JPH0571871A - マイクロ波による浮遊加熱乾燥法 - Google Patents
マイクロ波による浮遊加熱乾燥法Info
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- JPH0571871A JPH0571871A JP25714691A JP25714691A JPH0571871A JP H0571871 A JPH0571871 A JP H0571871A JP 25714691 A JP25714691 A JP 25714691A JP 25714691 A JP25714691 A JP 25714691A JP H0571871 A JPH0571871 A JP H0571871A
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- microwave
- heating
- heating chamber
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 マイクロ波エネルギ−を利用して、ゴム粉
末、プラスチックペレット、セラミック粉末などの粉粒
状や顆粒状の被加熱物を確実に加熱乾燥させる加熱乾燥
法の開発を目的とする。 【構成】 底面部2が金属製のマイクロ波加熱室1で、
被加熱物4を底面部2からマイクロ波の1/4波長程度
の距離まで浮遊させ、この浮遊状態で被加熱物4を混合
撹拌しながらマイクロ波を照射して加熱乾燥させる加熱
乾燥法となっている。
末、プラスチックペレット、セラミック粉末などの粉粒
状や顆粒状の被加熱物を確実に加熱乾燥させる加熱乾燥
法の開発を目的とする。 【構成】 底面部2が金属製のマイクロ波加熱室1で、
被加熱物4を底面部2からマイクロ波の1/4波長程度
の距離まで浮遊させ、この浮遊状態で被加熱物4を混合
撹拌しながらマイクロ波を照射して加熱乾燥させる加熱
乾燥法となっている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、ゴム粉末、プラスチ
ックペレット、セラミック粉末などの粉粒状や顆粒状の
被加熱物をマイクロ波エネルギ−を利用して加熱乾燥さ
せるマイクロ波による加熱乾燥法に関する。
ックペレット、セラミック粉末などの粉粒状や顆粒状の
被加熱物をマイクロ波エネルギ−を利用して加熱乾燥さ
せるマイクロ波による加熱乾燥法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、マイクロ波エネルギ−を利用して
粉粒状や顆粒状の被加熱物を加熱乾燥させる方法とし
て、被加熱物をマイクロ波加熱室内に一定時間定置して
処理するバッチ方式と、被加熱物をマイクロ波加熱室内
で移動させながら処理する連続方式の二種類がある。
粉粒状や顆粒状の被加熱物を加熱乾燥させる方法とし
て、被加熱物をマイクロ波加熱室内に一定時間定置して
処理するバッチ方式と、被加熱物をマイクロ波加熱室内
で移動させながら処理する連続方式の二種類がある。
【0003】バツチ方式は、被加熱物を誘電損失の小さ
い材質、例えば、ガラス、陶器、プラスチック、テフロ
ン等の容器に入れてマイクロ波加熱室内に配置し、マイ
クロ波を照射せしめて加熱乾燥を行なうものであるが、
このバッチ方式では、粉粒状や顆粒状の被加熱物が加熱
室内に置かれた状態で加熱されるため、被加熱物が均一
に加熱されないという問題点があった。
い材質、例えば、ガラス、陶器、プラスチック、テフロ
ン等の容器に入れてマイクロ波加熱室内に配置し、マイ
クロ波を照射せしめて加熱乾燥を行なうものであるが、
このバッチ方式では、粉粒状や顆粒状の被加熱物が加熱
室内に置かれた状態で加熱されるため、被加熱物が均一
に加熱されないという問題点があった。
【0004】例えば、被加熱物を加熱室で数十度〜数百
度(例えば、60℃〜350℃)に均一に加熱乾燥する
ことを試みても容器と接触している被加熱物及び空気の
接触面となる被加熱物に比べ内部の被加熱物に温度差が
生じ、均一に加熱することが難かしく、物によっては加
熱が進行し発火したり、燃焼したりすることがある。
度(例えば、60℃〜350℃)に均一に加熱乾燥する
ことを試みても容器と接触している被加熱物及び空気の
接触面となる被加熱物に比べ内部の被加熱物に温度差が
生じ、均一に加熱することが難かしく、物によっては加
熱が進行し発火したり、燃焼したりすることがある。
【0005】特に、マイクロ波エネルギ−の吸収の良い
被加熱物(誘電損失計数εγ・tanδの大きい物質)
においては局部的な加熱過剰が発生し、さらに、ゴム、
プラスチック、塩化ビニ−ルなどのような温度上昇に伴
ってマイクロ波吸収が良くなる特性の材質においては、
相乗効果によって加熱過剰が著しくなり加熱のランナウ
ェ−現象が発生し易くなるため、均一加熱、乾燥処理が
非常に困難であった。また、このバッチ方式は、被加熱
物の加熱室への供給、取出しが非連続であるため、工業
用として大量に加熱、乾燥処理することができないか
ら、実験規模で実施されている。
被加熱物(誘電損失計数εγ・tanδの大きい物質)
においては局部的な加熱過剰が発生し、さらに、ゴム、
プラスチック、塩化ビニ−ルなどのような温度上昇に伴
ってマイクロ波吸収が良くなる特性の材質においては、
相乗効果によって加熱過剰が著しくなり加熱のランナウ
ェ−現象が発生し易くなるため、均一加熱、乾燥処理が
非常に困難であった。また、このバッチ方式は、被加熱
物の加熱室への供給、取出しが非連続であるため、工業
用として大量に加熱、乾燥処理することができないか
ら、実験規模で実施されている。
【0006】そこで、本発明の出願人はこのような問題
を解決するため、被加熱物を加熱室内で撹拌しながらマ
イクロ波を照射する加熱乾燥手段について実用新案登録
第12676号として既に提案してある。この加熱乾燥
手段は、加熱室の下部に回転羽根を備えた混合撹拌機構
を備え、被加熱物を混合撹拌しながらマイクロ波を照射
して均一加熱する構成となっている。
