JPH0560904A - Optical parts and production thereof - Google Patents
Optical parts and production thereofInfo
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- JPH0560904A JPH0560904A JP24433491A JP24433491A JPH0560904A JP H0560904 A JPH0560904 A JP H0560904A JP 24433491 A JP24433491 A JP 24433491A JP 24433491 A JP24433491 A JP 24433491A JP H0560904 A JPH0560904 A JP H0560904A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光学部品およびその製造
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical component and its manufacturing method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、カメラ、テレビプロジェクター、
複写機などの光学系に搭載される光学部品の材料として
アクリル樹脂などの合成樹脂が広く用いられており、例
えば、合成樹脂を基板とし、この基板の表面に無機物質
からなる光学膜が形成された光学部品が知られている。2. Description of the Related Art In recent years, cameras, television projectors,
Synthetic resins such as acrylic resins are widely used as materials for optical components mounted in optical systems such as copying machines. For example, a synthetic resin is used as a substrate, and an optical film made of an inorganic substance is formed on the surface of the substrate. Optical components are known.
【０００３】しかして、このような光学部品を製造する
場合、基板を構成する合成樹脂の耐熱性がガラスより低
いことから、基板の表面に光学膜を形成する手段として
真空中での加熱蒸着手段を適用することができない。However, when manufacturing such an optical component, the heat resistance of the synthetic resin forming the substrate is lower than that of glass, and therefore, heating vapor deposition means in vacuum is used as a means for forming an optical film on the surface of the substrate. Cannot be applied.
【０００４】従来、合成樹脂製基板の表面に光学膜例え
ば反射防止膜を形成する場合、光学膜の膜構成および形
成方法として、以下のような技術が提案されている。 基板の表面に、酸化シリコンや酸化アルミニウムな
どよりなる中間層を形成し、更に、この中間層上に反射
防止膜を形成する技術。 シリコン樹脂などの有機材料を基板の表面に塗布し
てハードコート層を形成し、更に、このハードコート層
上に反射防止膜を形成する技術。Conventionally, in the case of forming an optical film such as an antireflection film on the surface of a synthetic resin substrate, the following techniques have been proposed as a film structure and forming method of the optical film. A technology that forms an intermediate layer of silicon oxide or aluminum oxide on the surface of a substrate, and then forms an antireflection film on this intermediate layer. A technique in which an organic material such as silicon resin is applied to the surface of a substrate to form a hard coat layer, and then an antireflection film is formed on the hard coat layer.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、の技
術では、中間層の厚さを相当に大きくする必要があるた
めに、形成される光学膜が基板から剥離したり、光学膜
にクラックが発生しやすくなるなど光学部品としての耐
久性に劣る、という問題を有する。また、の技術で
は、ハードコート層を均一に塗布することが困難である
ために、カメラレンズなどの高精度レンズには適用でき
ない、という問題を有する。このように、従来の技術で
は、良好な耐久性を有するものとして、満足できる光学
部品は提供されていないのが現状である。However, in the technique of (1), since the thickness of the intermediate layer needs to be considerably increased, the optical film to be formed is peeled from the substrate or cracks are generated in the optical film. There is a problem that the durability as an optical component is poor such that it becomes easy. Further, the technique (2) has a problem that it cannot be applied to a high precision lens such as a camera lens because it is difficult to apply the hard coat layer uniformly. As described above, the conventional technology has not yet provided satisfactory optical components that have good durability.
【０００６】本発明は、以上のような事情に基づいてな
されたものであって、本発明の第１の目的は、光学膜の
剥離やクラックなどが発生しにくく、良好な耐久性を有
する光学部品を提供することにある。The present invention has been made under the circumstances described above, and the first object of the present invention is to provide an optical film having good durability, in which peeling or cracking of the optical film is unlikely to occur. It is to provide parts.
【０００７】本発明の第２の目的は、上記の光学部品を
好適に製造する方法を提供することにある。A second object of the present invention is to provide a method for manufacturing the above optical component.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の光学部品は、合
成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成された単一
の無機物質からなる無機物質膜とよりなり、前記無機物
質膜は、最も高い硬度を有する高硬度部分層と、最も低
い硬度を有する低硬度部分層とを含む２層以上の部分層
により構成され、前記低硬度部分層は、前記高硬度部分
層よりも基板側に形成されていることを特徴とする。ま
た、高硬度部分層が基板から最も離間して形成されてい
ることが好ましい。また、無機物質膜の表面上に、この
無機物質膜とは異なる無機物質からなる被覆膜が少なく
とも１層以上形成されていることが好ましい。また、基
板から最も離間して形成された被覆膜が、無機物質膜の
低硬度部分層の硬度より高い硬度を有することが好まし
い。また、無機物質膜がシリコン酸化物により構成され
ていることが好ましい。The optical component of the present invention comprises a substrate made of synthetic resin and an inorganic substance film made of a single inorganic substance formed on the surface of the substrate. Is composed of two or more partial layers including a high hardness partial layer having the highest hardness and a low hardness partial layer having the lowest hardness, and the low hardness partial layer is a substrate more than the high hardness partial layer. It is characterized in that it is formed on the side. Further, it is preferable that the high-hardness partial layer is formed farthest from the substrate. Further, it is preferable that at least one coating film made of an inorganic material different from the inorganic material film is formed on the surface of the inorganic material film. Further, it is preferable that the coating film formed farthest from the substrate has a hardness higher than that of the low hardness partial layer of the inorganic substance film. Further, it is preferable that the inorganic material film is made of silicon oxide.
【０００９】本発明の光学部品は、合成樹脂製の基板
と、この基板の表面上に形成された２層以上の無機物質
層とよりなり、基板側から数えて第２層目以降の無機物
質層のうち少なくとも１層は、基板から数えて第１層目
の無機物質層の硬度よりも高い硬度を有することを特徴
とする。また、基板から最も離間して形成された無機物
質層が、第１層目の無機物質層の硬度よりも高い硬度を
有することが好ましい。また、第１層目の無機物質層が
シリコン酸化物により構成されていることが好ましい。The optical component of the present invention comprises a substrate made of synthetic resin and two or more inorganic material layers formed on the surface of the substrate. The inorganic material of the second and subsequent layers counted from the substrate side. At least one of the layers has a hardness higher than that of the first inorganic material layer counted from the substrate. Further, it is preferable that the inorganic material layer formed farthest from the substrate has a hardness higher than that of the first inorganic material layer. Further, it is preferable that the first inorganic material layer is made of silicon oxide.
