JPH05387B2

JPH05387B2 -

Info

Publication number: JPH05387B2
Application number: JP61297186A
Authority: JP
Inventors: Hisashi Takao; Tetsuya Imai
Original assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date: 1986-01-16
Filing date: 1986-12-12
Publication date: 1993-01-05
Also published as: JPS62281867A

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野本発明は、イミダゾールカルボン酸エステル誘
導体、その製造方法及び該誘導体を有効成分とす
る殺菌剤に関する。従来の技術本発明のイミダゾールカルボン酸エステル誘導
体に類似する化合物としては、例えば１−イミダ
ゾールカルボン酸ベンジルエステルが知られてい
る〔ジヤーナルオブザオーガニツクケミ
ストリー、47（23）、4471〜4477参照〕。しかしな
がら、該化合物は、殺菌活性が全く認められてい
ない。発明の開示本発明のイミダゾールカルボン酸エステル誘導
体は、文献未記載の新規化合物であつて、下記一
般式（）で表わされる。〔式中、R¹は低級アルキル基、シクロアルキ
ル基又はR³（CH₃）₂Ｃ−基（R³：ハロゲノメチル
基、アシルオキシメチル基又はアルコキシカルボ
ニル基）を示す。R²は水素原子、低級アルキル
基又はシクロアルキル基を示す。Ｘはハロゲン原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル
オキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、ハロアルキル基、ハロアルケニル基、
置換基を有することのあるフエニル基、置換基を
有することのあるベンジル基、置換基を有するこ
とのあるフエノキシ基、ニトロ基、シアノ基、−
COR⁴基（R⁴：低級アルコキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、低級アルキルア
ミノ基、アニリノ基）又は