を解決するため、被加熱物を加熱室内で撹拌しながらマ
イクロ波を照射する加熱乾燥手段について実用新案登録
第12676号として既に提案してある。この加熱乾燥
手段は、加熱室の下部に回転羽根を備えた混合撹拌機構
を備え、被加熱物を混合撹拌しながらマイクロ波を照射
して均一加熱する構成となっている。
【0007】一方、連続方式は、ベルトコンベアが加熱
室を貫通し移動するようになっており、このベルトコン
ベアで被加熱物を連続的に加熱室に搬入し、加熱室内の
移動中に一定時間マイクロ波を照射せしめて加熱乾燥を
行なうものであるが、この連続方式においては、ベルト
コンベアの搬送ベルトに載せる被加熱物の積み高さ及び
積み幅が加熱の均一性に大きな影響を与える。
室を貫通し移動するようになっており、このベルトコン
ベアで被加熱物を連続的に加熱室に搬入し、加熱室内の
移動中に一定時間マイクロ波を照射せしめて加熱乾燥を
行なうものであるが、この連続方式においては、ベルト
コンベアの搬送ベルトに載せる被加熱物の積み高さ及び
積み幅が加熱の均一性に大きな影響を与える。
【0008】すなわち、積み高さについては、余り高く
積み過ぎると、内方の被加熱物と外方の被加熱物とで温
度差が生じ、また、積み高さが低すぎても加熱によるラ
ンナウェ−現象が発生する。積み幅については、周波数
が1000〜3000MHzの波長を使用するマイクロ
波加熱装置においては、定在波の関係で加熱むらが発生
するので、被加熱物に対して積み幅を選定する必要があ
る。
積み過ぎると、内方の被加熱物と外方の被加熱物とで温
度差が生じ、また、積み高さが低すぎても加熱によるラ
ンナウェ−現象が発生する。積み幅については、周波数
が1000〜3000MHzの波長を使用するマイクロ
波加熱装置においては、定在波の関係で加熱むらが発生
するので、被加熱物に対して積み幅を選定する必要があ
る。
【0009】したがって、連続方式においても、ベルト
コンベアの被加熱物の積載量が制限されるので、大量処
理の装置でありながら大きな期待はもてない。また、一
般の水分乾燥となる加熱においては、ベルトコンベア接
触面での放熱、水分蒸発の遅れ、結露などの発生が見ら
れ、ベルトコンベアの影響を無視することができない。
さらに、被加熱物を高温加熱(例えば、120℃〜35
0℃)する場合には、熱風を併用したり、スタラモ−ド
ファンを取付けてマイクロ波を撹拌しても、ランナウェ
−現象を取り除くことが難かしい。
コンベアの被加熱物の積載量が制限されるので、大量処
理の装置でありながら大きな期待はもてない。また、一
般の水分乾燥となる加熱においては、ベルトコンベア接
触面での放熱、水分蒸発の遅れ、結露などの発生が見ら
れ、ベルトコンベアの影響を無視することができない。
さらに、被加熱物を高温加熱(例えば、120℃〜35
0℃)する場合には、熱風を併用したり、スタラモ−ド
ファンを取付けてマイクロ波を撹拌しても、ランナウェ
−現象を取り除くことが難かしい。
【0010】そこで、このような問題を解決するため、
本発明の出願人は、被加熱物をスクリュ−で撹拌しなが
らマイクロ波を照射する加熱乾燥手段を実用新案登録第
1624811号として既に提案してある。この加熱乾
燥手段は、加熱室の下部を半円筒状の底壁で囲んで断面
U字状の溝状部を形成し、このU字状溝内に被加熱物を
移送するスクリュ−を備えた混合撹拌機構を備え、この
スクリュ−の回転で被加熱物を混合撹拌しながらマイク
ロ波を照射して均一加熱する構成となっている。
本発明の出願人は、被加熱物をスクリュ−で撹拌しなが
らマイクロ波を照射する加熱乾燥手段を実用新案登録第
1624811号として既に提案してある。この加熱乾
燥手段は、加熱室の下部を半円筒状の底壁で囲んで断面
U字状の溝状部を形成し、このU字状溝内に被加熱物を
移送するスクリュ−を備えた混合撹拌機構を備え、この
スクリュ−の回転で被加熱物を混合撹拌しながらマイク
ロ波を照射して均一加熱する構成となっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た被加熱物を混合撹拌しながらマイクロ波を照射する従
来の加熱乾燥方法は次のような問題点がある。上記した
ように、バッチ方式の場合は被加熱物が撹拌羽根によっ
て撹拌され、連続方式の場合はスクリュ−によって被加
熱物の撹拌及び移送が行なわれる。そして、この被加熱
物を効率良く撹拌、移送するためには加熱室壁と上記し
た撹拌羽根又はスクリュ−との隙間をできる限り小さく
する必要がある。
た被加熱物を混合撹拌しながらマイクロ波を照射する従
来の加熱乾燥方法は次のような問題点がある。上記した
ように、バッチ方式の場合は被加熱物が撹拌羽根によっ
て撹拌され、連続方式の場合はスクリュ−によって被加
熱物の撹拌及び移送が行なわれる。そして、この被加熱
物を効率良く撹拌、移送するためには加熱室壁と上記し
た撹拌羽根又はスクリュ−との隙間をできる限り小さく
する必要がある。
【0012】撹拌羽根及びスクリュ−の材質は加工性、
経済性を考慮すると金属製となるが、上記した隙間が1
〜3mm以下(マイクロ波出力条件によって異なる)に
なると、マイクロ波照射中にこの隙間で放電が起こり、
スパ−クを発生し被加熱物に引火することがある。ま
た、上記した放電が起こらないように隙間を大きくする
と、隙間の被加熱物が混合、移送されずに残留し、この
残留した被加熱物が均一加熱されなくなるし、また排出
されなくなってしまう。
経済性を考慮すると金属製となるが、上記した隙間が1
〜3mm以下(マイクロ波出力条件によって異なる)に
なると、マイクロ波照射中にこの隙間で放電が起こり、
スパ−クを発生し被加熱物に引火することがある。ま
た、上記した放電が起こらないように隙間を大きくする
と、隙間の被加熱物が混合、移送されずに残留し、この
残留した被加熱物が均一加熱されなくなるし、また排出
されなくなってしまう。
【0013】一方、マイクロ波は加熱室壁の金属面で反
射し、距離が離れるにしたがい電界が強くなる。図4に
示す如く、反射面での電界強度はゼロで、1/4波長の
距離で最大となり、その後減少し1/2波長の距離でゼ
