポリエステル系樹脂：ナイロン−６、ナイロン−
６６、ナイロン−１２等のポリアミド系樹脂：ポリ塩化
ビニル：ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂：ポ
リエーテル系樹脂：ポリサルフォン系樹脂等であり、特
に好ましくはポリエチレンテレフタート、ナイロン−
６、ナイロン−６６、ナイロン−１２である。The polarizing film A was manufactured by previously mixing a dichroic organic dye with a hydrophobic polymer, molding the film into a film by a known method, stretching it in at least one direction, and further heat fixing. Film can also be used. The hydrophobic polymer has a temperature of 100 ° C. or lower,
Any material that does not cause changes such as shrinkage or swelling under the condition of relative humidity of 80% may be used. Specifically, polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polycarbonate: nylon-6, nylon-
Polyamide-based resin such as 66 and nylon-12: Polyvinyl chloride: Polyolefin-based resin such as polypropylene: Polyether-based resin: Polysulfone-based resin and the like, particularly preferably polyethylene terephthalate, nylon-
6, Nylon-66 and Nylon-12.
【００１０】該二色性有機染料は、分子構造上二色性を
有するものであって、特に耐熱性、耐光性を有するもの
が好ましい。The dichroic organic dye has dichroism in its molecular structure, and particularly preferably has heat resistance and light resistance.
【００１１】この様な偏光フィルムＡの製造は、上記疎
水性ポリマーに二色性有機染料をヘンシェルミキサー、
ブレンダー等を用いて配合し、その後、通常公知のＴダ
イ押出法、インフレーション法、溶液流延法等の方法で
フィルム状に成形した後延伸工程に供給される。延伸工
程は、樹脂のガラス転移点以上融点以下の適当な温度で
一方向にできるだけ高倍率に延伸して表面積を増加させ
ると同時に厚みを減少させる。この場合、延伸方向は特
に一方向に限定されるものではなく、必要に応じ延伸方
向の直角方向に低倍率延伸し、フィルムの機械的強度を
向上させることもできる。The production of such a polarizing film A is carried out by adding a dichroic organic dye to the above hydrophobic polymer, using a Henschel mixer,
The ingredients are blended using a blender or the like, and then they are usually formed into a film by a known method such as a T-die extrusion method, an inflation method, a solution casting method, and then supplied to a stretching step. In the stretching step, the resin is stretched in one direction at a suitable temperature not lower than the glass transition point and not higher than the melting point at the highest possible ratio to increase the surface area and simultaneously reduce the thickness. In this case, the stretching direction is not particularly limited to one direction, and if necessary, the film may be stretched at a low ratio in a direction perpendicular to the stretching direction to improve the mechanical strength of the film.
【００１２】又、上記疎水性ポリマーに本発明の目的を
阻害しない範囲内で他種ポリマーをブレンドしても良い
し、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生
成剤、表面突起形成剤等の無機又は有機添加剤を添加し
ても良い。これらの偏光フィルムＡの厚みは、２０μｍ
〜２００μｍが望ましい。Further, other polymers may be blended with the above-mentioned hydrophobic polymer within a range that does not impair the object of the present invention, and an antioxidant, a heat stabilizer, a lubricant, an ultraviolet absorber, a nucleating agent, a surface. An inorganic or organic additive such as a protrusion forming agent may be added. The thickness of these polarizing films A is 20 μm.
˜200 μm is desirable.
【００１３】さらに必要に応じて、前記偏光フィルムＡ
の片面または両面に、リターデーション値が３０ｎｍ以
下の非旋光性フィルムおよび／または一方向のみに延伸
したプラスチックフィルムを保護フィルムとして積層す
ることができる。特に、位相差フィルムを積層する面と
反対面には、保護フィルムを積層することが偏光フィル
ムの信頼性の点で好ましい。If necessary, the polarizing film A
A non-optical rotatory film having a retardation value of 30 nm or less and / or a plastic film stretched in only one direction can be laminated as a protective film on one side or both sides of. In particular, it is preferable from the viewpoint of reliability of the polarizing film that a protective film is laminated on the surface opposite to the surface on which the retardation film is laminated.
【００１４】上記保護フィルムとして使用できるリター
デーション値が３０ｎｍ以下の非旋光性フィルムとして
は、ポリカーボネート系樹脂、ポリサルフォン、ポリエ
ーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサル
フォン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルローストリ
アセテート等のアセテート系樹脂またはポリアリレート
系樹脂のフィルムで厚さが１０〜５００μｍのものが挙
げられる。Examples of the non-optical rotatory film having a retardation value of 30 nm or less that can be used as the protective film are polycarbonate resins, polysulfone resins such as polysulfone, polyether sulfone and polyallyl sulfone, polyolefin resins and cellulose triacetate. A film of acetate resin or polyarylate resin having a thickness of 10 to 500 μm can be used.
