JPH05293379A - 新規触媒及びアリルクロライドの製造方法 - Google Patents
新規触媒及びアリルクロライドの製造方法Info
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 88
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 38
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims abstract description 33
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims abstract description 27
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 46
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 46
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 35
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 abstract description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 abstract description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 32
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 29
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 22
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 20
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 18
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 12
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 11
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 6
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 5
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 5
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylcyclohexyl)propanoic acid 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical compound CCC1CCC(CCC(O)=O)C1.CCC1CCC(CCC(O)=O)CC1 HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N caesium nitrate Chemical compound [Cs+].[O-][N+]([O-])=O NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLJPGEWQYJVDPF-UHFFFAOYSA-L caesium sulfate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]S([O-])(=O)=O FLJPGEWQYJVDPF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFWFDRBPQDXFRC-LNTINUHCSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;vanadium Chemical compound [V].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O MFWFDRBPQDXFRC-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- OFDISMSWWNOGFW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-ethoxy-3-fluorophenyl)ethanamine Chemical compound CCOC1=CC=C(C(C)N)C=C1F OFDISMSWWNOGFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021550 Vanadium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOAIGCHJWKDIPJ-UHFFFAOYSA-M caesium acetate Chemical compound [Cs+].CC([O-])=O ZOAIGCHJWKDIPJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012018 catalyst precursor Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005235 decoking Methods 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 125000005609 naphthenate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N orthotelluric acid Chemical compound O[Te](O)(O)(O)(O)O FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGUCKKLSDGRKSH-UHFFFAOYSA-N oxalic acid oxovanadium Chemical compound [V].[O].C(C(=O)O)(=O)O OGUCKKLSDGRKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I pentachlorovanadium Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+5] RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical compound O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- JBIQAPKSNFTACH-UHFFFAOYSA-K vanadium oxytrichloride Chemical compound Cl[V](Cl)(Cl)=O JBIQAPKSNFTACH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000005287 vanadyl group Chemical group 0.000 description 1
- UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L vanadyl sulfate Chemical compound [V+2]=O.[O-]S([O-])(=O)=O UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940041260 vanadyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000352 vanadyl sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】
【目的】新規触媒の提供及びそれらの触媒を用いたアリ
ルクロライドの製造方法を提供する。 【構成】卑金属酸化物およびテルル系合金を担体に担持
した新規な触媒、並びに、卑金属酸化物、テルル系合金
およびアルカリ金属塩を担体に担持した新規な触媒に関
する。さらにこれらの触媒を用いたプロプレン、塩化水
素及び酸素からオキシクロリネーションによりアリルク
ロライドを製造する方法に関する。
ルクロライドの製造方法を提供する。 【構成】卑金属酸化物およびテルル系合金を担体に担持
した新規な触媒、並びに、卑金属酸化物、テルル系合金
およびアルカリ金属塩を担体に担持した新規な触媒に関
する。さらにこれらの触媒を用いたプロプレン、塩化水
素及び酸素からオキシクロリネーションによりアリルク
ロライドを製造する方法に関する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、卑金属酸化物及びテル
ル系合金を担体に担持した新規な触媒、並びに、卑金属
酸化物、テルル系合金及びアルカリ金属塩を担体に担持
した新規な触媒に関する。さらにこれらの触媒を用い
た、エピクロルヒドリンや各種の有機化合物の中間原料
として有機化学工業において有用なアリルクロライドの
製造方法に関する。
ル系合金を担体に担持した新規な触媒、並びに、卑金属
酸化物、テルル系合金及びアルカリ金属塩を担体に担持
した新規な触媒に関する。さらにこれらの触媒を用い
た、エピクロルヒドリンや各種の有機化合物の中間原料
として有機化学工業において有用なアリルクロライドの
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、工業的なアリルクロライドの製造