【式】基（R⁵， R⁶：低級アルキル基、アシル基、スルホニル基、
低級アルコキシカルボニル基）を示す。ｎは０又
は１〜３の整数を示す。Ｙ及びＺは同一又は異な
つて酸素原子又は硫黄原子を示す。ａは０又は１
を示す。ｂは１又は２を示す。〕本明細書において、低級アルキル基としては、
例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、
tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、
sec−ペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル基
等の炭素数１〜６のアルキル基を挙げることがで
きる。シクロアルキル基としては、例えばシクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等の炭
素数３〜８のシクロアルキル基を挙げることがで
きる。ハロゲノメチル基としては、例えばクロロメチ
ル、ブロモメチル、フルオロメチル基等を挙げる
ことができる。アシルオキシメチル基としては、例えばアセチ
ルオキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ベ
ンゾイルオキシメチル、フエニル環上にハロゲン
原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３
のアルコキシ基等の置換基を有するベンゾイルオ
キシメチル基を挙げることができる。低級アルコキシカルボニル基としては、例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ピルオキシカルボニル基等のアルコキシ部分の炭
素数１〜６であるアルコキシカルボニル基を挙げ
ることができる。ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、塩素
原子、臭素原子、沃素原子等を挙げることができ
る。低級アルケニル基としては、例えばビニル、プ
ロペニル、ブテニル基等の炭素数２〜６のアルケ
ニル基等を挙げることができる。低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、
エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオ
キシ、ｎ−ブトキシ、イソブチルオキシ、sec−
ブチルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基
等を挙げることができる。低級アルケニルオキシ基としては、例えばビニ
ルオキシ、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ基
等の炭素数２〜６のアルケニルオキシ基等を挙げ
ることができる。低級アルキニルオキシ基としては、例えばエチ
ニルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチニルオキ
シ基等の炭素数２〜６のアルキニルオキシ基等を
挙げることができる。低級アルキルアミノ基としては。例えばモノメ
チルアミノ、モノエチルアミノ、モノプロピルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロ
ピルアミノ基等の炭素数１〜６のモノ及びジアル
キルアミノ基等を挙げることができる。アシル基としては例えば、アセチル、プロピオ
ニル、ベンゾイル、フエニル環上にハロゲン原
子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３の
アルコキシ基等の置換基を有するベンゾイル基等
を挙げることができる。スルホニル基としては例えばメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、ベンゼンスルホニル、フ
エニル環上にハロゲン原子、炭素数１〜３のアル
キル基、炭素数１〜３のアルコキシ基等の置換基
を有するベンゼンスルホニル基等を挙げることが
できる。低級アルキルチオ基としては、例えばメチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ基等
の炭素数１〜６のアルキルチオ基等を挙げること
ができる。ハロアルキル基としては、例えばモノクロロメ
チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、モノ
ブロモメチル、ジブロモメチル、モノフルオロメ
チル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、
１，２−ジクロロエチル、１，２−ジブロモエチ
ル、１，１，２−トリクロロエチル、モノフルオ
ロエチル基等のハロゲン原子が置換した炭素数１
〜６のアルキル基等を挙げることができる。ハロアルケニル基としては、例えば２，２−ジ
クロロビニル、２，２−ジブロモビニル基等のハ
ロゲン原子が置換した炭素数２〜６のアルケニル
基等を挙げることができる。フエニル基、ベンジル基及びフエノキシ基のフ
エニル環上に置換されている置換基としては、上
記ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ニトロ基、シアノ基等を挙げることができ
る。上記一般式（）で表わされる本発明の化合物
は、後記に示すように農園芸用殺菌剤として有用
な化合物である。本発明の化合物は、種々の方法で製造され得る
が、一般的には下記反応式−１及び反応式−２に
示す方法に従い容易に製造される。〔式中、R¹，R²，Ｘ，ｎ，Ｙ，Ｚ，ａ及びｂ
は前記に同じ。〕〔式中、R¹，R²，Ｘ，ｎ，Ｙ，Ｚ，ａ及びｂ
は前記に同じ。〕反応式−１によれば、本発明の化合物は、一般
式（）で表わされるカルビノール誘導体と式
（）で表わされるＮ，N′−カルボニルジイミダ
ゾール類とを反応させることにより製造される。
該反応は、無溶媒又は適当な溶媒中で行なわれ
る。ここで用いられる溶媒としては、ジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロルエタン等のハロゲン化炭
化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、酢酸エチル、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等や
これらの混合溶媒等を挙げることができる。一般
式（）の化合物と一般式（）の化合物との使
用割合としては、特に限定されるものではない
が、通常前者に対して後者を0.5〜２倍モル量程
度、好ましくは0.7〜1.5倍モル量程度とするのが
よい。該反応は、室温下及び加温下のいずれでも
行ない得るが、通常室温〜使用される溶媒の沸点
付近で好適に進行し、反応時間は一般に１〜10時
間程度である。反応式−２によれば、本発明の化合物は、一般
式（）で表わされるカルビノール誘導体と一般
式（）で表わされる化合物とを反応させ、次い
で生成する一般式（）で表わされる化合物にイ
ミダゾールを反応させることにより製造される。この一連の反応は、無溶媒又は適当な溶媒中で
行なわれる。ここで用いられる溶媒としては、ジ
エチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチ
レン、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ピリジン等やこれらの混合溶媒等を挙げるこ
とができる。一般式（）の化合物と一般式（）の化合物
との反応においては、一般式（）の化合物をガ
ス状又は液状で導入するか、上記溶媒に溶解した
一般式（）の化合物を滴下するのがよい。本発
明では、一般式（）の化合物に代えて該化合物
を発生させる化合物を使用してもよい。斯かる化
合物としては、該反応条件下に一般式（）の化
合物を発生し得るものである限り、従来公知のも
のを使用でき、例えばトリクロロメチルクロロフ
オーメイト等を挙げることができる。一般式
（）の化合物と一般式（）の化合物との使用
割合としては、特に限定されるものではないが、
通常前者に対して後者を0.5〜５倍モル量程度、
好ましくは１〜３倍モル量程度とするのがよい。
該反応系内には、塩基性化合物を存在させておく
