JPH0552921B2 - - Google Patents
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- JPH0552921B2 JPH0552921B2 JP60091009A JP9100985A JPH0552921B2 JP H0552921 B2 JPH0552921 B2 JP H0552921B2 JP 60091009 A JP60091009 A JP 60091009A JP 9100985 A JP9100985 A JP 9100985A JP H0552921 B2 JPH0552921 B2 JP H0552921B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、反射防止性に優れ、かつ耐擦禍性を
有するプラスチツク光透過板およびその製造方法
に関する。さらに詳しくは、部分イオンビームア
シスト法による前記プラスチツク光透過板および
その製造方法の技術を提供する。
有するプラスチツク光透過板およびその製造方法
に関する。さらに詳しくは、部分イオンビームア
シスト法による前記プラスチツク光透過板および
その製造方法の技術を提供する。
オフイスオートメーシヨン機器、例えばワード
プロセツサ（以下ワープロという。）や各種のコ
ンピユータなどのデイスプレイや、ゲーム器、テ
レビのブラウン管などの目に有害な光線が多量に
発生しており、長期間見ていると目が疲れ、健康
を害する。このためデイスプレーの前面に光学フ
イルターを設置し、紫外線や他の有害な光線を遮
蔽することが行われている。
プロセツサ（以下ワープロという。）や各種のコ
ンピユータなどのデイスプレイや、ゲーム器、テ
レビのブラウン管などの目に有害な光線が多量に
発生しており、長期間見ていると目が疲れ、健康
を害する。このためデイスプレーの前面に光学フ
イルターを設置し、紫外線や他の有害な光線を遮
蔽することが行われている。
しかし従来技術の光学フイルターは、反射防止
膜の密着性が悪く、長期間使用すると層間剥離が
生じ、耐久性に問題があつた。
膜の密着性が悪く、長期間使用すると層間剥離が
生じ、耐久性に問題があつた。
本発明に近い公知例としては、イオンボンバー
ド処理、高周波イオンプレーテイング、真空蒸着
などを組み合わせて反射防止膜を得る技術がある
（特開昭55−110127号公報）。しかしかかる技術も
コーテイング膜の耐久性、再現安定性や多層反射
防止加工の品質安定性に劣るという欠点も有して
いた。
ド処理、高周波イオンプレーテイング、真空蒸着
などを組み合わせて反射防止膜を得る技術がある
（特開昭55−110127号公報）。しかしかかる技術も
コーテイング膜の耐久性、再現安定性や多層反射
防止加工の品質安定性に劣るという欠点も有して
いた。
さらに他の光学材料である。眼鏡のレンズやプ
ラスチツク板ガラスなどにおいても、上記多層の
反射防止膜を形成しているが、同様に層間剥離の
問題があつた。
ラスチツク板ガラスなどにおいても、上記多層の
反射防止膜を形成しているが、同様に層間剥離の
問題があつた。
本発明は上記従来技術の欠点を改善する技術を
提供する。すなわちプラスチツクの透明板に多層
の反射防止膜を、密着強度高く形成し、耐久性に
優れたものとする技術を提供する。さらには、表
面硬度の低いプラスチツク材料であつても、表面
にシリカ層を設けて硬度を高め傷がつきにくい特
性を付与する技術を提供する。
提供する。すなわちプラスチツクの透明板に多層
の反射防止膜を、密着強度高く形成し、耐久性に
優れたものとする技術を提供する。さらには、表
面硬度の低いプラスチツク材料であつても、表面
にシリカ層を設けて硬度を高め傷がつきにくい特
性を付与する技術を提供する。
上記目的を達成するための本発明は下記の構成
を有する。
を有する。
(1) プラスチツク基材の上に耐擦禍性を有するハ
ードコート層を設け、その表層に複数層からな
る反射防止膜を設け、かつ該反射防止膜は最外
層にSiO2層であり、該最外層は、界面のみが
イオンビームにより変性されてなることを特徴
とする反射防止性を有する光学材料。
ードコート層を設け、その表層に複数層からな
る反射防止膜を設け、かつ該反射防止膜は最外
層にSiO2層であり、該最外層は、界面のみが
イオンビームにより変性されてなることを特徴
とする反射防止性を有する光学材料。
(2) プラスチツク基材の上に耐擦禍性を有するハ
ードコート層を設け、その表層に複数層からな
る反射防止膜を、真空蒸着法、または高周波イ
オンプレーテイング法で形成する反射防止性を
有する光学材料の製造方法であつて、該反射防