は、いわゆる熱塩素化法により行なわれている。即ち、
プロピレンと塩素を原料として、450〜500℃の高
温下、無触媒で塩素化反応を行ないアリルクロライドを
得ている。
は、いわゆる熱塩素化法により行なわれている。即ち、
プロピレンと塩素を原料として、450〜500℃の高
温下、無触媒で塩素化反応を行ないアリルクロライドを
得ている。
【0003】この無触媒の熱塩素化法は、高温反応であ
るため、アリルクロライドのほか塩素化された数多くの
副生成物を生成すること、塩化水素を副生すること、製
造設備の腐食が起こり易いこと、炭素質析出のため2週
間から1か月に一度反応を停止しデコーキングする必要
があること等改良すべき点が多い。
るため、アリルクロライドのほか塩素化された数多くの
副生成物を生成すること、塩化水素を副生すること、製
造設備の腐食が起こり易いこと、炭素質析出のため2週
間から1か月に一度反応を停止しデコーキングする必要
があること等改良すべき点が多い。
【0004】このため、触媒を使用して350℃以下の
比較的低温で接触的にアリルクロライドを製造しようと
する検討がなされている。例えば、特公昭48−345
69号公報には、酸化テルルと塩化第2銅またはニッケ
ル、鉛、銀及び白金族元素を活性炭に担持した触媒を使
用し、200℃でプロピレンのオキシクロリネーション
によりアリルクロライドを製造する方法が開示されてい
る。オランダ特許第7108153号公報には、シリカ
ゲルに担持した四塩化テルル、塩化第2銅、塩化カリウ
ムの三元系触媒を使用し、240℃でプロピレンのオキ
シクロリネーション反応を行なう方法が開示されてい
る。ドイツ特許第1300930号公報には、γ−アル
ミナに担持した塩化パラジウム、塩化銅、塩化カリウム
の三元系触媒を使用し、350℃でプロピレンのオキシ
クロリネーション反応を行なう方法が開示されている。
また、特開昭49−1504号公報には、ロジウム、パ
ラジウム、白金、あるいは、イリジウムを担持した活性
炭を触媒として、200℃でプロピレンのオキシクロリ
ネーション反応を行なう方法が開示されている。
比較的低温で接触的にアリルクロライドを製造しようと
する検討がなされている。例えば、特公昭48−345
69号公報には、酸化テルルと塩化第2銅またはニッケ
ル、鉛、銀及び白金族元素を活性炭に担持した触媒を使
用し、200℃でプロピレンのオキシクロリネーション
によりアリルクロライドを製造する方法が開示されてい
る。オランダ特許第7108153号公報には、シリカ
ゲルに担持した四塩化テルル、塩化第2銅、塩化カリウ
ムの三元系触媒を使用し、240℃でプロピレンのオキ
シクロリネーション反応を行なう方法が開示されてい
る。ドイツ特許第1300930号公報には、γ−アル
ミナに担持した塩化パラジウム、塩化銅、塩化カリウム
の三元系触媒を使用し、350℃でプロピレンのオキシ
クロリネーション反応を行なう方法が開示されている。
また、特開昭49−1504号公報には、ロジウム、パ
ラジウム、白金、あるいは、イリジウムを担持した活性
炭を触媒として、200℃でプロピレンのオキシクロリ
ネーション反応を行なう方法が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの開示
技術は、テルル系触媒では、反応中にテルルが昇華散逸
して触媒活性が低下するという重大な問題点があり、ま
た、貴金属系触媒では、触媒活性が低く、高温反応が必
要であるとか、多量のスチームを共存させる必要がある
等の問題があり、新しい技術が求められていた。
技術は、テルル系触媒では、反応中にテルルが昇華散逸
して触媒活性が低下するという重大な問題点があり、ま
た、貴金属系触媒では、触媒活性が低く、高温反応が必
要であるとか、多量のスチームを共存させる必要がある
等の問題があり、新しい技術が求められていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような現状に鑑み、
本発明者らはプロピレンのオキシクロリネーションによ
るアリルクロライドの製造のための触媒及びアリルクロ
ライドの製造方法について詳細に検討した。その結果、
意外にも卑金属酸化物及びテルル系合金を担体に担持し
た触媒を用いることにより高活性、高選択率でアリルク
ロライドが得られるという新規な事実を見出した。ま
た、卑金属酸化物及びテルル系合金に加えてアルカリ金
属塩を担体に担持した触媒を用いることにより選択率が
さらに向上するという事実を見出だし本発明を完成する
に至った。
本発明者らはプロピレンのオキシクロリネーションによ
るアリルクロライドの製造のための触媒及びアリルクロ
ライドの製造方法について詳細に検討した。その結果、
意外にも卑金属酸化物及びテルル系合金を担体に担持し
た触媒を用いることにより高活性、高選択率でアリルク
ロライドが得られるという新規な事実を見出した。ま
た、卑金属酸化物及びテルル系合金に加えてアルカリ金
属塩を担体に担持した触媒を用いることにより選択率が
さらに向上するという事実を見出だし本発明を完成する