のが好ましい。塩基性化合物としては、該反応に
より生成する塩化水素を捕捉し得るものである限
り、従来公知のものを広く使用でき、例えばトリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルアニ
リン、ジエチルアニリン、ピリジン類等を例示で
きる。斯かる塩基性化合物の使用量としては、通
常一般式（）の化合物に対して0.5〜５倍モル
量程度、好ましくは１〜３倍モル量程度とするの
がよい。該反応は、室温下及び冷却下のいずれで
も行ない得るが、通常−10℃〜室温付近で好適に
進行し、反応時間は一般に１〜15時間程度であ
る。斯くして生成する一般式（）の化合物は、単
離して或は単離することなくそのまま次の反応に
供される。上記反応で生成する一般式（）の化合物とイ
ミダゾールとの反応において、両者の使用割合と
しては、特に限定されるものではないが、通常前
者に対して後者を0.5〜２倍モル量程度、好まし
くは0.7〜1.5倍モル量程度とするのがよい。該反
応の反応系内にも上記と同様の塩基性化合物を存
在させておくのが好ましい。塩基性化合物の使用
量としては、通常一般式（）の化合物に対して
0.5〜２倍モル量程度、好ましくは0.7〜1.5倍モル
量程度とするのがよい。該反応は、室温下及び加
温下のいずれでも行ない得るが、通常室温〜使用
される溶媒の沸点付近で好適に進行し、反応時間
は一般に１〜10時間程度である。上記反応式−１及び２において、出発原料とし
て使用される一般式（）の化合物は、公知の方
法、例えば下記反応式−３，４又は５に示す方法
に従い容易に製造される。〔式中、R¹，Ｘ，ｎ，Ｙ及びｂは前記に同じ。
X′はハロゲン原子を示す。〕反応式−３において、一般式（）の化合物と
一般式（）の化合物との反応は、水中又は有機
溶媒中で行なわれる。ここで使用される溶媒とし
ては、例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。一般
式（）の化合物と一般式（）の化合物との使
用割合としては、特に限定されるものではない
が、通常前者に対し後者を0.5〜２倍モル量程度、
好ましくは等モル〜1.5倍モル量程度とするのが
よい。該反応では、塩基剤が使用されるか、又は
予め一般式（）で表わされるフエノール類をナ
トリウム塩、カリウム塩等として使用される。使
用される塩基剤としては、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ炭酸塩、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ水酸化
物、金属ナトリウム、ナトリウムメチラート、水
素化ナトリウム等が挙げられる。該反応の反応温
度は、通常50〜150℃程度であり、該反応は、一
般に５〜15時間程度で終了する。また反応式−３において、一般式（）の化合
物を還元して一般式（ａ）の化合物を得る反応
には、接触還元法、還元剤を使用する方法等の
種々の方法を適用し得る。例えば接触還元法を適
用する場合、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、アセトニトリル等の溶媒中で貴金属、貴
金属酸化物、ラネー型の触媒を使用し、水素添加
を行なえばよい。これらの触媒の中でも白金、酸
化白金、ニツケルが特に好ましい。この反応の反
応温度は、広い範囲内から適宜選択し得るが、20
〜50℃程度が好ましく、また該反応は常圧下及び
加圧下のいずれでも行ない得る。また還元剤を使
用する方法を適用する場合、触媒としては例えば
アルミニウムイソプロピラート、水素化硼素ナト
リウム等が使用され、溶媒としては例えばメタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類が使
用される。上記触媒の使用量としては、通常一般
式（）の化合物に対して0.1〜２倍モル量程度、
好ましくは0.5〜1.5倍モル量程度とするのがよ
い。該反応の反応温度は、通常０〜1100℃の範囲
内である。［式中、R¹，R²，Ｘ，Ｙ，ｎ，ａ及びｂは前
記に同じ。X′はハロゲン原子、R³はR¹と同じか
又は低級アルコキシ基を示す。］反応式４，５に示す反応は、一般のグリニヤー
ル反応であり、例えばジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶
媒中で行なわれる。一般式（）、（）で表わ
されるハロゲン化物とマグネシウムとの反応にお
いて、両者の使用割合としては、特に限定される
ものではないが、通常前者に対し後者を0.5〜1.5
倍モル量程度、好ましくは0.8〜1.2倍モル量程度
とするのがよい。この反応は０℃〜溶媒の沸点付
近で好適に進行し、反応時間は一般に１〜10時間
程度である。斯くして生成するグリニヤール試薬
を、単離することなく、引続き一般式（）、（
）で表わされるアルデヒド、ケトン、カルボン
酸エステル誘導体と反応させる。一般式（）、
（）で表わされる化合物の使用量としては、
一般式（）、（）で表わされるハロゲン化物
に対して通常0.1〜３倍モル量程度、好ましくは
0.5〜2.5倍モル量程度とするのがよい。この反応
は０〜50℃付近で好適に進行し、反応時間は一般
に0.5〜３時間程度である。上記の方法で得られる本発明の化合物は、通常
の分離手段、例えば溶媒抽出法、溶媒希釈法、再
結晶法、カラムクロマトグラフイー等により反応
混合物から容易に単離精製でき、目的とする本発
明の化合物を高純度で製造し得る。本発明の化合物は、強い殺菌活性と巾広い活性
スペクトラムとを有することが特徴であり、例え
ばうどんこ病、黒星病、黒穂病、灰色かび病、炭
疸病、いもち病、ごま葉枯病、紋枯病等の各種病
原菌に対して優れた殺菌活性を発揮する。しかも
本発明の化合物は、上記病原菌を防除するに必要
な濃度では、作物への害を示さず、また温血動物
に対しても低毒性である。従つて本発明の化合物
は、各種野菜、果樹、稲、桑等の農作物の病害防
除に有効に使用され得る。本発明化合物を殺菌剤として施用するに当つて
は、本発明化合物をそのまま用いてもよいが、一
般には通常農薬の製剤上使用される補助剤と混合
して使用される。剤型としては、特に制限される
ものではないが、粉剤、乳剤、水和剤、フロアブ
ル剤及び粒剤の形態が好適である。補助剤として
は、この分野で通常使用されているものを広く使
用でき、例えば珪藻土、カオリン、クレー、ベン
トナイト、ホワイトカーボン、タルク等の増量
剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルフエニルエーテル、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレン脂肪酸エステル、アルキルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸ナ
トリウム、アルキル硫酸ナトリウム、ポリオキシ
エチレンアルキル硫酸ナトリウム、ナフタリンス
ルホン酸ホルマリン縮合物の塩等の界面活性剤、
ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、シク
ロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ジオキサン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、四塩化炭素等の
有機溶媒等が挙げられる。本発明の殺菌剤中に配合すべき本発明化合物の
量としては、特に制限されないが、有効成分が通
常0.1〜90重量％程度、好ましくは１〜70重量％
程度となるように上記補助剤を適宜添加するのが
よい。本発明の殺菌剤を使用するに当つては、本発明
殺菌剤を希釈することなくそのまま散布してもよ
いし、500〜10000倍程度に希釈して散布してもよ
い。施用適量は、薬剤の製剤形態、施用方法、施
用時期、対象病害の種類等により異なり一概には
言えないが、通常有効成分の量が５〜200ｇ／10
ｇ程度となるように散布するのがよい。実施例以下に参考例、実施例、配合例及び試験例を掲
げて本発明をより一層明らかにする。参考例１１−（ｐ−クロロフエノキシ）−３，３−ジメチ
ル−２−ブタノンの製造 200ml容のナスフラスコにｐ−クロロフエノー
