JPH0531555Y2 - - Google Patents
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- JPH0531555Y2 JPH0531555Y2 JP1985175736U JP17573685U JPH0531555Y2 JP H0531555 Y2 JPH0531555 Y2 JP H0531555Y2 JP 1985175736 U JP1985175736 U JP 1985175736U JP 17573685 U JP17573685 U JP 17573685U JP H0531555 Y2 JPH0531555 Y2 JP H0531555Y2
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は薄層クロマトグラフイ（TLC）の薄
層プレートや電気泳動ゲルなどの試料プレート上
で分離された試料分画を光学的に定量するために
使用されるクロマトスキヤナに関し、特にフライ
ングスポツト方式（試料面上に照射される光束を
左右に移動させて測光を行なう方式）により透過
クロマトグラム又は反射クロマトグラムを得るク
ロマトスキヤナに関するものである。
層プレートや電気泳動ゲルなどの試料プレート上
で分離された試料分画を光学的に定量するために
使用されるクロマトスキヤナに関し、特にフライ
ングスポツト方式（試料面上に照射される光束を
左右に移動させて測光を行なう方式）により透過
クロマトグラム又は反射クロマトグラムを得るク
ロマトスキヤナに関するものである。
（従来の技術）
従来のクロマトスキヤナでは、測定する試料プ
レートに照射する光束を固定しておいて、試料プ
レートを載せたステージをＸ方向及びＹ方向に移
動させることにより、照射光束が試料プレート上
をジグザグ状に走査するようにして試料スポツト
の吸光度測定を行なつている。
レートに照射する光束を固定しておいて、試料プ
レートを載せたステージをＸ方向及びＹ方向に移
動させることにより、照射光束が試料プレート上
をジグザグ状に走査するようにして試料スポツト
の吸光度測定を行なつている。
そのようなクロマトスキヤナでは、試料測定中
は常に試料面上に照射光束が存在し、その照射光
束の強度を検出する光電子増倍管及び試料を透過
又は反射してきた光の強度を検出する光電子増倍
管において、電気的な動作状態はほぼ安定的とな
るよう設計されている。
は常に試料面上に照射光束が存在し、その照射光
束の強度を検出する光電子増倍管及び試料を透過
又は反射してきた光の強度を検出する光電子増倍
管において、電気的な動作状態はほぼ安定的とな
るよう設計されている。
（考案が解決しようとする問題点）
ステージを移動させる方式では、ステージの慣
性が大きいため走査を高速化する上で限界があ
る。
性が大きいため走査を高速化する上で限界があ
る。
そこで、本考案者らは試料プレート上に照射さ
れる光束を走査することにより高速走査可能なフ
ライングスポツト方式のクロマトスキヤナを提案
している。
れる光束を走査することにより高速走査可能なフ
ライングスポツト方式のクロマトスキヤナを提案
している。
提案中のフライングスポツト方式のクロマトス
キヤナを第５図に示す。
キヤナを第５図に示す。
２は光源から分光器に入り、分光された単色光
である。光源としては、例えばキセノンランプ、
タングステンランプ又は重水素ランプなどが使用
される。４は幅方向を規定する固定の幅方向スリ
ツトであり、具体的には分光器の出口スリツトで
ある。
である。光源としては、例えばキセノンランプ、
タングステンランプ又は重水素ランプなどが使用
される。４は幅方向を規定する固定の幅方向スリ
ツトであり、具体的には分光器の出口スリツトで
ある。
幅方向スリツト４上には回転スリツト円板６が
設置されている。この回転スリツト円板６には螺
旋状溝穴スリツト８が設けられている。スリツト
８は中心Ｏからの距離Ｒが回転角Θに応じて Ｒ＝R1＋kΘ （ｋは定数） に従つて変化する形状に形成されている。ここ
で、R1はスリツト８の最も内側位置と中心Ｏと
の距離である。この回転スリツト円板６は中心Ｏ
がパルスモータ１０の回転軸に固定されて直軸駆
動されるようになつている。回転スリツト円板６
と幅方向スリツト４との関係は、幅方向スリツト
４の長手方向が回転スリツト円板６の半径方向に
なるように回転スリツト円板６が位置決めされて
いる。回転スリツト円板６上にはスリツト８の原
点を検出するための穴が設けられている。１２は
その原点検出用のフオトカプラである。
設置されている。この回転スリツト円板６には螺
旋状溝穴スリツト８が設けられている。スリツト
