JPH05337301A - コロイド状物質の真空乾燥方法とその装置 - Google Patents
コロイド状物質の真空乾燥方法とその装置Info
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- JPH05337301A JPH05337301A JP4147858A JP14785892A JPH05337301A JP H05337301 A JPH05337301 A JP H05337301A JP 4147858 A JP4147858 A JP 4147858A JP 14785892 A JP14785892 A JP 14785892A JP H05337301 A JPH05337301 A JP H05337301A
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- F26B5/04—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
- F26B5/041—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum for drying flowable materials, e.g. suspensions, bulk goods, in a continuous operation, e.g. with locks or other air tight arrangements for charging/discharging
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Abstract
(57)【要約】
【目的】コロイド状物質からなる被処理物を真空乾燥す
るに際して排出される気体の冷却を、効率よく経済的に
行え、かつ、装置全体の大型化やメンテナンスの困難さ
をも避けられるようにする。 【構成】被処理物を供給する原料供給装置１と、供給さ
れた被処理物を真空脱水処理するための真空乾燥塔２
と、真空乾燥塔２内における真空度を維持するように真
空乾燥塔２から気体を吸引排出する吸気装置５と、前記
真空乾燥塔２から供給された被処理物を混練して取り出
す処理物抽出装置３と、前記真空乾燥塔２から吸気装置
５への排気流路１１の途中で排出気体を冷却する冷却装
置４とを備え、更に、前記冷却装置４を間接熱交換が可
能なサーフェイスコンデンサーによって構成してある。
るに際して排出される気体の冷却を、効率よく経済的に
行え、かつ、装置全体の大型化やメンテナンスの困難さ
をも避けられるようにする。 【構成】被処理物を供給する原料供給装置１と、供給さ
れた被処理物を真空脱水処理するための真空乾燥塔２
と、真空乾燥塔２内における真空度を維持するように真
空乾燥塔２から気体を吸引排出する吸気装置５と、前記
真空乾燥塔２から供給された被処理物を混練して取り出
す処理物抽出装置３と、前記真空乾燥塔２から吸気装置
５への排気流路１１の途中で排出気体を冷却する冷却装
置４とを備え、更に、前記冷却装置４を間接熱交換が可
能なサーフェイスコンデンサーによって構成してある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ニートソープ（石鹸
膠）やグリセリン、或いは各種の油脂類などの、コロイ
ド状物質を真空脱水処理し、かつ、その真空脱水に伴っ
て排出される気体を冷却して排出する方法、及びそれに
用いる装置の改良に関する。
膠）やグリセリン、或いは各種の油脂類などの、コロイ
ド状物質を真空脱水処理し、かつ、その真空脱水に伴っ
て排出される気体を冷却して排出する方法、及びそれに
用いる装置の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のコロイド状物質の処理方
法及びそれに用いる装置としては、図４及び図５に示さ
れるものが知られている。すなわち、従来のものでは、
図４に示されているように、被処理物を供給する原料供
給装置１側から取り出された被処理物を、加熱蒸気との
熱交換により加熱した後に真空乾燥塔２に供給し、ここ
で被処理物を真空室９内に噴射し、飽和蒸気圧により脱
水処理するように構成してある。そして、真空室９の底
部から供給された被処理物を混練して取り出す処理物抽
出装置３と、前記真空乾燥塔２から排出された気体を、
クーリングタワー４Ａから供給された冷却水によって冷
却する冷却装置４とを備えてコロイド状物質の真空乾燥
装置を構成し、この真空乾燥装置において、前記冷却装
置４を、図５に示すように、雨滴型のバロメトリックコ
ンデンサーを用いて、排出気体の流路を横断する状態に
水膜を形成し、ここで排出気体を低温の水と強制的に接
触させることにより、排出気体を冷却するように構成し
ていた。
法及びそれに用いる装置としては、図４及び図５に示さ
れるものが知られている。すなわち、従来のものでは、
図４に示されているように、被処理物を供給する原料供
給装置１側から取り出された被処理物を、加熱蒸気との
熱交換により加熱した後に真空乾燥塔２に供給し、ここ
で被処理物を真空室９内に噴射し、飽和蒸気圧により脱
水処理するように構成してある。そして、真空室９の底
部から供給された被処理物を混練して取り出す処理物抽
出装置３と、前記真空乾燥塔２から排出された気体を、
クーリングタワー４Ａから供給された冷却水によって冷
却する冷却装置４とを備えてコロイド状物質の真空乾燥
装置を構成し、この真空乾燥装置において、前記冷却装
置４を、図５に示すように、雨滴型のバロメトリックコ
ンデンサーを用いて、排出気体の流路を横断する状態に
水膜を形成し、ここで排出気体を低温の水と強制的に接
触させることにより、排出気体を冷却するように構成し
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の技術によれば、次のような問題がある。つまり、高
い真空度を得るためには、温度に対する飽和真空度の関
係から、冷却工程での冷媒となる水の温度が低い程よ
く、従って、水を冷却しながら循環させて使用する方法
が採られていたが、循環される水の中には、接触して捕
捉される石鹸の微粉が導搬されるため、水が濁り、泡立
ち、又、多量の石鹸の微粉がクーリングタワーに付着し
て冷却効果を下げる結果、循環水の一部を常時循環系外
に排出し、その分、循環系に対して常時補給水を加えて
やる必要があり、大量の水を使用しなければならず、不
経済であった。又、クーリングタワーでは、水に対する
不純物の混入をかなりの範囲で許すことができる点では
有利であるものの、その機能上、入口と出口の温度差を
５℃程度にしか設定できないため、水温が３０℃程度ま
で上昇する夏期には、排出気体の冷却機能が低下して真
空度が上がり、乾燥処理に悪影響を及ぼす虞もあった。
その上、バロメトリックコンデンサーは、その真空度を
維持するために、水封槽の液面から１１メートル以上の
高さ位置に設置しなければならず、装置全体が大型化す
るとともに、メンテナンスを高所作業で行わなければな
らないという困難さもあった。更に、吸気装置として用
いられる真空ポンプにおいても、真空乾燥塔での脱水処
理に伴って生じる排出気体の他、バロメトリックコンデ
ンサーで使用する水中に含まれていた空気も排出する必
要があるため、排気容量の大きな真空ポンプが必要であ
った。本発明は、真空乾燥に際して排出される気体の冷
却を、効率よく経済的に行え、かつ、装置全体の大型化
やメンテナンスの困難さをも避けられるようにすること
を目的としている。
来の技術によれば、次のような問題がある。つまり、高
い真空度を得るためには、温度に対する飽和真空度の関
係から、冷却工程での冷媒となる水の温度が低い程よ
く、従って、水を冷却しながら循環させて使用する方法
が採られていたが、循環される水の中には、接触して捕
捉される石鹸の微粉が導搬されるため、水が濁り、泡立
ち、又、多量の石鹸の微粉がクーリングタワーに付着し
て冷却効果を下げる結果、循環水の一部を常時循環系外
に排出し、その分、循環系に対して常時補給水を加えて
やる必要があり、大量の水を使用しなければならず、不
経済であった。又、クーリングタワーでは、水に対する
不純物の混入をかなりの範囲で許すことができる点では
有利であるものの、その機能上、入口と出口の温度差を
５℃程度にしか設定できないため、水温が３０℃程度ま
で上昇する夏期には、排出気体の冷却機能が低下して真
空度が上がり、乾燥処理に悪影響を及ぼす虞もあった。
その上、バロメトリックコンデンサーは、その真空度を
維持するために、水封槽の液面から１１メートル以上の
高さ位置に設置しなければならず、装置全体が大型化す
るとともに、メンテナンスを高所作業で行わなければな
らないという困難さもあった。更に、吸気装置として用
いられる真空ポンプにおいても、真空乾燥塔での脱水処
理に伴って生じる排出気体の他、バロメトリックコンデ
ンサーで使用する水中に含まれていた空気も排出する必
要があるため、排気容量の大きな真空ポンプが必要であ
った。本発明は、真空乾燥に際して排出される気体の冷
却を、効率よく経済的に行え、かつ、装置全体の大型化
やメンテナンスの困難さをも避けられるようにすること
を目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のコロイド状物質の真空乾燥方法において
は、 〔イ〕コロイド状の被処理物を真空室内に噴射して脱水
処理する脱水工程。 〔ロ〕真空室内で脱水された被処理物を混練して取り出
す抽出工程。 〔ハ〕真空室内からの吸引排出途中の気体を、冷媒との
間接熱交換により冷却する冷却工程。 〔ニ〕前記脱水工程の後に、抽出工程及び冷却工程を並
行して行う。 上記〔イ〕〜〔ニ〕に記載の構成を備えたものである。
又、同様の目的で、被処理物を供給する原料供給装置
と、供給された被処理物を真空脱水処理するための真空
乾燥塔と、真空乾燥塔内における真空度を維持するよう
に真空乾燥塔から気体を吸引排出する吸気装置と、前記
真空乾燥塔から供給された被処理物を混練して取り出す
処理物抽出装置と、前記真空乾燥塔から吸気装置への排
気流路の途中で排出気体を冷却する冷却装置とを備え、
更に、前記冷却装置を間接熱交換が可能なサーフェイス
コンデンサーで構成することによってコロイド状物質の
真空乾燥装置を構成したものである。
に、本発明のコロイド状物質の真空乾燥方法において
は、 〔イ〕コロイド状の被処理物を真空室内に噴射して脱水
処理する脱水工程。 〔ロ〕真空室内で脱水された被処理物を混練して取り出
す抽出工程。 〔ハ〕真空室内からの吸引排出途中の気体を、冷媒との
間接熱交換により冷却する冷却工程。 〔ニ〕前記脱水工程の後に、抽出工程及び冷却工程を並
行して行う。 上記〔イ〕〜〔ニ〕に記載の構成を備えたものである。
又、同様の目的で、被処理物を供給する原料供給装置
と、供給された被処理物を真空脱水処理するための真空
乾燥塔と、真空乾燥塔内における真空度を維持するよう
に真空乾燥塔から気体を吸引排出する吸気装置と、前記
真空乾燥塔から供給された被処理物を混練して取り出す
処理物抽出装置と、前記真空乾燥塔から吸気装置への排
気流路の途中で排出気体を冷却する冷却装置とを備え、
更に、前記冷却装置を間接熱交換が可能なサーフェイス
コンデンサーで構成することによってコロイド状物質の
真空乾燥装置を構成したものである。
【０００５】
【作用】上記の技術手段を講じたことによる作用は次の
通りである。すなわち、間接熱交換を行うサーフェイス
コンデンサーでは、渦巻状の冷媒の通路と、排出気体の
通路とが伝熱板で隔てられていて、冷媒と排出気体とが
直接に接触することがなく、冷媒を汚さずにそのまま循
環させることができる。従って、冷媒として、クーリン
グタワーによって冷却された水を用いるだけに限定され
ず、チラー水（冷凍機で冷却した水）、その他の冷却液
の使用が可能であり、四季を通じて一定の液温が保て
る。又、排出気体の通路と冷却水の通路とが完全に分離
されていて、排出気体の流路に外部気体の入り込む虞の
ないものであり、従って、排出気体を水封構造によって
減圧状態に維持する必要がないため、冷却装置を水封の
ために高所に配置しなければならないという制約もな
い。
通りである。すなわち、間接熱交換を行うサーフェイス
コンデンサーでは、渦巻状の冷媒の通路と、排出気体の
通路とが伝熱板で隔てられていて、冷媒と排出気体とが
直接に接触することがなく、冷媒を汚さずにそのまま循
環させることができる。従って、冷媒として、クーリン
グタワーによって冷却された水を用いるだけに限定され
ず、チラー水（冷凍機で冷却した水）、その他の冷却液
の使用が可能であり、四季を通じて一定の液温が保て
る。又、排出気体の通路と冷却水の通路とが完全に分離
されていて、排出気体の流路に外部気体の入り込む虞の
ないものであり、従って、排出気体を水封構造によって
減圧状態に維持する必要がないため、冷却装置を水封の
ために高所に配置しなければならないという制約もな
い。
【０００６】
【発明の効果】従って、本発明の方法及び装置によれ
ば、従来のコロイド状物質の真空乾燥方法及び装置に比
べて、次の効果がある。 イ．排出気体と冷媒とを直接接触させて熱交換を行う場
合のように、冷媒として用いる冷却水の一部を常時循環
系外に排出しなけばならない、という不経済さをなく
し、しかも、チラーで冷却された常時充分低温の水を用
いることができ、常時安定した冷却効果を得ることがで
き、これに伴って、乾燥効率も安定よく維持し易い。 ロ．バロメトリックコンデンサーを用いた場合のよう
に、その真空度を維持するために冷却装置を水封槽の液
面から１１メートル以上の高さ位置に設置しなければな
らないとい不都合もなく、冷却装置を低位置に配置して
構成することができ、装置全体の大型化を避け得るとと
もに、メンテナンスも行い易くなるという利点がある。 ハ．吸気装置としては、真空乾燥塔での脱水処理に伴っ
て生じる排出気体を所定の真空度に維持するに足る能力
を持つものであればよく、バロメトリックコンデンサー
を使用した場合のように、熱媒として用いられる水中に
含まれる空気をも排出する必要がないため、比較的排気
量の小さな小型の真空ポンプなどを用いることができ
る。
ば、従来のコロイド状物質の真空乾燥方法及び装置に比
べて、次の効果がある。 イ．排出気体と冷媒とを直接接触させて熱交換を行う場
合のように、冷媒として用いる冷却水の一部を常時循環
系外に排出しなけばならない、という不経済さをなく
し、しかも、チラーで冷却された常時充分低温の水を用
いることができ、常時安定した冷却効果を得ることがで
き、これに伴って、乾燥効率も安定よく維持し易い。 ロ．バロメトリックコンデンサーを用いた場合のよう
に、その真空度を維持するために冷却装置を水封槽の液
面から１１メートル以上の高さ位置に設置しなければな
らないとい不都合もなく、冷却装置を低位置に配置して
構成することができ、装置全体の大型化を避け得るとと
もに、メンテナンスも行い易くなるという利点がある。 ハ．吸気装置としては、真空乾燥塔での脱水処理に伴っ
て生じる排出気体を所定の真空度に維持するに足る能力
を持つものであればよく、バロメトリックコンデンサー
を使用した場合のように、熱媒として用いられる水中に
含まれる空気をも排出する必要がないため、比較的排気
量の小さな小型の真空ポンプなどを用いることができ
る。
【０００７】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図面の記載に基づ
いて説明する。 〔コロイド状物質の真空乾燥方法について〕まず、本発
明の真空乾燥方法について説明する。処理対象となるコ
ロイド状物質としては、例えばニートソープ（石鹸
膠）、グリセリン、各種の油脂などがあり、これらを総
称して被処理物Ａと称する。そして、図１に示すよう
に、本発明方法は、原料供給装置１から供給される被処
理物Ａであるニートソープを、脱水処理する脱水工程
と、脱水された被処理物を取り出す抽出工程と、吸引排
出途中の気体を冷却する冷却工程との組合せで構成され
ている。これらの各工程は次のようにして、順に行われ
る。
いて説明する。 〔コロイド状物質の真空乾燥方法について〕まず、本発
明の真空乾燥方法について説明する。処理対象となるコ
ロイド状物質としては、例えばニートソープ（石鹸
膠）、グリセリン、各種の油脂などがあり、これらを総
称して被処理物Ａと称する。そして、図１に示すよう
に、本発明方法は、原料供給装置１から供給される被処
理物Ａであるニートソープを、脱水処理する脱水工程
と、脱水された被処理物を取り出す抽出工程と、吸引排
出途中の気体を冷却する冷却工程との組合せで構成され
ている。これらの各工程は次のようにして、順に行われ
る。
【０００８】[1] 原料供給装置１の被処理物供給方向下
手側に真空乾燥塔２が配置されており、この真空乾燥塔
２の真空室９内で、被処理物が噴射されることによる真
空脱水処理で脱水工程が構成されている。この脱水工程
では、前記原料供給装置１の原料槽６に貯留されていた
含水率３０〜３３％のニートソープを、真空乾燥塔２に
至る途中に設けた熱交換装置７で加熱蒸気と熱交換さ
せ、約１３０℃に加熱したのち、真空室９内でノズルか
ら噴射させている。この真空室９内の気圧はほぼ５０Ｔ
ｏｒｒに維持されるよう、吸気装置５が駆動制御され、
脱水されたニートソープの含水率は約１２〜１５％とな
る。 [2] 真空乾燥塔２の真空室９の底部には、螺旋スクリュ
ーと成形用ダイスとを備える押し出し機からなる処理物
抽出装置３を設けて、前記脱水された被処理物を螺旋ス
クリューでの混練及び押し出し作用を加えながら成形し
て取り出すように構成されており、この処理物抽出装置
３の押し出し作用が抽出工程となる。 [3] 真空乾燥塔２で脱水された真空室９内の蒸発気体の
温度は約５０℃程度であり、吸気装置５の吸引作用で排
気流路１１に流れ、サイクロン式集塵装置１２，１２を
経て、更に冷却装置４に流れる。そして、冷却装置４内
で冷媒としての約１０℃の冷却水と間接熱交換され、吸
気装置５側に排出される。この冷却工程では、冷却水
は、チラーからの供給水を用いる。 [4] 吸気装置５で吸い出された冷却後の気体は、気液接
触させて含有物を更に除去した後、大気中に放出され
る。 [5] 前記[2] の抽出工程と、[3] の冷却工程とは、とも
に脱水工程に引き続いて同時並行して行われる。
手側に真空乾燥塔２が配置されており、この真空乾燥塔
２の真空室９内で、被処理物が噴射されることによる真
空脱水処理で脱水工程が構成されている。この脱水工程
では、前記原料供給装置１の原料槽６に貯留されていた
含水率３０〜３３％のニートソープを、真空乾燥塔２に
至る途中に設けた熱交換装置７で加熱蒸気と熱交換さ
せ、約１３０℃に加熱したのち、真空室９内でノズルか
ら噴射させている。この真空室９内の気圧はほぼ５０Ｔ
ｏｒｒに維持されるよう、吸気装置５が駆動制御され、
脱水されたニートソープの含水率は約１２〜１５％とな
る。 [2] 真空乾燥塔２の真空室９の底部には、螺旋スクリュ
ーと成形用ダイスとを備える押し出し機からなる処理物
抽出装置３を設けて、前記脱水された被処理物を螺旋ス
クリューでの混練及び押し出し作用を加えながら成形し
て取り出すように構成されており、この処理物抽出装置
３の押し出し作用が抽出工程となる。 [3] 真空乾燥塔２で脱水された真空室９内の蒸発気体の
温度は約５０℃程度であり、吸気装置５の吸引作用で排
気流路１１に流れ、サイクロン式集塵装置１２，１２を
経て、更に冷却装置４に流れる。そして、冷却装置４内
で冷媒としての約１０℃の冷却水と間接熱交換され、吸
気装置５側に排出される。この冷却工程では、冷却水
は、チラーからの供給水を用いる。 [4] 吸気装置５で吸い出された冷却後の気体は、気液接
触させて含有物を更に除去した後、大気中に放出され
る。 [5] 前記[2] の抽出工程と、[3] の冷却工程とは、とも
に脱水工程に引き続いて同時並行して行われる。
【０００９】〔コロイド状物質の真空乾燥装置につい
て〕次に、本発明の真空乾燥装置について説明する。本
発明のコロイド状物質の真空乾燥装置は、図１に示すよ
うに、被処理物を供給する原料供給装置１と、原料供給
装置１側から供給された被処理物を真空脱水処理するた
めの真空乾燥塔２と、真空乾燥塔２内における真空度を
維持するように真空乾燥塔２から気体を吸引排出する吸
気装置５と、前記真空乾燥塔２から供給された被処理物
を混練して外部へ取り出す処理物抽出装置３と、前記真
空乾燥塔２から吸気装置５への排気流路１１の途中で排
出気体を冷却する冷却装置４とを備えて構成されてい
る。
て〕次に、本発明の真空乾燥装置について説明する。本
発明のコロイド状物質の真空乾燥装置は、図１に示すよ
うに、被処理物を供給する原料供給装置１と、原料供給
装置１側から供給された被処理物を真空脱水処理するた
めの真空乾燥塔２と、真空乾燥塔２内における真空度を
維持するように真空乾燥塔２から気体を吸引排出する吸
気装置５と、前記真空乾燥塔２から供給された被処理物
を混練して外部へ取り出す処理物抽出装置３と、前記真
空乾燥塔２から吸気装置５への排気流路１１の途中で排
出気体を冷却する冷却装置４とを備えて構成されてい
る。
【００１０】前記原料供給装置１は、被処理物であるニ
ートソープを貯留する原料槽６と、ニートソープを加熱
蒸気との間接熱交換によって加熱する熱交換装置７と、
原料槽６のニートソープを前記熱交換装置７及び真空乾
燥塔２側へ送り出す輸送ポンプ８とからなり、前記熱交
換装置７へは外部のボイラー（図外）から１６０〜１７
０℃程度の高温の蒸気が供給され、ニートソープをおよ
そ１３０℃程度に加熱したのち真空乾燥塔２内に噴射し
得るように構成されている。
ートソープを貯留する原料槽６と、ニートソープを加熱
蒸気との間接熱交換によって加熱する熱交換装置７と、
原料槽６のニートソープを前記熱交換装置７及び真空乾
燥塔２側へ送り出す輸送ポンプ８とからなり、前記熱交
換装置７へは外部のボイラー（図外）から１６０〜１７
０℃程度の高温の蒸気が供給され、ニートソープをおよ
そ１３０℃程度に加熱したのち真空乾燥塔２内に噴射し
得るように構成されている。
【００１１】前記真空乾燥塔２は、真空室９の上下中間
位置にニートソープの噴射用ノズル１０を備え、真空室
９の上部に排気流路１１を接続してあり、真空室９の底
部に処理物抽出装置３への連通口を形成して構成されて
いる。又、この真空乾燥塔２には、上部側が前記排気流
路１１に連通し、下部側が前記真空乾燥塔の真空室９底
部に連通する状態にスクリューフィーダー１２ａで接続
した２機のサイクロン式集塵装置１２が接続されてい
る。この構成によって、真空室９から排気流路１１に引
き出された気体は、サイクロン式集塵装置１２に送り込
まれて除塵されたのち冷却装置４側へ送り出され、捕捉
された微粉はスクリューフィーダー１２ａで真空室９の
底部へ戻される。そして、脱水処理された被処理物は真
空室９の底部連通口から処理物抽出装置３側へ送り出さ
れる。
位置にニートソープの噴射用ノズル１０を備え、真空室
９の上部に排気流路１１を接続してあり、真空室９の底
部に処理物抽出装置３への連通口を形成して構成されて
いる。又、この真空乾燥塔２には、上部側が前記排気流
路１１に連通し、下部側が前記真空乾燥塔の真空室９底
部に連通する状態にスクリューフィーダー１２ａで接続
した２機のサイクロン式集塵装置１２が接続されてい
る。この構成によって、真空室９から排気流路１１に引
き出された気体は、サイクロン式集塵装置１２に送り込
まれて除塵されたのち冷却装置４側へ送り出され、捕捉
された微粉はスクリューフィーダー１２ａで真空室９の
底部へ戻される。そして、脱水処理された被処理物は真
空室９の底部連通口から処理物抽出装置３側へ送り出さ
れる。
【００１２】前記処理物抽出装置３は、前記真空乾燥塔
２の真空室９に対して、その真空室９底部に設けた連通
口を介して連通する螺旋スクリューと、その送りだし方
向先端側に設けられる成形用ダイスとからなり、脱水さ
れた被処理物を螺旋スクリューでの押し出し作用を加え
ながら成形して取り出すように構成されているものであ
り、所謂、被処理物を混練して押し出しながら成形用ダ
イスを通過させる周知の押し出し成形機と同様に構成さ
れている。
２の真空室９に対して、その真空室９底部に設けた連通
口を介して連通する螺旋スクリューと、その送りだし方
向先端側に設けられる成形用ダイスとからなり、脱水さ
れた被処理物を螺旋スクリューでの押し出し作用を加え
ながら成形して取り出すように構成されているものであ
り、所謂、被処理物を混練して押し出しながら成形用ダ
イスを通過させる周知の押し出し成形機と同様に構成さ
れている。
【００１３】前記冷却装置４は、図１乃至図３に示され
ているように、間接熱交換が可能なサーフェイスコンデ
ンサーによって構成してある。この冷却装置４は、外装
ケース１３の内部に渦巻状に相隣る状態で二つの流路を
形成してあり、その流路の一方に前記排気流路１１の排
気入り口１１ａ側及び排気出口１１ｂ側を接続し、他方
の流路に、冷媒として外部から供給されるチラー冷却水
を通す冷却水流路１４の冷水入り口１４ａ及び冷水出口
１４ｂが接続されている。又、この冷却装置４の下部に
は、前記排気流路１１及び冷却水流路１４とは連通しな
い状態で、間接熱交換のための隔壁に付着する結露水を
集めるドレンタンク１５が配設されている。このドレン
タンク１５は、その下端出口に、さらに下方の貯留タン
ク１６に向けてドレン管１７が連設され、その途中に開
閉弁１８が設けてあるとともに、ドレンタンク１５内で
の水位を検出するレベルセンサー１９が設けてあって、
水位が一定以上になると自動的に水抜きポンプ２０を作
動させて、ドレンタンク１５内の水を排出するように構
成されている。又、前記貯留タンク１６と前記冷却装置
４の上部とが連通路２１によって接続されていて、必要
に応じて、その連通路２１途中に介在させた掃除用ポン
プ２２を作動させ、冷却装置４内部の掃除を行うことが
できる。このとき、前記開閉弁１８は開放しておく。
ているように、間接熱交換が可能なサーフェイスコンデ
ンサーによって構成してある。この冷却装置４は、外装
ケース１３の内部に渦巻状に相隣る状態で二つの流路を
形成してあり、その流路の一方に前記排気流路１１の排
気入り口１１ａ側及び排気出口１１ｂ側を接続し、他方
の流路に、冷媒として外部から供給されるチラー冷却水
を通す冷却水流路１４の冷水入り口１４ａ及び冷水出口
１４ｂが接続されている。又、この冷却装置４の下部に
は、前記排気流路１１及び冷却水流路１４とは連通しな
い状態で、間接熱交換のための隔壁に付着する結露水を
集めるドレンタンク１５が配設されている。このドレン
タンク１５は、その下端出口に、さらに下方の貯留タン
ク１６に向けてドレン管１７が連設され、その途中に開
閉弁１８が設けてあるとともに、ドレンタンク１５内で
の水位を検出するレベルセンサー１９が設けてあって、
水位が一定以上になると自動的に水抜きポンプ２０を作
動させて、ドレンタンク１５内の水を排出するように構
成されている。又、前記貯留タンク１６と前記冷却装置
４の上部とが連通路２１によって接続されていて、必要
に応じて、その連通路２１途中に介在させた掃除用ポン
プ２２を作動させ、冷却装置４内部の掃除を行うことが
できる。このとき、前記開閉弁１８は開放しておく。
【００１４】前記吸気装置５は、冷却装置４の排気流路
１１に接続された真空ポンプ２３と、真空ポンプ２３か
らの排気流路１１に接続される後処理装置２４とからな
り、冷却装置４の排出気体を吸引し、真空ポンプ２３か
らの排出気体は後処理装置２４に供給され、ここで気液
接触させて含有物を更に除去した後、大気中に放出され
るように構成されている。
１１に接続された真空ポンプ２３と、真空ポンプ２３か
らの排気流路１１に接続される後処理装置２４とからな
り、冷却装置４の排出気体を吸引し、真空ポンプ２３か
らの排出気体は後処理装置２４に供給され、ここで気液
接触させて含有物を更に除去した後、大気中に放出され
るように構成されている。
【００１５】〔別実施例〕 (1) 前記被処理物としては、ニートソープに限らず、
グリセリンや油脂など、各種のコロイド状物質を採用す
ることができる。 (2) 前記原料供給装置１の加熱手段としては、熱交換
装置７を用いて蒸気との熱交換を行うものに限らず、各
種の加熱装置を採用することができる。 (3) 前記集塵装置１２としては、サイクロン式のもの
に限らず、各種のものを採用でき、又、省略することも
可能である。 (4) 前記冷媒としては、チラー水のみに限らず、水に
何等かの物質を混入したもの、或いは、水以外の物質で
あってもよい。
グリセリンや油脂など、各種のコロイド状物質を採用す
ることができる。 (2) 前記原料供給装置１の加熱手段としては、熱交換
装置７を用いて蒸気との熱交換を行うものに限らず、各
種の加熱装置を採用することができる。 (3) 前記集塵装置１２としては、サイクロン式のもの
に限らず、各種のものを採用でき、又、省略することも
可能である。 (4) 前記冷媒としては、チラー水のみに限らず、水に
何等かの物質を混入したもの、或いは、水以外の物質で
あってもよい。
【００１６】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
【図１】コロイド状物質の真空乾燥装置の全体を示す説
明図
明図
【図２】サーフェイスコンデンサーを示す側面図
【図３】サーフェイスコンデンサーを示す平面図
【図４】従来のコロイド状物質の真空乾燥装置の全体を
示す説明図
示す説明図
【図５】バロメトリックコンデンサーを示す断面図
１ 原料供給装置 ２ 真空乾燥塔 ３ 処理物抽出装置 ４ 冷却装置 ５ 吸気装置 ９ 真空室 １１ 排気流路
Claims (2)
- 【請求項１】 下記〔イ〕〜〔ニ〕に記載の構成を備え
てなるコロイド状物質の真空乾燥方法。 〔イ〕コロイド状の被処理物を真空室（９）内に噴射し
て脱水処理する脱水工程。 〔ロ〕真空室（９）内で脱水された被処理物を混練して
取り出す抽出工程。 〔ハ〕真空室（９）内からの吸引排出途中の気体を、冷
媒との間接熱交換により冷却する冷却工程。 〔ニ〕前記脱水工程の後に、抽出工程及び冷却工程を並
行して行う。 - 【請求項２】 被処理物を供給する原料供給装置（１）
と、供給された被処理物を真空脱水処理するための真空
乾燥塔（２）と、真空乾燥塔（２）内における真空度を
維持するように真空乾燥塔（２）から気体を吸引排出す
る吸気装置（５）と、前記真空乾燥塔（２）から供給さ
れた被処理物を混練して取り出す処理物抽出装置（３）
と、前記真空乾燥塔（２）から吸気装置（５）への排気
流路（１１）の途中で排出気体を冷却する冷却装置
（４）とを備え、更に、前記冷却装置（４）を間接熱交
換が可能なサーフェイスコンデンサーによって構成して
あるコロイド状物質の真空乾燥装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4147858A JP2571890B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | ニートソープの真空乾燥方法とその装置 |
| US08/067,439 US5347725A (en) | 1992-06-09 | 1993-05-24 | Method and apparatus for vacuum drying colloidal substances |
| GB9311158A GB2267743B (en) | 1992-06-09 | 1993-05-26 | Method and apparatus for vacuum drying colloidal substances |
| ITMI931160A IT1271550B (it) | 1992-06-09 | 1993-06-02 | Procedimento e apparecchiatura per l'essiccamento sottovuoto di sostanze colloidali |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4147858A JP2571890B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | ニートソープの真空乾燥方法とその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337301A true JPH05337301A (ja) | 1993-12-21 |
| JP2571890B2 JP2571890B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=15439849
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4147858A Expired - Lifetime JP2571890B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | ニートソープの真空乾燥方法とその装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5347725A (ja) |
| JP (1) | JP2571890B2 (ja) |
| GB (1) | GB2267743B (ja) |
| IT (1) | IT1271550B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009036471A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Kanematsu Engineering Kk | 真空、乾燥・濃縮システム |
| CN105466157A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-04-06 | 孙发喜 | 废热用于多效蒸发和气流干燥的真空管束干燥*** |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6105272A (en) | 1998-06-22 | 2000-08-22 | Cabot Corporation | High temperature rotating vacuum kiln for heat treating solid particulate material under a vacuum |
| US6380517B2 (en) | 1999-06-21 | 2002-04-30 | Cabot Corporation | High temperature rotating vacuum kiln and method for heat treating solid particulate material under a vacuum |
| FR2875589B1 (fr) * | 2004-09-22 | 2007-04-20 | Clextral | Procede de production en continu d'un produit en poudre a partir du produit a l'etat liquide |
| CN102019361B (zh) * | 2009-09-15 | 2012-12-05 | 蔡欲期 | 陶壳快速干燥方法,以及陶壳 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5544641A (en) * | 1978-09-27 | 1980-03-29 | Shibaura Eng Works Ltd | Automatic dispenser |
| JPH03186302A (ja) * | 1989-12-16 | 1991-08-14 | Ofic Co | パルス燃焼式乾燥装置の熱回収システム |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3210861A (en) * | 1962-03-30 | 1965-10-12 | Gerber Prod | Freeze drying |
| US3362835A (en) * | 1964-01-15 | 1968-01-09 | Fmc Corp | Spray freeze drying system |
| CH408781A (de) * | 1964-04-24 | 1966-02-28 | Anderwert Fritz | Verfahren zur Trocknung von zerstäubbarem Gut durch Sublimation und Trockeneinrichtung zur Ausführung des Verfahrens |
| US3396475A (en) * | 1966-01-10 | 1968-08-13 | Scheibel Edward George | Freeze drying system |
| US3310881A (en) * | 1966-03-14 | 1967-03-28 | Pillsbury Co | Apparatus and method for continuous drying |
| US3313032A (en) * | 1966-07-28 | 1967-04-11 | George J Malecki | Freeze-drying process and apparatus |
| US3797551A (en) * | 1971-07-21 | 1974-03-19 | Agfa Gevaert Ag | Solidification of gelatin emulsions |
| JPS63267402A (ja) * | 1987-04-27 | 1988-11-04 | Oogawara Kakoki Kk | 真空乾燥方法および装置 |
| US5208998A (en) * | 1991-02-25 | 1993-05-11 | Oyler Jr James R | Liquid substances freeze-drying systems and methods |
-
1992
- 1992-06-09 JP JP4147858A patent/JP2571890B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-05-24 US US08/067,439 patent/US5347725A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-26 GB GB9311158A patent/GB2267743B/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-06-02 IT ITMI931160A patent/IT1271550B/it active IP Right Grant
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5544641A (en) * | 1978-09-27 | 1980-03-29 | Shibaura Eng Works Ltd | Automatic dispenser |
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| JP2009036471A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Kanematsu Engineering Kk | 真空、乾燥・濃縮システム |
| CN105466157A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-04-06 | 孙发喜 | 废热用于多效蒸发和气流干燥的真空管束干燥*** |
| CN105466157B (zh) * | 2015-12-25 | 2018-01-30 | 郑州博大浓缩干燥设备有限公司 | 废热用于多效蒸发和气流干燥的真空管束干燥*** |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2571890B2 (ja) | 1997-01-16 |
| US5347725A (en) | 1994-09-20 |
| GB9311158D0 (en) | 1993-07-14 |
| GB2267743A (en) | 1993-12-15 |
| IT1271550B (it) | 1997-05-30 |
| GB2267743B (en) | 1995-12-06 |
| ITMI931160A1 (it) | 1994-12-02 |
| ITMI931160A0 (it) | 1993-06-02 |
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