ル12.8ｇ、１−クロロ−３，３−ジメチル−２−
ブタノン13.4ｇ、無水炭酸カリウム13.8ｇ及びア
セトニトリル100mlを仕込み、８時間還流した。
反応混合物を過によつて塩化カリウムを除去し
た後、液を減圧下に濃縮し、粗結晶を得た。粗
結晶をｎ−ヘキサンから再結晶し、目的とする上
記の化合物16.0ｇを得た。融点62〜63℃ 参考例２１−（ｐ−クロロフエノキシ）−３，３−ジメチ
ル−２−ブタノールの製造 200ml容のナスフラスコに１−（ｐ−クロロフエ
ノキシ−３，３−ジメチル−２−ブタノン9.0ｇ
及びメタノール80mlを仕込み、冷却攪拌下水素化
硼素ナトリウム0.8ｇを加えた。室温で１時間攪
拌した後、反応混合物を減圧下に濃縮し、得られ
た残渣を50mlの水を加え、30mlのエーテルで２回
抽出した。合わせたエーテル抽出液を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーにかけて精製し、目的とする上
記の化合物8.5ｇを得た。参考例３１−（ｐ−クロロフエニル）−３，３−ジメチル
−２−ブタノールの製造ｐ−クロロベンジルマグネシウムクロリド
（0.055モル）のエーテル100ml溶液中に冷却及び
攪拌下ピバルアルデヒド4.3ｇ（0.05モル）のエ
ーテル溶液10mlを滴下した。滴下後反応液を室温
で１時間攪拌し、次いで氷片を入れた５％塩酸水
溶液中に投入した。油層を分離後、水層をエーテ
ルで抽出して油層と合せた後、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を
留去して白色固状の目的とする上記の化合物10.5
ｇを得た。参考例４１−（ｐ−クロロフエノキシ）−３，３−ジメチ
ル−４−クロロ−２−ブタノンの製造 100ml容のナスフラスコに１−（ｐ−クロロフエ
ノキシ−３，３−ジメチル−４−ヒドロキシ−２
−ブタノン2.4ｇ、トリフエニルフオスフイン2.6
ｇ及び四塩化炭素50mlを仕込み、18時間還流し
た。反応混合物を冷却し、析出した結晶を過に
よつて除去した後、液を減圧下に濃縮し得られ
た残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
によつて精製し、目的とする上記の化合物1.8ｇ
を得た。参考例５１−（ｐ−クロロフエノキシ）−３，３−ジメチ
ル−４−クロロ−２−ブタノールの製造 100ml容のナスフラスコに１−（ｐ−クロロフエ
ノキシ−３，３−ジメチル−４−クロロ−２−ブ
タノン2.6ｇ及びメタノール40mlを仕込み、冷却
攪拌下、水素化ホウ素ナトリウム0.2ｇを加えた。
室温で１時間攪拌した後、反応混合物を減圧下に
濃縮し、得られた残渣に50mlの水を加え、30mlの
エーテルで２回抽出した。合わせたエーテル抽出
液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーにかけて精製
し、目的とする上記の化合物2.3ｇを得た。参考例６１−（ｐ−クロロフエニルチオ）−３，３−ジメ
チル−２−ブタノンの製造ｐ−クロルチオフエノール14.45ｇと無水炭酸
カリウム13.8ｇをアセトニトリル200ml中に入れ、
かき混ぜながら１−クロロ−３，３−ジメチル−
２−ブタノン13.45ｇを少量ずつ添加した。反応
混合物は70〜75℃で６時間環かき混ぜた後、析出
物を別した。液を濃縮した残留物をベンゼン
で抽出し、この中へ10％水酸化ナトリウム溶液
200mlを入れて室温で１時間かき混ぜた。ベンゼ
ン層を分離し、水洗後無水硫酸マグネシウム上で
乾燥した。溶媒を減圧下で留去して淡黄色油状の
上記目的化合物20.2ｇを得た。参考例７１−（ｐ−クロロフエニルチオ）−３，３−ジメ
チル−２−ブタノールの製造１−（ｐ−クロロフエニルチオ）−３，３−ジメ
チル−２−ブタノール2.43ｇをメタノール50mlに
溶解した。この中へかき混ぜながら水素化ホウ素
ナトリウム0.4ｇを10℃以下で少量ずつ添加した。
全量添加後室温で30分かき混ぜた後、メタノール
を減圧下で除去した。残留物をエーテルで抽出を
行ない、水洗後無水硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。溶媒を留去して無黄色油状の上記目的化合物
2.4ｇを得た。参考例８１−（ｐ−クロロフエノキシ）−２−メチル−２
−プロパノールの製造メチルマグネシウムブロミド24ｇのエーテル溶
液100ml中にｐ−クロルフエノキシ酢酸エチル
10.7ｇのエーテル溶液30mlを10℃以下でかき混ぜ
ながら滴下した。滴下後反応液は室温で１時間か
き混ぜた後、氷冷下10％塩酸水溶液中へ投入し
た。油層をエーテル抽出した後飽和食塩水で洗浄
して無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を
留去して無色油状の上記目的化合物8.9ｇを得た。参考例９１−（ｐ−クロルフエノキシ）−２，３−ジメチ
ル−２−ブタノールの製造メチルマグネシウムブロミド12ｇのエーテル溶
液50ml中に10℃以下でかき混ぜながらｐ−クロル
フエノキシイソプロピルケトン10.6ｇのエーテル
溶液30mlを少量ずつ滴下した。滴下後反応液は室
温で１時間かき混ぜた後氷冷下10％塩酸水溶液
100ml中に注加した。エーテル層を分離して飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
した。溶媒を留去して淡黄色油状の上記目的化合
物9.1ｇを得た。実施例１イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｍ−ク
ロロフエノキシ）−3′，3′−ジメチル−2′−ブチ
ルエステルの製造 100ml容のナスフラスコに、１−（ｍ−クロロフ
エノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノール
1.6ｇ、カルボニルイミダゾール1.4ｇ及び酢酸エ
チル40mlを仕込み、３時間還流した。反応混合物
を減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーにかけて精製し、目的と
する上記の化合物1.6ｇを得た。融点67〜68℃ 元素分析値（C₁₆H₁₉N₂O₃Clとして）ＣＨＮ計算値（％） 59.54 5.93 8.68 実測値（％） 59.01 5.88 8.81 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.10（9H）、4.10（2H）、5.15（1H）、6.50〜7.10
（5H）、7.25（1H）、7.98（1H）上記の結果から得られた化合物は、であることを確認した。実施例２イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｏ−ク
ロロフエノキシ）−3′，3′−ジメチル−2′−ブチ
ルエステルの製造 100ml容の四つ口フラスコに、１−（ｏ−クロロ
フエノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノー
ル2.3ｇ、ピリジン0.81ml及び酢酸エチル50mlを
仕込み、冷却攪拌下、トリクロロメチルクロロフ
オーメイト0.6mlを滴下し、滴下終了後、室温で
15時間攪拌した。再度冷却し、イミダゾール0.7
ｇ及びピリジン0.81mlを加え、室温で30分、更に
３時間還流した。反応混合物を水、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下
に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーにかけて精製し、目的とする上記
の化合物1.5ｇを得た。融点123〜124℃ 元素分析値（C₁₆H₁₉N₂O₃Clとして）ＣＨＮ計算値（％） 59.54 5.93 8.68 実測値（％） 58.98 5.90 8.75 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.10（9H）、4.10（2H）、5.17（1H）、6.60〜7.20
（5H）、7.28（1H）、8.00（1H）上記の結果から得られた化合物は、であることを確認した。実施例３〜69 適当な出発原料を用い、実施例１又は２と同様
にして下記第１表に示す化合物を得た。