止膜の最外層がSiO2層であり、かつ、該最外
層は、真空蒸着、または高周波イオンプレーテ
イングの初期にイオン銃を用いて部分イオンビ
ームアシストされることを特徴とする反射防止
性を有する光学材料の製造方法。
ードコート層を設け、その表層に複数層からな
る反射防止膜を、真空蒸着法、または高周波イ
オンプレーテイング法で形成する反射防止性を
有する光学材料の製造方法であつて、該反射防
止膜の最外層がSiO2層であり、かつ、該最外
層は、真空蒸着、または高周波イオンプレーテ
イングの初期にイオン銃を用いて部分イオンビ
ームアシストされることを特徴とする反射防止
性を有する光学材料の製造方法。
本発明においては、プラスチツク基材に上に耐
擦禍性を有するハードコート層を設けることがま
ず必要である。ここでプラスチツク基材とは、公
知のいかなるものであつてもよい。
擦禍性を有するハードコート層を設けることがま
ず必要である。ここでプラスチツク基材とは、公
知のいかなるものであつてもよい。
ワープロなどのデイスプレーの前面に使用する
ものにあつては、原着、または染色により可視光
線透過率を25〜70％としたものが好まし。目の疲
労を減少するためである。
ものにあつては、原着、または染色により可視光
線透過率を25〜70％としたものが好まし。目の疲
労を減少するためである。
眼鏡用レンズにおいてはいかなる可視光線透過
率であつてもよい。
率であつてもよい。
また耐擦禍性を有するハードコート層とは、ポ
リオルガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの
硬度の高いコーテイング層、またはアクリル成分
を含む層をいう。プラスチツク製品の表面は一般
に傷がつき易いので、これを改良するためであ
る。そして特に好ましくは、ハードコート層はメ
チルトリメトキシシラン、およびビニルトリエト
キシシラン、またはこれらの加水分解物をコーテ
イングした後に加熱縮合させたポリオルガノシロ
キサンである。
リオルガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの
硬度の高いコーテイング層、またはアクリル成分
を含む層をいう。プラスチツク製品の表面は一般
に傷がつき易いので、これを改良するためであ
る。そして特に好ましくは、ハードコート層はメ
チルトリメトキシシラン、およびビニルトリエト
キシシラン、またはこれらの加水分解物をコーテ
イングした後に加熱縮合させたポリオルガノシロ
キサンである。
またハードコート層の好ましい膜厚は、１〜10
ミクロン程度である。
ミクロン程度である。
またアクリル系ハードコート層とは、メタクリ
ル酸などのアクリル化合物と、ペンタエリスリト
ール、グリセリンなどの多官能グリコールともエ
ステル化合物を架橋させたものなどをいう。
ル酸などのアクリル化合物と、ペンタエリスリト
ール、グリセリンなどの多官能グリコールともエ
ステル化合物を架橋させたものなどをいう。
次に本発明においては、前記のハードコート層
の表層に、複数層からなる反射防止膜を設ける。
光の屈折率の違いを利用して干渉効果を起こし、
光の反射を防止するためである。そして最外層は
SiO2層とすることが必要である。SiO2層は屈折
率が低く、最外層が低い屈折率のものとなると反
射防止効果が最も顕著なものとなるからである。
の表層に、複数層からなる反射防止膜を設ける。
光の屈折率の違いを利用して干渉効果を起こし、
光の反射を防止するためである。そして最外層は
SiO2層とすることが必要である。SiO2層は屈折
率が低く、最外層が低い屈折率のものとなると反
射防止効果が最も顕著なものとなるからである。
前記の複数層からなる反射防止膜とは、反射防
止効果機能を有する膜であればいかなるものであ
つてもよいが、主成分がY2O3層、TiO2層、SiO2
層の各種を順次形成し、反射防止膜とする組み合
わせは、優れた反射防止効果を発揮する。そして
反射防止効果があると目の障害となる光を有効に
防止する。また前記３層は主成分が前記のとおり
であればよく、効果を大きく減退させない範囲で
他に任意の成分を加えてもよい。
止効果機能を有する膜であればいかなるものであ
つてもよいが、主成分がY2O3層、TiO2層、SiO2
層の各種を順次形成し、反射防止膜とする組み合
わせは、優れた反射防止効果を発揮する。そして
反射防止効果があると目の障害となる光を有効に
防止する。また前記３層は主成分が前記のとおり
であればよく、効果を大きく減退させない範囲で
他に任意の成分を加えてもよい。
そして前記複数層の、少なくとも最外層の界面