【００１０】本発明の光学部品は、合成樹脂製の基板
と、この基板の表面上に形成された第１の無機物質層
と、この第１の無機物質層の表面上に形成された第２の
無機物質層とよりなり、第２の無機物質層は、第１の無
機物質層の硬度よりも高い硬度を有することを特徴とす
る。また、第１の無機物質層がシリコン酸化物により構
成されていることが好ましい。The optical component of the present invention comprises a substrate made of synthetic resin, a first inorganic substance layer formed on the surface of the substrate, and a second inorganic substance layer formed on the surface of the first inorganic substance layer. And the second inorganic material layer has a hardness higher than that of the first inorganic material layer. Further, it is preferable that the first inorganic material layer is made of silicon oxide.
【００１１】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、無機物よりなる膜を基板
上に形成する工程を含む光学部品の製造方法であって、
イオン発生源により発生するイオンガスの量を経時的に
変化させることを特徴とする。According to the method of manufacturing an optical component of the present invention, a substrate made of synthetic resin is arranged in a vacuum apparatus provided with at least an evaporation source and an ion generation source, and an introduction gas is supplied into the vacuum apparatus to generate ions. A method of manufacturing an optical component, which comprises a step of forming a film made of an inorganic substance on a substrate while ionizing an introduced gas by a source to generate an ion gas,
It is characterized in that the amount of ion gas generated by the ion generation source is changed with time.
【００１２】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、単一の無機物質からなる
無機物質膜を形成する工程を含み、この工程において、
イオン発生源により発生するイオンガスの量を最小にし
て低硬度部分層を形成することを特徴とする。また、イ
オン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した高硬度部分層を形成すること
が好ましい。また、イオン発生源により発生するイオン
ガスの量を最大にして、基板から最も離間した被覆膜を
形成することが好ましい。According to the method of manufacturing an optical component of the present invention, a substrate made of synthetic resin is placed in a vacuum apparatus provided with at least an evaporation source and an ion generation source, and an introduction gas is supplied into the vacuum apparatus to generate ions. While ionizing the introduced gas by the source to generate the ion gas, including a step of forming an inorganic material film consisting of a single inorganic material, in this step,
It is characterized in that the low hardness partial layer is formed by minimizing the amount of ion gas generated by the ion generation source. It is also preferable to maximize the amount of ion gas generated by the ion generation source to form the high-hardness partial layer that is most distant from the substrate. It is also preferable to maximize the amount of ion gas generated by the ion source to form the coating film that is most distant from the substrate.
【００１３】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、無機物質層を２層以上形
成する工程を含み、この工程において、イオン発生源に
より発生するイオンガスの量を最小にして第１層目の無
機物質層を形成することを特徴とする。また、イオン発
生源により発生するイオンガスの量を最大にして、基板
から最も離間した無機物質層を形成することが好まし
い。According to the method of manufacturing an optical component of the present invention, a substrate made of synthetic resin is arranged in a vacuum apparatus provided with at least an evaporation source and an ion generation source, and an introduction gas is supplied into the vacuum apparatus to generate ions. A step of forming two or more inorganic material layers while ionizing the introduced gas by the ion source to generate the ion gas. In this step, the amount of the ion gas generated by the ion source is minimized to form the first layer. Is formed. It is also preferable to maximize the amount of ion gas generated by the ion generation source to form the inorganic material layer that is most distant from the substrate.
【００１４】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、それぞれ異なる無機物質
からなる第１の無機物質層および第２の無機物質層を形
成する工程を含み、この工程において、第２の無機物質
層の形成時に発生するイオンガスの量を、第１の無機物
質層の形成時に発生するイオンガスの量より多くなるよ
う設定したことを特徴とする。According to the method of manufacturing an optical component of the present invention, a substrate made of synthetic resin is placed in a vacuum apparatus provided with at least an evaporation source and an ion generation source, and an introduction gas is supplied into the vacuum apparatus to generate ions. A step of forming a first inorganic material layer and a second inorganic material layer made of different inorganic materials while ionizing the introduced gas by a source to generate the ion gas, and in this step, the second inorganic material layer is formed. It is characterized in that the amount of ion gas generated during the formation of the layer is set to be larger than the amount of ion gas generated during the formation of the first inorganic material layer.
【００１５】[0015]
【作用】 基板側に形成された低硬度部分層は、無機物質の密
度が小さくて十分な柔軟性を有するので、基板と無機物
質膜との熱膨張率の差に起因する寸法変化が吸収され
る。また、低硬度部分層よりも外側に形成された無機物
質の密度の大きい高硬度部分層により表面が保護され
る。従って、無機物質膜全体としての耐久性が向上し、
光学膜の剥離やクラックが発生しにくい。 ２層以上の無機物質層とよりなり、第２層目以降の
無機物質層のうち少なくとも１層が、第１層目の無機物
質層の硬度よりも高い硬度を有するので、第１層目の無
機物質層により熱膨張率の差に起因する寸法変化が吸収
され、第２層目以降の無機物質層のうち少なくとも１層
により表面が保護される。従って、全体としての耐久性
が向上し、光学膜の剥離やクラックが発生しにくい。[Function] Since the low-hardness partial layer formed on the substrate side has a low density of the inorganic substance and has sufficient flexibility, the dimensional change due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the substrate and the inorganic substance film is absorbed. It Further, the surface is protected by the high hardness partial layer having a high density of the inorganic substance formed outside the low hardness partial layer. Therefore, the durability of the inorganic material film as a whole is improved,
Hardly peeling or cracking of the optical film. At least one of the second and subsequent inorganic material layers has a hardness higher than the hardness of the first inorganic material layer. The dimensional change due to the difference in coefficient of thermal expansion is absorbed by the inorganic material layer, and the surface is protected by at least one of the second and subsequent inorganic material layers. Therefore, the durability as a whole is improved, and peeling or cracking of the optical film is unlikely to occur.
【００１６】以下、本発明について具体的に説明する。The present invention will be specifically described below.