【表】

【表】実施例 70 イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｐ−ク
ロロフエニル）−3′，3′−ジメチル−2′−ブチル
エステルの製造１−（ｐ−クロロフエニル）−３，３−ジメチル
−２−ブタノール2.14ｇ及びピリジン0.78ｇを酢
酸エチル30ml中に入れて10℃以下に冷却した。こ
の中へトリクロロメチルクロロフオーメイト0.6
mlを攪拌下で少量ずつ滴下した。この混合物を室
温で１時間攪拌した後、次にこの中へイミダゾー
ル0.68ｇ及びピリジン0.78ｇを加え、70〜80℃で
２時間加熱した。次いで室温まで冷却して水洗
後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を留
去して目的とする上記の化合物2.9ｇを得た。融点121.5〜122℃ 元素分析値（C₁₆H₁₉N₂ClO₂として）ＣＨＮ計算値（％） 62.72 6.26 9.15 実測値（％） 62.60 6.23 9.22 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.06（ｓ、9H）、2.9（ｍ、2H）、5.0（ｍ、1H）、
6.9（ｍ、1H）、6.9〜7.1（ｍ、4H）、7.2（ｍ、
1H）、7.9（ｍ、1H）上記の結果から得られた化合物は、であることを確認した。実施例 71 イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｐ−ク
ロロフエニル）−2′−シクロヘキシルエチルエ
ステルの製造１−（ｐ−クロロフエニル）−２−シクロヘキシ
ルエタノール2.40ｇ及びＮ，Ｎ−カルボニルジイ
ミダゾール2.0ｇを酢酸エチル30ml中に入れ、攪
拌下に３時間還流した。次いで反応液を室温まで
冷却し、水で２回洗浄後、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥した。溶媒を留去して目的とする上記の
化合物3.3ｇを得た。融点80.5〜81℃ 元素分析値（C₁₈H₂₁N₂ClO₂として）ＣＨＮ計算値（％） 65.03 6.37 8.43 実測値（％） 65.21 6.32 8.50 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.7〜2.0（ｍ、11H）、2.9（ｍ、2H）、5.0（ｍ、
1H）、6.9（ｍ、1H）、6.7〜7.2（ｍ、4H）、7.2
（ｍ、1H）、7.9（ｍ、1H）上記の結果から得られた化合物は、であることを確認した。実施例 72〜101 適当な出発原料を用い、実施例70又は71と同様
にして下記第２表に示す化合物を得た。

【表】

【表】実施例 101 イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｐ−ク
ロロフエノキシ）−3′，3′−ジメチル−4′−クロ
ロ−2′−ブチルエステルの製造 100ml容のナスフラスコに、１−（ｐ−クロロフ
エノキシ）−３，３−ジメチル−４−クロロ−２
−ブタノール2.6ｇ、カルボニルジイミダゾール
1.8ｇ及び酢酸エチル40mlを仕込み、３時間還流
した。反応混合物を減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ
て精製し、目的とする上記の化合物2.1ｇを得た。融点65.7℃ 元素分析値（C₁₆H₁₈N₂O₃Cl₂として）ＣＨＮ計算値（％） 53.80 5.08 7.84 実測値（％） 53.62 5.14 7.76 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.20（6H）、3.45（2H）、4.15（2H）、5.40（1H）、
6.65（2H）、6.90（1H）、7.05（2H）、7.30（1H）、
8.00（1H）上記の結果から得られた化合物はであることを確認した。実施例 102 イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｐ−エ
チルフエノキシ）−3′，3′−ジメチル−4′−ブロ
モ−2′−ブチルエステルの製造 100ml容の四つ口フラスコに、１−（ｐ−エチル
フエノキシ）−３，３−ジメチル−４−ブロモ−
２−ブタノール3.0ｇ、ピリジン0.81ｇ及び酢酸
エチル50mlを仕込み、冷却攪拌下、トリクロロメ
チルクロロフオーメイト0.6mlを滴下した。滴下
終了後、室温で18時間攪拌した。再度冷却し、イ
ミダゾール0.7ｇ及びピリジン0.81mlを加え、室
温で30分攪拌後、更に３時間還流した。反応混合
物を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけて
精製し、目的とする上記の化合物3.0ｇを得た。融点47.1℃ 元素分析値（C₁₈H₂₃N₂O₃Brとして）ＣＨＮ計算値（％） 54.69 5.86 7.09 実測値（％） 54.58 5.92 7.01 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.15（3H）、1.20（6H）、2.53（2H）、3.35（2H）、
4.12（2H）、5.40（1H）、6.65（2H）、6.90（3H）、
7.30（1H）、8.00（1H）上記の結果から得られた化合物はであることを確認した。実施例 103〜111 適当な出発原料を用い、実施例101又は102と同
様にして下記第３表に示す化合物を得た。