ロとなる。このように、一波長の間に電界強度が最大と
なる位置は1/4波長と3/4波長の2ケ所存在する。
マイクロ波エネルギ−を利用して加熱する場合、電界強
度が存在しなければ被加熱物の発熱は起こらないため、
加熱室内壁に残留している被加熱物は加熱されないこと
になる。
射し、距離が離れるにしたがい電界が強くなる。図4に
示す如く、反射面での電界強度はゼロで、1/4波長の
距離で最大となり、その後減少し1/2波長の距離でゼ
ロとなる。このように、一波長の間に電界強度が最大と
なる位置は1/4波長と3/4波長の2ケ所存在する。
マイクロ波エネルギ−を利用して加熱する場合、電界強
度が存在しなければ被加熱物の発熱は起こらないため、
加熱室内壁に残留している被加熱物は加熱されないこと
になる。
【0014】そこで、隙間をできる限り小さくし、か
つ、放電が起こらないよう撹拌羽根及びスクリュ−の材
質を非金属製にするか、または、金属表面をテフロンコ
−ティングする方法も考えられるが、大型の生産設備に
おいては製作が難かしく、また、高価なものとなるので
経済的にも問題がある。本発明は、上記した問題点を解
決することを目的とする。
つ、放電が起こらないよう撹拌羽根及びスクリュ−の材
質を非金属製にするか、または、金属表面をテフロンコ
−ティングする方法も考えられるが、大型の生産設備に
おいては製作が難かしく、また、高価なものとなるので
経済的にも問題がある。本発明は、上記した問題点を解
決することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明では、底面部が金属製のマイクロ波加熱室
で、粉粒状や顆粒状の被加熱物にマイクロ波を照射して
加熱乾燥させる方法において、底面部を多孔構造とした
上記マイクロ波加熱室に、その底面部の外側より風圧力
を加え、被加熱物をマイクロ波の少なくとも1/4波長
の距離まで底面部から浮遊させ、この浮遊状態で被加熱
物を回転撹拌機構によって混合撹拌しながらマイクロ波
を照射して加熱乾燥させることを特徴とするマイクロ波
による浮遊加熱乾燥法を提案する。また、上記した発明
において、上記被加熱物を浮遊させる風圧力気体の温度
及び湿度を所定値に設定し、マイクロ波の出力エネルギ
−を被加熱物の温度にしたがって調整制御することを特
徴とするマイクロ波による浮遊加熱乾燥法を提案する。
ため、本発明では、底面部が金属製のマイクロ波加熱室
で、粉粒状や顆粒状の被加熱物にマイクロ波を照射して
加熱乾燥させる方法において、底面部を多孔構造とした
上記マイクロ波加熱室に、その底面部の外側より風圧力
を加え、被加熱物をマイクロ波の少なくとも1/4波長
の距離まで底面部から浮遊させ、この浮遊状態で被加熱
物を回転撹拌機構によって混合撹拌しながらマイクロ波
を照射して加熱乾燥させることを特徴とするマイクロ波
による浮遊加熱乾燥法を提案する。また、上記した発明
において、上記被加熱物を浮遊させる風圧力気体の温度
及び湿度を所定値に設定し、マイクロ波の出力エネルギ
−を被加熱物の温度にしたがって調整制御することを特
徴とするマイクロ波による浮遊加熱乾燥法を提案する。
【0016】
【作用】マイクロ波加熱室の底面部は金属製で多孔構造
をなしている。この底面部の外側からある一定の風圧力
を加えて被加熱物をマイクロ波の1/4波長程度の距離
まで底面部から浮遊させると共に、この浮遊状態で被加
熱物を混合撹拌機構によって混合撹拌する。これより、
被加熱物はマイクロ波加熱室の底面部から一定距離浮遊
した状態で撹拌されるので均一に混合撹拌される。そし
て、上記のように混合撹拌される被加熱物はマイクロ波
の照射による最も大きいエネルギ−のところで加熱され
るため、均一に加熱乾燥されることになる。
をなしている。この底面部の外側からある一定の風圧力
を加えて被加熱物をマイクロ波の1/4波長程度の距離
まで底面部から浮遊させると共に、この浮遊状態で被加
熱物を混合撹拌機構によって混合撹拌する。これより、
被加熱物はマイクロ波加熱室の底面部から一定距離浮遊
した状態で撹拌されるので均一に混合撹拌される。そし
て、上記のように混合撹拌される被加熱物はマイクロ波
の照射による最も大きいエネルギ−のところで加熱され
るため、均一に加熱乾燥されることになる。
【0017】また、被加熱物を浮遊させる気体の温度、
湿度は、被加熱物の種類によって設定し、更に、被加熱
物の温度が高くなり、残留水分が減少する減率乾燥期に
おいては、被加熱物の温度にしたがって、照射するマイ
クロ波エネルギ−量も減少するように制御する。
湿度は、被加熱物の種類によって設定し、更に、被加熱
物の温度が高くなり、残留水分が減少する減率乾燥期に
おいては、被加熱物の温度にしたがって、照射するマイ
クロ波エネルギ−量も減少するように制御する。
【0018】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面に沿って
説明する。図1はマイクロ波加熱装置の簡略図であり、
本発明をバッチ方式で実施した場合の実施例を示してい
る。
説明する。図1はマイクロ波加熱装置の簡略図であり、
本発明をバッチ方式で実施した場合の実施例を示してい
る。
【0019】1はマイクロ波加熱室、2は加熱室1の底
面部で、この底面部2は金属製の板材で形成され、多数
の小孔2aが設けられた多孔構造のものとなっている。
加熱室1の底面部直上には、モ−タ3の駆動で回転して
被加熱物4を撹拌する混合撹拌機構としての撹拌羽根5
が支軸6によって軸受けされた回転軸に回転自在に軸支
されている。
面部で、この底面部2は金属製の板材で形成され、多数
の小孔2aが設けられた多孔構造のものとなっている。
加熱室1の底面部直上には、モ−タ3の駆動で回転して
被加熱物4を撹拌する混合撹拌機構としての撹拌羽根5
が支軸6によって軸受けされた回転軸に回転自在に軸支
されている。
【0020】被加熱物4を浮遊させる風は、送風機7に
より熱風発生機8を経由して加熱室1の下方に形成した
下部チャンバ−9に送風され、底面部2の小孔2aより
加熱室1に吹き込まれる。また、下部チャンバ−9には
温度センサ10が設けられ、上記した熱風の温度が一定
に制御されるようになっている。加熱室1の天井部には
被加熱物4より吸湿した空気を排出する排気口11がマ
イクロ波の漏洩フィルタを介して接続され、排気口11
の先端には排気量をコントロ−ルする排気ダンパ−12
が備えられている。
より熱風発生機8を経由して加熱室1の下方に形成した
下部チャンバ−9に送風され、底面部2の小孔2aより
加熱室1に吹き込まれる。また、下部チャンバ−9には
温度センサ10が設けられ、上記した熱風の温度が一定
に制御されるようになっている。加熱室1の天井部には
被加熱物4より吸湿した空気を排出する排気口11がマ
イクロ波の漏洩フィルタを介して接続され、排気口11
の先端には排気量をコントロ−ルする排気ダンパ−12
が備えられている。
【0021】マイクロ波はマイクロ波発振機13より発
振されて導波管14を通り加熱室1内に照射されるが、
加熱室1内の熱風が導波管14を通ってマイクロ波発振
機13まで到達しないように導波管14の先端部にマイ
クロ波を吸収しない材質、本実施例ではテフロン材を用
いたシ−ル板15が設けられている。
振されて導波管14を通り加熱室1内に照射されるが、
加熱室1内の熱風が導波管14を通ってマイクロ波発振
機13まで到達しないように導波管14の先端部にマイ
クロ波を吸収しない材質、本実施例ではテフロン材を用
いたシ−ル板15が設けられている。
【0022】被加熱物4の供給は、原料供給タンク16
より送風機17で加熱室1内に送り込まれる。18は供
給弁である。加熱乾燥が終わった被加熱物4を取出す場
合は、供給弁18、排気ダンパ−12が閉じ、取出口の
弁19がエア−シリンダ20によって開口状態となり、
被加熱物4が接続するサイクロン21でロ−タリ−バル
ブ22を経て回収容器23に集められる。この時の排出
は、送風機7の風力で行なわれるが、被加熱物4の密度
や形態でサイクロン21までの圧送が難かしい場合は、
サイクロン21の上部に設けられたファン24を使用す
る。扉25は加熱室1の点検、掃除用のために設けられ
た点検扉で、加熱室1内を水洗いした場合はバルブ26
を開放してドレン抜きを行なう。
より送風機17で加熱室1内に送り込まれる。18は供
給弁である。加熱乾燥が終わった被加熱物4を取出す場
合は、供給弁18、排気ダンパ−12が閉じ、取出口の
弁19がエア−シリンダ20によって開口状態となり、
被加熱物4が接続するサイクロン21でロ−タリ−バル
ブ22を経て回収容器23に集められる。この時の排出
は、送風機7の風力で行なわれるが、被加熱物4の密度
や形態でサイクロン21までの圧送が難かしい場合は、
サイクロン21の上部に設けられたファン24を使用す
る。扉25は加熱室1の点検、掃除用のために設けられ
た点検扉で、加熱室1内を水洗いした場合はバルブ26
を開放してドレン抜きを行なう。
【0023】被加熱物4は原料の種類によってマイクロ
波エネルギ−の投入量が調整制御される構成となってい
る。被加熱物4は原料の種類によって予め最適加熱温度
を定め、この最適加熱温度は比較演算部27に設定され
る。
波エネルギ−の投入量が調整制御される構成となってい
る。被加熱物4は原料の種類によって予め最適加熱温度
を定め、この最適加熱温度は比較演算部27に設定され
る。
【0024】加熱乾燥中の被加熱物4は、その品温が電
波漏洩対策とエアパ−ジの施されたフィルタ28を介し
て温度センサ29で測定され、この測定信号が上記した
比較演算部27に取り込まれて上記した最適加熱温度と
比較される。比較演算部27は品温が最適加熱温度を超
えた場合にマイクロ波発振器13が備える出力制御回路
を制御し、マイクロ波出力を自動制御する。これによ
り、温度に敏感で品質を損なう原料を加熱乾燥させる場
合にも最適加熱温度を超えて加熱することがないので、
良好な加熱乾燥方法となる。
波漏洩対策とエアパ−ジの施されたフィルタ28を介し
て温度センサ29で測定され、この測定信号が上記した
比較演算部27に取り込まれて上記した最適加熱温度と
比較される。比較演算部27は品温が最適加熱温度を超
えた場合にマイクロ波発振器13が備える出力制御回路
を制御し、マイクロ波出力を自動制御する。これによ
り、温度に敏感で品質を損なう原料を加熱乾燥させる場
合にも最適加熱温度を超えて加熱することがないので、
良好な加熱乾燥方法となる。
【0025】また、被加熱物4の品温を検出する温度セ
ンサ29には赤外線放射温度計を利用すると、非接触で
計測できる上に、送風温度の影響もなく、さらに、その
温度値に対応した電気信号を高速で得ることができ、マ
イクロ波出力制御の温度センサ29として有効である。
ンサ29には赤外線放射温度計を利用すると、非接触で
計測できる上に、送風温度の影響もなく、さらに、その
温度値に対応した電気信号を高速で得ることができ、マ
イクロ波出力制御の温度センサ29として有効である。
【0026】次に、被加熱物4の浮遊混合撹拌方法につ
いて説明する。我国における工業加熱に使用されるマイ
クロ波の周波数は2450±50MHzが主力である。
この周波数帯の波長の長さはλ=122.5mmとな
り、λ/4は約30.6mmとなる。
いて説明する。我国における工業加熱に使用されるマイ
クロ波の周波数は2450±50MHzが主力である。
この周波数帯の波長の長さはλ=122.5mmとな
り、λ/4は約30.6mmとなる。
【0027】加熱室1内には、ある流速をもつ熱風が底
面部2の多数の小孔2aより吹き上げる。加熱室1の底
面部2に充填された被加熱物4は、熱風の流速が遅い段
階では静止したままであるが、流速を速めると、静止状
態を保つことができなくなり上下運動する浮遊状態とな
る。ここで、熱風の流速は被加熱物4が加熱室1の底面
部2から1/4波長に当る約30mm浮遊する程度に保
たれる。
面部2の多数の小孔2aより吹き上げる。加熱室1の底
面部2に充填された被加熱物4は、熱風の流速が遅い段
階では静止したままであるが、流速を速めると、静止状
態を保つことができなくなり上下運動する浮遊状態とな