【００１５】また、上記保護フィルムとして使用できる
一方向のみに延伸したプラスチックフィルムとして、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレー
ト、ポリフェニレンイソフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−２．６−ナフタレート等の
ポリエステル系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン系
樹脂、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、ポリオレフ
ィン、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化
ビニル、アセテートなどの樹脂を一方向のみに延伸して
なるフィルムが挙げられるが、耐薬品性などの点から
は、上記のポリエステルからなるフィルムを、縦軸又は
横軸方向のみに少なくとも５％、好ましくは５０〜８０
０％延伸し、１００℃で６０分間〜２３０℃で５分間ヒ
ートセットしてなる、厚さ１０〜５００μｍのものが好
ましい。As the plastic film stretched only in one direction, which can be used as the protective film, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyphenylene isophthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene-2.6-naphthalate or other polyester resin, polysulfone. , Polysulfone-based resin such as polyether sulfone, polyallyl sulfone, polymethylpentene, polystyrene, polyolefin, polyamide, polymethylmethacrylate, polyvinyl chloride, a film formed by stretching resin such as acetate in only one direction. From the viewpoint of chemical resistance, the film made of the above polyester is used at least 5% only in the direction of the vertical axis or the horizontal axis, preferably 50 to 80.
A film having a thickness of 10 to 500 μm formed by 0% stretching and heat setting at 100 ° C. for 60 minutes to 230 ° C. for 5 minutes is preferable.
【００１６】本発明に用いられる位相差フィルムＢは、
複屈折性を有する透明な高分子フィルムで、そのリター
デーション値がＳＴＮ−ＬＣＤのそれとほぼ同じ値（Δ
ｎ・ｄが、３０〜１，０００ｎｍ好ましくは１００〜８
００ｎｍ）を有するように制御されたもの、例えばビニ
ロン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリ
スチレン、ナイロン、酢酸ブチルセルロース、セロハン
等の樹脂を一軸延伸配向させてできたフィルムであり、
厚さは５０〜２００μｍである。位相差フィルムＢは、
必要に応じて、上記フィルムのリターデーション値の異
なったものを２層以上積層した形態で使用することもで
きる。The retardation film B used in the present invention is
It is a transparent polymer film with birefringence and its retardation value is almost the same as that of STN-LCD (Δ
n · d is 30 to 1,000 nm, preferably 100 to 8
Controlled to have a thickness of 100 nm), for example, a film formed by uniaxially stretching and orienting a resin such as vinylon, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polystyrene, nylon, butyl cellulose, cellophane.
The thickness is 50 to 200 μm. The retardation film B is
If necessary, two or more layers having different retardation values can be used in a laminated form.
【００１７】本発明に用いられる透明導電膜Ｃとして
は、不純物としてスズ、テルル、カドミウム、モリブデ
ン、タングステン、フッ素等を添加した酸化インジウ
ム、不純物としてアンチモンを添加した酸化スズ、酸化
スズおよび酸化カドミウムよりなる酸化物等の金属酸化
物薄膜層が挙げられる。なかでも、透明性および導電性
の点で不純物としてスズを添加した酸化インジウム（Ｉ
ＴＯ）の薄膜層が好ましく用いられる。As the transparent conductive film C used in the present invention, indium oxide added with tin, tellurium, cadmium, molybdenum, tungsten, fluorine and the like as impurities, tin oxide added with antimony as impurities, tin oxide and cadmium oxide. A metal oxide thin film layer of an oxide or the like. Among them, indium oxide (I) added with tin as an impurity in terms of transparency and conductivity.
A thin film layer of (TO) is preferably used.
【００１８】該金属酸化物薄膜層の膜厚は、十分な導電
性を得るためには、１００Å以上であることが好まし
く、より好ましくは１５０Å以上である。また、十分に
透明性の高い膜を得るためには、１，５００Å以下であ
ることが好ましく、１，０００Å以下がより好ましい。The thickness of the metal oxide thin film layer is preferably 100 Å or more, and more preferably 150 Å or more in order to obtain sufficient conductivity. Further, in order to obtain a sufficiently transparent film, it is preferably 1,500 Å or less, more preferably 1,000 Å or less.
【００１９】また、透明導電膜Ｃのパターンの精細化等
の要求に対応するためには低抵抗にする必要があり、こ
の様な場合は金属薄膜層からなる透明導電膜を用いるこ
とができる。金属薄膜層は、金、銀、銅よりなる群から
選ばれた少なくとも１種の金属を含むことが透明性、導
電性の点から好ましい。In order to meet the demand for finer patterning of the transparent conductive film C, it is necessary to reduce the resistance. In such a case, a transparent conductive film composed of a metal thin film layer can be used. The metal thin film layer preferably contains at least one metal selected from the group consisting of gold, silver and copper from the viewpoint of transparency and conductivity.