【表】

【表】実施例 112 イミダゾール−１−チオカルボン酸1′−（ｐ−
クロロフエノキシ）−3′，3′−ジメチル−2′−ブ
チルエステルの製造 100ml容４頭フラスコに、１−（ｐ−クロロフエ
ノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノール2.3
ｇ、ピリジン0.81ml及び酢酸エチル50mlを仕込
み、氷浴中攪拌下に、チオホスゲン0.77mlを滴下
した。18時間室温で攪拌した後、イミダゾール
0.7ｇ、ピリジン0.81mlを加え、３時間還流した。
反応混合物を水、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧下に濃縮し得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけて精
製し、目的とする上記の化合物1.5ｇを得た。性状：油状物元素分析値（C₁₆H₁₉N₂O₂SClとして）ＣＨＮ計算値（％） 56.71 5.65 8.27 実測値（％） 56.43 5.88 8.10 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.10（9H）、4.14（2H）、5.72（1H）、6.60（2H）、
6.88（1H）、7.04（2H）、7.45（1H）、8.18（1H）上記の結果より得られた化合物はであることを確認した。実施例 113 イミダゾール−１−チオカルボン酸 1′−（ｐ
−エチルフエノキシ）−3′，3′−ジメチル−2′−
ブチルエステルの製造 100ml容４頭フラスコに、１−（ｐ−エチルフエ
ノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノール2.2
ｇ、ピリジン0.81ml及び酢酸エチル50mlを仕込
み、氷浴中攪拌下に、チオホスゲン0.77mlを滴下
した。18時間室温で攪拌した後、イミダゾール
0.7ｇ、ピリジン0.81mlを加え、３時間還流した。
反応混合物を水、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけて
精製し、目的とする上記の化合物1.3ｇを得た。性状：油状物元素分析値（C₁₈H₂₄N₂O₂Ｓとして）ＣＨＮ計算値（％） 65.03 7.28 8.43 実測値（％） 64.97 7.34 8.31 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.10（9H）、1.16（3H）、2.52（2H）、4.18（2H）、
5.72（1H）、6.60（2H）、6.85（1H）、6.92（1H）、
7.45（1H）、8.15（1H）上記の結果より得られた化合物はであることを確認した。実施例 114 イミダゾール−１−チオカルボン酸 1′−（ｐ
−クロロフエニル）−4′，4′−ジメチル−3′−ア
ミルエステルの製造 100ml容四つ口フラスコに、１−（ｐ−クロロフ
エニル）−４，４−ジメチル−３−アミルアルコ
ール2.3ｇ、ピリジン0.81ml及び酢酸エチル50ml
を仕込み、冷却攪拌下、チオホスゲン0.77mlを滴
下し、滴下終了後、室温で18時間室温で攪拌し
た。再冷却し、更にイミダゾール0.7ｇ、ピリジ
ン0.81mlを加え、室温で30分、更に３時間還流し
た。反応混合物を水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーにかけて精製し、目的とする化合物1.1ｇを得
た。融点：66.5℃ 元素分析値（C₁₇H₂₁N₂OSClとして）ＣＨＮ計算値（％） 60.61 6.28 8.32 実測値（％） 60.42 6.35 8.28 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.98（9H）、2.05（2H）、2.62（2H）、5.55（1H）、
6.92（1H）、7.00（4H）、7.48（1H）、8.20（1H）上記の結果より得られた化合物はであることを確認した。実施例 115 イミダゾール−１−チオカルボン酸 1′−（ｐ
−クロロフエニル）−3′，3′−ジメチル−2′−ブ
チルエステルの製造 100ml容四つ口フラスコに、１−（ｐ−クロロフ
エニル）−３，３−ジメチル−２−ブチルアルコ
ール2.1ｇ、ピリジン0.81ml及び酢酸エチル50ml
を仕込み、冷却攪拌下、チオホスゲン0.77mlを滴
下し、滴下終了後、室温で18時間室温で攪拌し
た。再冷却し、更にイミダゾール0.7ｇ、ピリジ
ン0.81mlを加え、室温で30分、更に３時間還流し
た。反応混合物を水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーにかけて精製し、目的とする化合物1.2ｇを得
た。融点：86.8℃ 元素分析値（C₁₆H₁₉N₂OSClとして）ＣＨＮ計算値（％） 59.52 5.93 8.68 実測値（％） 59.31 6.01 8.73 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.10（9H）、2.92（2H）、5.65（1H）、6.88（1H）、
7.00（4H）、7.40（1H）、8.12（1H）上記の結果より得られた化合物はであることを確認した。実施例 116〜132 適当な出発原料を用い、実施例112〜115と同様
にして下記第４表に示す化合物を得た。

【表】

【表】実施例 133 イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｐ−ク
ロロフエニルチオ）−3′，3′−ジメチル−2′−ブ
チルエステルの製造１−（ｐ−クロルフエニルチオ）−３，３−ジメ
チル−２−ブタノール2.4ｇとＮ，Ｎ−カルボニ
ルジイミダゾール2.0ｇを酢酸エチル30ml中に添
加し、還流下で３時間攪拌した。室温まで冷却し
た後、２回水洗を行ない、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー（展開溶媒；ベ
ンゼン：酢酸エチル＝５：１）で精製して、淡黄
色油状の目的とする上記化合物2.9ｇを得た。元素分析値（C₁₆H₁₉N₂SO₂Clとして）ＣＨＮ実測値（％） 56.89 5.64 8.30 計算値（％） 56.71 5.65 8.27 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.92（9H）、3.62（2H）、4.92（1H）、6.62〜7.30
（6H）、7.90（1H）上記の結果より得られた化合物はであることを確認した。実施例 134 イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｏ−ク
ロロフエニルチオ）−3′，3′−ジメチル−2′−ブ
チルエステルの製造１−（ｏ−クロロフエニルチオ）−３，３−ジメ
チル−２−ブタノール2.4ｇとピリジン0.8ｇを酢
酸エチル30ml中に溶解し、10℃以下に冷却下でト
リクロロメチルクロロフオーメイト0.6mlを少量
ずつ滴下した。滴下後室温で２時間攪拌した。次
にピリジン0.8ｇとイミダゾール0.7ｇを加え、更
に還流下で３時間攪拌した。反応終了後、反応液
を水洗、乾燥、濃縮を行なつた。残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー（展開溶媒；ベン
ゼン：酢酸エチル＝５：１）で精製して、淡黄色
油状の目的とする上記化合物2.8ｇを得た。元素分析値（C₁₆H₁₉N₂SO₂Clとして）ＣＨＮ実測値（％） 56.82 5.63 8.29 計算値（％） 56.71 5.65 8.27 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.91（9H）、3.65（2H）、5.01（1H）、6.5〜7.3
（6H）、7.90（1H）上記の結果より得られた化合物はであることを確認した。実施例 135〜149 適当な出発原料を用い、実施例133又は134と同
様にして下記第５表に示す化合物を得た。