【００１７】＜第１の発明＞本発明のうち第１の発明
は、合成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成され
た単一の無機物質からなる無機物質膜とよりなる光学部
品である。<First Invention> A first invention of the present invention is an optical component comprising a substrate made of synthetic resin and an inorganic substance film made of a single inorganic substance formed on the surface of the substrate. Is.
【００１８】基板を構成する合成樹脂としては、例えば
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン
樹脂などを挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。As the synthetic resin constituting the substrate, for example, acrylic resin, polycarbonate resin, polyolefin resin and the like can be mentioned, but the invention is not limited thereto.
【００１９】無機物質膜は、最も高い硬度を有する高硬
度部分層と、最も低い硬度を有する低硬度部分層とを含
む２層以上の部分層により構成され、低硬度部分層は高
硬度部分層よりも基板側に配置されている。これによ
り、無機物質膜としての耐久性が向上し、光学膜の剥離
やクラックが発生しにくい強度の大きい光学部品とな
る。The inorganic substance film is composed of two or more partial layers including a high hardness partial layer having the highest hardness and a low hardness partial layer having the lowest hardness. The low hardness partial layer is the high hardness partial layer. It is arranged closer to the substrate side. As a result, the durability of the inorganic material film is improved, and the optical component has high strength in which peeling or cracking of the optical film does not easily occur.
【００２０】第１の発明において、高硬度部分層の形成
位置は、低硬度部分層の外側（基板側とは反対側）であ
れば特に限定されないが、基板から最も離間した位置
（最上部）に高硬度部分層が形成されている光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。In the first invention, the formation position of the high-hardness partial layer is not particularly limited as long as it is outside the low-hardness partial layer (on the side opposite to the substrate side), but the position farthest from the substrate (uppermost part). The optical component in which the high hardness partial layer is formed is preferable because the surface protection effect is sufficiently exhibited.
【００２１】無機物質膜の膜厚は、例えば１００〜５０
０ｎｍである。また、低硬度部分層の膜厚は、無機物質
膜の構成および膜厚、使用目的などによって異なるが、
基板と無機物質膜との密着性、並びにクラック発生防止
の観点から、５ｎｍ以上であることが好ましい。The thickness of the inorganic substance film is, for example, 100 to 50.
It is 0 nm. The thickness of the low-hardness partial layer varies depending on the structure and thickness of the inorganic substance film, the purpose of use, etc.
From the viewpoint of the adhesion between the substrate and the inorganic material film and the prevention of cracks, the thickness is preferably 5 nm or more.
【００２２】また、第１の発明において、２層以上の部
分層よりなる無機物質膜の表面上に、この無機物質膜と
は異なる無機物質からなる被覆膜が少なくとも１層以上
形成されていてもよく、この場合において、基板から最
も離間した位置（最上部）に形成された被覆膜の硬度
が、無機物質膜の低硬度部分層の硬度より高い光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。Further, in the first invention, at least one or more coating films made of an inorganic substance different from the inorganic substance film are formed on the surface of the inorganic substance film made of two or more partial layers. In this case, an optical component in which the hardness of the coating film formed at the position most distant from the substrate (uppermost part) is higher than the hardness of the low hardness partial layer of the inorganic substance film has sufficient surface protection effect. It is preferable because it is expressed in.
【００２３】更に、無機物質膜を構成する無機物質がシ
リコン酸化物である場合には、合成樹脂製の基板との密
着性に優れている点で好ましい。Further, it is preferable that the inorganic substance forming the inorganic substance film is silicon oxide, because it is excellent in adhesion to the substrate made of synthetic resin.
【００２４】第１の発明において、合成樹脂製の基板上
に無機物質膜を形成する手段としては、例えば真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビームアシステッ
ド法、スパッタリング法などの公知の膜形成手段を挙げ
ることができる。この場合において、硬度の異なる部分
層を２層以上積層させることにより、厚さ方向において
硬度を変化させることが必要である。In the first invention, as the means for forming the inorganic substance film on the substrate made of synthetic resin, for example, known film formation methods such as vacuum deposition method, ion plating method, ion beam assisted method, and sputtering method are used. Means can be mentioned. In this case, it is necessary to change the hardness in the thickness direction by stacking two or more partial layers having different hardnesses.
【００２５】以下、無機物質膜の形成方法の一例を示
す。 低硬度部分層の形成 合成樹脂製の基板に、上記のいずれかの膜形成手段によ
り、低硬度部分層を所定の膜厚まで形成する。低硬度部
分層は、例えば、蒸発源およびイオン発生源が設けられ
ている真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装
置内に導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガス
をイオン化してイオンガスを発生させながら形成する。
ここに、膜形成手段のために使用可能な蒸発源として
は、抵抗加熱蒸発源、電子銃加熱蒸発源、誘導加熱蒸発
源およびスパッタリング法においては直流スパッタ源、
高周波スパッタ源、イオンビームスパッタ源などを挙げ
ることができる。An example of the method of forming the inorganic substance film will be described below. Formation of Low-Hardness Partial Layer A low-hardness partial layer is formed on a synthetic resin substrate to a predetermined thickness by any one of the above film forming means. For the low-hardness partial layer, for example, a substrate made of synthetic resin is arranged in a vacuum device provided with an evaporation source and an ion generation source, an introduction gas is supplied into the vacuum device, and the introduction gas is ionized by the ion generation source. Then, it is formed while generating ion gas.
Here, as the evaporation source usable for the film forming means, a resistance heating evaporation source, an electron gun heating evaporation source, an induction heating evaporation source and a DC sputtering source in the sputtering method,
A high frequency sputtering source, an ion beam sputtering source, etc. can be mentioned.