る。ここで、熱風の流速は被加熱物4が加熱室1の底面
部2から1/4波長に当る約30mm浮遊する程度に保
たれる。
【0028】上記した被加熱物4の浮遊状態において、
撹拌羽根5によって被加熱物4を撹拌すると、被加熱物
4は加熱室1の底面部2から浮遊した状態で回転しなが
ら混合撹拌される。そして、この浮遊混合撹拌状態にお
いてマイクロ波を照射して被加熱物4を加熱乾燥させ
る。
撹拌羽根5によって被加熱物4を撹拌すると、被加熱物
4は加熱室1の底面部2から浮遊した状態で回転しなが
ら混合撹拌される。そして、この浮遊混合撹拌状態にお
いてマイクロ波を照射して被加熱物4を加熱乾燥させ
る。
【0029】このように、被加熱物4をマイクロ波エネ
ルギ−の最大位置に浮遊させて混合撹拌することによ
り、加熱乾燥が効果的に行なわれ、また、加熱室1内壁
と撹拌羽根5との隙間に被加熱物4が残留することがな
くなると共に、互いの材質が金属性であっても、スパ−
クの発生しない充分な間隙を取ることができる。
ルギ−の最大位置に浮遊させて混合撹拌することによ
り、加熱乾燥が効果的に行なわれ、また、加熱室1内壁
と撹拌羽根5との隙間に被加熱物4が残留することがな
くなると共に、互いの材質が金属性であっても、スパ−
クの発生しない充分な間隙を取ることができる。
【0030】次に、図2、図3は本発明を連続方式で実
施した場合の実施例を示し、図2は加熱装置の簡略的な
正面図、図3は同加熱装置の簡略的な側面図である。
施した場合の実施例を示し、図2は加熱装置の簡略的な
正面図、図3は同加熱装置の簡略的な側面図である。
【0031】これら図において、50はマイクロ波加熱
室、51は加熱室50の底面部で、この底面部51は金
属製で半円筒状をなし、多数の小孔51aが形成されて
いる。更に、底面部51の下側には熱風を均一に吹き上
げるための下部チャンバ−52が形成されている。被加
熱物53を浮遊させる熱風は、送風機54から熱風発生
機55を経て下部チャンバ−52に送風され、底面部5
1より均一に加熱室50内に吹き込まれる。
室、51は加熱室50の底面部で、この底面部51は金
属製で半円筒状をなし、多数の小孔51aが形成されて
いる。更に、底面部51の下側には熱風を均一に吹き上
げるための下部チャンバ−52が形成されている。被加
熱物53を浮遊させる熱風は、送風機54から熱風発生
機55を経て下部チャンバ−52に送風され、底面部5
1より均一に加熱室50内に吹き込まれる。
【0032】被加熱物53は原料供給タンク56より供
給フィダ−57によって連続的に加熱室50に投下さ
れ、U字状に形成された底面部51にモ−タ58の駆動
で回転する移送用スクリュ−59で、浮遊する被加熱物
53を混合撹拌しながら取出し口まで移動させ、取出口
に備えたロ−タリ−バルブ60により排出される。
給フィダ−57によって連続的に加熱室50に投下さ
れ、U字状に形成された底面部51にモ−タ58の駆動
で回転する移送用スクリュ−59で、浮遊する被加熱物
53を混合撹拌しながら取出し口まで移動させ、取出口
に備えたロ−タリ−バルブ60により排出される。
【0033】また、被加熱物53は移送される間にマイ
クロ波が照射される。マイクロ波は、マイクロ波発振機
61より発振されて導波管63の先端の照射口より照射
される。63はテフロン材を用いたシ−ル板である。被
加熱物53の蒸発水分は、加熱室50の天井部に設けら
れた排気口64から排気ダンパ−65を経て排気され
る。
クロ波が照射される。マイクロ波は、マイクロ波発振機
61より発振されて導波管63の先端の照射口より照射
される。63はテフロン材を用いたシ−ル板である。被
加熱物53の蒸発水分は、加熱室50の天井部に設けら
れた排気口64から排気ダンパ−65を経て排気され
る。
【0034】上記した連続方式の場合も、バツチ方式の
場合と同様、被加熱物53をU字状に形成した加熱室5
0の底面部51より1/4波長程度浮遊させて混合撹拌
することにより、被加熱物53が残留することなく均一
に混合撹拌されて移送、排出される。また、U字状に形
成した加熱室50の底面部51とスクリュ−59が互い
に金属製であっても、スパ−クの発生しない充分な間隙
を取ることができる。
場合と同様、被加熱物53をU字状に形成した加熱室5
0の底面部51より1/4波長程度浮遊させて混合撹拌
することにより、被加熱物53が残留することなく均一
に混合撹拌されて移送、排出される。また、U字状に形
成した加熱室50の底面部51とスクリュ−59が互い
に金属製であっても、スパ−クの発生しない充分な間隙
を取ることができる。
【0035】なお、上記した連続方式の場合においても
バツチ方式の場合と同様、図示しない比較演算部を備え
て、被加熱物53の種類によってマイクロ波エネルギ−
の投入量が調整制御される構成となっている。
バツチ方式の場合と同様、図示しない比較演算部を備え
て、被加熱物53の種類によってマイクロ波エネルギ−
の投入量が調整制御される構成となっている。
【0036】また、本実施例では、熱風発生機8、54
に電熱ヒ−タを使用した一例について説明したが、蒸気
や燃焼ガス等のエネルギ−を用いることも可能であり、
また、マイクロ波加熱室の底面部はパンチングプレ−
ト、金網、スクリ−ンなどで多孔板として構成すること
ができる。
に電熱ヒ−タを使用した一例について説明したが、蒸気
や燃焼ガス等のエネルギ−を用いることも可能であり、
また、マイクロ波加熱室の底面部はパンチングプレ−
ト、金網、スクリ−ンなどで多孔板として構成すること
ができる。
【0037】次に、本発明の加熱乾燥方法を実際に実験
して得られる具体的なデ−タを示す。 「実験例−1」 (1)被加熱物:モヤシ豆(中国産) グリ−ン豆種、ブラック豆種の2種類 (2)目的:加熱殺菌 (3)使用装置及び条件 (a)バッチ式マイクロ波浮遊加熱乾燥装置 (イ)マイクロ波加熱室形状:円錐状 (ロ)マイクロ波加熱室寸法:底面部外径500φmm 上部外径1000φmm 円錐高さ1000mm (ハ)多孔板:孔径1.0φmm、メッシュ330.
8、開孔率40.3% (ニ)送風機及び熱風発生機 最大風量:13m3/分、最大静圧120mmAq、4
00W、50Hz 熱風温度:0〜300℃ (ホ)撹拌機:0.75kW、回転数:0〜25rpm (ヘ)マイクロ波発振機 出力:0〜5kW 周波数:2450±30MHz (ト)赤外温度計:米国バ−ンズ社製モデルKT−14
P 測温範囲:0〜100℃ 出力電圧:0〜1V (b)条件 (イ)各サンプル量:7000g (ロ)熱風温度:80℃(一定温度) (ハ)マイクロ波出力:3000W(出力一定) (4)結果温度
して得られる具体的なデ−タを示す。 「実験例−1」 (1)被加熱物:モヤシ豆(中国産) グリ−ン豆種、ブラック豆種の2種類 (2)目的:加熱殺菌 (3)使用装置及び条件 (a)バッチ式マイクロ波浮遊加熱乾燥装置 (イ)マイクロ波加熱室形状:円錐状 (ロ)マイクロ波加熱室寸法:底面部外径500φmm 上部外径1000φmm 円錐高さ1000mm (ハ)多孔板:孔径1.0φmm、メッシュ330.
8、開孔率40.3% (ニ)送風機及び熱風発生機 最大風量:13m3/分、最大静圧120mmAq、4
00W、50Hz 熱風温度:0〜300℃ (ホ)撹拌機:0.75kW、回転数:0〜25rpm (ヘ)マイクロ波発振機 出力:0〜5kW 周波数:2450±30MHz (ト)赤外温度計:米国バ−ンズ社製モデルKT−14
P 測温範囲:0〜100℃ 出力電圧:0〜1V (b)条件 (イ)各サンプル量:7000g (ロ)熱風温度:80℃(一定温度) (ハ)マイクロ波出力:3000W(出力一定) (4)結果温度
【0038】
【表1】
【0039】「実験例−2」 (1)被加熱乾燥物:ソフトカプセル (2)目 的:ソフトカプセルの乾燥 (3)使用装置 (イ)実験例−1と同じ装置であるが送風側には冷凍機
による除湿空気を使用 (ロ)プレク−ラ−(冷凍機) 空冷式:日立製作所製304Hz−AL型2.2kW 冷凍能力:5.830/6.700(Kcal/H)、
50/60Hz、蒸発温度0℃ (ハ)アフタ−ヒ−タ− 電熱ヒ−タ− 3.5kW 給気ファン 0.125kW、5m3/分 (4)条件 (イ)送風温度:30℃ 相対湿度 17% (ロ)マイクロ波出力:100W〜450W(出力可
変) (ハ)撹拌回転数:1〜3rpm (5)含水率の結果
による除湿空気を使用 (ロ)プレク−ラ−(冷凍機) 空冷式:日立製作所製304Hz−AL型2.2kW 冷凍能力:5.830/6.700(Kcal/H)、
50/60Hz、蒸発温度0℃ (ハ)アフタ−ヒ−タ− 電熱ヒ−タ− 3.5kW 給気ファン 0.125kW、5m3/分 (4)条件 (イ)送風温度:30℃ 相対湿度 17% (ロ)マイクロ波出力:100W〜450W(出力可
変) (ハ)撹拌回転数:1〜3rpm (5)含水率の結果
【0040】
【表2】
【0041】「実験例−3」 (1)被加熱物:玄米 (2)目 的:玄米の調質 (3)使用装置 連続式マイクロ波浮遊加熱乾燥装置 (イ)スクリュ−コンベア外径:500φmm (ロ)スクリュ−コンベア回転数:0〜20rpm (ハ)マイクロ波加熱室長さ:1800mm (ニ)送風機:最大静圧 290mmg、最大風量 3
6m3/分、1.5kW、50Hz (ヘ)マイクロ波発振機 出力:0〜5kW×3台=0〜15kW 周波数:2450±30MHz (4)玄米の調質条件 玄米の初期温度:9℃ 玄米の初期含水率:14.5%(W.B) 玄米調質温度:20℃ 玄米調質含水率:16%
6m3/分、1.5kW、50Hz (ヘ)マイクロ波発振機 出力:0〜5kW×3台=0〜15kW 周波数:2450±30MHz (4)玄米の調質条件 玄米の初期温度:9℃ 玄米の初期含水率:14.5%(W.B) 玄米調質温度:20℃ 玄米調質含水率:16%
【0042】(5)処理条件と結果 マイクロ波加熱室に玄米が投入される直前で温水による
スプレ−で玄米を加湿する。 処理量:20kg/分(毎時1200kg) 熱風温度:35℃ UHF出力:15kW ロ−タ−リ−バルブ出口の玄米の温度:20±1℃ 玄米調質後の含水率:15.7%
スプレ−で玄米を加湿する。 処理量:20kg/分(毎時1200kg) 熱風温度:35℃ UHF出力:15kW ロ−タ−リ−バルブ出口の玄米の温度:20±1℃ 玄米調質後の含水率:15.7%
【0043】以上、浮遊加熱乾燥方法についての実験例
を上げたが、実験例−1のモヤシ豆においては、本発明
の方法によりその均一加熱性を発芽率で説明したもので
ある。
を上げたが、実験例−1のモヤシ豆においては、本発明
の方法によりその均一加熱性を発芽率で説明したもので
ある。
【0044】我国の食卓に上るモヤシは、中国、ベトナ
ム等の諸国より輸入される豆が多く、業者が室温30〜
40℃、湿度80%以上の雰囲気の部屋で充分に浸水し
た発芽床に豆を蒔き数日間で発芽させてモヤシに成長さ
せている。
ム等の諸国より輸入される豆が多く、業者が室温30〜
40℃、湿度80%以上の雰囲気の部屋で充分に浸水し
た発芽床に豆を蒔き数日間で発芽させてモヤシに成長さ
せている。
【0045】しかし、輸入したままではカビや病気に感
染していることが多く、発芽率は90%を割ることが多
い(その年度の気候、保管条件によって異なる)。その
為に一般には、病気の感染を防止し発芽率を上げるため
に加熱殺菌処理が行われている。従来は熱風加熱で30
〜40時間程度かかつて70〜75℃に昇温している。
しかし、本発明によれば、従来方法に比べて短時間とな
るため、モヤシ豆にダメ−ジを与えずに加熱殺菌できる
こととなり非常に高い発芽率を得ることができる。これ
は均一加熱化を証明したものと言える。
染していることが多く、発芽率は90%を割ることが多
い(その年度の気候、保管条件によって異なる)。その
為に一般には、病気の感染を防止し発芽率を上げるため
に加熱殺菌処理が行われている。従来は熱風加熱で30
〜40時間程度かかつて70〜75℃に昇温している。
しかし、本発明によれば、従来方法に比べて短時間とな
るため、モヤシ豆にダメ−ジを与えずに加熱殺菌できる
こととなり非常に高い発芽率を得ることができる。これ
は均一加熱化を証明したものと言える。
【0046】実験例−2で使用したソフトカプセルは、
内部が液状、ペ−スト状の医薬品、健康食品をゼラチン
フイルムでカプセル化したもので、一般にソフトカプセ
ルと言われている。内容物が熱に対して敏感な製品とな
るため、ゼラチンカプセルを乾燥させる場合40℃以下
で行なう必要がある。薬液が充填された直後のソフトカ
プセルの含水率は20〜25%前後の含水率があるが、
10%以下に乾燥してカプセルとしての強度を持たせて
市販されている。
内部が液状、ペ−スト状の医薬品、健康食品をゼラチン
フイルムでカプセル化したもので、一般にソフトカプセ
ルと言われている。内容物が熱に対して敏感な製品とな
るため、ゼラチンカプセルを乾燥させる場合40℃以下
で行なう必要がある。薬液が充填された直後のソフトカ
プセルの含水率は20〜25%前後の含水率があるが、
10%以下に乾燥してカプセルとしての強度を持たせて
市販されている。
【0047】ゼラチン質の乾燥はタンパク質が変化し易
く、また表皮に膜が張りやすいため、乾燥温度、速度を
上げることが出来ず、従来の棚式の恒温、恒湿乾燥法で
は、トレイの上に薄く広げて散布し、15〜25時間程
度の乾燥を必要とし生産性を大きく妨げている。
く、また表皮に膜が張りやすいため、乾燥温度、速度を
上げることが出来ず、従来の棚式の恒温、恒湿乾燥法で
は、トレイの上に薄く広げて散布し、15〜25時間程
度の乾燥を必要とし生産性を大きく妨げている。
【0048】本発明方法のように、除湿乾燥空気を浮遊
させる風力を利用し、さらに、マイクロ波エネルギ−を
併用すれば、大幅な時間短縮が計れるだけでなく、浮遊
撹拌することでソフトカプセル間の付着が防止でき、そ
の上、均一で良好なソフトカプセルの乾燥を行うことが
できる。
させる風力を利用し、さらに、マイクロ波エネルギ−を
併用すれば、大幅な時間短縮が計れるだけでなく、浮遊
撹拌することでソフトカプセル間の付着が防止でき、そ
の上、均一で良好なソフトカプセルの乾燥を行うことが
できる。
【0049】実験例−3は本発明方法を連続式として実
験した玄米加熱のデ−タである。大型精米工場では搗精
の米処理として、玄米の温度、水分を調整する、いわゆ
る玄米調質を行なうことが多い。搗精特性は玄米の温度
と水分で決定される玄米の剛度により大きな影響を受け
るためで、精白米の品質及び食味から求めて、その最適
玄米温度、水分は各々15〜20℃、15.5〜16.
5%(W.B)と言われている。特に、冬期の寒冷地に
おける精米工場では、加工能率、搗精歩留の向上の面か
ら玄米調質が重要な工程となっている。
験した玄米加熱のデ−タである。大型精米工場では搗精
の米処理として、玄米の温度、水分を調整する、いわゆ
る玄米調質を行なうことが多い。搗精特性は玄米の温度
と水分で決定される玄米の剛度により大きな影響を受け
るためで、精白米の品質及び食味から求めて、その最適
玄米温度、水分は各々15〜20℃、15.5〜16.
5%(W.B)と言われている。特に、冬期の寒冷地に
おける精米工場では、加工能率、搗精歩留の向上の面か
ら玄米調質が重要な工程となっている。
【0050】従来は大型のタンク内に電気ヒ−タ−、ス
チ−ムヒ−タ−等を配置し、さらにタンク外壁をも加温
してその熱伝導で玄米を加温する方法が取られている。
大型精米工場では時間当りの処理量が多く、この様な方
式では、短時間に通過する玄米を全て均一に調質するこ
とは問題がある。
チ−ムヒ−タ−等を配置し、さらにタンク外壁をも加温
してその熱伝導で玄米を加温する方法が取られている。
大型精米工場では時間当りの処理量が多く、この様な方
式では、短時間に通過する玄米を全て均一に調質するこ
とは問題がある。
【0051】本発明の連続方式を利用すれば、加湿機の
調整とマイクロ波出力の調整で、求める条件の調質が簡
単に可能となり、また省エネルギ−で連続均一加熱がで
きる。
調整とマイクロ波出力の調整で、求める条件の調質が簡
単に可能となり、また省エネルギ−で連続均一加熱がで
きる。
【0052】以上、各実施例について説明したが、本発
明によって加熱乾燥するものとしては、ゴム粉末、プラ
スチックペレット、セラミック粉末、顔料、薬品、穀
類、食品などの粒状、粉状、顆粒状の被加熱物が適し、
この他に、本発明はコ−ヒ−豆、ナッツ豆、ピ−ナッツ
豆等の焙煎や、スナック、米菓などの膨化工程の熱処理
加工に利用することができる。
明によって加熱乾燥するものとしては、ゴム粉末、プラ
スチックペレット、セラミック粉末、顔料、薬品、穀
類、食品などの粒状、粉状、顆粒状の被加熱物が適し、
この他に、本発明はコ−ヒ−豆、ナッツ豆、ピ−ナッツ
豆等の焙煎や、スナック、米菓などの膨化工程の熱処理
加工に利用することができる。
【0053】
【発明の効果】上記した通り、本発明のマイクロ波によ
る浮遊加熱乾燥法では、被加熱物をマイクロ波加熱室の
底面部からマイクロ波の1/4波長程度の距離まで浮遊
させ、この浮遊状態の被加熱物を均一に混合撹拌しなが
らマイクロ波を照射して加熱乾燥する構成としたので、
従来の加熱乾燥方法では難かしかった粉粒状や顆粒状の
被加熱物を確実に均一加熱乾燥することができる。
る浮遊加熱乾燥法では、被加熱物をマイクロ波加熱室の
底面部からマイクロ波の1/4波長程度の距離まで浮遊
させ、この浮遊状態の被加熱物を均一に混合撹拌しなが
らマイクロ波を照射して加熱乾燥する構成としたので、
従来の加熱乾燥方法では難かしかった粉粒状や顆粒状の
被加熱物を確実に均一加熱乾燥することができる。
【0054】また、被加熱物の種類が変っても、被加熱
物の品温を測定し、この測定値にしたがって照射するマ
イクロ波エネルギ−を調整すれば、被加熱物の種類に関
係なく容易に加熱乾燥することができる。
物の品温を測定し、この測定値にしたがって照射するマ
イクロ波エネルギ−を調整すれば、被加熱物の種類に関
係なく容易に加熱乾燥することができる。
【0055】さらに、粉粒物の加熱乾燥を主な目的とす
る従来の流動層乾燥法のように、大きな風量、風速を必
要としないために、バックフィルタやサイクロンの微粉
の捕集機構が不用となり、また、サニタリ−(汚染を除
くこと)の面でも保守管理が簡単となる。
る従来の流動層乾燥法のように、大きな風量、風速を必
要としないために、バックフィルタやサイクロンの微粉
の捕集機構が不用となり、また、サニタリ−(汚染を除
くこと)の面でも保守管理が簡単となる。
【0056】また、風量の低減に伴って熱風発生機や送
風機などが小形化できるので、省エネルギ−化と加熱時
間の短縮化に有利となる。
風機などが小形化できるので、省エネルギ−化と加熱時
間の短縮化に有利となる。
【0057】さらに、静電気による粉塵爆発の危険、粒
体間の衝突と摩耗による微粉化の現象もほとんど発生し
ない非常に有効な加熱乾燥法となる。
体間の衝突と摩耗による微粉化の現象もほとんど発生し
ない非常に有効な加熱乾燥法となる。
【図1】本発明をバッチ方式として実施例した一例を示
すマイクロ波加熱装置の簡略図である。
すマイクロ波加熱装置の簡略図である。
【図2】本発明を連続方式として実施した一例を示すマ
イクロ波加熱装置の簡略的な正面図である。
イクロ波加熱装置の簡略的な正面図である。
【図3】図2に示すマイクロ波加熱装置の簡略的な側面
図である。
図である。
【図4】マイクロ波加熱において波長と電界分布の関係
を示した説明図である。
を示した説明図である。
1 マイクロ波加熱室 2 底面部 2a 小孔 4 被加熱物 5 撹拌羽根 8 熱風発生機 10 温度センサ 13 マイクロ波発振機 16 原料供給タンク 27 比較演算部 50 マイクロ波加熱室 51 底面部 51a 小孔 53 被加熱物 59 移送用スクリュ− 61 マイクロ波発振機
Claims (2)
- 【請求項1】 底面部が金属製のマイクロ波加熱室で、
粉粒状や顆粒状の被加熱物にマイクロ波を照射して加熱
乾燥させる方法において、底面部を多孔構造とした上記
マイクロ波加熱室に、その底面部の外側より風圧力を加
え、被加熱物をマイクロ波の少なくとも1/4波長の距
離まで底面部から浮遊させ、この浮遊状態で被加熱物を
回転撹拌機構によって混合撹拌しながらマイクロ波を照
射して加熱乾燥させることを特徴とするマイクロ波によ
る浮遊加熱乾燥法。 - 【請求項2】 上記被加熱物を浮遊させる風圧力気体の
温度及び湿度を所定値に設定し、マイクロ波の出力エネ
ルギ−を被加熱物の温度にしたがって調整制御すること
を特徴とする請求項1記載のマイクロ波による浮遊加熱
乾燥法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25714691A JPH0571871A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | マイクロ波による浮遊加熱乾燥法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25714691A JPH0571871A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | マイクロ波による浮遊加熱乾燥法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0571871A true JPH0571871A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=17302354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25714691A Pending JPH0571871A (ja) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | マイクロ波による浮遊加熱乾燥法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0571871A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102261822A (zh) * | 2011-05-19 | 2011-11-30 | 湖南科达粉体工程有限公司 | 一种微波流化干燥褐煤的装置 |
WO2012009859A1 (zh) * | 2010-07-23 | 2012-01-26 | Lam Kwok Fai | 微波干燥器和微波干燥方法 |
CN102338547A (zh) * | 2010-07-23 | 2012-02-01 | 林国辉 | 微波干燥器和微波干燥方法 |
JP2014021191A (ja) * | 2012-07-13 | 2014-02-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | トナーの製造装置 |
JP2014196896A (ja) * | 2013-03-05 | 2014-10-16 | 四国計測工業株式会社 | マイクロ波照射装置および方法 |
CN112297286A (zh) * | 2020-09-24 | 2021-02-02 | 重庆优创电子科技有限公司 | 一种改性塑料专用可检测水分含量的塑料颗粒烘干机 |
JP2021105480A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | ミクロ電子株式会社 | 乾燥装置及び乾燥方法 |
-
1991
- 1991-09-10 JP JP25714691A patent/JPH0571871A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9435585B2 (en) | 2010-07-23 | 2016-09-06 | Kwok Fai Lam | Microwave dryer and microwave drying method |
CN102261822A (zh) * | 2011-05-19 | 2011-11-30 | 湖南科达粉体工程有限公司 | 一种微波流化干燥褐煤的装置 |
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CN112297286B (zh) * | 2020-09-24 | 2022-09-06 | 重庆百钰顺科技有限公司 | 一种改性塑料专用可检测水分含量的塑料颗粒烘干机 |
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