【表】

【表】実施例 150 イミダゾール−１−カルボン酸 1′−（ｐ−ク
ロルフエノキシ）−2′−メチル−2′−プロピル
エステルの製造１−（ｐ−クロルフエノキシ）−２−メチル−２
−プロパノール2.0ｇとＮ，Ｎ−カルボニルジイ
ミダゾール2.0ｇを酢酸エチル30ml中に添加して
還流下で３時間攪拌した。室温まで冷却した後、
２回水洗を行ない、最後に無水硫酸マグネシウム
上で乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー（展開溶媒；ベ
ンゼン：酢酸エチル＝５：１）で精製して、淡黄
色油状の目的とする上記化合物2.4ｇを得た。元素分析値（C₁₄H₁₅N₂O₃Clとして）ＣＨＮ実測値（％） 59.224 5.278 9.921 計算値（％） 59.056 5.310 9.838 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.62（6H）、4.10（2H）、6.60〜7.22（6H）、7.88
（1H）上記の結果より得られた化合物はであることを確認した。実施例 151 イミダゾール−１−カルボン酸1′−（ｐ−ク
ロルフエノキシ）−2′，3′−ジメチル−2′−ブチ
ルエステルの製造１−（ｐ−クロルフエノキシ）−２，３−ジメチ
ル−２−ブタノール2.9ｇとピリジン0.8ｇとを酢
酸エチル30ml中に入れて10℃以下で攪拌した。こ
の中へトリクロロメチルフオーメイト0.6mlを少
量ずつ滴下し、滴下後反応物は室温で２時間攪拌
した。次にピリジン0.8ｇとイミダゾール0.7ｇと
を添加して更に３時間かき混ぜながら還流したの
ち、室温まで冷却して水洗後無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー（展開溶媒；
ベンゼン：酢酸エチル＝５：１）で精製して、淡
黄色油状の目的とする上記化合物2.8ｇを得た。元素分析値（C₁₆H₁₉N₂O₃Clとして）ＣＨＮ実測値（％） 59.712 5.892 8.704 計算値（％） 59.536 5.933 8.678 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.20（6H）、1.62（3H）、2.40（1H）、4.18（2H）、
6.60〜7.30（6H）、7.90（1H）上記の結果から得られた化合物はであることを確認した。実施例 152〜178 適当な出発原料を用い、実施例150又は151と同
様にして下記第６表に示す化合物を得た。

【表】

【表】配合例１（25％水和剤）配合重量部本発明化合物 25 ホワイトカーボン 45 珪藻土 16 高級アルコール硫酸ナトリウム２ β−ナフタリンスルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩２アルキルフエニルフエノール硫酸塩 10 100 上記各種成分を混合機を用いて十分に混合した
後、微粉砕機で微粉砕し、25％水和剤を得た。配合例２（20％乳剤）配合重量部本発明化合物 20 ポリオキシエチレンスチリルフエニルエーテル８ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム４キシレン 68 100 上記各種成分を混合攪拌し、20％乳剤を得た。試験例１キユウリうどんこ病（Powdery mildew）に
対する防除効果ポツト（7.5cm、200ml容）植キユウリ幼苗
（品種：夏秋節成２号、２〜３葉期）に配合例１
で調整した水和剤の希釈液を所定濃度噴霧した。
風乾後、キユウリうどんこ病菌（Sphaerotheca
fuliginea）の胞子懸濁液を噴霧接種した。２週
間後、病斑面積歩合を測定し、防除価を下記式か
ら算出した。また薬害の有無も調べた。結果を第７表に示す。

【表】

【表】試験例２キユウリ灰色かび病（Grey mold）に対する
防除効果ポツト（7.5cm、200ml容）植キユウリ幼苗
（品種：夏秋節成２号、２〜３葉期）に配合例１
で調整した水和剤の希釈液を所定濃度噴霧した。
風乾後、キユウリ灰色かび病菌（Botrytis
cinerea）の胞子懸濁液を噴霧接種した。７日後、
病斑面積歩合を測定し、防除価を試験例１と同様
にして算出した。また薬害の有無も調べた。結果を第８表に示す。

【表】

【表】試験例３イネいもち病（Rice blast）に対する治療効果ポツト（7.5cm、200ml容）植イネ幼苗（品
種：日本晴、４葉期）にイネいもち病菌
（Pyricularia oryzae）の胞子懸濁液を噴霧接種
した。24時間後、配合例２で調整した乳剤の希釈
液を所定濃度噴霧した。７日後、病斑面積歩合を
測定し、防除価を試験例１と同様にして算出し
た。また薬害の有無も調べた。結果を第９表に示す。