【００２０】金属薄膜としては、例えば、金薄膜、銀薄
膜、銅薄膜、金銀合金薄膜、金銅合金薄膜、金銀銅合金
薄膜、銀銅合金薄膜およびこれらにさらにアルミニウ
ム、ニッケル、パラジウム、白金、インジウム、スズ、
亜鉛などを添加した合金薄膜が挙げられる。特に、銅を
１〜３０重量％含む銀、または金を３〜３０重量％含む
銀が、金属薄膜の透明性、導電性、熱や光に対する安定
性に優れ好ましく用いられる。Examples of the metal thin film include a gold thin film, a silver thin film, a copper thin film, a gold-silver alloy thin film, a gold-copper alloy thin film, a gold-silver copper alloy thin film, a silver-copper alloy thin film, and further aluminum, nickel, palladium, platinum, indium, Tin,
An alloy thin film to which zinc or the like is added can be used. In particular, silver containing 1 to 30% by weight of copper or silver containing 3 to 30% by weight of gold is preferably used because of excellent transparency, conductivity, and stability to heat and light of the metal thin film.
【００２１】金属薄膜層の厚さは、導電性および透明性
の点から５０〜３００Åが好ましく、特に７０〜２００
Åが好ましい。The thickness of the metal thin film layer is preferably 50 to 300Å, particularly 70 to 200, from the viewpoint of conductivity and transparency.
Å is preferred.
【００２２】また、金属薄膜層としては、金、銀、銅よ
りなる群から選ばれた少なくとも１種の金属を含む層Ｃ
１と、チタン、ジルコニウム、インジウム、ケイ素、炭
素、コバルト、ニッケルからなる群から選ばれた少なく
とも１種の金属を含む層Ｃ２とからなり、かつ後者の層
Ｃ２が前者の層Ｃ１の上側または両側に接して設けられ
た構成であると、熱や光に対する安定性が向上する場合
が多い。後者の層Ｃ２は、わずかに酸化されていてもよ
い。As the metal thin film layer, a layer C containing at least one metal selected from the group consisting of gold, silver and copper.
1 and a layer C2 containing at least one metal selected from the group consisting of titanium, zirconium, indium, silicon, carbon, cobalt and nickel, and the latter layer C2 is on the upper side or both sides of the former layer C1. In many cases, the structure provided in contact with improves the stability against heat and light. The latter layer C2 may be slightly oxidized.
【００２３】また、かかる膜構成をとる場合、前者の層
Ｃ１の膜厚は、導電性および透明性の点から５０〜３０
０Åが好ましく、特に７０〜２００Åが好ましい。一
方、後者の層Ｃ２の膜厚は、熱や光に対する安定性の向
上効果および透明性の点から３〜１００Åが好ましく、
特に５〜５０Åが好ましい。In the case of adopting such a film structure, the thickness of the former layer C1 is 50 to 30 from the viewpoint of conductivity and transparency.
0Å is preferable, and 70 to 200Å is particularly preferable. On the other hand, the film thickness of the latter layer C2 is preferably 3 to 100 Å from the viewpoint of the effect of improving stability against heat and light and transparency.
Particularly, 5 to 50Å is preferable.
【００２４】金属薄膜層の片面または両面に、さらに透
明高屈折率薄膜層を設けてもよい。透明高屈折率薄膜層
としては、チタン、インジウム、亜鉛、スズ、イットリ
ウム、エルビウム、ジルコニウム、セリウム、タンタル
およびハフニウムから選ばれた１種以上の金属の酸化物
または硫化亜鉛などを挙げることができる。A transparent high refractive index thin film layer may be further provided on one side or both sides of the metal thin film layer. Examples of the transparent high refractive index thin film layer include oxides of one or more metals selected from titanium, indium, zinc, tin, yttrium, erbium, zirconium, cerium, tantalum, and hafnium, or zinc sulfide.
【００２５】前記金属酸化物薄膜層または前記金属薄膜
層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
リング法などの物理的製膜法や化学メッキ法などの化学
的製膜法およびそれらの組合わせの方法のいずれでも形
成可能であるが、形成薄膜の均一性、膜形成速度および
製造の容易性の点から物理的製膜法が適している。ま
た、透明高屈折率薄膜層は、前記の物理的製膜法や塗工
法などによって形成することができる。The metal oxide thin film layer or the metal thin film layer is formed by a physical film forming method such as a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method or a chemical film forming method such as a chemical plating method, or a combination thereof. Although it can be formed by any of the above methods, the physical film forming method is suitable from the viewpoints of the uniformity of the formed thin film, the film forming speed, and the ease of production. The transparent high refractive index thin film layer can be formed by the physical film forming method or the coating method described above.
