JPH0561047A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
- Publication number
- JPH0561047A JPH0561047A JP22002391A JP22002391A JPH0561047A JP H0561047 A JPH0561047 A JP H0561047A JP 22002391 A JP22002391 A JP 22002391A JP 22002391 A JP22002391 A JP 22002391A JP H0561047 A JPH0561047 A JP H0561047A
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- Japan
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- liquid crystal
- thickness
- area
- electrodes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】セルギャップを表示部全域にわたり均一に制御
することができる液晶表示素子を提供することである。 【構成】パターン化された透明電極３，４が形成された
一対の透明絶縁基板１，２において、配向膜５，７、
６，８を透明電極３，４の有る領域と無い領域に応じて
厚みを変えて設けた液晶表示素子に関する。
することができる液晶表示素子を提供することである。 【構成】パターン化された透明電極３，４が形成された
一対の透明絶縁基板１，２において、配向膜５，７、
６，８を透明電極３，４の有る領域と無い領域に応じて
厚みを変えて設けた液晶表示素子に関する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶層の厚みを一定と
する液晶表示素子に関するものである。
する液晶表示素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ドットマトリックス表示を行う液晶表示
素子は、近年益々表示文字数が増加し、高密度化してき
ている。このため、走査電極数が増加し、駆動のデュー
ティ比が増大してきているため、高デューティ比でも高
いコントラスト比が得られる高ツイスト角（以下、ＳＴ
Ｎ型という）の液晶表示素子が採用されてきている。
素子は、近年益々表示文字数が増加し、高密度化してき
ている。このため、走査電極数が増加し、駆動のデュー
ティ比が増大してきているため、高デューティ比でも高
いコントラスト比が得られる高ツイスト角（以下、ＳＴ
Ｎ型という）の液晶表示素子が採用されてきている。
【０００３】また、液晶表示素子の高密度化，大型化と
共に、ＳＴＮ型の液晶表示素子は、透明電極の抵抗値を
下げる必要もでてきた。このために、透明電極の膜厚が
厚くなってきている。しかし、ＳＴＮ型の液晶表示素子
は液晶層の厚み（以下、セルギャップという）の精密な
制御が必要であるために、透明電極のない領域では、セ
ルギャップが厚くなり、色がついてしまうという問題が
あった。通常のＳＴＮ型の液晶表示素子のセルギャップ
は、０．２μｍより小さくなれば、色についての差は発
生しない。
共に、ＳＴＮ型の液晶表示素子は、透明電極の抵抗値を
下げる必要もでてきた。このために、透明電極の膜厚が
厚くなってきている。しかし、ＳＴＮ型の液晶表示素子
は液晶層の厚み（以下、セルギャップという）の精密な
制御が必要であるために、透明電極のない領域では、セ
ルギャップが厚くなり、色がついてしまうという問題が
あった。通常のＳＴＮ型の液晶表示素子のセルギャップ
は、０．２μｍより小さくなれば、色についての差は発
生しない。
【０００４】特に、プラスチックフイルム基板上に透明
電極を形成して液晶表示素子とする場合、該プラスチッ
クフイルム基板に熱を加えることが困難であり、透明電
極の抵抗値を下げるためには、膜厚を厚くして対応して
いる。現状では、デューティ比が１／４００になると、
透明電極の膜厚は、０．２μｍ程度にまで厚くなってい
る。したがって、透明電極のない領域では、セルギャッ
プが厚くなり、色がついてしまうことが非常に多く発生
している。
電極を形成して液晶表示素子とする場合、該プラスチッ