【表】

【表】試験例４イネごま葉枯病（Helminthospotium
leafspot）に対する防除効果ポツト（7.5cm、200ml容）植イネ幼苗（品
種：日本晴、５葉期）に配合例２で調整した乳剤
の希釈液を所定濃度噴霧した。風乾後、イネごま
葉枯病菌（Cochliobolus miyabeanus）の胞子懸
濁液を噴霧接種した。７日後、病斑面積歩合を測
定し、防除価を試験例１と同様にして算出した。
また薬害の有無も調べた。結果を第10表に示す。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中、R¹は低級アルキル基、シクロアルキ
ル基又はR³（CH₃）₂Ｃ−基（R³：ハロゲノメチル
基、アシルオキシメチル基又はアルコキシカルボ
ニル基）を示す。R²は水素原子、低級アルキル
基又はシクロアルキル基を示す。Ｘはハロゲン原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル
オキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、ハロアルキル基、ハロアルケニル基、
置換基を有することのあるフエニル基、置換基を
有することのあるベンジル基、置換基を有するこ
とのあるフエノキシ基、ニトロ基、シアノ基、−
COR⁴基（R⁴：低級アルコキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、低級アルキルア
ミノ基、アニリノ基）又は【式】基（R⁵， R⁶：低級アルキル基、アシル基、スルホニル基、
低級アルコキシカルボニル基）を示す。ｎは０又
は１〜３の整数を示す。Ｙ及びＺは同一又は異な
つて酸素原子又は硫黄原子を示す。ａは０又は１
を示す。ｂは１又は２を示す。〕で表わされるイミダゾールカルボン酸エステル誘
導体。２一般式〔式中、R¹は低級アルキル基、シクロアルキ
ル基又はR³（CH₃）₂Ｃ−基（R³：ハロゲノメチル
基、アシルオキシメチル基又はアルコキシカルボ
ニル基）を示す。R²は水素原子、低級アルキル
基又はシクロアルキル基を示す。Ｘはハロゲン原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル
オキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、ハロアルキル基、ハロアルケニル基、
置換基を有することのあるフエニル基、置換基を
有することのあるベンジル基、置換基を有するこ
とのあるフエノキシ基、ニトロ基、シアノ基、−
COR⁴基（R⁴：低級アルコキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、低級アルキルア
ミノ基、アニリノ基）又は【式】基（R⁵， R⁶：低級アルキル基、アシル基、スルホニル基、
低級アルコキシカルボニル基）を示す。ｎは０又
は１〜３の整数を示す。Ｙは酸素原子又は硫黄原
子を示す。ａは０又は１を示す。ｂは１又は２を
示す。〕で表わされるカルビノール誘導体と式［式中Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。］で表わされるＮ，N′−カルボニルジイミダゾー
ル類とを反応させて一般式〔式中、R¹，R²，Ｘ，ｎ，Ｙ，Ｚ，ａ及びｂ
は前記に同じ。〕で表わされるイミダゾールカルボン酸エステル誘
導体を得ることを特徴とするイミダゾールカルボ
ン酸エステル誘導体の製造方法。３一般式〔式中、R¹は低級アルキル基、シクロアルキ
ル基又はR³（CH₃）₂Ｃ−基（R³：ハロゲノメチル
基、アシルオキシメチル基又はアルコキシカルボ
ニル基）を示す。R²は水素原子、低級アルキル
基又はシクロアルキル基を示す。Ｘはハロゲン原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル
オキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、ハロアルキル基、ハロアルケニル基、
置換基を有することのあるフエニル基、置換基を
有することのあるベンジル基、置換基を有するこ
とのあるフエノキシ基、ニトロ基、シアノ基、−
COR⁴基（R⁴：低級アルコキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、低級アルキルア
ミノ基、アニリノ基）又は【式】基（R⁵， R⁶：低級アルキル基、アシル基、スルホニル基、
低級アルコキシカルボニル基）を示す。ｎは０又
は１〜３の整数を示す。Ｙは酸素原子又は硫黄原
子を示す。ａは０又は１を示す。ｂは１又は２を
示す。〕で表わされるカルビノール誘導体と一般式［式中Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。］で表わされる化合物とを反応させ、次いで生成す
る一般式〔式中、R¹，R²，Ｘ，ｎ，Ｙ，Ｚ，ａ及びｂ
は前記に同じ。〕で表わされる化合物とイミダゾールとを反応させ
て一般式〔式中、R¹，R²，Ｘ，ｎ，Ｙ，Ｚ，ａ及びｂ
は前記に同じ。〕で表わされるイミダゾールカルボン酸エステル誘
導体を得ることを特徴とするイミダゾールカルボ
ン酸エステル誘導体の製造方法。４一般式〔式中、R¹は低級アルキル基、シクロアルキ
ル基又はR³（CH₃）₂Ｃ−基（R³：ハロゲノメチル
基、アシルオキシメチル基又はアルコキシカルボ
ニル基）を示す。R²は水素原子、低級アルキル
基又はシクロアルキル基を示す。Ｘはハロゲン原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル
オキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、ハロアルキル基、ハロアルケニル基、
置換基を有することのあるフエニル基、置換基を
有することのあるベンジル基、置換基を有するこ
とのあるフエノキシ基、ニトロ基、シアノ基、−
COR⁴基（R⁴：低級アルコキシ基、低級アルケニ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、低級アルキルア
ミノ基、アニリノ基）又は【式】基（R⁵， R⁶：低級アルキル基、アシル基、スルホニル基、
低級アルコキシカルボニル基）を示す。ｎは０又
は１〜３の整数を示す。Ｙ及びＺは同一又は異な
つて酸素原子又は硫黄原子を示す。ａは０又は１
を示す。ｂは１又は２を示す。〕で表わされるイミダゾールカルボン酸エステル誘
導体を有効成分として含有する殺菌剤。