JPH057035A - レーザ光発生装置 - Google Patents

レーザ光発生装置

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JPH057035A
JPH057035A JP18291491A JP18291491A JPH057035A JP H057035 A JPH057035 A JP H057035A JP 18291491 A JP18291491 A JP 18291491A JP 18291491 A JP18291491 A JP 18291491A JP H057035 A JPH057035 A JP H057035A
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JP
Japan
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laser
pumping
laser light
laser beam
light
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JP18291491A
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English (en)
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Michio Oka
美智雄 岡
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Sony Corp
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 装置を大型化することなく効率的に高出力の
レーザ光を発生する。 【構成】 レーザ媒質におれる発光パターン5a乃至5
iに対応して、ポンピング用のレーザ光を入射する光フ
ァイバ2a乃至2iを配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高出力のレーザ光を発
生する場合に用いて好適なレーザ光発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ポンピング用のレーザ光を2つの共振ミ
ラーの間に配置されたレーザ媒質に照射し、レーザ媒質
より高出力のレーザ光を発生することが出来る安定型共
振器が知られている。この安定型共振器において、さら
に高出力化を行なうには励起源を並列化し、多くのポン
ピング用レーザ光をレーザ媒質に入射させるようにすれ
ばよい。このため、従来、基本横モード(TEM00)
を効率よく発振させるように、ポンピング用のレーザ光
を発生する励起源を発振軸方向に沿って、基本横モード
のサイズ内となるように配置していた。
【0003】例えば、図8に示すように1つの発光パタ
ーンに対して、より多くのポンピング用エネルギーを集
中するには、そこにできるだけ多くのレーザ光を集中し
て照射する必要がある。このため、この例においては7
本の光ファイバを1つの発光パターンに対して集中して
配置させている。そして、7本の光ファイバより7本の
ポンピング用レーザ光を発生し、1つの発光パターンに
照射させるようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに励起源を並列化すると、この並列化により励起源サ
イズが大きくなり、基本横モードサイズを超えてしまい
効率が劣化してしまう課題がある。これを防ぐには、基
本横モードサイズを大きくすればよいのであるが、基本
横モードサイズを大きくすると、基本横モードサイズの
2乗に比例して共振器の長さを長くする必要が生じてく
る。その結果装置が大型化してしまう課題が発生する。
【0005】さらに、励起源が集中するため熱レンズ効
果、熱収差等に起因して効率が劣化するといった課題も
発生する。
【0006】本発明は、このような状況に鑑みてなされ
たものであり、装置を大型化することなく、効率的によ
り高出力のレーザ光を発生することができるようにする
ものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のレーザ光発生装
置は、高次横モードの発光パターンでレーザ光を発生す
るレーザ媒質と、このレーザ媒質に発光パターンに対応
するように、例えば複数のレーザ光からなるポンピング
エネルギーを付与するポンピング手段とを備えることを
特徴とする。
【0008】実施例においては、このポンピング手段
は、励起光源1、ファイバアレイ2およびレンズ3によ
り構成されている。
【0009】
【作用】上記構成のレーザ光発生装置においては、複数
のポンピングエネルギーが高次横モードの発光パターン
に対応するようにレーザ媒質に照射される。従って、基
本横モードのサイズを大きくする必要がなく、装置を大
型化することなく効率的に高出力のレーザ光を発生する
ことが可能になる。
【0010】
【実施例】図1は本発明のレーザ光発生装置の一実施例