８は中心Ｏからの距離Ｒが回転角Θに応じて Ｒ＝R1＋kΘ （ｋは定数） に従つて変化する形状に形成されている。ここ
で、R1はスリツト８の最も内側位置と中心Ｏと
の距離である。この回転スリツト円板６は中心Ｏ
がパルスモータ１０の回転軸に固定されて直軸駆
動されるようになつている。回転スリツト円板６
と幅方向スリツト４との関係は、幅方向スリツト
４の長手方向が回転スリツト円板６の半径方向に
なるように回転スリツト円板６が位置決めされて
いる。回転スリツト円板６上にはスリツト８の原
点を検出するための穴が設けられている。１２は
その原点検出用のフオトカプラである。
幅方向スリツト４と回転スリツト円板６のスリ
ツト８との交差位置の穴を通過した光束は、結像
用球面鏡１４、平面鏡１６を経て、半透鏡１８で
分離され、一部は試料プレート２０上に照射さ
れ、他の一部はモニタ用光電子増倍管２２に入力
される。なお、試料プレート２０はＸ方向及びＹ
方向に移動可能なステージ（図示略）上に支持さ
れている。
ツト８との交差位置の穴を通過した光束は、結像
用球面鏡１４、平面鏡１６を経て、半透鏡１８で
分離され、一部は試料プレート２０上に照射さ
れ、他の一部はモニタ用光電子増倍管２２に入力
される。なお、試料プレート２０はＸ方向及びＹ
方向に移動可能なステージ（図示略）上に支持さ
れている。
フライングスポツト方式のクロマトスキヤナ
で、幅方向スリツト４と螺旋状溝穴スリツト８を
刻み抜いた回転スリツト円板６との組合せで実際
に走査を行なうと、回転スリツト円板６の一回転
にわたりこの溝穴スリツト８が完全に連続でない
限りどこかの位置で照射光束が一時中断される。
このことはモニタ用及び測光用の各光電子増倍管
の電気的な動作状態に突発的な異常、すなわちダ
イノードフイードバツクによる負高圧レベルの一
時的な急変、を起こす。したがつて、全測定期間
にわたり正しい測光データが得られるためには、
フライングスポツト方式という新しい走査方式を
用いても従来機種と同様に試料面を完全に連続照
射し、検出器である光電子増倍管の電気的状態を
定常的にすることが必要である。
で、幅方向スリツト４と螺旋状溝穴スリツト８を
刻み抜いた回転スリツト円板６との組合せで実際
に走査を行なうと、回転スリツト円板６の一回転
にわたりこの溝穴スリツト８が完全に連続でない
限りどこかの位置で照射光束が一時中断される。
このことはモニタ用及び測光用の各光電子増倍管
の電気的な動作状態に突発的な異常、すなわちダ
イノードフイードバツクによる負高圧レベルの一
時的な急変、を起こす。したがつて、全測定期間
にわたり正しい測光データが得られるためには、
フライングスポツト方式という新しい走査方式を
用いても従来機種と同様に試料面を完全に連続照
射し、検出器である光電子増倍管の電気的状態を
定常的にすることが必要である。
本考案はフライングスポツト方式のクロマトス
キヤナで、回転スリツト円板の一回転の間、試料
面上の照射光束が決して止絶えないようにするこ
とにより、光電子増倍管の突発的な異常を防ぐこ
とを目的とするものである。
キヤナで、回転スリツト円板の一回転の間、試料
面上の照射光束が決して止絶えないようにするこ
とにより、光電子増倍管の突発的な異常を防ぐこ
とを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
実施例を示す第１図及び第２図を参照して説明
すると、本考案のクロマトスキヤナでは、回転ス
リツト円板３０の螺旋状スリツト３２ａ，３２ｃ
は回転スリツト円板３０の一回転周期にわたつて
完全に連続して刻み抜かれたスリツト溝穴３２に
含まれ、このスリツト溝穴３２によつて囲まれた
内側の部分３０ａと、残りの外側の部分３０ｂと
が透明支持円板３６上に配置され、かつ、回転ス
リツト円板３０の回転中心と透明支持円板３６の
回転中心が一致するように配置され、螺旋状スリ
ツト３２ａ，３２ｂの溝の幅が正しく再現されて
いる。
すると、本考案のクロマトスキヤナでは、回転ス
リツト円板３０の螺旋状スリツト３２ａ，３２ｃ
は回転スリツト円板３０の一回転周期にわたつて
完全に連続して刻み抜かれたスリツト溝穴３２に
含まれ、このスリツト溝穴３２によつて囲まれた
内側の部分３０ａと、残りの外側の部分３０ｂと
が透明支持円板３６上に配置され、かつ、回転ス
リツト円板３０の回転中心と透明支持円板３６の
回転中心が一致するように配置され、螺旋状スリ
ツト３２ａ，３２ｂの溝の幅が正しく再現されて
いる。
（実施例）
第１図は一実施例の回転スリツト円板を表わ
す。
す。
３０は厚さ0.1mm程度の回転スリツト円板であ
り、同径の透明支持円板３６（図では紙面の裏側
にあり、図には表われていない）上に固着されて
いる。回転スリツト円板３０にはスリツト溝穴３
２が刻み抜かれている。スリツト溝穴３２は回転