クフイルム基板に熱を加えることが困難であり、透明電
極の抵抗値を下げるためには、膜厚を厚くして対応して
いる。現状では、デューティ比が１／４００になると、
透明電極の膜厚は、０．２μｍ程度にまで厚くなってい
る。したがって、透明電極のない領域では、セルギャッ
プが厚くなり、色がついてしまうことが非常に多く発生
している。
【０００５】図２には、従来の液晶表示素子を示してい
る。プラスチックフイルムからなる一対の透明絶縁基板
１１，１２の対向する面には、ＩＴＯからなる透明電極
１３，１４が所定のパターンに加工され、この透明電極
１３，１４を形成した基板１１，１２上に一定の厚みの
配向膜１７，１８を設け、該配向膜１７，１８に配向処
理を行い、両基板１１，１２間に、基板間のセルギャッ
プを一定に維持するためのスペーサ材１９を分散し、図
示されないシール材で両基板１１，１２を接合する。し
かる後、セルを加圧しながら液晶１０を封入し、両基板
の間隔を一定に保つように構成した液晶表示素子が提供
されている。
る。プラスチックフイルムからなる一対の透明絶縁基板
１１，１２の対向する面には、ＩＴＯからなる透明電極
１３，１４が所定のパターンに加工され、この透明電極
１３，１４を形成した基板１１，１２上に一定の厚みの
配向膜１７，１８を設け、該配向膜１７，１８に配向処
理を行い、両基板１１，１２間に、基板間のセルギャッ
プを一定に維持するためのスペーサ材１９を分散し、図
示されないシール材で両基板１１，１２を接合する。し
かる後、セルを加圧しながら液晶１０を封入し、両基板
の間隔を一定に保つように構成した液晶表示素子が提供
されている。
【０００６】この場合、透明電極１３，１４の有無の状
態により、基板間隔を一定に維持することは、困難であ
り、この対策の一つとして、従来、電極やダミー配線を
表示領域外の部分に設けて、セルギャップを一定に制御
する手段（例えば、特開昭６４−９４２４号公報、特開
昭６３−２６６３１号公報）が公知である。しかし、前
記電極を設けることによって、その部分に電圧がかかる
ことがあり、駆動の際に別のドライバーを必要とするこ
とになる。
態により、基板間隔を一定に維持することは、困難であ
り、この対策の一つとして、従来、電極やダミー配線を
表示領域外の部分に設けて、セルギャップを一定に制御
する手段（例えば、特開昭６４−９４２４号公報、特開
昭６３−２６６３１号公報）が公知である。しかし、前
記電極を設けることによって、その部分に電圧がかかる
ことがあり、駆動の際に別のドライバーを必要とするこ
とになる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の欠点
を解消し、セルギャップを表示部全域にわたり均一に制
御することができる液晶表示素子を提供することを目的
とするものである。
を解消し、セルギャップを表示部全域にわたり均一に制
御することができる液晶表示素子を提供することを目的
とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、一対の透明絶縁基板にはパターン化され
た透明電極が形成され、その上に配向膜を設け、且つ対
向させた透明絶縁基板の間に液晶を充填して形成された
液晶表示素子において、前記配向膜の厚さについて、透
明電極のない領域を透明電極の有る領域よりも厚く形成
したことを特徴とするものである。
成するために、一対の透明絶縁基板にはパターン化され
た透明電極が形成され、その上に配向膜を設け、且つ対
向させた透明絶縁基板の間に液晶を充填して形成された
液晶表示素子において、前記配向膜の厚さについて、透
明電極のない領域を透明電極の有る領域よりも厚く形成
したことを特徴とするものである。
【０００９】また、本発明は、前記透明電極のない領域
の配向膜の厚さｔ1μｍ、透明電極の有る領域の配向膜
の厚さｔ2 μｍ、透明電極の厚さｔ3 の関係が、 ┃ｔ1 −（ｔ2 ＋ｔ3 ）┃≦０．１μｍ であることを特徴とし、更に、配向膜の膜厚は透明電極
のない領域では、０．１８〜０．２２μｍであり、透明
電極の有る領域では、０．０８〜０．１２μｍであるこ
とを特徴をするものである。
の配向膜の厚さｔ1μｍ、透明電極の有る領域の配向膜
の厚さｔ2 μｍ、透明電極の厚さｔ3 の関係が、 ┃ｔ1 −（ｔ2 ＋ｔ3 ）┃≦０．１μｍ であることを特徴とし、更に、配向膜の膜厚は透明電極