に至った。
【0007】即ち、本発明は、卑金属酸化物及びテルル
系合金を担体に担持した新規な触媒、並びに、卑金属酸
化物、テルル系合金及びアルカリ金属塩を担体に担持し
た新規な触媒を提供するものであり、さらにこれらの触
媒を用いて、プロピレン、塩化水素及び酸素からオキシ
クロリネーションによりアリルクロライドを製造する方
法を提供するものである。
系合金を担体に担持した新規な触媒、並びに、卑金属酸
化物、テルル系合金及びアルカリ金属塩を担体に担持し
た新規な触媒を提供するものであり、さらにこれらの触
媒を用いて、プロピレン、塩化水素及び酸素からオキシ
クロリネーションによりアリルクロライドを製造する方
法を提供するものである。
【0008】以下に本発明をさらに詳細に説明する。
【0009】本発明は、卑金属酸化物及びテルル系合金
が担体に担持された新規な触媒、並びに、卑金属酸化
物、テルル系合金及びアルカリ金属塩が担体に担持され
た新規な触媒に関するが、本発明における卑金属酸化物
とは、周期律表の3A族、4A族、5A族、6A族、7
A族、4B族、及び5B族より選ばれた少なくとも一種
以上の卑金属酸化物である。これらの卑金属酸化物は、
例えば、3A族としてはイットリウム、ランタン、セリ
ウム等の酸化物、4A族としてはチタン、ジルコニウム
等の酸化物、5A族としてはバナジウム、ニオブ等の酸
化物、6A族としてはクロム、モリブデン、タングステ
ン等の酸化物、7A族としてはマンガンの酸化物、4B
族としてはスズの酸化物、5B族としてはリン、アンチ
モン、ビスマス等の酸化物を挙げることができる。これ
ら卑金属酸化物のうち5A族の卑金属酸化物が好まし
く、バナジウム酸化物がより好ましい。
が担体に担持された新規な触媒、並びに、卑金属酸化
物、テルル系合金及びアルカリ金属塩が担体に担持され
た新規な触媒に関するが、本発明における卑金属酸化物
とは、周期律表の3A族、4A族、5A族、6A族、7
A族、4B族、及び5B族より選ばれた少なくとも一種
以上の卑金属酸化物である。これらの卑金属酸化物は、
例えば、3A族としてはイットリウム、ランタン、セリ
ウム等の酸化物、4A族としてはチタン、ジルコニウム
等の酸化物、5A族としてはバナジウム、ニオブ等の酸
化物、6A族としてはクロム、モリブデン、タングステ
ン等の酸化物、7A族としてはマンガンの酸化物、4B
族としてはスズの酸化物、5B族としてはリン、アンチ
モン、ビスマス等の酸化物を挙げることができる。これ
ら卑金属酸化物のうち5A族の卑金属酸化物が好まし
く、バナジウム酸化物がより好ましい。
【0010】本発明においては、上記卑金属酸化物の原
料に特に制限はなく、担持された原料が最終的に卑金属
酸化物に転化されて担体に担持されていればよい。この
ような原料として各種の卑金属化合物が使用できるし、
卑金属酸化物そのものであってもよい。使用できる各種
の卑金属化合物としては、例えば、対応する卑金属の塩
化物、硝酸塩、硫酸塩、アンモニウム塩、オキシ塩化物
等の無機化合物あるいは、酢酸、ナフテン酸、ステアリ
ン酸、シュウ酸等の有機酸塩、金属アルコキシド等の有
機化合物を挙げることができる。さらに、バナジウムを
例として具体例を示すならば、塩化バナジウム、オキシ
三塩化バナジウム、硫酸バナジル、シュウ酸バナジル、
メタバナジン酸アンモニウム、バナジウムアセチルアセ
トネート、トリアルコキシバナジル等の無機あるいは有
機の化合物を挙げることができる。
料に特に制限はなく、担持された原料が最終的に卑金属
酸化物に転化されて担体に担持されていればよい。この
ような原料として各種の卑金属化合物が使用できるし、
卑金属酸化物そのものであってもよい。使用できる各種
の卑金属化合物としては、例えば、対応する卑金属の塩
化物、硝酸塩、硫酸塩、アンモニウム塩、オキシ塩化物
等の無機化合物あるいは、酢酸、ナフテン酸、ステアリ
ン酸、シュウ酸等の有機酸塩、金属アルコキシド等の有
機化合物を挙げることができる。さらに、バナジウムを
例として具体例を示すならば、塩化バナジウム、オキシ
三塩化バナジウム、硫酸バナジル、シュウ酸バナジル、
メタバナジン酸アンモニウム、バナジウムアセチルアセ
トネート、トリアルコキシバナジル等の無機あるいは有
機の化合物を挙げることができる。
【0011】本発明においては、卑金属酸化物とともに
テルル系合金が使用される。テルル系合金とは、テルル
と周期律表の1B族、5B族あるいは8族より選ばれた
一種以上の特定の金属(以下、「特定の金属」と略記す
る)との合金である。
テルル系合金が使用される。テルル系合金とは、テルル
と周期律表の1B族、5B族あるいは8族より選ばれた
一種以上の特定の金属(以下、「特定の金属」と略記す
る)との合金である。
【0012】テルル系合金に使用されるテルルの原料
は、合金化処理によって金属状のテルルになるものであ
れば特に制限はなく、各種のテルル化合物が使用できる
し、テルル金属そのものであってもよい。各種のテルル
化合物としては、例えば、テルル酸、塩化テルル、オキ
シ塩化テルル、二酸化テルル等の無機のテルル化合物、
モノアルキルテルリド、ジアルキルテルリド、アルキル
テルルクロリド類等の有機のテルル化合物を挙げること
ができる。
は、合金化処理によって金属状のテルルになるものであ
れば特に制限はなく、各種のテルル化合物が使用できる
し、テルル金属そのものであってもよい。各種のテルル
化合物としては、例えば、テルル酸、塩化テルル、オキ
シ塩化テルル、二酸化テルル等の無機のテルル化合物、
モノアルキルテルリド、ジアルキルテルリド、アルキル
テルルクロリド類等の有機のテルル化合物を挙げること
ができる。
【0013】テルルと合金を形成する特定の金属として
は、例えば、1B族としては銅を、5B族としてはアン
チモン、ビスマス等を、8族としては鉄、コバルト、ニ
ッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウ
ム、白金等を挙げることができる。
は、例えば、1B族としては銅を、5B族としてはアン
チモン、ビスマス等を、8族としては鉄、コバルト、ニ
ッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウ
ム、白金等を挙げることができる。
【0014】これらの特定の金属の原料は、合金化処理
によって金属に転化するものであればよく、特定の金属
の各種化合物が使用できるし、また、特定の金属そのも
のであってもよい。特定の金属の各種化合物の例として
は、それらの塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物、アンモ
ニウム塩等の無機化合物、あるいは、酢酸、ナフテン
酸、ステアリン酸、シュウ酸等の有機酸塩等の有機化合
物を挙げることができる。
によって金属に転化するものであればよく、特定の金属
の各種化合物が使用できるし、また、特定の金属そのも
のであってもよい。特定の金属の各種化合物の例として
は、それらの塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物、アンモ
ニウム塩等の無機化合物、あるいは、酢酸、ナフテン
酸、ステアリン酸、シュウ酸等の有機酸塩等の有機化合
物を挙げることができる。
【0015】本発明における卑金属酸化物、テルル系合
金に加えてアルカリ金属塩を担体に担持した触媒におい
ては、用いられるアルカリ金属塩に特に制限はなく、各
種のアルカリ金属塩を用いることができる。アルカリ金
属塩としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、セシウム等の塩化物、硝酸塩、硫酸
塩、酸化物等の無機塩類、各種の有機酸塩類を用いるこ
とができる。これらの具体例としては、例えば、塩化リ
チウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化セシウム
等の塩化物、硝酸カリウム、硝酸セシウム等の硝酸塩、
硫酸カリウム、硫酸セシウム等の硫酸塩、酢酸カリウ
ム、酢酸セシウム等の酢酸塩、ナフテン酸塩、シュウ酸
塩等の有機酸塩等を挙げることができる。
金に加えてアルカリ金属塩を担体に担持した触媒におい
ては、用いられるアルカリ金属塩に特に制限はなく、各
種のアルカリ金属塩を用いることができる。アルカリ金
属塩としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、セシウム等の塩化物、硝酸塩、硫酸
塩、酸化物等の無機塩類、各種の有機酸塩類を用いるこ
とができる。これらの具体例としては、例えば、塩化リ
チウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化セシウム
等の塩化物、硝酸カリウム、硝酸セシウム等の硝酸塩、
硫酸カリウム、硫酸セシウム等の硫酸塩、酢酸カリウ
ム、酢酸セシウム等の酢酸塩、ナフテン酸塩、シュウ酸
塩等の有機酸塩等を挙げることができる。
【0016】本発明においては、卑金属酸化物、テルル
系合金及びアルカリ金属塩は担体に担持されるが、本発
明に用いる担体に特に制限はなく、無機の酸化物、活性
炭等の公知の担体を用いることができる。無機の酸化物
の担体としては、シリカ、アルミナ、マグネシア、チタ
ニア、ジルコニア等が挙げられ、また、これらの複合酸
化物であるシリカ−アルミナ、シリカ−チタニア等が挙
げられる。これらの無機の酸化物は、結晶性であっても
非晶質であってもよい。無機の酸化物が結晶性である場
合、その結晶構造に特に制限はなく、二次元の層状構造
でも、三次元の立体的な結晶構造を有していても一向に
差し支えない。さらに、これらの担体の形状に特に制限
はなく、球状、ペレット状、ハニカム状等の成型された
ものであっても、あるいは、成型されていない粉末状の
ものであっても一向に差し支えなく種々の形状の担体が
使用できる。
系合金及びアルカリ金属塩は担体に担持されるが、本発
明に用いる担体に特に制限はなく、無機の酸化物、活性
炭等の公知の担体を用いることができる。無機の酸化物
の担体としては、シリカ、アルミナ、マグネシア、チタ
ニア、ジルコニア等が挙げられ、また、これらの複合酸
化物であるシリカ−アルミナ、シリカ−チタニア等が挙
げられる。これらの無機の酸化物は、結晶性であっても
非晶質であってもよい。無機の酸化物が結晶性である場
合、その結晶構造に特に制限はなく、二次元の層状構造
でも、三次元の立体的な結晶構造を有していても一向に
差し支えない。さらに、これらの担体の形状に特に制限
はなく、球状、ペレット状、ハニカム状等の成型された
ものであっても、あるいは、成型されていない粉末状の
ものであっても一向に差し支えなく種々の形状の担体が
使用できる。
【0017】本発明においては、前述したそれぞれの原
料を用いて、最終的に卑金属酸化物及びテルル系合金を
担体に担持した触媒、並びに、卑金属酸化物、テルル系
合金及びアルカリ金属塩を担体に担持した触媒が調製さ
れる。触媒調製にあたり卑金属酸化物、テルル系合金及
びアルカリ金属塩を担体に担持する方法及び順序に特に
制限はないが、例えば、以下の順序で触媒を調製する。
即ち、原料の卑金属化合物を溶媒に溶解し、これに担体
を加え浸漬し、しかる後に溶媒を留去(以下、「含浸
法」と略記する)する。これにさらに熱処理を行なって
卑金属酸化物を担持した担体を調製する。次に、原料の
テルル化合物と特定の金属の化合物を前記の如く調製し
た担体上に含浸法により担持する。テルル化合物と特定
の金属の化合物を担持した担体は、さらに、還元剤の存
在下に還元され、しかるのちに合金化処理、即ち熱処理
を行なって合金が形成される。さらに、アルカリ金属塩
は、同様に含浸法によって担持され、最終的に所望の触
媒が得られる。もちろん、この例の他に、卑金属化合
物、テルル系合金の原料及びアルカリ金属塩を担体と物
理的に混合して担持したり、卑金属化合物、テルル系合
金の原料及びアルカリ金属塩を担持する方法や順序を変
更したり、含浸法で同時に担持することもできる。これ
ら担持方法や順序の変更は、本発明の主旨を変更しない
範囲において公知の技術を用いて行なっても何ら差し支
えない。
料を用いて、最終的に卑金属酸化物及びテルル系合金を
担体に担持した触媒、並びに、卑金属酸化物、テルル系
合金及びアルカリ金属塩を担体に担持した触媒が調製さ
れる。触媒調製にあたり卑金属酸化物、テルル系合金及
びアルカリ金属塩を担体に担持する方法及び順序に特に
制限はないが、例えば、以下の順序で触媒を調製する。
即ち、原料の卑金属化合物を溶媒に溶解し、これに担体
を加え浸漬し、しかる後に溶媒を留去(以下、「含浸
法」と略記する)する。これにさらに熱処理を行なって
卑金属酸化物を担持した担体を調製する。次に、原料の
テルル化合物と特定の金属の化合物を前記の如く調製し
た担体上に含浸法により担持する。テルル化合物と特定
の金属の化合物を担持した担体は、さらに、還元剤の存
在下に還元され、しかるのちに合金化処理、即ち熱処理
を行なって合金が形成される。さらに、アルカリ金属塩
は、同様に含浸法によって担持され、最終的に所望の触
媒が得られる。もちろん、この例の他に、卑金属化合
物、テルル系合金の原料及びアルカリ金属塩を担体と物
理的に混合して担持したり、卑金属化合物、テルル系合
金の原料及びアルカリ金属塩を担持する方法や順序を変
更したり、含浸法で同時に担持することもできる。これ
ら担持方法や順序の変更は、本発明の主旨を変更しない
範囲において公知の技術を用いて行なっても何ら差し支
えない。
【0018】次に、前述した触媒調製法の例に沿って各
工程をさらに詳しく説明する。本発明においては、卑金
属酸化物の原料として卑金属化合物を用いる場合は、所
定量の卑金属化合物は溶媒に溶解される。この中に所定
量の担体を加え、含浸法により卑金属化合物が担持され
る。次に、この担体に熱処理を行ない、卑金属化合物は
対応する卑金属酸化物に転化される。熱処理の方法は最
終的に卑金属酸化物が得られれば特に制限はないが、例
えば、酸素含有ガス等の流通下あるいは非流通下におい
て、200〜700℃の温度下に、約30分〜10時間
熱処理すればよい。
工程をさらに詳しく説明する。本発明においては、卑金
属酸化物の原料として卑金属化合物を用いる場合は、所
定量の卑金属化合物は溶媒に溶解される。この中に所定
量の担体を加え、含浸法により卑金属化合物が担持され
る。次に、この担体に熱処理を行ない、卑金属化合物は
対応する卑金属酸化物に転化される。熱処理の方法は最
終的に卑金属酸化物が得られれば特に制限はないが、例
えば、酸素含有ガス等の流通下あるいは非流通下におい
て、200〜700℃の温度下に、約30分〜10時間
熱処理すればよい。
【0019】この工程において卑金属酸化物の担持率
は、担体に対して0.1〜50wt%であり、好ましく
は0.1〜20wt%である。
は、担体に対して0.1〜50wt%であり、好ましく
は0.1〜20wt%である。
【0020】次に、卑金属酸化物を担持した担体に、テ
ルル化合物及び特定の金属の化合物が同時に、または別