スリツト円板３０の１回転の間完全に連続してお
り、部分３２ａ〜３２ｄからなつている。
り、同径の透明支持円板３６（図では紙面の裏側
にあり、図には表われていない）上に固着されて
いる。回転スリツト円板３０にはスリツト溝穴３
２が刻み抜かれている。スリツト溝穴３２は回転
スリツト円板３０の１回転の間完全に連続してお
り、部分３２ａ〜３２ｄからなつている。
スリツト溝穴３２の螺旋状部分３２ａと３２ｃ
は、中心Ｏからの距離が回転角Θ（Θは溝穴部分
３２ａと３２ｃとでは逆方向）に応じて、前述の
ようにＲ＝R1＋kΘに従つて変化する形状に形成
されている。Ｒの最大値はR2である。
は、中心Ｏからの距離が回転角Θ（Θは溝穴部分
３２ａと３２ｃとでは逆方向）に応じて、前述の
ようにＲ＝R1＋kΘに従つて変化する形状に形成
されている。Ｒの最大値はR2である。
スリツト溝穴部分３２ｂはＯを中心とする半径
R2の円弧であり、スリツト溝穴部分３２ｄはＯ
を中心とする半径R1の円弧である。
R2の円弧であり、スリツト溝穴部分３２ｄはＯ
を中心とする半径R1の円弧である。
スリツト溝穴３２の螺旋状部分３２ａと３２ｃ
は測光データを取り込むために光束を試料面上で
走査させるための部分であり、これらの部分では
透明支持円板３６の吸収特性が関係してこないよ
うに、螺旋状部分３２ａ，３２ｃを含む破線で示
される領域３４ａ，３４ｂの透明支持円板３６が
逃がし穴として打ち抜かれている。
は測光データを取り込むために光束を試料面上で
走査させるための部分であり、これらの部分では
透明支持円板３６の吸収特性が関係してこないよ
うに、螺旋状部分３２ａ，３２ｃを含む破線で示
される領域３４ａ，３４ｂの透明支持円板３６が
逃がし穴として打ち抜かれている。
P1〜P3は回転スリツト円板３０と透明支持円
板３６との位置決め用穴、Q1は回転スリツト円
板３０及び透明支持円板３６をパルスモータ１０
の回転軸に位置決めするモータ軸穴、Q2〜Q3は
回転スリツト円板３０と透明支持円板３６をモー
タ回転軸のボスに固定するためのボス穴である。
Ｏを中心とする半径R1からR2までの範囲にはス
リツト溝穴３２が存在しているので、位置決め用
穴P1〜P3、モータ軸穴Q1及びボス穴Q2〜Q3は半
径R1〜R2の範囲を除いて設けられている。すな
わち、位置決め用穴P1、モータ軸穴Q1及びボス
穴Q2〜Q3は半径R1の円の内側に設けられ、位置
決め用穴P2，P3は半径R2の円の外側に設けられ
ている。
板３６との位置決め用穴、Q1は回転スリツト円
板３０及び透明支持円板３６をパルスモータ１０
の回転軸に位置決めするモータ軸穴、Q2〜Q3は
回転スリツト円板３０と透明支持円板３６をモー
タ回転軸のボスに固定するためのボス穴である。
Ｏを中心とする半径R1からR2までの範囲にはス
リツト溝穴３２が存在しているので、位置決め用
穴P1〜P3、モータ軸穴Q1及びボス穴Q2〜Q3は半
径R1〜R2の範囲を除いて設けられている。すな
わち、位置決め用穴P1、モータ軸穴Q1及びボス
穴Q2〜Q3は半径R1の円の内側に設けられ、位置
決め用穴P2，P3は半径R2の円の外側に設けられ
ている。
ところで一回転の間完全に連続なスリツト溝穴
３２を回転スリツト円板３０に刻み抜くと、この
スリツト溝穴３２で取り囲まれた内側の部分３０
ａは脱落してしまう。回転スリツト円板３０は普
通0.1mm以下の厚みなので支持円板がいるが、金
属板では逃がし穴が連続一周するので脱落が起こ
り、使えない。そこで、ここでは透明支持円板３
６を用いている。
３２を回転スリツト円板３０に刻み抜くと、この
スリツト溝穴３２で取り囲まれた内側の部分３０
ａは脱落してしまう。回転スリツト円板３０は普
通0.1mm以下の厚みなので支持円板がいるが、金
属板では逃がし穴が連続一周するので脱落が起こ
り、使えない。そこで、ここでは透明支持円板３
６を用いている。
次に、本実施例の回転スリツト円板３０を透明
支持円板３６に固着する方法について第１図、第
２図により説明する。
支持円板３６に固着する方法について第１図、第
２図により説明する。
透明支持円板３６上にまず回転軸つまりセンタ
ーを合わせるため第１図でABCDと囲まれた内
側部分３０ａを第２図に示されるように位置決め
用治具３８に載せるようにする。この場合、回転
スリツト円板３０と透明支持円板３６をパルスモ
ータ軸に取りつけるのに必要なボスがあるなら
ば、治具３８にまずボスを通し、次いで透明支持
円板３６、回転スリツト円板３０の順に通して上
方より回転スリツト円板３０の内側部分３０ａを
透明支持円板３６及びボスに対して位置決めをし
ながらきちんと固定する。ABCDの４点で囲ま
れた内側部分３０ａはモータ軸穴Q1と位置決め
用穴P1の２点により、透明支持円板３６の平面
上での位置が確定される。続いて回転スリツト円
板３０の残り、つまりABCDの輪郭の外側部分
３０ｂを位置決め用穴P2，P3の２点を用い、治
具３８に通して透明支持円板３６面上での正しい
位置に固定する。回転スリツト円板３０を透明支
持円板３６に固着するのは接着あるいはネジ止め
の何れでも良い。
ーを合わせるため第１図でABCDと囲まれた内
側部分３０ａを第２図に示されるように位置決め
用治具３８に載せるようにする。この場合、回転
スリツト円板３０と透明支持円板３６をパルスモ
ータ軸に取りつけるのに必要なボスがあるなら
ば、治具３８にまずボスを通し、次いで透明支持
円板３６、回転スリツト円板３０の順に通して上
方より回転スリツト円板３０の内側部分３０ａを
透明支持円板３６及びボスに対して位置決めをし
ながらきちんと固定する。ABCDの４点で囲ま
れた内側部分３０ａはモータ軸穴Q1と位置決め
用穴P1の２点により、透明支持円板３６の平面
上での位置が確定される。続いて回転スリツト円
板３０の残り、つまりABCDの輪郭の外側部分
３０ｂを位置決め用穴P2，P3の２点を用い、治
具３８に通して透明支持円板３６面上での正しい
位置に固定する。回転スリツト円板３０を透明支
持円板３６に固着するのは接着あるいはネジ止め
の何れでも良い。
第１図で照射光束がデータ取込み期間内の走査
を終えて定位置（ここでは走査幅の左右両端）に
留まろうとするとき、もしくはその逆の状況下の
とき（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４地点）、光束が空中を
素通りの状態から透明支持円板３６中を透過の状
態へと（またはその逆）移る際、もし、よりなだ
らかな変化が必要となれば、第３図及び第４図に
示すように各４点の所で透明支持円板３６の厚さ
を連続可変としても良い。
を終えて定位置（ここでは走査幅の左右両端）に
留まろうとするとき、もしくはその逆の状況下の
とき（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４地点）、光束が空中を
素通りの状態から透明支持円板３６中を透過の状
態へと（またはその逆）移る際、もし、よりなだ
らかな変化が必要となれば、第３図及び第４図に
示すように各４点の所で透明支持円板３６の厚さ
を連続可変としても良い。
第４図は第３図の透明支持円板３６を円弧部分
BCに沿つたＸ−Ｙ線に沿つて切断した状態を表
わしている。他方の円弧部分ABに沿つて切断し
た状態も第４図と同様である。
BCに沿つたＸ−Ｙ線に沿つて切断した状態を表
わしている。他方の円弧部分ABに沿つて切断し
た状態も第４図と同様である。
また、位置決め用穴P1〜P3の位置は、回転ス
リツト円板３０を回転させる際、光洩れしない条
件の下なら第１図の実施例に限らない。
リツト円板３０を回転させる際、光洩れしない条
件の下なら第１図の実施例に限らない。
透明支持円板をこの装置に使用しても支障を生
じないような材質特性を持つ樹脂で作られたとす
れば、円板部を軽量化でき、慣性モーメントが小
さくなるので高速化に有利である。
じないような材質特性を持つ樹脂で作られたとす
れば、円板部を軽量化でき、慣性モーメントが小
さくなるので高速化に有利である。
データ取込期間に使われる螺旋状溝穴以外の所
を中心から一定半径に保つておけば、ステージを
Ｙ方向に移動中は照射地点（試料面上）のＸ座標
が不変となり、ソフトウエアにおいて位置の処理
が楽である。
を中心から一定半径に保つておけば、ステージを
Ｙ方向に移動中は照射地点（試料面上）のＸ座標
が不変となり、ソフトウエアにおいて位置の処理
が楽である。
（考案の効果）
本考案によれば、回転スリツト円板上の溝穴を
完全連続化することにより、測光信号処理用電気
系での複雑なサンプル・ホールド等のタイミング
処理を行なわなくて済む。よつて測光信号処理用
のソフトウエアも簡単になる。
完全連続化することにより、測光信号処理用電気
系での複雑なサンプル・ホールド等のタイミング
処理を行なわなくて済む。よつて測光信号処理用
のソフトウエアも簡単になる。
第１図は一実施例における回転スリツト円板を
示す平面図、第２図は同実施例の回転スリツト円
板を透明支持円板に取りつける方法を示す正面断
面図、第３図は他の実施例における透明支持円板
を示す平面図、第４図は第３図のＸ−Ｙ位置での
断面図、第５図は提案中のフライングスポツト方
式のクロマトスキヤナを示す概略斜視図である。 ３０……回転スリツト円板、３２……スリツト
溝穴、３２ａ，３２ｃ……螺旋状溝穴部分、３６
……透明支持円板。
示す平面図、第２図は同実施例の回転スリツト円
板を透明支持円板に取りつける方法を示す正面断
面図、第３図は他の実施例における透明支持円板
を示す平面図、第４図は第３図のＸ−Ｙ位置での
断面図、第５図は提案中のフライングスポツト方
式のクロマトスキヤナを示す概略斜視図である。 ３０……回転スリツト円板、３２……スリツト
溝穴、３２ａ，３２ｃ……螺旋状溝穴部分、３６
……透明支持円板。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 幅方向スリツト上もしくはその結像位置又は
それらの近傍に、中心からの距離が角度に応じ
て変化する螺旋状スリツトを有する回転スリツ
ト円板を前記幅方向スリツトの長手方向がこの
回転スリツト円板の半径方向となる状態に設置
し、この回転スリツト円板の螺旋状スリツトと
前記幅方向スリツトとの交差位置の穴を通過し
た光束を試料面に照射させるクロマトスキヤナ
であつて、 前記回転スリツト円板の螺旋状スリツトは回
転スリツト円板の一回転周期にわたつて完全に
連続して刻み抜かれたスリツト溝穴に含まれ、
このスリツト溝穴によつて囲まれた内側の部分
と、残りの外側の部分とが透明支持円板上に配
置され、かつ、前記回転スリツト円板の回転中
心と前記透明支持円板の回転中心が一致するよ
うに配置され、前記螺旋状スリツトの溝の幅が
正しく再現されていることを特徴とするフライ
ングスポツト方式のクロマトスキヤナ。 (2) 前記透明支持円板は、回転スリツト円板によ
る光束が試料面上を走査し測光データを取り込
む期間に用いられるスリツトの螺旋状部分が掛
かる部分については、その部分が打ち抜かれて
逃がし穴が設けられている実用新案登録請求の
範囲第１項に記載のクロマトスキヤナ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985175736U JPH0531555Y2 (ja) | 1985-11-14 | 1985-11-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985175736U JPH0531555Y2 (ja) | 1985-11-14 | 1985-11-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62115145U JPS62115145U (ja) | 1987-07-22 |
| JPH0531555Y2 true JPH0531555Y2 (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=31115328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985175736U Expired - Lifetime JPH0531555Y2 (ja) | 1985-11-14 | 1985-11-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0531555Y2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4913088A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-05 | ||
| JPS50125801A (ja) * | 1974-03-25 | 1975-10-03 | ||
| JPS5289391A (en) * | 1975-05-30 | 1977-07-26 | Shimadzu Corp | Qualitative analysis of separated components |
-
1985
- 1985-11-14 JP JP1985175736U patent/JPH0531555Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4913088A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-05 | ||
| JPS50125801A (ja) * | 1974-03-25 | 1975-10-03 | ||
| JPS5289391A (en) * | 1975-05-30 | 1977-07-26 | Shimadzu Corp | Qualitative analysis of separated components |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62115145U (ja) | 1987-07-22 |
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