がイオンビームにより変性されていることが必要
である。層間剥離を防止し、界面の密着強度を高
めるためである。ここで変性とは、イオンビーム
照射により層間の界面が一体不可分に変化してい
ることをいう。強力なイオン照射によつて層間の
融合も起こり得る。また最外層については界面の
みをイオンビームの照射により処理することが必
要で、全体をイオンビーム照射しては、表面が荒
れても好ましくない。内部に存在する膜について
は、全体を照射してもよい。
がイオンビームにより変性されていることが必要
である。層間剥離を防止し、界面の密着強度を高
めるためである。ここで変性とは、イオンビーム
照射により層間の界面が一体不可分に変化してい
ることをいう。強力なイオン照射によつて層間の
融合も起こり得る。また最外層については界面の
みをイオンビームの照射により処理することが必
要で、全体をイオンビーム照射しては、表面が荒
れても好ましくない。内部に存在する膜について
は、全体を照射してもよい。
前記において、Y2O3層、TiO2層、SiO2層の各
層の厚さは、反射防止効果を奏する程度であれば
いかなる厚さもよいが、かかる硬化を顕著に発揮
するためには、Y2O3層が約λ／４、TiO2層が約
λ／２、SiO2層が約λ／４の厚さであることが
好ましい。ただしλは実用性から450〜600nmの
範囲が好ましい。
層の厚さは、反射防止効果を奏する程度であれば
いかなる厚さもよいが、かかる硬化を顕著に発揮
するためには、Y2O3層が約λ／４、TiO2層が約
λ／２、SiO2層が約λ／４の厚さであることが
好ましい。ただしλは実用性から450〜600nmの
範囲が好ましい。
次に本発明方法について説明する。
まずプラスチツク基材の上に耐擦禍性を有する
ハードコート層を設ける。ハードコート層は前記
したとおりの成分を浸漬、刷毛ぬり、スプレー、
蒸着法など公知の方法でコーテイングし、加熱手
段などで硬化させる。
ハードコート層を設ける。ハードコート層は前記
したとおりの成分を浸漬、刷毛ぬり、スプレー、
蒸着法など公知の方法でコーテイングし、加熱手
段などで硬化させる。
次いでその表層に複数層からなる反射防止膜を
設ける。複数層からなる反射防止膜は真空蒸着
法、または高周波イオンプレーテイング法で形成
する。そして反射防止膜の最外層としてSiO2層
を設ける。低屈折率による反射防止効果と耐擦禍
性を発揮させるためである。
設ける。複数層からなる反射防止膜は真空蒸着
法、または高周波イオンプレーテイング法で形成
する。そして反射防止膜の最外層としてSiO2層
を設ける。低屈折率による反射防止効果と耐擦禍
性を発揮させるためである。
本発明方法においては、前記複数層のうち少な
くとも最外層の真空蒸着、または高周波イオンプ
レーテイングの初期にイオン銃を用いて部分イオ
ンビームアシストする。イオンビームのエネルギ
ーにより層間の密着強度を高めるためである。イ
オンビームアシストは各層で行つてもよいことは
もちろんである。
くとも最外層の真空蒸着、または高周波イオンプ
レーテイングの初期にイオン銃を用いて部分イオ
ンビームアシストする。イオンビームのエネルギ
ーにより層間の密着強度を高めるためである。イ
オンビームアシストは各層で行つてもよいことは
もちろんである。
また各層の表面の汚れを除去して次のコーテイ
ング層の密着強度を更に向上するため、ハードコ
ート層、反射防止層の上にイオンビームを照射
し、次いで真空蒸着、または高周波イオンプレー
テイングをしてもよい。
ング層の密着強度を更に向上するため、ハードコ
ート層、反射防止層の上にイオンビームを照射
し、次いで真空蒸着、または高周波イオンプレー
テイングをしてもよい。
以下図面を用いて説明する。
第１図は本発明の好ましい反射防止性を有する
光学材料の１実施態様の断面を示す。
光学材料の１実施態様の断面を示す。
プラスチツク基材１の上に耐擦禍性を有するハ
ードコート層２を設け、その表層にY2O3層３、
TiO2層４、SiO2層５の各層を順次形成する。
３′，４′，５′は各イオンを照射した部分である。
ードコート層２を設け、その表層にY2O3層３、
TiO2層４、SiO2層５の各層を順次形成する。
３′，４′，５′は各イオンを照射した部分である。
本発明においては、上記の積層をプラスチツク
基材の１面または２面に設ける。
基材の１面または２面に設ける。
以下実施例により説明する。
実施例 １
基材としてビスフエノールＡグリシジルエーテ
ルタイプのレンズ（CR−39）を使用した。ハー
ドコート用塗料としては、特開昭58−114501号公
報の実施例１の記載のとおり、ビニルトリエトキ
シシラン氷酢酸で加水分解したものと、メチルト