【００２６】本発明において、支持フィルムＤを用いる
と、液晶表示パネル用電極基板の製造工程でのハンドリ
ングが容易になるほか、液晶表示パネル用電極基板の製
造工程の自由度が増し好ましい。例えば、偏光フィルム
Ａ、位相差フィルムＢおよび支持フィルムＤを積層した
後、支持フィルムＤ上に透明導電膜Ｃを形成しても良い
し、偏光フィルムＡ上に位相差フィルムＢを積層したも
のと、支持フィルムＤ上に透明導電膜Ｃを積層したもの
を別々に作製した後、位相差フィルムＢ面と支持フィル
ムＤ面を貼り合わせても良い。後者の方法は、偏光フィ
ルムＡが透明導電膜Ｃの製造工程時の雰囲気（真空、熱
等）にさらされることがないので、偏光フィルムＡが同
雰囲気で品質変化する心配がある場合には好ましい方法
である。In the present invention, the use of the supporting film D is preferable because it facilitates handling in the manufacturing process of the electrode substrate for liquid crystal display panel and increases the degree of freedom in the manufacturing process of the electrode substrate for liquid crystal display panel. For example, the transparent conductive film C may be formed on the support film D after laminating the polarizing film A, the retardation film B, and the support film D, or that the retardation film B is laminated on the polarizing film A. Alternatively, the transparent conductive film C may be laminated on the support film D, and then the retardation film B side and the support film D side may be attached to each other. The latter method is preferable when the polarizing film A is not exposed to the atmosphere (vacuum, heat, etc.) during the manufacturing process of the transparent conductive film C, so that the polarizing film A may undergo quality change in the same atmosphere. Is the way.
【００２７】かかる支持フィルムＤとしては、リターデ
ーション値３０ｎｍ以下の非旋光性フィルム、例えばポ
リカーボネート系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテル
サルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン
系樹脂、ポリオレフィン系樹脂またはポリアリレート系
樹脂などの厚さが１０〜５００μｍのものが挙げられ
る。As the support film D, a non-optical rotatory film having a retardation value of 30 nm or less, for example, a polysulfone resin such as polycarbonate resin, polysulfone, polyether sulfone, polyallyl sulfone, polyolefin resin or polyarylate resin. An example is a resin having a thickness of 10 to 500 μm.
【００２８】本発明において、支持フィルムＤを用いな
い場合には位相差フィルムＢの少なくとも透明導電膜Ｃ
の形成される側の面上に、また支持フィルムＤを用いる
場合には、該支持フィルムＤの少なくとも透明導電膜Ｃ
の形成される側の面上に保護層Ｅを積層すると、液晶表
示パネルの信頼性が向上し好ましい。In the present invention, when the support film D is not used, at least the transparent conductive film C of the retardation film B is used.
When the support film D is used, at least the transparent conductive film C of the support film D is formed on the surface on which the film is formed.
It is preferable to stack the protective layer E on the surface on which is formed, because the reliability of the liquid crystal display panel is improved.
【００２９】保護層Ｅとしては、例えばポリアクリロニ
トリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレン
ビニルアルコール系共重合体、ハロゲン化ビニリデン系
樹脂、フェノキシ系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系
樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ウレタン系
樹脂またはこれらに多官能性化合物を架橋反応させた樹
脂、あるいはこれらを混合あるいは共重合させた樹脂、
さらにエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート等
をベースにした紫外線硬化樹脂を、１層または２層以上
積層したものが挙げられる。Examples of the protective layer E include polyacrylonitrile resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol copolymer, vinylidene halide resin, phenoxy resin, epoxy resin, acrylic resin, melamine resin, Phenolic resins, urethane resins or resins obtained by crosslinking reaction of these with polyfunctional compounds, or resins obtained by mixing or copolymerizing these,
Further, one layer or two or more layers of ultraviolet curable resin based on epoxy acrylate, urethane acrylate, etc. may be mentioned.
【００３０】保護層Ｅとしては、さらに、有機ケイ素化
合物等の有機金属化合物の加水分解により生成された重
合体層、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム等
の金属酸化物薄膜層、チッ化アルミニウム、チッ化チタ
ン等の金属チッ化物薄膜層、フッ化マグネシウム等の金
属フッ化物薄膜層の１層または２層以上を積層したも
の、あるいはこれらの層と前記樹脂層を積層したものが
挙げられる。The protective layer E further includes a polymer layer formed by hydrolysis of an organometallic compound such as an organosilicon compound, a metal oxide thin film layer such as silicon oxide, titanium oxide or aluminum oxide, aluminum nitride, Examples thereof include a metal nitride thin film layer of titanium nitride or the like, a metal fluoride thin film layer of magnesium fluoride or the like laminated one or more layers, or a laminate of these layers and the resin layer.