【００２６】 高硬度部分層の形成 高硬度部分層は、導入ガスの種類や量、付着速度、イオ
ンエネルギー、イオン電流などに変更を加え、低硬度部
分層と同一の材料を用いて同一の膜形成手段を継続して
行うことにより形成することができる。また、膜形成手
段そのものを変更して形成してもよい。同一の膜形成手
段により高硬度部分層を形成する場合には、イオンガス
の発生量を増加させて行う必要がある。イオンガスの発
生量は、イオン電流とほぼ正比例の関係にあるので、イ
オン電流を増加させることによって高硬度部分層の形成
を行うことができる。ここに、高硬度部分層を形成する
ための蒸着処理条件の一例を示せば、イオン源としてカ
ウフマン型イオン源「ＫＩＳ−５０Ｐ」を用い、真空装
置内の真空度が０．５〜5 ×１０-4Ｔｏｒｒとなるよう
約０．５〜３０ＳＣＣＭの流量で導入ガス（例えば酸素
ガスおよび／またはアルゴンガス）を供給し、イオン電
流を０．３〜４ｍＡ／ｃｍ2 に調整する。Formation of High-Hardness Partial Layer The high-hardness partial layer is made of the same material as the low-hardness partial layer by changing the kind and amount of the introduced gas, the deposition rate, the ion energy, the ion current, and the like. It can be formed by continuously performing the forming means. Further, the film forming means itself may be changed and formed. When forming the high hardness partial layer by the same film forming means, it is necessary to increase the amount of ion gas generated. Since the amount of ion gas generated is in direct proportion to the ion current, the high-hardness partial layer can be formed by increasing the ion current. Here, if an example of vapor deposition processing conditions for forming the high hardness partial layer is shown, a Kaufman type ion source "KIS-50P" is used as an ion source and the vacuum degree in the vacuum device is 0.5 to 5 x 10 5. An introduction gas (for example, oxygen gas and / or argon gas) is supplied at a flow rate of about 0.5 to 30 SCCM so as to be −4 Torr, and the ion current is adjusted to 0.3 to 4 mA / cm 2 .
【００２７】 他の部分層の形成 無機物質膜を形成する工程において、必要に応じて、硬
度の異なる部分層を、低硬度部分層と高硬度部分層との
中間に、あるいは高硬度部分層の外側に形成させること
により、３層以上の部分層よりなる無機物質膜としても
よい。Formation of Other Partial Layers In the step of forming the inorganic substance film, a partial layer having a different hardness may be provided between the low-hardness partial layer and the high-hardness partial layer, or the high-hardness partial layer as necessary. By forming it on the outer side, an inorganic substance film composed of three or more partial layers may be formed.
【００２８】高硬度部分層と低硬度部分層とを含む２層
以上の部分層を形成する場合において、各部分層の形成
は、連続的に行っても断続的に行ってもよい。すなわ
ち、各パラメーターの変更を連続的あるいは断続的に行
ってもよく、また、異なる部分層の形成操作へ移行する
際に、操作を一旦中断してもよい。When forming two or more partial layers including a high-hardness partial layer and a low-hardness partial layer, each partial layer may be formed continuously or intermittently. That is, each parameter may be changed continuously or intermittently, or the operation may be temporarily stopped when the operation for forming a different partial layer is performed.
【００２９】なお、異なる部分層の形成操作を連続して
行う場合、各部分層の硬度を測定することは困難であ
る。斯かる場合においては、例えば、ガラス製（例えば
「ＢＫ７」製）のモニター用基板上に、各部分層の形成
条件と同一条件で部分層を形成し、マイクロヴィッカー
ス硬度計などを用いて測定すればよい。また、断続的に
部分層の積層作業を行う場合には、所定の部分層が形成
された後、真空装置内より基板を一旦取り出して硬度を
測定してもよい。It is difficult to measure the hardness of each partial layer when the operations of forming different partial layers are continuously performed. In such a case, for example, a partial layer is formed on a monitor substrate made of glass (for example, “BK7”) under the same conditions as the formation conditions of each partial layer, and measurement is performed using a Micro Vickers hardness meter or the like. Good. In the case of intermittently laminating the partial layers, the hardness may be measured by once taking out the substrate from the vacuum apparatus after the predetermined partial layers are formed.
【００３０】＜第２の発明＞本発明のうち第２の発明
は、合成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成され
た２層以上の無機物質層とよりなる光学部品である。す
なわち、第２の発明の光学部品は、それぞれ異なる無機
物質からなる２層の無機物質層を含む２層以上の無機物
質層を有するものである。<Second Invention> The second invention of the present invention is an optical component comprising a substrate made of synthetic resin and two or more inorganic material layers formed on the surface of the substrate. That is, the optical component of the second invention has two or more inorganic material layers including two inorganic material layers made of different inorganic materials.
【００３１】第２の発明において、基板を構成する合成
樹脂としては、第１の発明と同様の樹脂を挙げることが
できる。In the second invention, examples of the synthetic resin forming the substrate include the same resins as in the first invention.
【００３２】第２の発明に斯かる光学部品を構成する２
層以上の無機物質層のうち、基板側から数えて第２層目
以降の無機物質層のうち少なくとも１層は、第１層目の
無機物質層の硬度よりも高い硬度を有する。これによ
り、第１の発明と同様に耐久性が向上し、光学膜の剥離
やクラックが発生しにくい強度の大きい光学部品とな
る。2 of the optical component according to the second invention
At least one of the second and subsequent inorganic material layers counted from the substrate side has a hardness higher than that of the first inorganic material layer. As a result, the durability of the optical component is improved as in the first aspect of the invention, and the optical component has high strength in which peeling or cracking of the optical film does not easily occur.
【００３３】第２の発明において、基板から最も離間し
た位置（最上部）に形成された無機物質層が、第１層目
の無機物質層の硬度よりも高い硬度を有する光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。In the second aspect of the invention, the optical component in which the inorganic material layer formed at the most distant position (uppermost part) from the substrate has a hardness higher than the hardness of the first inorganic material layer is surface protection. It is preferable because the effect of is sufficiently exhibited.
【００３４】また、第２の発明において、基板の直上に
形成された第１層目の無機物質層がシリコン酸化物であ
る場合には、基板との密着性に優れている点および屈折
率の再現性が高い点で好ましい。In the second invention, when the first inorganic material layer formed directly on the substrate is a silicon oxide, the adhesiveness to the substrate is excellent and the refractive index is high. It is preferable because of high reproducibility.
【００３５】なお、第２の発明においては、２層以上の
無機物質層のうち、最も高い硬度を有する無機物質層の
形成位置は、第２層目以降であれば特に限定されず、必
ずしも最上部に形成されている必要はない。In the second invention, the formation position of the inorganic material layer having the highest hardness among the two or more inorganic material layers is not particularly limited as long as it is the second layer or later, and is not necessarily the most. It need not be formed on top.
【００３６】上記の第１の発明および第２の発明におい
て、層の硬度と、層を構成する無機物質の密度および緻
密性とは相互に関係している。例えば、電子顕微鏡で層
の断面を観察すると、同一材料からなる層において、硬
度の高い層ほど無機物質の密度（緻密性）は高いものと
なり、硬度の低い層は無機物質の密度（緻密性）が低い
ものとなる。従って、各層における無機物質の密度（緻
密性）を変更することにより、硬度を調整することがで
きる。In the above-mentioned first and second inventions, the hardness of the layer and the density and denseness of the inorganic substance constituting the layer are interrelated. For example, when observing a cross-section of a layer with an electron microscope, among layers made of the same material, a layer having a higher hardness has a higher density (denseness) of an inorganic substance, and a layer having a lower hardness has a density (denseness) of an inorganic substance. Will be low. Therefore, the hardness can be adjusted by changing the density (denseness) of the inorganic substance in each layer.
【００３７】[0037]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.
【００３８】〔実施例１〕ポリメチルメタアクリレート
樹脂（以下「ＰＭＭＡ樹脂」という）製の基板Ａを、図
１に示した真空装置１内に複数配置した。真空装置１の
内部には、電子銃７、蒸着材料（本実施例においては酸
化シリコン）の容器であるルツボ９、カウフマン型のイ
オン源２「ＫＩＳ−５０Ｐ」（真空機械社製）、水晶振
動子膜厚計８がそれぞれ配置されている。イオン源２に
は、導入ガス供給源４からガス流量調節弁５、流量計６
を通って導入ガスが供給され、導入ガスはイオン源２内
によりイオン化され、真空装置内へ引き出される。図１
において、３は基板Ａを支持するホルダーである。Example 1 A plurality of substrates A made of polymethylmethacrylate resin (hereinafter referred to as “PMMA resin”) were arranged in the vacuum apparatus 1 shown in FIG. Inside the vacuum device 1, an electron gun 7, a crucible 9 as a container for a vapor deposition material (silicon oxide in this embodiment), a Kaufman type ion source 2 “KIS-50P” (manufactured by Vacuum Machine Co., Ltd.), and a crystal vibration. The child film thickness meters 8 are arranged. The ion source 2 includes a gas flow rate control valve 5, a flow meter 6 from the introduction gas supply source 4.
Introduced gas is supplied through the ion source 2, and the introduced gas is ionized in the ion source 2 and extracted into the vacuum device. Figure 1
In the figure, 3 is a holder for supporting the substrate A.
【００３９】低硬度部分層の形成 基板を加熱することなく、真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒ
になるまで真空装置１内を排気した後、イオン化されて
いない酸素ガスを流量１０ＳＣＣＭで真空装置１内に供
給しながら、ルツボ９内の酸化シリコンに電子銃７のビ
ームを照射して蒸着処理を開始した。ここに蒸着速度は
０．８ｎｍ／秒とした。Formation of Low Hardness Partial Layer The degree of vacuum is 1 × 10 −5 Torr without heating the substrate.
After exhausting the inside of the vacuum apparatus 1 until it becomes, the non-ionized oxygen gas is supplied into the vacuum apparatus 1 at a flow rate of 10 SCCM, while the silicon oxide in the crucible 9 is irradiated with the beam of the electron gun 7 to perform the vapor deposition process. Started. Here, the vapor deposition rate was 0.8 nm / sec.
【００４０】高硬度部分層の形成 蒸着膜（低硬度部分層）の膜厚が３０ｎｍに達したとこ
ろで、イオン源２を作動させて酸素ガスをイオン化し、
そのイオンビームを基板に照射しながら蒸着処理を継続
した。ここで、酸素ガスの供給量および蒸着速度は変更
せず、また、イオン源２のイオン電流は０．５〜１．０
ｍＡ／ｃｍ2 に調整した。蒸着膜（高硬度部分層）の膜
厚が９０ｎｍ（合計の酸化シリコン膜厚１２０ｎｍ）に
達したところで、イオンビームの照射および蒸着処理を
停止し、本発明の光学部品を得た。この光学部品の断面
の概略を図２に示す。同図において、２０は基板、２０
Ｌは低硬度部分層、２０Ｈは高硬度部分層を示す。Formation of High Hardness Partial Layer When the film thickness of the vapor deposition film (low hardness partial layer) reaches 30 nm, the ion source 2 is operated to ionize oxygen gas,
The vapor deposition process was continued while irradiating the substrate with the ion beam. Here, the amount of oxygen gas supplied and the vapor deposition rate were not changed, and the ion current of the ion source 2 was 0.5 to 1.0.
It was adjusted to mA / cm 2 . When the film thickness of the vapor deposition film (high hardness partial layer) reached 90 nm (total silicon oxide film thickness 120 nm), the irradiation of the ion beam and the vapor deposition process were stopped to obtain the optical component of the present invention. A schematic cross section of this optical component is shown in FIG. In the figure, 20 is a substrate, 20
L indicates a low hardness partial layer, and 20H indicates a high hardness partial layer.
【００４１】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。This optical component was taken out and allowed to stand in a constant temperature bath at 50 ° C. for 1 hour, and then the appearance (presence or absence of cracks) was evaluated. Further, the appearance was evaluated in the same manner except that the temperature inside the constant temperature bath was changed to 70 ° C. The results are shown in Table 1.
【００４２】なお、ガラス硝材「ＢＫ７」よりなる基板
上に各操作と同一条件により形成された膜（部分層）に
ついて、マイクロヴィッカース硬度（以下「ＨＶ」とい
う）を測定したところ、低硬度部分層と同一条件で形成
された層でＨＶ５５０、高硬度部分層と同一条件で形成
された層でＨＶ６７０であった。The micro Vickers hardness (hereinafter referred to as "HV") of the film (partial layer) formed on the substrate made of the glass material "BK7" under the same conditions as each operation was measured. The layer formed under the same conditions as above had HV550, and the layer formed under the same conditions as the high hardness partial layer had HV670.
【００４３】〔実施例２〕図３に示すように、ＲＦイオ
ンプレーティング処理が可能な真空装置１１内にＰＭＭ
Ａ樹脂製の基板Ａを複数配置した。真空装置１１の内部
には、電子銃７、蒸着材料の容器であるルツボ９、ＲＦ
アンテナ１２、水晶振動子膜厚計８がそれぞれ配置され
ている。[Embodiment 2] As shown in FIG. 3, a PMM is placed in a vacuum apparatus 11 capable of RF ion plating.
A plurality of substrates A made of resin A were arranged. Inside the vacuum device 11, an electron gun 7, a crucible 9 which is a container of vapor deposition material, an RF
An antenna 12 and a crystal oscillator film thickness meter 8 are arranged respectively.
【００４４】第１層（低硬度層）の形成 基板を加熱することなく、真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒ
になるまで真空装置１１内を排気した後、真空装置１１
内の真空度が２×１０-4Ｔｏｒｒになるよう酸素ガスを
導入し、１００ＷのＲＦ放電を行いながら、酸化シリコ
ンを蒸着材料として蒸着処理を行った。ここに蒸着速度
は０．８ｎｍ／秒とした。膜厚が５０ｎｍに達したとこ
ろでＲＦ放電および蒸着処理を一旦停止し、酸化シリコ
ンよりなる第１層を形成した。Formation of First Layer (Low Hardness Layer) The degree of vacuum is 1 × 10 −5 Torr without heating the substrate.
After evacuating the inside of the vacuum device 11 until
An oxygen gas was introduced so that the degree of vacuum inside was 2 × 10 −4 Torr, and vapor deposition treatment was performed using silicon oxide as a vapor deposition material while performing RF discharge of 100 W. Here, the vapor deposition rate was 0.8 nm / sec. When the film thickness reached 50 nm, the RF discharge and the vapor deposition process were temporarily stopped, and the first layer made of silicon oxide was formed.
【００４５】第２層（高硬度層）の形成 １００ＷのＲＦ放電を行いながら、酸化インジウムと酸
化スズの混合物（以下「ＩＴＯ」という）を蒸着材料と
して蒸着処理を行った。ここに蒸着速度は 0．４ｎｍ／
秒とした。ＩＴＯよりなる蒸着層の膜厚が５０ｎｍ（合
計の膜厚１００ｎｍ）に達したところでＲＦ放電および
蒸着処理を停止し、本発明の光学部品を得た。この光学
部品の断面の概略を図４に示す。同図において、４０は
基板、４０Ｌは低硬度の第１層（酸化シリコン層）、４
０Ｈは高硬度の第２層（ＩＴＯ層）を示す。Formation of Second Layer (High Hardness Layer) A 100 W RF discharge was used for vapor deposition using a mixture of indium oxide and tin oxide (hereinafter referred to as "ITO") as a vapor deposition material. Here, the vapor deposition rate is 0.4 nm /
Seconds When the film thickness of the vapor deposition layer made of ITO reached 50 nm (total film thickness 100 nm), the RF discharge and the vapor deposition treatment were stopped to obtain the optical component of the present invention. A schematic cross section of this optical component is shown in FIG. In the figure, 40 is a substrate, 40 L is a low hardness first layer (silicon oxide layer), 4
OH indicates a high hardness second layer (ITO layer).
【００４６】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。This optical component was taken out and allowed to stand in a constant temperature bath at 50 ° C. for 1 hour, and then the appearance (presence or absence of cracks) was evaluated. Further, the appearance was evaluated in the same manner except that the temperature inside the constant temperature bath was changed to 70 ° C. The results are shown in Table 1.
【００４７】なお、ガラス硝材「ＢＫ７」よりなる基板
上に各操作と同一条件により形成された膜について、Ｈ
Ｖを測定したところ、第１層と同一条件で形成された層
でＨＶ５５０、第２層と同一条件で形成された層でＨＶ
７７０であった。The film formed on the substrate made of the glass material "BK7" under the same conditions as each operation was
When V was measured, HV550 was obtained in the layer formed under the same conditions as the first layer, and HV was obtained in the layer formed under the same conditions as the second layer.
It was 770.
【００４８】〔実施例３〕 第１層の形成 実施例１と同様の操作を行って、ＰＭＭＡ樹脂製の基板
上に、低硬度部分層と高硬度部分層とよりなる無機物質
膜（１２０ｎｍ）を形成し、この無機物質膜を第１層と
した。Example 3 Formation of First Layer The same operation as in Example 1 was performed to form an inorganic substance film (120 nm) including a low hardness partial layer and a high hardness partial layer on a PMMA resin substrate. Was formed, and this inorganic substance film was used as the first layer.
【００４９】第２層（低硬度層）の形成 蒸着材料として酸化セリウムを用い、１．５×１０-4Ｔ
ｏｒｒの真空度になるまで酸素ガスを導入しながら、蒸
着速度０．３ｎｍ／秒で電子ビーム蒸着を行って、酸化
セリウムよりなる膜厚１０ｎｍの第２層を形成した。Formation of Second Layer (Low Hardness Layer) Cerium oxide was used as a vapor deposition material, and 1.5 × 10 −4 T was used.
While introducing oxygen gas to a vacuum degree of orr, electron beam vapor deposition was performed at a vapor deposition rate of 0.3 nm / sec to form a second layer of cerium oxide having a film thickness of 10 nm.
【００５０】第３層（高硬度層）の形成 実施例１の高硬度部分層の形成と同様の条件によりイオ
ンビームを基板に照射しながら蒸着処理を行って、酸化
シリコンよりなる膜厚１２５ｎｍの第３層を形成した。
以上の操作によって得られた光学部品の断面の概略を図
５に示す。同図において、５０は基板、５０Ｍは第１層
（酸化シリコン層）、５０Ｌは第２層（酸化セリウム
層）、５０Ｈは第３層（酸化シリコン層）を示す。Formation of Third Layer (High-Hardness Layer) Under the same conditions as the formation of the high-hardness partial layer of Example 1, a vapor deposition process was performed while irradiating the substrate with an ion beam to form a silicon oxide film having a thickness of 125 nm. A third layer was formed.
An outline of the cross section of the optical component obtained by the above operation is shown in FIG. In the figure, 50 is a substrate, 50M is a first layer (silicon oxide layer), 50L is a second layer (cerium oxide layer), and 50H is a third layer (silicon oxide layer).
【００５１】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。This optical component was taken out and allowed to stand in a constant temperature bath at 50 ° C. for 1 hour, and then the appearance (presence or absence of cracks) was evaluated. Further, the appearance was evaluated in the same manner except that the temperature inside the constant temperature bath was changed to 70 ° C. The results are shown in Table 1.
【００５２】なお、ガラス硝材「ＢＫ７」よりなる基板
上に各操作と同一条件により形成された膜について、Ｈ
Ｖを測定したところ、第２層と同一条件で形成された層
でＨＶ４００、第３層と同一条件で形成された層でＨＶ
７２０であった。The film formed on the substrate made of the glass material "BK7" under the same conditions as each operation was
When V was measured, HV400 was obtained in the layer formed under the same conditions as the second layer, and HV was obtained in the layer formed under the same conditions as the third layer.
It was 720.
【００５３】〔比較例〕実施例２で用いた真空装置１１
内にＰＭＭＡ樹脂製の基板を複数配置した。基板を加熱
することなく、真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒになるまで
真空装置１１内を排気した後、真空装置１１内の真空度
が２×１０-4Ｔｏｒｒになるよう酸素ガスを導入し、１
００ＷのＲＦ放電を行いながら酸化シリコンを蒸着材料
として蒸着処理を行った。ここに蒸着速度は０．８ｎｍ
／秒とした。膜厚が１５０ｎｍに達したところでＲＦ放
電および蒸着処理を停止し、基板上に酸化シリコンより
なる光学膜を形成して光学部品を得た。[Comparative Example] Vacuum device 11 used in Example 2
A plurality of substrates made of PMMA resin were arranged inside. Without heating the substrate, the inside of the vacuum apparatus 11 was evacuated until the degree of vacuum reached 1 × 10 −5 Torr, and then oxygen gas was introduced so that the degree of vacuum in the vacuum apparatus 11 became 2 × 10 −4 Torr. 1
A vapor deposition process was performed using silicon oxide as a vapor deposition material while performing RF discharge of 00 W. The deposition rate here is 0.8 nm
/ Sec. When the film thickness reached 150 nm, the RF discharge and the vapor deposition process were stopped, and an optical film made of silicon oxide was formed on the substrate to obtain an optical component.
【００５４】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。This optical component was taken out and allowed to stand in a constant temperature bath at 50 ° C. for 1 hour, and then the appearance (whether or not cracks occurred) was evaluated. Further, the appearance was evaluated in the same manner except that the temperature inside the constant temperature bath was changed to 70 ° C. The results are shown in Table 1.
【００５５】各実施例および比較例における性能比較を
表１に示す。なお表１中の「付着力」はテープテストに
より調べた結果である。Table 1 shows a performance comparison in each example and comparative example. The "adhesion" in Table 1 is the result of the tape test.
【００５６】[0056]
【表１】 [Table 1]
【００５７】[0057]
【発明の効果】本発明の光学部品は、光学膜の剥離やク
ラックなどが発生しにくく、良好な耐久性を有するもの
である。また、本発明の光学部品の製造方法によれば、
上記の光学部品を好適に製造することができる。The optical component of the present invention is resistant to peeling and cracking of the optical film and has good durability. Further, according to the method for manufacturing an optical component of the present invention,
The above optical component can be suitably manufactured.
【図１】実施例１で用いた真空装置を含む処理装置の概
略を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing an outline of a processing apparatus including a vacuum apparatus used in Example 1.
【図２】実施例１で得られた光学部品の概略を示す説明
用断面図である。FIG. 2 is an explanatory sectional view showing an outline of an optical component obtained in Example 1.
【図３】実施例２で用いた真空装置を含む処理装置の概
略を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing an outline of a processing apparatus including a vacuum apparatus used in Example 2.
【図４】実施例２で得られた光学部品の概略を示す説明
用断面図である。FIG. 4 is an explanatory sectional view showing an outline of an optical component obtained in Example 2.
【図５】実施例３で得られた光学部品の概略を示す説明
用断面図である。FIG. 5 is an explanatory sectional view showing the outline of the optical component obtained in Example 3;
１ 真空装置 ２ イオン源 ３ ホルダー ４ 導入ガス供
給源 ５ ガス流量調節弁 ６ 流量計 ７ 電子銃 ８ 水晶振動子
膜厚計 ９ ルツボ １１ 真空装置 １２ ＲＦアンテナ ２０ 基板 ２０Ｌ 低硬度部分層 ２０Ｈ 高硬度部分
層 ４０ 基板 ４０Ｌ 第１層 ４０Ｈ 第２層 ５０ 基板 ５０Ｍ 第１層 ５０Ｌ 第２層 ５０Ｈ 第３層1 Vacuum Device 2 Ion Source 3 Holder 4 Introduced Gas Supply Source 5 Gas Flow Control Valve 6 Flow Meter 7 Electron Gun 8 Quartz Crystal Thickness Meter 9 Crucible 11 Vacuum Device 12 RF Antenna 20 Substrate 20L Low Hardness Partial Layer 20H High Hardness Part Layer 40 Substrate 40L First Layer 40H Second Layer 50 Substrate 50M First Layer 50L Second Layer 50H Third Layer
Claims (17)
に形成された単一の無機物質からなる無機物質膜とより
なり、 前記無機物質膜は、最も高い硬度を有する高硬度部分層
と、最も低い硬度を有する低硬度部分層とを含む２層以
上の部分層により構成され、 前記低硬度部分層は、前記高硬度部分層よりも基板側に
形成されていることを特徴とする光学部品。1. A substrate made of synthetic resin, and an inorganic substance film made of a single inorganic substance formed on the surface of the substrate, wherein the inorganic substance film has a high hardness partial layer having the highest hardness. And at least two partial layers including a low hardness partial layer having the lowest hardness, and the low hardness partial layer is formed closer to the substrate than the high hardness partial layer. Optical components.
成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学部
品。2. The optical component according to claim 1, wherein the high-hardness partial layer is formed farthest from the substrate.
とは異なる無機物質からなる被覆膜が少なくとも１層以
上形成されていることを特徴とする請求項１または請求
項２に記載の光学部品。3. The inorganic material film according to claim 1, wherein at least one coating film made of an inorganic material different from the inorganic material film is formed on the surface of the inorganic material film. Optical components.
が、無機物質膜の低硬度部分層の硬度より高い硬度を有
することを特徴とする請求項３に記載の光学部品。4. The optical component according to claim 3, wherein the coating film formed farthest from the substrate has a hardness higher than that of the low hardness partial layer of the inorganic substance film.
されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに
記載の光学部品。5. The optical component according to claim 1, wherein the inorganic material film is made of silicon oxide.
に形成された２層以上の無機物質層とよりなり、 基板側から数えて第２層目以降の無機物質層のうち少な
くとも１層は、基板から数えて第１層目の無機物質層の
硬度よりも高い硬度を有することを特徴とする光学部
品。6. A synthetic resin substrate and two or more inorganic material layers formed on the surface of the substrate, and at least one of the second and subsequent inorganic material layers counted from the substrate side. The optical component is characterized in that the layer has a hardness higher than that of the first inorganic material layer counted from the substrate.
質層が、第１層目の無機物質層の硬度よりも高い硬度を
有することを特徴とする請求項６に記載の光学部品。7. The optical component according to claim 6, wherein the inorganic material layer formed farthest from the substrate has a hardness higher than that of the first inorganic material layer.
により構成されていることを特徴とする請求項６または
請求項７に記載の光学部品。8. The optical component according to claim 6 or 7, wherein the first inorganic material layer is made of silicon oxide.
に形成された第１の無機物質層と、この第１の無機物質
層の表面上に形成された第２の無機物質層とよりなり、 第２の無機物質層は、第１の無機物質層の硬度よりも高
い硬度を有することを特徴とする光学部品。9. A substrate made of synthetic resin, a first inorganic material layer formed on the surface of the substrate, and a second inorganic material layer formed on the surface of the first inorganic material layer. The optical component is characterized in that the second inorganic material layer has a hardness higher than that of the first inorganic material layer.
より構成されていることを特徴とする請求項９に記載の
光学部品。10. The optical component according to claim 9, wherein the first inorganic material layer is made of silicon oxide.
が設けられている真空装置内に合成樹脂製の基板を配置
し、真空装置内に導入ガスを供給し、イオン発生源によ
り導入ガスをイオン化してイオンガスを発生させなが
ら、無機物よりなる膜を基板上に形成する工程を含む光
学部品の製造方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を経時的に
変化させることを特徴とする光学部品の製造方法。11. A substrate made of synthetic resin is arranged in a vacuum device provided with at least an evaporation source and an ion generation source, an introduction gas is supplied into the vacuum device, and the introduction gas is ionized by the ion generation source. A method of manufacturing an optical component including a step of forming an inorganic film on a substrate while generating ion gas, characterized in that the amount of ion gas generated by an ion generation source is changed with time. Optical component manufacturing method.
部品を製造する方法であって、 少なくとも蒸発源およびイオン発生源が設けられている
真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に
導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガスをイオ
ン化してイオンガスを発生させながら、単一の無機物質
からなる無機物質膜を形成する工程を含み、 この工程において、イオン発生源により発生するイオン
ガスの量を最小にして低硬度部分層を形成することを特
徴とする光学部品の製造方法。12. A method for manufacturing the optical component according to claim 1 or 3, wherein a synthetic resin substrate is arranged in a vacuum device provided with at least an evaporation source and an ion generation source, It includes a step of supplying an introduction gas into the vacuum apparatus and ionizing the introduction gas by an ion generation source to generate an ion gas, while forming an inorganic substance film made of a single inorganic substance. A method of manufacturing an optical component, characterized in that the low hardness partial layer is formed by minimizing the amount of ion gas generated by the source.
方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した高硬度部分層を形成すること
を特徴とする請求項１２に記載の光学部品の製造方法。13. The method of manufacturing an optical component according to claim 2, wherein the amount of ion gas generated by the ion generation source is maximized to form the high hardness partial layer that is most distant from the substrate. The method of manufacturing an optical component according to claim 12, wherein the optical component is manufactured.
方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した被覆膜を形成することを特徴
とする請求項１２に記載の光学部品の製造方法。14. The method of manufacturing an optical component according to claim 4, wherein the amount of ion gas generated by the ion generation source is maximized to form a coating film that is most distant from the substrate. The method for manufacturing an optical component according to claim 12.
方法であって、 少なくとも蒸発源およびイオン発生源が設けられている
真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に
導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガスをイオ
ン化してイオンガスを発生させながら、無機物質層を２
層以上形成する工程を含み、 この工程において、イオン発生源により発生するイオン
ガスの量を最小にして第１層目の無機物質層を形成する
ことを特徴とする光学部品の製造方法。15. The method of manufacturing an optical component according to claim 6, wherein a substrate made of synthetic resin is arranged in a vacuum device provided with at least an evaporation source and an ion generation source, and the substrate is provided in the vacuum device. While supplying the introduction gas and ionizing the introduction gas by the ion generation source to generate the ion gas, the inorganic material layer is formed into
A method of manufacturing an optical component, comprising the step of forming at least one layer, wherein in this step, the amount of the ion gas generated by the ion generation source is minimized to form the first inorganic material layer.
方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した無機物質層を形成することを
特徴とする請求項１５に記載の光学部品の製造方法。16. The method of manufacturing an optical component according to claim 7, wherein the amount of the ion gas generated by the ion generation source is maximized to form the inorganic substance layer that is most distant from the substrate. The method for manufacturing an optical component according to claim 15.
方法であって、 少なくとも蒸発源およびイオン発生源が設けられている
真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に
導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガスをイオ
ン化してイオンガスを発生させながら、それぞれ異なる
無機物質からなる第１の無機物質層および第２の無機物
質層を形成する工程を含み、 この工程において、第２の無機物質層の形成時に発生す
るイオンガスの量を、第１の無機物質層の形成時に発生
するイオンガスの量より多くなるよう設定したことを特
徴とする光学部品の製造方法。17. The method of manufacturing an optical component according to claim 9, wherein a synthetic resin substrate is arranged in a vacuum apparatus provided with at least an evaporation source and an ion generation source, and the substrate is provided in the vacuum apparatus. A step of forming a first inorganic material layer and a second inorganic material layer made of different inorganic materials while supplying an introduction gas and ionizing the introduction gas by an ion generation source to generate an ion gas, In the step, the amount of the ion gas generated during the formation of the second inorganic material layer is set to be larger than the amount of the ion gas generated during the formation of the first inorganic material layer. Method.
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