リエトキシシランを氷酢酸で加水分解したものを
混合して用いた。この混合溶解物に硬化剤である
酢酸ナトリウムを加え、さらにシリコーン系表面
平滑剤を加えて塗料とした。
ルタイプのレンズ（CR−39）を使用した。ハー
ドコート用塗料としては、特開昭58−114501号公
報の実施例１の記載のとおり、ビニルトリエトキ
シシラン氷酢酸で加水分解したものと、メチルト
リエトキシシランを氷酢酸で加水分解したものを
混合して用いた。この混合溶解物に硬化剤である
酢酸ナトリウムを加え、さらにシリコーン系表面
平滑剤を加えて塗料とした。
この塗料を基材の表面に２ミクロンの厚さに塗
布し、加熱キユアした。
布し、加熱キユアした。
次に真空器械工業株式会社製の真空蒸着装置
（BMC−800T型）を用いて、ZrO2層、Ta2O5層、
SiO2層の３層をこの順序で真空蒸着によつて設
けた。ZrO2層が３×10-5Torrの条件で、λ／４
（λ＝510nm）の厚さとした。Ta2O5層は５×
10-5Torrの条件で、λ／４の厚さとした。SiO2
層は１×10Torrの条件で、λ／４の厚さとした。
ここでSiO2層の蒸着の際、１分30秒のうち、初
期の30秒間を500Vの条件でイオンビーム照射し、
部分アシストした。
（BMC−800T型）を用いて、ZrO2層、Ta2O5層、
SiO2層の３層をこの順序で真空蒸着によつて設
けた。ZrO2層が３×10-5Torrの条件で、λ／４
（λ＝510nm）の厚さとした。Ta2O5層は５×
10-5Torrの条件で、λ／４の厚さとした。SiO2
層は１×10Torrの条件で、λ／４の厚さとした。
ここでSiO2層の蒸着の際、１分30秒のうち、初
期の30秒間を500Vの条件でイオンビーム照射し、
部分アシストした。
得られたレンズは反射防止機能が優れるうえ、
反射防止膜の耐久性に優れ、擦過傷がつきにくい
ものとなつたうえ、汗や化粧品などの付着によつ
ても変質などが起らず、耐薬品性に優れたものと
なつた。
反射防止膜の耐久性に優れ、擦過傷がつきにくい
ものとなつたうえ、汗や化粧品などの付着によつ
ても変質などが起らず、耐薬品性に優れたものと
なつた。
一方イオンビームアシストをしなかつたもの
は、擦過傷がつき、また汗などに耐する抵抗が弱
かつた。
は、擦過傷がつき、また汗などに耐する抵抗が弱
かつた。
実施例 ２
基材として市販のポリメタクレート板（三菱レ
イヨン株式会社製、商標“アクアライト”LN−
084、グレー原着、厚さ約２mm）を使用した以外
は、実施例１と同様にPPMMA板の表面にハー
ドコート層を設けた。次いでこのハードコート層
の上に、高周波イオンプレーテイング装置を用い
て、真空度１×10-4Torr、温度90℃、酸素雰囲
気、高周波の振動電場13.56MHZ、200Wの条件
で、導電層としてIn2O3（酸化インジウム）と
SnO2（酸化スズ）との混合物（ITOという。）を
コーテイングし、同時に600Vに加速されたアル
ゴンと酸素の混合ガス（混合比、アルゴン10：酸
素１）のイオンビームを用いてイオン銃で照射
し、700Åの膜厚のコーテイング層を得た。
イヨン株式会社製、商標“アクアライト”LN−
084、グレー原着、厚さ約２mm）を使用した以外
は、実施例１と同様にPPMMA板の表面にハー
ドコート層を設けた。次いでこのハードコート層
の上に、高周波イオンプレーテイング装置を用い
て、真空度１×10-4Torr、温度90℃、酸素雰囲
気、高周波の振動電場13.56MHZ、200Wの条件
で、導電層としてIn2O3（酸化インジウム）と
SnO2（酸化スズ）との混合物（ITOという。）を
コーテイングし、同時に600Vに加速されたアル
ゴンと酸素の混合ガス（混合比、アルゴン10：酸
素１）のイオンビームを用いてイオン銃で照射
し、700Åの膜厚のコーテイング層を得た。
次いで反射防止膜として、同装置で二酸化ケイ
素膜を３分間で形成した。このとき初期の1/4の
時間をイオンビームアシストした。膜厚は940Å
であつた。
素膜を３分間で形成した。このとき初期の1/4の
時間をイオンビームアシストした。膜厚は940Å
であつた。
また基材の裏面には、上記のハードコート層を
設け、次に酸化アルミニウム膜、および二酸化ケ
イ素膜を順次形成して、表面の硬度化と反射防止
機能を付与した。
設け、次に酸化アルミニウム膜、および二酸化ケ
イ素膜を順次形成して、表面の硬度化と反射防止
機能を付与した。
得られたコーテイングされた光透過板は、ITO
層の密着強度に優れ、長期間使用しても剥離など
の問題は一切なかつた。また膜構造が常に一定の
ものとなり、透明性、電気特性などの品質安定性