【００３１】かかる保護層Ｅの厚みは、５〜１００μｍ
とすることが好ましい。前記保護層Ｅを積層するのに先
立って、位相差フィルムＢ上または支持フィルムＤ上に
密着性向上のためアンカーコート層を設けても良い。該
アンコート層は、例えば水性媒体に溶解または分散した
アンカー剤を用いて形成することができる。The thickness of the protective layer E is 5 to 100 μm.
It is preferable that Before laminating the protective layer E, an anchor coat layer may be provided on the retardation film B or the support film D for improving the adhesion. The uncoated layer can be formed using, for example, an anchor agent dissolved or dispersed in an aqueous medium.
【００３２】かかるアンカー剤としては、各種の水溶性
樹脂（水溶性ポリエステル樹脂、水溶性ポリアミド樹
脂、水溶性ポリウレタン樹脂など）や水分散性樹脂〔エ
チレン−酢酸ビニル系エマルジョン、（メタ）アクリル
系エマルジョンなど〕が挙げられるが、親水基を有する
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂
またはイオン高分子錯体を用いることが特に好ましい。
親水基としては、スルホン酸金属塩基、カルボキシル
基、アルキル基置換三級窒素およびアルキレン基置換三
級窒素よりなる群から選ばれた少なくとも１種の親水基
が挙げられる。Examples of such anchor agents include various water-soluble resins (water-soluble polyester resins, water-soluble polyamide resins, water-soluble polyurethane resins, etc.) and water-dispersible resins [ethylene-vinyl acetate emulsions, (meth) acrylic emulsions. Etc.], but it is particularly preferable to use a polyester resin, a polyamide resin, a polyurethane resin or an ionic polymer complex having a hydrophilic group.
Examples of the hydrophilic group include at least one hydrophilic group selected from the group consisting of a metal sulfonate group, a carboxyl group, an alkyl group-substituted tertiary nitrogen and an alkylene group-substituted tertiary nitrogen.
【００３３】前記アンカー剤は、水、さらには必要に応
じ水溶性有機溶剤、界面活性剤、塩基性中和剤等を含有
する水溶性媒体中に溶解ないし微小な粒子状に分散した
状態で位相差フィルムＢまたは支持フィルムＤ上にコー
ティングされる。The anchor agent is dissolved or dispersed in fine particles in a water-soluble medium containing water and, if necessary, a water-soluble organic solvent, a surfactant, a basic neutralizing agent and the like. It is coated on the phase difference film B or the support film D.
【００３４】本発明において、偏光フィルムＡの位相差
フィルムＢを積層した面と反対面上に、さらに保護層Ｆ
を必要に応じてアンカーコート層を介して積層すること
により、液晶表示パネルの信頼性をなお一層向上させる
ことができる。該保護層Ｆを構成する材料は、保護層Ｅ
を構成する材料の中から選ぶことができる。該保護層Ｆ
は保護層Ｅと同一であっても異なっていても良い。ま
た、必要に応じて該保護層Ｆに紫外線吸収剤等を含有さ
せることもできる。In the present invention, a protective layer F is further formed on the surface of the polarizing film A opposite to the surface on which the retardation film B is laminated.
If necessary, the liquid crystal display panel can be further improved in reliability by laminating it via an anchor coat layer. The material forming the protective layer F is the protective layer E.
It can be selected from the materials constituting the. The protective layer F
May be the same as or different from the protective layer E. If necessary, the protective layer F may contain an ultraviolet absorber or the like.
【００３５】本発明の液晶表示パネル用電極基板は、先
に１例を紹介したように、最終的に本発明の構成になっ
ていれば良く、各フィルム、各層の積層順序は特に限定
されない。また、各フィルム間、各層間、各フィルム−
層間には、公知の粘着剤層、接着剤層等を入れても良
い。接着剤としては、熱硬化性、光硬化性、感熱性、感
圧性等のものを適宜選択して使用することができる。The electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention may have the constitution of the present invention as described above, and the laminating order of each film and each layer is not particularly limited. In addition, between each film, each interlayer, each film-
A known pressure-sensitive adhesive layer, adhesive layer, or the like may be provided between the layers. As the adhesive, one having a thermosetting property, a photocuring property, a heat sensitive property, a pressure sensitive property or the like can be appropriately selected and used.