の構成を示している。励起光源1は、内部に例えばレー
ザダイオード等よりなるポンピング用のレーザ光を発生
する装置が収容されている。ファイバアレイ2は複数本
の光ファイバ2a乃至2iより構成されている(図1に
おいては3本の光ファイバ2a乃至2cのみを示してい
るが、この実施例の場合、後述するように9本の光ファ
イバ2a乃至2iが正方形の各頂点、各辺の中点および
正方形の中央の点の合計9個の点に配列されている(図
2参照))。
【0011】レンズ3はファイバアレイ2より入射され
たポンピング用のレーザ光を凹面ミラー4を介して、レ
ーザ媒質5に入射させる。この実施例においては、励起
光源1、ファイバアレイ2およびレンズ3によりポンピ
ング手段を構成しているが、ポンピング用のレーザ光は
レーザダイオードのアレイを構成し、これを凹面ミラー
4に近接配置するようにして、レンズを介さずにポンピ
ング用のレーザ光を入射させるようにすることも出来
る。また、ポンピングのためのエネルギーとしては、レ
ーザ光以外に例えば電子ビーム、電流注入、放電など反
転分布を引き起こす例起源であって、選択的に励起が可
能なものを用いることが可能である。
【0012】レーザ媒質5のポンピング用のレーザ光が
入射される側に凹面ミラー4が配置されているととも
に、その反対側に凹面ミラー6が配置されており、この
凹面ミラー4、レーザ媒質5および凹面ミラー6により
レーザ光共振器7が構成されている。
【0013】凹面ミラー4は、ポンピング用のレーザ光
の殆どを透過し、レーザ媒質5により発生された基本波
レーザ光を殆ど反射するように構成されている。また、
凹面ミラー6は、レーザ媒質5により発生されたレーザ
光の数パーセント乃至十数パーセントを透過し、残りを
反射するようになされている。
【0014】この実施例においては、レーザ媒質5は、
エルミートガウシアン分布またはラゲールガウシアン分
布のTEM22モードを発振させるようになされてい
る。このTEM22モードにおいては、図2に示すよう
にレーザ媒質5における発光パターン5a乃至5iがレ
ーザ光が進行する方向から見て、正方形の中央、4角お
よび4つの辺の中点に配置されている。そこで光ファイ
バ2a乃至2iは、これらの発光パータン5a乃至5i
に対応するように、正方形の中央、4角および4辺の中
点に配置されている。その結果、光ファイバ2a乃至2
iより出射されたポンピング用のレーザ光が、それぞれ
対応する発光パターン5a乃至5iに入射されることに
なる。このように9個の発光パータンに対応して9本の
光ファイバから、ポンピング用のレーザ光を入射して発
振軸方向にそって励起してやることにより、効率よくT
EM22モードが発振可能となる。
【0015】レーザ媒質5において、発光パターン5a
乃至5iに従って9本の基本波レーザ光が発生する。こ
れらの基本波レーザ光は、凹面ミラー6と4の間を往復
する動作を繰り返し高出力のレーザ光となる。そして、
その一部のレーザ光が凹面ミラー6を透過して外部に出
力されることになる。
【0016】尚、この実施例においては発光パターン5
a乃至5iに対応して光ファイバ2a乃至2iをそれぞ
れ1本ずつ配置するようにしたが、4角の発光パータン
5a,5c,5gおよび5iは他の発光パータンに比べ
てより強いエネルギーとなっている。そこで、これらの
発光パターンには、より強いポンピング用のレーザ光を
入射させるようにすることも出来る。これは、例えば光
フアイバ2a,2c,2g,2iの径を他の光フアイバ
2b,2d,2e,2f,2hより太くしたり、或は本
数を増加することにより実現することが出来る。
【0017】このように複数の発光パターンに対応して
複数の光ファイバを配置すると、共振器7のサイズを大
きくすることなく、モードサイズを大きくすることが出
来るため、より高出力のレーザ光を発生することが出来
る。また上記実施例においては、TEM22モードで発
振させるようにしたが、TEM11,TEM33等、任
意のTEMmnモードにすることが可能である。
【0018】ところで、高次の単一横モードのみが効率
よく励起できることがわかったが、高次モードは隣接す
るピーク間(発光パータン間)で位相が180度反転し
ている。このため中心強度が低く、回折限界の微小なス
ポットが形成できないという欠点を有する。そこで例え
ば図3に示すように共振器7に近接して空間位相補償板
11を配置することが出来る。この空間位相補償板11
は、図4に示すように発光パターン5a乃至5iのう
ち、1つおきの発光パターン5a,5c,5e,5g,
5iに対応する位置に厚さdの膜11aが形成されてい
る。この厚さdは次式を満足するように設定されてい
る。 (n−1)d=λ/2+mλ
【0019】尚、この膜11aは蒸着、エッチング、イ
オン拡散等により形成することが出来る。
【0020】ここでnは空間位相補償板11の屈折率を
表わし、λはレーザ光の波長を表わし、mは整数を意味
している。即ち、この膜11aによりレーザ光の位相が
1/2波長(180度)だけ遅らされることになる。そ
の結果、空間位相補償板11より出射された発光パター
ン5a乃至5iに対応するレーザ光の位相はすべて同相
となる。これにより、図3において空間位相補償板11
を挿入しない場合には、図5(a)に示すような遠視野
像が得られることになるが、空間位相補償板11を挿入
することにより、その遠視野像は図5(b)に示すよう
になる。すなわち単峰の中心強度の高いレーザ光が得ら
れることになる。
【0021】図3の実施例においては、空間位相補償板
11の直後の近視野像が光路中においてフーリエ変換さ
れて遠視野像となり、単峰性のレーザ光を得ることが出
来るのである。従って、図6に示すように、遠視野像の
位相を空間位相補償板11により補償した後、凸レンズ
21により逆フーリエ変換すれば、単峰性の近視野像を
得ることが出来るのである。
【0022】尚、同様のことは例えば図6に示すよう
に、空間位相補償板11を遠視野に配置し、その直後に
凸レンズ21を配置してレーザ光を集束するようにして
も実現することが出来る。即ちこのようにすると、凸レ
ンズ21より出射されたレーザ光の近視野像が図5
(b)に示したような単峰性のものとなる。
【0023】また、図3に示した実施例において、その
遠視野像は図5(b)に示したようになるが、図5
(b)に示すようにこの遠視野像にはサイドピークが発
生している。レーザ光の用途によっては、このサイドピ
ークが邪魔になる場合がある。そこで、このような場合
においては、図7に示すように遠視野にアパーチャ31
を配置し、その直後に凸レンズ21を配置することによ
り、サイドピークをアパーチャ31により除去した後、
中心の強度の高いレーザ光のみを得ることが出来る。こ
れにより、回折限界の微小なスポットが形成できること
になる。
【0024】このように空間位相補償板11を配置する
ことにより、単峰性のレーザ光を得ることが出来るが、
この他例えば非線形光学結晶素子(KTiOPO4)を共
振器7の後段に配置し、第2高調波レーザ光を発生させ
ることにより、単一位相のレーザ光を得ることも出来
る。
【0025】
【発明の効果】以上の如く本発明のレーザ光発生装置に
よれば、レーザ媒質に対して発光パターンに対応するよ
うに複数のポンピングエネルギーを付与するようにした
ので、装置を大型化することなく効率的に高出力のレー
ザ光を発生することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレーザ光発生装置の一実施例の構成を
示す図
【図2】図1の実施例のレーザ媒質5における発光パタ
ーンと光ファイバの配列を説明する図
【図3】本発明のレーザ光発生装置の第2の実施例の構
成を示す図
【図4】図3の実施例における空間位相補償板11の構
成を示す図
【図5】図3の実施例における遠視野像を説明する図
【図6】本発明のレーザ光発生装置の第3の実施例の構
成を示す図
【図7】本発明のレーザ光発生装置の第4の実施例の構
成を示す図
【図8】従来のレーザ光発生装置における発光パータン
と光ファイバの配列状態を説明する図
【符号の説明】
1 励起光源 2 光ファイバアレイ 2a乃至2i 光ファイバ 3 レンズ 4 凹面ミラー 5 レーザ媒質 6 凹面ミラー 7 共振器 5a乃至5i 発光パターン 11 空間位相補償板 11a 膜

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 複数のポンピングエネルギーが付与さ
    れ、高次横モードの発光パターンでレーザ光を発生する
    レーザ媒質と、前記レーザ媒質に、前記発光パターンに
    対応するように複数のポンピングエネルギーを付与する
    ポンピング手段とを備えることを特徴とするレーザ光発
    生装置。
JP18291491A 1991-06-27 1991-06-27 レーザ光発生装置 Withdrawn JPH057035A (ja)

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JP18291491A JPH057035A (ja) 1991-06-27 1991-06-27 レーザ光発生装置

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JP (1) JPH057035A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06205873A (ja) * 1993-12-01 1994-07-26 Nishijin:Kk 遊技店における計数管理装置
JPH07620A (ja) * 1993-12-27 1995-01-06 Nishijin:Kk パチンコ機における調整遊技装置
JP2017053989A (ja) * 2015-09-09 2017-03-16 株式会社東芝 量子計算機及び量子計算方法

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Effective date: 19980903