に優れ、工業生産的に一定品質のものを大量生産
することができた。電気特性も周波数10GHZに
おける電磁波の透過量は約10分の１に減衰するこ
とができた。さらにこれをワープロの光学フイル
ターとして使用したところ、反射防止機能に優
れ、使用者も目が疲れない点において著るしい効
果があつた。
層の密着強度に優れ、長期間使用しても剥離など
の問題は一切なかつた。また膜構造が常に一定の
ものとなり、透明性、電気特性などの品質安定性
に優れ、工業生産的に一定品質のものを大量生産
することができた。電気特性も周波数10GHZに
おける電磁波の透過量は約10分の１に減衰するこ
とができた。さらにこれをワープロの光学フイル
ターとして使用したところ、反射防止機能に優
れ、使用者も目が疲れない点において著るしい効
果があつた。
また表面の硬度が高く、傷のつきにくいもので
あつた。
あつた。
本発明は上記のとおりの技術であるので、プラ
スチツクであつても。反射防止機能に優れ、かつ
擦過や薬品に対して強いものとすることができ
る。また長期間使用しても層間剥離などがなく、
従つて光学フイルターやレンズ、パネル、プラス
チツク板ガラスなど、多くの用途において有価値
である。
スチツクであつても。反射防止機能に優れ、かつ
擦過や薬品に対して強いものとすることができ
る。また長期間使用しても層間剥離などがなく、
従つて光学フイルターやレンズ、パネル、プラス
チツク板ガラスなど、多くの用途において有価値
である。
第１図は本発明の好ましい反射防止性を有する
光学材料の１実施態様の断面を示す。 １……プラスチツク基材、２……耐擦禍性を有
するハードコート層、３……Y2O3層、４……
TiO2層、５……SiO2層、３′，４′，５′は各々イ
オンを照射した部分。
光学材料の１実施態様の断面を示す。 １……プラスチツク基材、２……耐擦禍性を有
するハードコート層、３……Y2O3層、４……
TiO2層、５……SiO2層、３′，４′，５′は各々イ
オンを照射した部分。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ プラスチツク基材の上に耐擦禍性を有するハ
ードコート層を設け、その表層に複数層からなる
反射防止膜を設け、かつ該反射防止膜は最外層が
SiO2層であり、該最外層は、界面のみがイオン
ビームにより変性されてなることを特徴とする反
射防止性を有する光学材料。 ２ 複数層からなる反射防止膜が、主成分Y2O3
層、TiO2層、SiO2層の３層からなることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の反射防止性を
有する光学材料。 ３ Y2O3層が約λ／４、TiO2層が約λ／２、
SiO2層が約λ／４の厚さであることを特徴とす
る特許請求の範囲第２項記載の反射防止性を有す
る光学材料（ただしλは450〜600nmの範囲をい
う）。 ４ ハードコート層は有機ポリシロキサンを含む
層であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の反射防止性を有する光学材料。 ５ 基材が着色されたものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の反射防止性を有す
る光学材料。 ６ プラスチツク基材の上に耐擦禍性を有するハ
ードコート層を設け、その表層に複数層からなる
反射防止膜を、真空蒸着法、または高周波イオン
プレーテイング法で形成する反射防止性を有する
光学材料の製造方法であつて、該反射防止膜の最
外層がSiO2層であり、かつ、該最外層は、真空
蒸着、または高周波イオンプレーテイングの初期
にイオン銃を用いて部分イオンビームアシストさ
れることを特徴とする反射防止性を有する光学材
料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091009A JPS61250601A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091009A JPS61250601A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61250601A JPS61250601A (ja) | 1986-11-07 |
| JPH0552921B2 true JPH0552921B2 (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=14014519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60091009A Granted JPS61250601A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61250601A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994005044A1 (en) * | 1992-08-21 | 1994-03-03 | Nippondenso Co., Ltd. | Optical sensor and method of its manufacture |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63113401A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光学薄膜を有するプラスチツク物品の製法 |
| JP2590136B2 (ja) * | 1987-09-22 | 1997-03-12 | 日本板硝子株式会社 | 導電性反射防止膜の付着透明板 |
| JP2724260B2 (ja) * | 1991-10-17 | 1998-03-09 | ホーヤ株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
| JPH0578508A (ja) * | 1992-02-13 | 1993-03-30 | Toray Ind Inc | 反射防止効果を有するプラスチツク光学物品の製造方法 |
| FR2817267B1 (fr) | 2000-11-28 | 2003-08-29 | Essilor Int | Procede de depot de couche anti-reflets a froid sur substrat organique |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423557A (en) * | 1977-07-23 | 1979-02-22 | Ito Kougaku Kougiyou Kk | Optical parts of plastics and method of manufacturing same |
| JPS5565239A (en) * | 1978-11-10 | 1980-05-16 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Method of forming film of titanium oxide on plastic base plate |
| JPS5565358A (en) * | 1978-11-10 | 1980-05-16 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Forming method for titanium dioxide by normal temperature reaction evaporation |
| JPS5778501A (en) * | 1980-11-05 | 1982-05-17 | Canon Inc | Optical parts made of transparent synthetic resin |
| JPS582022A (ja) * | 1981-06-27 | 1983-01-07 | Agency Of Ind Science & Technol | 薄膜形成方法 |
| JPS58136001A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-12 | Matsushima Kogyo Co Ltd | 合成樹脂製レンズの反射防止膜 |
| JPS6029702A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Seiko Epson Corp | プラスチツクレンズ |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP60091009A patent/JPS61250601A/ja active Granted
Patent Citations (7)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61250601A (ja) | 1986-11-07 |
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