【００３６】[0036]
【実施例】以下本発明を実施例によってさらに詳細に説
明する。実施例中、部および％は、特に断らない限り重
量基準である。 実施例１ 厚さ８０μｍ、リターデーション値７ｎｍのポリカーボ
ネートフィルム上に、水／アルコール（５０／５０重量
比）を溶剤成分とするイオン高分子錯体（東洋曹達工業
株式会社製、トヨバイン２１０Ｋ）からなる溶液（樹脂
濃度５％、ｐＨ１０．２）を０．２ｍｍφのワイヤーラ
ウンドドクターを使用して塗布し、９０℃で約５分間乾
燥させて、厚さ０．５μｍのアンカーコート層を形成し
た。 このアンカーコート層上に、下記組成の樹脂溶液
（第１液）をギャップ８５μｍに塗布したのち、７０〜
１１０℃で１０分間乾燥させて、厚さ約１０μｍの保護
層１を形成した。EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples. In the examples, parts and% are by weight unless otherwise specified. Example 1 A solution comprising an ionic polymer complex (Toyovine 210K manufactured by Toyo Soda Kogyo Co., Ltd.) having water / alcohol (50/50 weight ratio) as a solvent component, on a polycarbonate film having a thickness of 80 μm and a retardation value of 7 nm. (Resin concentration 5%, pH 10.2) was applied using a wire round doctor of 0.2 mmφ and dried at 90 ° C. for about 5 minutes to form an anchor coat layer having a thickness of 0.5 μm. On this anchor coat layer, a resin solution (first liquid) having the following composition was applied in a gap of 85 μm, and then 70-
It was dried at 110 ° C. for 10 minutes to form a protective layer 1 having a thickness of about 10 μm.
【００３７】次に、保護層１の上に下記組成の樹脂溶液
（第２液）をアプリケーターを使用してギャップ３５μ
ｍで塗布し、８０℃で４分間乾燥させた後、１３０℃で
２０分間加熱架橋させて厚さ約１０μｍの保護層２を形
成することにより、複合基板を作製した。該複合基板
の、アンカーコート層、保護層１および保護層２を積層
しない面を以後無塗工面と称する。なお、該複合基板は
２枚作製した。１枚を複合基板１、もう一枚を複合基板
２と称する。Next, a resin solution (second liquid) having the following composition was applied onto the protective layer 1 with an applicator to form a gap of 35 μm.
m, and dried at 80 ° C. for 4 minutes, and then heat-crosslinked at 130 ° C. for 20 minutes to form a protective layer 2 having a thickness of about 10 μm, thereby preparing a composite substrate. The surface of the composite substrate on which the anchor coat layer, the protective layer 1 and the protective layer 2 are not laminated is hereinafter referred to as an uncoated surface. Two composite substrates were produced. One is called a composite substrate 1 and the other is called a composite substrate 2.
【００３８】 第１液組成 エチレン／ビニルアルコール共重合体（モル比＝３２／６８、株式会社クラレ 製、Ｆ１０１） ２０部 水 ４８部 ノルマルプロピルアルコール ３２部 メチロール化メラミン（住友化学工業株式会社製、スミテックＭ−３）４部 First liquid composition Ethylene / vinyl alcohol copolymer (molar ratio = 32/68, Kuraray Co., F101) 20 parts Water 48 parts Normal propyl alcohol 32 parts Methylol melamine (Sumitomo Chemical Co., Ltd., Sumitec M-3) 4 copies
【００３９】 第２液組成 フェノキシエーテル樹脂（ユニオン・カーバイド社製） ４０部 メチルエチルケトン ４０部 セロソルブアセテート ２０部 トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロバンとのアダクト体の７５％ 溶液（日本ポリウレタン株式会社製、コロネートＬ） ４０部 Second liquid composition Phenoxyether resin (manufactured by Union Carbide Co.) 40 parts Methyl ethyl ketone 40 parts Cellosolve acetate 20 parts 75% solution of an adduct of tolylene diisocyanate and trimethylol propane (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) ) 40 copies
【００４０】次に、ヨウ素を偏光素子として含有した一
軸延伸ポリビニルアルコールフィルム上に前記複合基板
１の無塗装工面側を向け、接着剤を介して貼り合わせて
厚さ１５０μｍの偏光フィルムを得た。また、位相差フ
ィルムとして、ポリカーボネート樹脂を一軸延伸配向し
て、リターデーション値を８００ｎｍに制御したものを
用意した。位相差フィルムの厚さは５０μｍである。前
記偏光フィルムのポリビニルアルコール面側に、前記位
相差フィルムを両フィルムの光軸の向きを調整しつつ接
着剤を介して貼り合わせた。さらに、位相差フィルム上
に、支持フィルムとして前記複合基板２を無塗工面側を
位相差フィルム側に向け接着剤を介して貼り合わせた。Next, the uncoated work surface side of the composite substrate 1 was directed onto a uniaxially stretched polyvinyl alcohol film containing iodine as a polarizing element, and the composite substrate 1 was bonded with an adhesive to obtain a polarizing film having a thickness of 150 μm. Further, as the retardation film, a polycarbonate resin prepared by uniaxially stretching and orientation and controlling the retardation value to 800 nm was prepared. The thickness of the retardation film is 50 μm. The retardation film was attached to the polyvinyl alcohol surface side of the polarizing film via an adhesive while adjusting the optical axis directions of both films. Further, the composite substrate 2 as a supporting film was bonded onto the retardation film with the non-coated surface side facing the retardation film via an adhesive.
【００４１】しかる後、スパッタリング装置内の基板保
持台にセットして、真空槽を１×１０-5Ｔｏｒｒ以下に
排気後、Ａｒ−Ｏ2 混合ガス（Ｏ2 ２５％）を導入し圧
力を４×１０-3Ｔｏｒｒに調整した後、Ｉｎ−Ｓｎ合金
ターゲット（Ｓｎ５％）を用い、反応性スパッタリング
法により複合基板２面上に膜厚９００ÅのＩＴＯ膜を形
成した。After that, the substrate was set on the substrate holding table in the sputtering apparatus, the vacuum chamber was evacuated to 1 × 10 −5 Torr or less, and then Ar—O 2 mixed gas (O 2 25%) was introduced to adjust the pressure to 4. After adjusting to × 10 -3 Torr, an ITO film having a film thickness of 900 Å was formed on the surface of the composite substrate 2 by a reactive sputtering method using an In-Sn alloy target (Sn 5%).
【００４２】以上のようにして得られた偏光フィルム、
位相差フィルムおよび透明電極を一体型にした液晶表示
パネル用電極基板の透明導電膜のパターニングを行ない
電極部を作製した。これに対向する下部電極基板には、
位相差フィルムがない以外は全く同様にして作製した液
晶表示パネル用電極基板の透明導電膜を同様にパターニ
ングを行ない電極部を作製したものを用いた。The polarizing film obtained as described above,
A transparent conductive film of an electrode substrate for a liquid crystal display panel in which a retardation film and a transparent electrode were integrated was patterned to produce an electrode portion. The lower electrode substrate facing this,
A transparent conductive film of an electrode substrate for a liquid crystal display panel, which was prepared in the same manner except that there was no retardation film, was similarly patterned to prepare an electrode portion.
【００４３】この両電極基板の電極部上部にポリイミド
系の配向膜を形成し、液晶の配向を制御するためにラビ
ング処理を行なった。なお、ラビング処理は上下電極基
板間で液晶が２４０゜ねじれるようにし、なおかつ偏光
フィルムと位相差フィルムの光軸の向きを考慮して両電
極基板のラビング方向を決めた。ラビング処理を終えた
電極基板の一方の電極側にエポキシ系樹脂接着剤をスク
リーン印刷し、もう一方の電極側に平均粒径５μｍのポ
リマービーズをスペーサーとして散布し、両電極基板を
重ねて加熱することにより、接着剤を硬化せしめて、セ
ルを組み立てた。A polyimide-based alignment film was formed on the electrode portions of both electrode substrates, and a rubbing treatment was performed to control the alignment of the liquid crystal. In the rubbing treatment, the liquid crystal was twisted by 240 ° between the upper and lower electrode substrates, and the rubbing directions of both electrode substrates were determined in consideration of the directions of the optical axes of the polarizing film and the retardation film. Epoxy resin adhesive is screen-printed on one electrode side of the electrode substrate after the rubbing treatment, and polymer beads having an average particle diameter of 5 μm are dispersed as spacers on the other electrode side, and both electrode substrates are overlapped and heated. By doing so, the adhesive was cured and the cell was assembled.
【００４４】次に、真空注入法により、あらかじめ設け
ておいた液晶注入口より、５μｍで２４０゜のらせんピ
ッチをもつようにカイラル剤を添加したネマティック型
液晶を注入した後、液晶注入口を接着剤で封止して、Ｓ
ＴＮ型白黒表示液晶パネルを作製した。Next, by a vacuum injection method, nematic liquid crystal added with a chiral agent so as to have a helical pitch of 5 μm and 240 ° was injected from a liquid crystal injection port provided in advance, and then the liquid crystal injection port was bonded. Seal with an agent, S
A TN type monochrome display liquid crystal panel was produced.
【００４５】得られたＳＴＮ型白黒表示液晶パネルの表
示品質は良好であった。また、従来のガラス基板を用い
た液晶表示パネルと比較して軽量かつ薄型であり耐衝撃
性にも優れている。The display quality of the obtained STN type monochrome display liquid crystal panel was good. Further, it is lighter and thinner than a liquid crystal display panel using a conventional glass substrate, and has excellent impact resistance.
【００４６】[0046]
【発明の効果】本発明は、偏光フィルム、位相差フィル
ムおよび透明電極を一体型にした液晶表示パネル用電極
基板であり、ＳＴＮ型白黒表示液晶パネルをより一層軽
量化することができるとともに、位相差フィルム、偏光
フィルムを位置合わせして貼り合わせる工程を省略する
ことができ、該液晶パネルの製造工程の簡略化、歩留り
向上、コストダウンをはかることが可能となる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is an electrode substrate for a liquid crystal display panel in which a polarizing film, a retardation film and a transparent electrode are integrally formed, and can further reduce the weight of the STN type monochrome display liquid crystal panel and reduce the weight. The step of aligning and bonding the phase difference film and the polarizing film can be omitted, and the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified, the yield can be improved, and the cost can be reduced.
Claims (4)
よび透明導電膜Ｃが、順次、積層されてなる液晶表示パ
ネル用電極基板。1. An electrode substrate for a liquid crystal display panel, in which a polarizing film A, a retardation film B, and a transparent conductive film C are sequentially laminated.
支持フィルムＤを配設した請求項１記載の液晶表示パネ
ル用電極基板。2. The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a support film D is provided between the retardation film B and the transparent conductive film C.
れた請求項１または２記載の液晶表示パネル用電極基
板。3. The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the transparent conductive film C is provided via a protective layer E.
積層された面と反対側の面上に、さらに保護層Ｆを積層
した請求項１〜３のいずれか１項記載の液晶表示パネル
用電極基板。4. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a protective layer F is further laminated on the surface of the polarizing film A opposite to the surface on which the retardation film B is laminated. Electrode substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03149291A JP3131843B2 (en) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | Electrode substrate for liquid crystal display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03149291A JP3131843B2 (en) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | Electrode substrate for liquid crystal display panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0580317A true JPH0580317A (en) | 1993-04-02 |
| JP3131843B2 JP3131843B2 (en) | 2001-02-05 |
Family
ID=15471971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03149291A Expired - Fee Related JP3131843B2 (en) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | Electrode substrate for liquid crystal display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3131843B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0647872A2 (en) * | 1993-09-29 | 1995-04-12 | Akzo Nobel N.V. | Retardation layer having thin glass substrates |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015054318A (en) * | 2013-09-13 | 2015-03-23 | 日本治水販売株式会社 | Active water generator |
-
1991
- 1991-05-27 JP JP03149291A patent/JP3131843B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0647872A2 (en) * | 1993-09-29 | 1995-04-12 | Akzo Nobel N.V. | Retardation layer having thin glass substrates |
| EP0647872A3 (en) * | 1993-09-29 | 1995-07-05 | Akzo Nobel Nv | Retardation layer having thin glass substrates. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3131843B2 (en) | 2001-02-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7388636B2 (en) | Optical film and liquid crystal display | |
| US7075604B2 (en) | Optical film and display system | |
| EP1925438B1 (en) | Method for producing polarizing plate, polarizing plate, optical film, and image display | |
| KR101076253B1 (en) | Dye type polarizing film and dye type polarizer | |
| JPH11212078A (en) | Liquid crystal display device | |
| KR100833767B1 (en) | Translucent reflective liquid crystal display | |
| CN100472249C (en) | Elliptic polaroid and liquid crystal display | |
| US20070091236A1 (en) | Optical film and image viewing display | |
| JPH0564765B2 (en) | ||
| TWI312088B (en) | Liquid crystal display device and optical laminate | |
| WO2008010562A1 (en) | Composite polarizing plate, method for producing the same, composite optical member and liquid crystal display | |
| JPH1062624A (en) | Polarizing plate with wide angle of visibility | |
| JP3629082B2 (en) | Liquid crystal element using optically anisotropic element | |
| JP3131843B2 (en) | Electrode substrate for liquid crystal display panel | |
| JP2663124B2 (en) | Liquid crystal display panel comprising a substrate having an optical phase function | |
| JPH11134112A (en) | Input and display integral device | |
| JP2003228047A (en) | Liquid crystal display device and optical laminated body | |
| JP3428295B2 (en) | Polarizing plate protective film and polarizing plate | |
| JP2008026352A (en) | Composite polarizing plate, its manufacturing method, composite optical member and liquid crystal display device | |
| JPH096533A (en) | Transparent tablet | |
| JPH08334757A (en) | Liquid crystal display device, polarization phase difference composite film and their production | |
| JPH0266518A (en) | Phase film integrated type transparent conductive film | |
| WO2006068216A1 (en) | Liquid crystal display | |
| JPH0756017A (en) | Polarizing film | |
| US20030214624A1 (en) | Liquid crystal display device and optical laminate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990406 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |