JPH0570955A - 薄膜形成方法 - Google Patents
薄膜形成方法Info
- Publication number
- JPH0570955A JPH0570955A JP23292991A JP23292991A JPH0570955A JP H0570955 A JPH0570955 A JP H0570955A JP 23292991 A JP23292991 A JP 23292991A JP 23292991 A JP23292991 A JP 23292991A JP H0570955 A JPH0570955 A JP H0570955A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面が平滑で密着性のよい薄膜を、短い時間
で形成できるようにする。 【構成】 ＣＶＤ法によって基板５上に薄膜を形成する
にあたって、原料ガス１３に薄膜形成のための光エネル
ギーを与える光ＣＶＤ法のみによる薄膜形成の第１工程
を実施し、その後に、前記光ＣＶＤ法とＥＣＲプラズマ
ＣＶＤ法の内の少なくともＥＣＲプラズマＣＶＤ法によ
る薄膜形成の第２工程を実施し、その後、前記光ＣＶＤ
法のみによる膜面仕上げのための第３工程を実施する。
で形成できるようにする。 【構成】 ＣＶＤ法によって基板５上に薄膜を形成する
にあたって、原料ガス１３に薄膜形成のための光エネル
ギーを与える光ＣＶＤ法のみによる薄膜形成の第１工程
を実施し、その後に、前記光ＣＶＤ法とＥＣＲプラズマ
ＣＶＤ法の内の少なくともＥＣＲプラズマＣＶＤ法によ
る薄膜形成の第２工程を実施し、その後、前記光ＣＶＤ
法のみによる膜面仕上げのための第３工程を実施する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＣＶＤ法によって基板
上に薄膜を形成する薄膜形成方法に関する。
上に薄膜を形成する薄膜形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の薄膜形成方法としては、従来、
原料ガスに光エネルギーを与えて膜を形成する光ＣＶＤ
法や、マイクロ波と磁場の相互作用による電子サイクロ
トロン共鳴を利用してプラズマを発生させて膜を形成す
るＥＣＲプラズマＣＶＤ法があった。
原料ガスに光エネルギーを与えて膜を形成する光ＣＶＤ
法や、マイクロ波と磁場の相互作用による電子サイクロ
トロン共鳴を利用してプラズマを発生させて膜を形成す
るＥＣＲプラズマＣＶＤ法があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述の光ＣＶＤ法によ
ると、表面が平滑であり緻密で良質な薄膜を形成できる
と共に、その薄膜は、基板との密着性が良いという利点
がある。一方、前記ＥＣＲプラズマＣＶＤ法によれば、
薄膜を形成する速度が、前記光ＣＶＤ法に較べて速く、
スピーディーに薄膜を形成できる利点がある。
ると、表面が平滑であり緻密で良質な薄膜を形成できる
と共に、その薄膜は、基板との密着性が良いという利点
がある。一方、前記ＥＣＲプラズマＣＶＤ法によれば、
薄膜を形成する速度が、前記光ＣＶＤ法に較べて速く、
スピーディーに薄膜を形成できる利点がある。
【０００４】しかし、夫々の薄膜形成方法には、上述の
利点と共に、次に説明する欠点もあり、この欠点を解消
することが本発明の解決しようとする課題となる。
利点と共に、次に説明する欠点もあり、この欠点を解消
することが本発明の解決しようとする課題となる。
【０００５】まず、光ＣＶＤ法は、薄膜形成の速度が遅
いために、所定の薄膜を形成するのに長い時間がかか
り、効率が悪いという欠点があり、ＥＣＲプラズマＣＶ
Ｄ法には、薄膜の組成が不均質で不純物を含み易いため
に膜質が悪く、化学量論組成に制御できないという欠点
がある。
いために、所定の薄膜を形成するのに長い時間がかか
り、効率が悪いという欠点があり、ＥＣＲプラズマＣＶ
Ｄ法には、薄膜の組成が不均質で不純物を含み易いため
に膜質が悪く、化学量論組成に制御できないという欠点
がある。
【０００６】そこで本発明の目的は、前述の夫々の薄膜
形成方法の欠点を解消すると共に各利点を生かし、表面
が平滑で密着性のよい薄膜を、短い時間で形成できる薄
膜形成方法を提供するところにある。
形成方法の欠点を解消すると共に各利点を生かし、表面
が平滑で密着性のよい薄膜を、短い時間で形成できる薄
膜形成方法を提供するところにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明の特徴手段は、原料ガスに薄膜形成のための光
エネルギーを与える光ＣＶＤ法のみによる薄膜形成の第
１工程を実施し、その後に、前記光ＣＶＤ法とＥＣＲプ
ラズマＣＶＤ法の内の少なくともＥＣＲプラズマＣＶＤ
法による薄膜形成の第２工程を実施し、その後、前記光
ＣＶＤ法のみによる膜面仕上げのための第３工程を実施
するところにある。
の本発明の特徴手段は、原料ガスに薄膜形成のための光
エネルギーを与える光ＣＶＤ法のみによる薄膜形成の第
１工程を実施し、その後に、前記光ＣＶＤ法とＥＣＲプ
ラズマＣＶＤ法の内の少なくともＥＣＲプラズマＣＶＤ
法による薄膜形成の第２工程を実施し、その後、前記光
ＣＶＤ法のみによる膜面仕上げのための第３工程を実施
するところにある。
【０００８】
【作用】本発明の特徴手段によれば、まず第１工程は、
薄膜の内でも基板に接する部分の形成を行うもので、膜
形成のための核を基板上に形成し、引続き結晶を成長さ
せる。いわば、膜の基礎を形成する工程と言える。即
ち、この第１工程を光ＣＶＤ法によって実施すること
で、その特徴として前述したように、表面が平滑であっ
て緻密で良質で、しかも基板との密着性がよい膜の基礎
を形成することができる。
薄膜の内でも基板に接する部分の形成を行うもので、膜
形成のための核を基板上に形成し、引続き結晶を成長さ
せる。いわば、膜の基礎を形成する工程と言える。即
ち、この第１工程を光ＣＶＤ法によって実施すること
で、その特徴として前述したように、表面が平滑であっ
て緻密で良質で、しかも基板との密着性がよい膜の基礎
を形成することができる。
【０００９】次に、第２工程は、第１工程で形成した膜
の基礎を更に成長させて、薄膜全体の中核を形成するも
のである。従って、この工程を迅速に行うと、薄膜全体
の形成時間の短縮に効果があり、本発明では、この第２
工程を、光ＣＶＤ法とＥＣＲプラズマＣＶＤ法の併用、
又は、両方法の内で、よりスピーディーに膜の形成がで
きるＥＣＲプラズマＣＶＤ法で実施することによって、
迅速に薄膜の中核となる部分の形成ができ、薄膜形成の
全体時間を短縮することができる。
の基礎を更に成長させて、薄膜全体の中核を形成するも
のである。従って、この工程を迅速に行うと、薄膜全体
の形成時間の短縮に効果があり、本発明では、この第２
工程を、光ＣＶＤ法とＥＣＲプラズマＣＶＤ法の併用、
又は、両方法の内で、よりスピーディーに膜の形成がで
きるＥＣＲプラズマＣＶＤ法で実施することによって、
迅速に薄膜の中核となる部分の形成ができ、薄膜形成の
全体時間を短縮することができる。
【００１０】第３工程としては、第１・第２工程で形成
した膜の表面を仕上げるわけであるが、この工程で、良
質な薄膜表面を形成することによって、薄膜全体として
の性能を高めることができる。本発明においては、この
第３工程を、第１工程と同様に光ＣＶＤ法によって行う
ので、膜の表面が多少凹凸であってもそれを埋めて、表
面が平滑であって緻密で良質な薄膜に仕上げることがで
きる。
した膜の表面を仕上げるわけであるが、この工程で、良
質な薄膜表面を形成することによって、薄膜全体として
の性能を高めることができる。本発明においては、この
第３工程を、第１工程と同様に光ＣＶＤ法によって行う
ので、膜の表面が多少凹凸であってもそれを埋めて、表
面が平滑であって緻密で良質な薄膜に仕上げることがで
きる。
【００１１】このように、第１・第２・第３工程を重ね
て形成された薄膜については、まず、基板に対する密着
性が良く、ＥＣＲプラズマＣＶＤ法によって膜の中核を
形成したにも係わらず表面が平滑な薄膜を得ることがで
きる。
て形成された薄膜については、まず、基板に対する密着
性が良く、ＥＣＲプラズマＣＶＤ法によって膜の中核を
形成したにも係わらず表面が平滑な薄膜を得ることがで
きる。
【００１２】
【発明の効果】従って、本発明の薄膜形成方法によれ
ば、基板に対する密着性がよく、表面が平滑で良質な薄
膜を、短い時間で形成できるようになり、薄膜の製作効
率が向上して、経済性を良くすることが出来るようにな
った。
ば、基板に対する密着性がよく、表面が平滑で良質な薄
膜を、短い時間で形成できるようになり、薄膜の製作効
率が向上して、経済性を良くすることが出来るようにな
った。
【００１３】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００１４】図１に本発明の薄膜形成方法を実施するの
に用いるＣＶＤ装置の例を概念図として示す。
に用いるＣＶＤ装置の例を概念図として示す。
【００１５】１は、光ＣＶＤ法を実施するための光源の
一例であるレーザー光源である。（この光源は、Ｈｇラ
ンプを用いる場合もある。）レーザー光源１からのレー
ザー光２は、光照射窓６を通して成膜室３内の基板保持
台４上に設置された基板５に平行に照射される。又、成
膜室３内における光照射窓６に対向した箇所に、成膜室
３に確実にレーザー光２が照射されているかをモニター
する光確認窓７を設けてある。成膜室３の上部には、プ
ラズマ生成室８が設けてあり、そのプラズマ生成室８で
発生させたプラズマは、プラズマ引出し窓９を通して成
膜室３に引き出される。このプラズマ生成室８には、上
部に矩形導波管１０からのマイクロ波１１を導くための
導波窓１２を設け、周囲には、導かれたマイクロ波１１
に磁界をかけてプラズマ生成室内にプラズマを発生させ
る磁気コイル１６を設けてある。又、プラズマ生成室８
には、原料ガス１３を供給する原料ガス供給路１４も取
り付けられている。一方、この原料ガス供給路１４に対
する、消費された原料ガス１３を排出する排出路１５
は、成膜室３に取り付けられている。
一例であるレーザー光源である。（この光源は、Ｈｇラ
ンプを用いる場合もある。）レーザー光源１からのレー
ザー光２は、光照射窓６を通して成膜室３内の基板保持
台４上に設置された基板５に平行に照射される。又、成
膜室３内における光照射窓６に対向した箇所に、成膜室
３に確実にレーザー光２が照射されているかをモニター
する光確認窓７を設けてある。成膜室３の上部には、プ
ラズマ生成室８が設けてあり、そのプラズマ生成室８で
発生させたプラズマは、プラズマ引出し窓９を通して成
膜室３に引き出される。このプラズマ生成室８には、上
部に矩形導波管１０からのマイクロ波１１を導くための
導波窓１２を設け、周囲には、導かれたマイクロ波１１
に磁界をかけてプラズマ生成室内にプラズマを発生させ
る磁気コイル１６を設けてある。又、プラズマ生成室８
には、原料ガス１３を供給する原料ガス供給路１４も取
り付けられている。一方、この原料ガス供給路１４に対
する、消費された原料ガス１３を排出する排出路１５
は、成膜室３に取り付けられている。
【００１６】この装置によって、本発明の薄膜形成方法
を実施するには、まず基板保持台４上に基板５をセット
して、成膜室３内に原料ガス１３を供給した状態で、第
１工程として光ＣＶＤ法の実施にかかる。第１工程は、
レーザー光２を光照射窓６から基板５に沿ってほぼ平行
に照射することで実施し、この第１工程で薄膜の基礎を
基板５面上に形成する。次に、第２工程としてＥＣＲプ
ラズマＣＶＤ法によって膜を成長させて薄膜の中核部の
形成に移る。但し、この第２工程については、少なくと
もＥＣＲプラズマＣＶＤ法によって実施する必要がある
が、光ＣＶＤ法を併用して実施してもよい。次に、第３
工程を光ＣＶＤ法のみによって実施し、薄膜の表面仕上
げを行う。
を実施するには、まず基板保持台４上に基板５をセット
して、成膜室３内に原料ガス１３を供給した状態で、第
１工程として光ＣＶＤ法の実施にかかる。第１工程は、
レーザー光２を光照射窓６から基板５に沿ってほぼ平行
に照射することで実施し、この第１工程で薄膜の基礎を
基板５面上に形成する。次に、第２工程としてＥＣＲプ
ラズマＣＶＤ法によって膜を成長させて薄膜の中核部の
形成に移る。但し、この第２工程については、少なくと
もＥＣＲプラズマＣＶＤ法によって実施する必要がある
が、光ＣＶＤ法を併用して実施してもよい。次に、第３
工程を光ＣＶＤ法のみによって実施し、薄膜の表面仕上
げを行う。
【００１７】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
【図１】実施例のＣＶＤ装置
５ 基板 １３ 原料ガス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森川 茂 京都府京都市下京区中堂寺南町17 株式会 社関西新技術研究所内 (72)発明者 小林 孝 京都府京都市下京区中堂寺南町17 株式会 社関西新技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 ＣＶＤ法によって基板（５）上に薄膜を
形成する薄膜形成方法であって、原料ガス（１３）に薄
膜形成のための光エネルギーを与える光ＣＶＤ法のみに
よる薄膜形成の第１工程を実施し、その後に、前記光Ｃ
ＶＤ法とＥＣＲプラズマＣＶＤ法の内の少なくともＥＣ
ＲプラズマＣＶＤ法による薄膜形成の第２工程を実施
し、その後、前記光ＣＶＤ法のみによる膜面仕上げのた
めの第３工程を実施する薄膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3232929A JP3072158B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 薄膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3232929A JP3072158B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 薄膜形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0570955A true JPH0570955A (ja) | 1993-03-23 |
| JP3072158B2 JP3072158B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=16947060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3232929A Expired - Fee Related JP3072158B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 薄膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3072158B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007111098A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及びその製造方法 |
| WO2007111074A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111075A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111076A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
-
1991
- 1991-09-12 JP JP3232929A patent/JP3072158B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007111098A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及びその製造方法 |
| WO2007111074A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111092A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111075A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
| WO2007111076A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3072158B2 (ja) | 2000-07-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080526 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526 Year of fee payment: 9 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526 |
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