のない領域では、０．１８〜０．２２μｍであり、透明
電極の有る領域では、０．０８〜０．１２μｍであるこ
とを特徴をするものである。
【００１０】
【作用】本発明の構成により、一対の透明絶縁基板上に
形成された透明電極の有る領域と無い領域とにより配向
膜の厚みを変え、このため、表示部全域にわたりセルギ
ャップを均一に格別の手段を付加することなく制御する
ことができる作用をもたらす。
形成された透明電極の有る領域と無い領域とにより配向
膜の厚みを変え、このため、表示部全域にわたりセルギ
ャップを均一に格別の手段を付加することなく制御する
ことができる作用をもたらす。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１には、本発明の液晶表示素子の断面の一部を
示している。一対の透明絶縁基板１，２の対向する面に
は、Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 （ＩＴＯ），ＳｎＯ2 等から
なる透明電極３，４を形成し、該透明電極３，４は所定
のパターンに加工される。パターンの代表例としては、
ストライプ状のパターンがあり、例えば、一方の透明絶
縁基板１には、６４０本に分割されたストライプ状のパ
ターンが形成され、他方の透明絶縁基板２には、前記ス
トライプ状のパターンに直交する４００本に分割された
ストライプ状のパターンが形成され、６４０×４００ド
ットの表示素子を得ることができる。勿論、透明電極の
パターンの構成としてはストライプ状に限らず、特殊な
形状をしたキャラクタの構成を用いることができる。
する。図１には、本発明の液晶表示素子の断面の一部を
示している。一対の透明絶縁基板１，２の対向する面に
は、Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 （ＩＴＯ），ＳｎＯ2 等から
なる透明電極３，４を形成し、該透明電極３，４は所定
のパターンに加工される。パターンの代表例としては、
ストライプ状のパターンがあり、例えば、一方の透明絶
縁基板１には、６４０本に分割されたストライプ状のパ
ターンが形成され、他方の透明絶縁基板２には、前記ス
トライプ状のパターンに直交する４００本に分割された
ストライプ状のパターンが形成され、６４０×４００ド
ットの表示素子を得ることができる。勿論、透明電極の
パターンの構成としてはストライプ状に限らず、特殊な
形状をしたキャラクタの構成を用いることができる。
【００１２】次いで、各透明絶縁基板１，２上におい
て、透明電極３，４が形成されていない領域には、ポリ
イミド、ポリアミド等の樹脂や、ＳｉＯ2 のような無機
ガラス等からなる透明絶縁層５，６を設ける。透明絶縁
層５，６としては、配向膜が用いられる。本発明におい
て、透明絶縁層は配向膜で形成されるので、従来の工程
を大きく変更することなく、液晶表示素子を形成するこ
とができる。
て、透明電極３，４が形成されていない領域には、ポリ
イミド、ポリアミド等の樹脂や、ＳｉＯ2 のような無機
ガラス等からなる透明絶縁層５，６を設ける。透明絶縁
層５，６としては、配向膜が用いられる。本発明におい
て、透明絶縁層は配向膜で形成されるので、従来の工程
を大きく変更することなく、液晶表示素子を形成するこ
とができる。
【００１３】以上のように、一対の透明絶縁基板１，２
の表面に、透明電極３，４と配向膜からなる透明絶縁層
５，６とを形成した後、必要に応じて、カラーフイルタ
ー層、遮光層、絶縁層等のドーバーコート層を設け、そ
の上に配向膜７，８を形成する。この配向膜７，８は、
ラビングに代表される配向処理を施される。
の表面に、透明電極３，４と配向膜からなる透明絶縁層
５，６とを形成した後、必要に応じて、カラーフイルタ
ー層、遮光層、絶縁層等のドーバーコート層を設け、そ
の上に配向膜７，８を形成する。この配向膜７，８は、
ラビングに代表される配向処理を施される。
【００１４】この透明絶縁層（配向膜）５，６の膜厚
は、透明絶縁基板１，２の表面上の透明電極の有無によ
るセルギャップの差が０．２μｍより小さく設定されれ
ば良いことが分かった。セルギャップの差が０．２μｍ
以下であれば、ＳＴＮ型の液晶表示素子においても、大
きな色の違いは表れることがない。尚、透明絶縁基板
１，２の表面に、透明電極３，４を形成し、その上に配
向膜７，８を形成を形成した後、透明絶縁層（配向膜）
５，６を形成することも可能であり、その後に、配向処
理を施してもよいことは明らかである。
は、透明絶縁基板１，２の表面上の透明電極の有無によ
るセルギャップの差が０．２μｍより小さく設定されれ
ば良いことが分かった。セルギャップの差が０．２μｍ
以下であれば、ＳＴＮ型の液晶表示素子においても、大
きな色の違いは表れることがない。尚、透明絶縁基板
１，２の表面に、透明電極３，４を形成し、その上に配
向膜７，８を形成を形成した後、透明絶縁層（配向膜）
５，６を形成することも可能であり、その後に、配向処
理を施してもよいことは明らかである。
【００１５】このようにして形成してなる透明絶縁基板
１，２の内のいずれかの透明絶縁基板の対向面には、そ
の周辺部分にシール材を印刷し、且つ基板間隙を一定に
維持するために、公知のガラス繊維，プラスチックビー
ズ，セラミックス粒子等のスペーサ材９を配置される。
前記スペーサ材９は透明絶縁基板の表面に気体により散
布したり、低沸点の液体に分散させて散布することがで
きる。
１，２の内のいずれかの透明絶縁基板の対向面には、そ
の周辺部分にシール材を印刷し、且つ基板間隙を一定に
維持するために、公知のガラス繊維，プラスチックビー
ズ，セラミックス粒子等のスペーサ材９を配置される。
前記スペーサ材９は透明絶縁基板の表面に気体により散
布したり、低沸点の液体に分散させて散布することがで
きる。
【００１６】しかる後、透明絶縁基板１，２は前記シー
ル材により接合され、シール材で接合された透明絶縁基
板１，２の間には、液晶１０が注入口から注入される。
液晶１０の注入が完了すると、注入口は封止される。液
晶の注入に際しては、透明絶縁基板１，２の外側から機
械的に圧力を加え、透明絶縁基板１，２の間の空間を減
圧して注入を行うと、セルギャップを均一に作製するこ
とができる。
ル材により接合され、シール材で接合された透明絶縁基
板１，２の間には、液晶１０が注入口から注入される。
液晶１０の注入が完了すると、注入口は封止される。液
晶の注入に際しては、透明絶縁基板１，２の外側から機
械的に圧力を加え、透明絶縁基板１，２の間の空間を減
圧して注入を行うと、セルギャップを均一に作製するこ
とができる。
【００１７】透明絶縁基板１，２としてプラスチック基
板を用いた場合についての具体的実施態様について述べ
る。各プラスチック基板上に、透明電極としてＩＴＯ薄
膜を０．２μｍ形成する。このＩＴＯ薄膜には、夫々６
４０×４００ドットに対応するストライプ状のパターン
を形成する。
板を用いた場合についての具体的実施態様について述べ
る。各プラスチック基板上に、透明電極としてＩＴＯ薄
膜を０．２μｍ形成する。このＩＴＯ薄膜には、夫々６
４０×４００ドットに対応するストライプ状のパターン
を形成する。
【００１８】次に、フレキソ印刷法により、配向膜を形
成するため、ストライプ状のパターンを形成したプラス
チック基板上に、配向剤を印刷する。配向剤の印刷につ
いては二回行い、ＩＴＯ薄膜の有る領域とＩＴＯ薄膜の
無い領域とでは、配向膜の膜厚を変えて行う。この時、
配向膜の膜厚は、ＩＴＯ薄膜の有る領域の上では０．０
８μｍ〜０．１２μｍ、ＩＴＯ薄膜の無い領域の上では
０．１８μｍ〜０．２２μｍとする。これにより、ＩＴ
Ｏ薄膜の有無の差によるセルギャップの差は、０．２μ
ｍ以下となって不均一性を改善できる。
成するため、ストライプ状のパターンを形成したプラス
チック基板上に、配向剤を印刷する。配向剤の印刷につ
いては二回行い、ＩＴＯ薄膜の有る領域とＩＴＯ薄膜の
無い領域とでは、配向膜の膜厚を変えて行う。この時、
配向膜の膜厚は、ＩＴＯ薄膜の有る領域の上では０．０
８μｍ〜０．１２μｍ、ＩＴＯ薄膜の無い領域の上では
０．１８μｍ〜０．２２μｍとする。これにより、ＩＴ
Ｏ薄膜の有無の差によるセルギャップの差は、０．２μ
ｍ以下となって不均一性を改善できる。
【００１９】この工程の後は、従来と同様の工程で行う
ことができる。すなわち、ラビングによる配向処理、シ
ール材印刷、ギヤップ材散布、プラスチック基板の重ね
合わせ、液晶注入及び注入口の封止等の工程を経て、液
晶表示素子を作製することができる。このような本発明
によれば、従来の液晶表示素子の製造工程を大きく変更
することなく、色の違いの原因となる透明電極の膜厚に
よるセルギャップの不均一性を改善することができる。
ことができる。すなわち、ラビングによる配向処理、シ
ール材印刷、ギヤップ材散布、プラスチック基板の重ね
合わせ、液晶注入及び注入口の封止等の工程を経て、液
晶表示素子を作製することができる。このような本発明
によれば、従来の液晶表示素子の製造工程を大きく変更
することなく、色の違いの原因となる透明電極の膜厚に
よるセルギャップの不均一性を改善することができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の構成により、透明電極の形成の
有無によって生じるセルギャップの不均一性を、透明絶
縁膜を設けるという簡単な工程の付加により修正するこ
とができ、透明絶縁膜として配向膜を使用するため、液
晶表示素子の製造工程に大きな変更を与えることなく、
透明電極の形成されない領域における色むらを解消する
ことができる。
有無によって生じるセルギャップの不均一性を、透明絶
縁膜を設けるという簡単な工程の付加により修正するこ
とができ、透明絶縁膜として配向膜を使用するため、液
晶表示素子の製造工程に大きな変更を与えることなく、
透明電極の形成されない領域における色むらを解消する
ことができる。
【図１】本発明の液晶表示素子の一部断面図である。
【図２】従来の液晶表示素子の一部断面図である。
１，２ 透明絶縁基板 ３，４ 透明電極のパターン ５，６ 透明絶縁膜（配向膜） ７，８ 配向膜 ９ スペーサ材 １０ 液晶
Claims (3)
- 【請求項１】 一対の透明絶縁基板にはパターン化され
た透明電極が形成され、その上に配向膜を設け、且つ対
向させた透明絶縁基板の間に液晶を充填して形成された
液晶表示素子において、前記配向膜の厚さについて、透
明電極のない領域を透明電極の有る領域よりも厚く形成
したことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項２】 前記透明電極のない領域の配向膜の厚さ
ｔ1 μｍ、透明電極の有る領域の配向膜の厚さｔ2 μ
ｍ、透明電極の厚さｔ3の関係が、 ┃ｔ1 −（ｔ2 ＋ｔ3 ）┃≦０．１μｍ であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。 - 【請求項３】 配向膜の膜厚は透明電極のない領域で
は、０．１８〜０．２２μｍであり、透明電極の有る領
域では、０．０８〜０．１２μｍであることを特徴をす
る請求項２記載の液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22002391A JPH0561047A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22002391A JPH0561047A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0561047A true JPH0561047A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16744727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22002391A Withdrawn JPH0561047A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0561047A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9417481B2 (en) | 2013-08-07 | 2016-08-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP22002391A patent/JPH0561047A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9417481B2 (en) | 2013-08-07 | 2016-08-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |