JPH05331491A - 洗浄用組成物 - Google Patents

洗浄用組成物

Info

Publication number
JPH05331491A
JPH05331491A JP16700992A JP16700992A JPH05331491A JP H05331491 A JPH05331491 A JP H05331491A JP 16700992 A JP16700992 A JP 16700992A JP 16700992 A JP16700992 A JP 16700992A JP H05331491 A JPH05331491 A JP H05331491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
drying
cleaning composition
alkoxysilane
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16700992A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsuruo Nakagawa
鶴雄 中河
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
F TEX KK
Original Assignee
F TEX KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by F TEX KK filed Critical F TEX KK
Priority to JP16700992A priority Critical patent/JPH05331491A/ja
Publication of JPH05331491A publication Critical patent/JPH05331491A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 地球環境を破壊するおそれのあるフロン系や
塩素系溶剤洗浄液の代替品として、これらの洗浄液と同
様の洗浄効果および速乾性を併せ持ち、かつ環境破壊や
郊外の問題のない新規な洗浄用組成物と、水系洗浄剤に
よる洗浄後の水きり乾燥を、効率よく行うことのできる
洗浄方法を提供すること。 【構成】 ジメチルジエトキシシランまたはジメチルジ
メトキシシランのアルコキシシランを単独で、または、
これにヘキサメチルジシロキサン、もしくはヘキサメチ
ルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン等のシクロシロキサンを20〜30容積部混合
してなる洗浄用組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フロン113等のフロ
ン系、あるいはトリクロロエタン等の塩素系溶剤系洗浄
液に代替される新規な洗浄用組成物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来から電子部品や半導体部品等の製造
工程においては、油汚れ等を除去するための洗浄剤とし
て上記のようなフロン系や塩素系有機溶剤が使用されて
きた。しかしながら、これらのフロン系や塩素系溶剤洗
浄液は、その放出によるオゾン層の破壊の広がりや、環
境汚染により、人体や生物系に大きな問題を起こそうと
しており、全世界的な問題になり、地球規模で対策を講
じなければならない時期となっている。実際、本年6月
にはブラジルで地球環境サミットが開催され、オゾン破
壊係数の高いフロン系、塩素系の溶剤の削減、廃止が早
められることは明らかである。
【0003】しかしながら、現在の工業洗浄において
は、上記のフロン系や塩素系溶剤を用いて金属部品、メ
ッキ部品、電子部品、半導体部品等の洗浄がなされてい
るのが現状である。その理由は、これらフロン系、塩素
系溶剤洗浄液を用いて洗浄すれば、洗浄と乾燥とが短時
間でできる利点があり、なおかつこれらの洗浄剤が不燃
である点であり、他の代替品が皆無の状態である現在、
これらのフロン系、塩素系溶剤に代わる洗浄剤の開発に
各業界が必死になって取り組んでいる。一方、これらの
フロン系あるいは塩素系洗浄剤以外に、水系洗浄剤で洗
浄する方法もあるが、この水系洗浄剤で洗浄する場合に
は、洗浄後の乾燥と洗浄液の排水の問題が大きく、生産
性を悪くする要素となり、各業界とも対策に苦慮してい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の現状に
鑑み、地球環境を破壊するおそれのあるフロン系や塩素
系溶剤洗浄液の代替品として、これらの洗浄液と同様の
洗浄効果および速乾性を併せ持ち、かつ環境破壊や郊外
の問題のない新規な洗浄用組成物を提供せんとするもの
である。また同時に本発明では、従来の水系洗浄剤によ
る洗浄後の水きり乾燥を、効率よく行うことのできる洗
浄方法を提供せんとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明に係る洗浄用組成物は、シリコーン化合物を
主剤とするものであって、高い洗浄力を有し、かつ乾燥
性の良いものである。即ち、本発明の洗浄用組成物は、
ジメチルジエトキシシランまたはジメチルジメトキシシ
ランのアルコキシシランを単独で、または、これにヘキ
サメチルジシロキサン、もしくはヘキサメチルシクロト
リシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等
のシクロシロキサンを混合してなることを要旨とする。
この場合、前記アルコキシシランとシロキサンとの好ま
しい混合比率としては、容積比でアルコキシシラン10
0部に対してシロキサン20〜30部である。
【0006】これらのアルコキシシランやシロキサン等
のシリコーン化合物は、洗浄性と乾燥性に大変優れてい
る。これらの引火性は、ハード面、すなわち洗浄機器を
引火性に対して充分配慮したものとすることにより、充
分な安全性を付与することができる。
【0007】そして、本発明に係る洗浄方法は、水系洗
浄剤による洗浄において、洗浄剤にて洗浄後、水洗いす
すぎされた被洗浄物をアルコール系溶剤に浸漬し、続い
て上記洗浄用組成物に浸漬した後引き上げるものであ
る。
【0008】
【作用】上記本発明のシリコーン化合物による洗浄は、
主剤としてのジメチルジエトキシシランまたはジメチル
ジメトキシシランのアルコキシシランと、ヘキサメチル
ジシロキサンまたはメチルシクロシロキサン類とを準安
定混合液として使用するとき、偏析現象が起こり、液切
れが非常に早くなり、洗浄と乾燥とを速やかに行うこと
ができる。
【0009】前記の洗浄用組成物におけるジメチルジエ
トキシシランまたはジメチルジメトキシシランのアルコ
キシシランと、ヘキサメチルジシロキサンまたはメチル
シクロシロキサン類等のシロキサンとの混合比率は、容
積比で主剤としてのアルコキシシラン100部に対して
シロキサンが20〜30部程度のときが、乾燥性が良く
かつ大きな偏析現象が発揮される。しかしながら、乾燥
性の点を重視しない場合であれば、シロキサンに対する
主剤であるアルコキシシランの量を上記の比率以上に増
大させることで洗浄力をより向上させることができる。
【0010】また、上記のような本発明に係る洗浄用組
成物を用いての洗浄方法としては、被洗浄物をこの洗浄
用組成物に浸漬して超音波洗浄または揺動にて洗浄し、
これを引き上げることで液切れ、乾燥させる。更にま
た、この洗浄用組成物に浸漬した後、引き上げ時にベー
パー洗浄し、更に純粋な蒸気で再洗浄することにより、
精度の高い洗浄ができ、かつ乾燥も一層促進される。
【0011】尚、この洗浄用組成物は上記のとおり高い
洗浄力を有するものであるが、同時に優れた乾燥性を有
するものであることから、この乾燥性を利用して、単に
洗浄剤としてのみでなく、水系洗浄液による洗浄後の水
切り乾燥剤として使用することもできる。即ち、一般に
水系洗浄剤による洗浄の場合、洗浄した後、すすぎ水を
被洗浄物にかけて水切り乾燥に入るのであるが、この場
合すすぎ水の水分の乾燥には強制乾燥を要することか
ら、洗浄後の被洗浄物を温風で、または乾燥炉に入れて
乾燥するのが一般的である。しかしながら、ラインの流
れの速度の関係上、短時間では乾燥することが不可能な
場合が多い。このような場合に乾燥時間を短縮させるた
めに、水洗いすすぎされた被洗浄物をイソプロピルアル
コール等のアルコール系溶剤に浸漬し、続いて上記本発
明の洗浄剤の液に浸漬した後引き上げることで、水系洗
浄剤による水分の乾燥が急速に促進され、水切り乾燥が
速やかに行われ得るのである。
【0012】
【実施例】以下、実施例、および比較例を挙げて本発明
を更に詳細に説明する。尚、本発明はこれらの実施例に
より、何ら制限されるものではない。
【0013】1)洗浄用組成物の調製 (1)ジメチルジエトキシシラン100容積部を主剤と
し、これにヘキサメチルジシロキサンを20〜30容積
部の比率で混合して洗浄用組成物(1) を調製した。 (2) ジメチルジエトキシシラン100容積部を主剤と
し、これにオクタメチルシクロテトラシロキサンを20
〜30容積部の比率で混合して洗浄用組成物(2)を調製
した。 (3) ジメチルジメトキシシラン100容積部を主剤と
し、これにヘキサメチルジシロキサンを20〜30容積
部の比率で混合して洗浄用組成物(3) を調製した。 (4) ジメチルジメトキシシラン100容積部を主剤と
し、これにオクタメチルシクロテトラシロキサンを20
〜30容積部の比率で混合して洗浄用組成物(4)を調製
した。 (5) ジメチルジエトキシシランを単独で洗浄用組成物
(5) とした。 (6) ジメチルジメトキシシランを単独で洗浄用組成物
(6) とした。
【0014】2)浸透性評価試験 厚さ0.3ミリメートルのリードフレームを500枚重
ねた状態で束ね、これを上記洗浄用組成物(1) 〜(6) を
入れた各洗浄槽のそれぞれに浸漬し、超音波洗浄で約1
80秒間洗浄した後引き上げた。引き上げた後のリード
フレームを赤インク塗布テストで調べた結果、前記(1)
〜(6) のいずれの洗浄用組成物を使用した場合において
も、リードフレームに付着したプレス油は完全に除去出
来ていた。このことから、各洗浄用組成物は密着された
リードフレーム間の間隙に充分浸透して、付着している
油を確実に除去しうることが明らかとなった。
【0015】2)洗浄力評価試験 液晶ガラス基板に油を付着させたものと、同じく液晶ガ
ラス基板に指紋を付着させたものとを、上記の洗浄用組
成物(1) 〜(6) を入れた洗浄槽にそれぞれ浸漬して超音
波洗浄で約180秒間洗浄した結果、(1) 〜(6) のいず
れの洗浄用組成物の場合にも、液晶ガラス基板上の油、
指紋はともに完全に洗浄、除去されていることが確認で
きた。
【0016】3)安全性試験 前記各洗浄用組成物(1) 〜(6) を100ミリリットルの
透明なガラス容器に入れて密封し、120℃で30分間
加温した後、25℃まで自然冷却し、外観を観察した
が、(1) 〜(6) のいずれの洗浄用組成物においても全く
変化のないことが確認できた。
【0017】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る洗浄用組成
物によれば、従来のフロン系、塩素系溶剤洗浄剤と同等
の洗浄効果および乾燥性を有するとともに、フロン系や
塩素系のような環境破壊の恐れもないことから、現在の
金属部品、メッキ部品、電子部品、半導体部品等の洗浄
における、これらの洗浄剤にとって代わる新たな洗浄剤
として極めて有用である。
【0018】また、この洗浄用組成物は、優れた乾燥性
を有することから、単に洗浄剤としてのみでなく、水系
洗浄剤による洗浄後の水切り乾燥剤としても有用であ
る。この洗浄用組成物を用いた本発明の洗浄方法によれ
ば、水洗いすすぎされた被洗浄物をイソプロピルアルコ
ール等のアルコール系溶剤に浸漬し、続いて上記本発明
の洗浄用組成物の液に浸漬した後引き上げることで、す
すぎ水の水分の乾燥が急速に促進され、水切り乾燥が速
やかに行われ、製造ラインの流れのなかで効率よく水き
り乾燥を行うことができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ジメチルジエトキシシランまたはジメチ
    ルジメトキシシランのアルコキシシランを単独で、また
    は、これにヘキサメチルジシロキサンもしくはヘキサメ
    チルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラ
    シロキサン等のシクロシロキサンを混合してなることを
    特徴とする洗浄用組成物。
  2. 【請求項2】 前記アルコシキシシラン100容積部に
    対して前記シロキサンを20〜30容積部の比率で混合
    してなる請求項1記載の洗浄用組成物。
  3. 【請求項3】水系洗浄剤による洗浄において、洗浄剤に
    て洗浄後水洗いすすぎされた被洗浄物をアルコール系溶
    剤に浸漬し、続いて請求項1記載の洗浄用組成物に浸漬
    した後引き上げることを特徴とする洗浄方法。
JP16700992A 1992-06-01 1992-06-01 洗浄用組成物 Pending JPH05331491A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16700992A JPH05331491A (ja) 1992-06-01 1992-06-01 洗浄用組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16700992A JPH05331491A (ja) 1992-06-01 1992-06-01 洗浄用組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05331491A true JPH05331491A (ja) 1993-12-14

Family

ID=15841693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16700992A Pending JPH05331491A (ja) 1992-06-01 1992-06-01 洗浄用組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05331491A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0622452A1 (en) * 1993-04-29 1994-11-02 Olympus Optical Co., Ltd. Cleaning process
JP2008101148A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Kobe Gosei Kk 親水性もしくは撥水性のコーティング剤すなわち塗料の塗布予定面の前処理用の脱脂剤組成物および脱脂剤組成物の適用方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0622452A1 (en) * 1993-04-29 1994-11-02 Olympus Optical Co., Ltd. Cleaning process
JP2008101148A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Kobe Gosei Kk 親水性もしくは撥水性のコーティング剤すなわち塗料の塗布予定面の前処理用の脱脂剤組成物および脱脂剤組成物の適用方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5741367A (en) Method for drying parts using a polyorganosiloxane
US6943139B2 (en) Removal of particle contamination on patterned silicon/silicon dioxide using supercritical carbon dioxide/chemical formulations
EP1268734A1 (en) Fluorinated solvent compositions containing ozone
TWI567187B (zh) A detergent composition, and a cleaning method using the detergent
JP2008172016A (ja) 半導体製造装置用部材の洗浄用組成物及びそれを用いた洗浄方法
JPH05331491A (ja) 洗浄用組成物
JP2006505132A (ja) 半導体の表面処理およびそれに使用される混合物
EP1957609A1 (en) In situ fluoride ion-generating compositions and uses thereof
JP2002256295A (ja) 洗浄方法
JP2901090B2 (ja) 洗浄方法および洗浄装置
JP2769406B2 (ja) 半導体基板の洗浄方法
JPH0342002A (ja) 物品の洗浄・水切り方法
KR101520098B1 (ko) 수계세정액 조성물
JP4104715B2 (ja) 付着水除去用溶剤組成物
JP4320919B2 (ja) 水切り溶剤組成物および水切り方法
JP2005079239A (ja) 半導体基板洗浄液及び洗浄方法
JP3461526B2 (ja) すすぎ剤および洗浄仕上げ方法
JP3588625B2 (ja) 付着水除去用溶剤組成物
JP3053894B2 (ja) 水切り洗浄剤
JPH10195080A (ja) 共沸組成物、これを用いた水切り蒸気乾燥剤、水切り蒸気乾燥方法および水切り蒸気乾燥装置
JP2656450B2 (ja) 乾燥方法
KR101796373B1 (ko) 탈지면 폐공정수를 이용한 유리세정제 조성물
JPH04243503A (ja) 水切り溶剤組成物
KR20230129500A (ko) 분해 세정 조성물 및 그 제조 방법, 및 접착성 폴리머의세정 방법
JPH04300689A (ja) 水切り乾燥方法