々に、含浸法により担持される。このとき、含浸法に使
用する溶媒は例えば、水、塩酸、硝酸、硫酸等の鉱酸水
溶液、蟻酸、酢酸等の有機酸類、メタノール、エタノー
ル、アセトン、エーテル、四塩化炭素、ベンゼン等の有
機溶媒が使用できる。
ルル化合物及び特定の金属の化合物が同時に、または別
々に、含浸法により担持される。このとき、含浸法に使
用する溶媒は例えば、水、塩酸、硝酸、硫酸等の鉱酸水
溶液、蟻酸、酢酸等の有機酸類、メタノール、エタノー
ル、アセトン、エーテル、四塩化炭素、ベンゼン等の有
機溶媒が使用できる。
【0021】担体に担持されたテルル化合物及び特定の
金属の化合物は、さらに還元処理される。この還元処理
において、テルル化合物及び特定の金属の化合物が0価
まで還元できるものであれば還元剤に特に制限はない。
このような還元剤の例としては、水素、一酸化炭素等の
無機のガス状の還元剤、プロピレン等のオレフィン類、
メタノール等のアルコール類、蟻酸、蟻酸エステル等の
蟻酸化合物、あるいは、ヒドラジン、リチウムアルミニ
ウムハイドライド等を挙げることができる。もちろん、
還元は気相で行なっても、液相で行なっても一向に差し
支えない。
金属の化合物は、さらに還元処理される。この還元処理
において、テルル化合物及び特定の金属の化合物が0価
まで還元できるものであれば還元剤に特に制限はない。
このような還元剤の例としては、水素、一酸化炭素等の
無機のガス状の還元剤、プロピレン等のオレフィン類、
メタノール等のアルコール類、蟻酸、蟻酸エステル等の
蟻酸化合物、あるいは、ヒドラジン、リチウムアルミニ
ウムハイドライド等を挙げることができる。もちろん、
還元は気相で行なっても、液相で行なっても一向に差し
支えない。
【0022】これら還元処理の条件は、原料のテルル化
合物及び特定の金属の化合物の還元のしやすさにより違
ってくるため、一概に範囲を決められないが、通常、室
温〜400℃の温度下に約10分〜10時間行なう。こ
の処理において温度が室温より低いとテルル化合物及び
特定の金属の化合物を0価に還元することが難しい。
合物及び特定の金属の化合物の還元のしやすさにより違
ってくるため、一概に範囲を決められないが、通常、室
温〜400℃の温度下に約10分〜10時間行なう。こ
の処理において温度が室温より低いとテルル化合物及び
特定の金属の化合物を0価に還元することが難しい。
【0023】次に、還元処理された触媒前駆体は合金化
処理される。この合金化処理は通常100〜1000
℃、より好ましくは150〜800℃の温度下に30分
〜10時間熱処理することにより行なわれる。この温度
より低いと合金形成が遅く、1000℃を越えると合金
が粒子成長を起こすので好ましくない。本発明において
は、上記還元処理と合金化処理は、還元剤の存在下にし
ばしば同時に行なわれるが、還元処理と合金化処理に必
要な処理時間の短縮と操作性を考慮するとむしろ望まし
い態様である。
処理される。この合金化処理は通常100〜1000
℃、より好ましくは150〜800℃の温度下に30分
〜10時間熱処理することにより行なわれる。この温度
より低いと合金形成が遅く、1000℃を越えると合金
が粒子成長を起こすので好ましくない。本発明において
は、上記還元処理と合金化処理は、還元剤の存在下にし
ばしば同時に行なわれるが、還元処理と合金化処理に必
要な処理時間の短縮と操作性を考慮するとむしろ望まし
い態様である。
【0024】本発明においては、使用されるテルル系合
金の担持率は触媒の全重量に対して金属に換算した重量
として0.1〜50wt%の範囲で使用でき、より好ま
しくは、0.1〜20wt%の範囲である。テルル系合
金の担持率が50wt%を越えてもあまり活性は増大せ
ず、また、0.1wt%未満では充分な活性が得られな
い。
金の担持率は触媒の全重量に対して金属に換算した重量
として0.1〜50wt%の範囲で使用でき、より好ま
しくは、0.1〜20wt%の範囲である。テルル系合
金の担持率が50wt%を越えてもあまり活性は増大せ
ず、また、0.1wt%未満では充分な活性が得られな
い。
【0025】使用されるテルル系合金のテルルと特定の
金属の組成は、テルルと特定の金属の原子比として規定
することができる。テルルと特定の金属の原子比は、4
0:1〜1:20の範囲で用いられる。さらに好ましく
は、20:1〜1:15の範囲である。特定の金属に対
するテルルの原子比が40を越える場合には、合金を形
成する効果が十分に発揮されず、また、テルルに対して
特定の金属が原子比で20を越えると活性、選択性が低
下する。
金属の組成は、テルルと特定の金属の原子比として規定
することができる。テルルと特定の金属の原子比は、4
0:1〜1:20の範囲で用いられる。さらに好ましく
は、20:1〜1:15の範囲である。特定の金属に対
するテルルの原子比が40を越える場合には、合金を形
成する効果が十分に発揮されず、また、テルルに対して
特定の金属が原子比で20を越えると活性、選択性が低
下する。
【0026】本発明においては、前述のように調製され
た卑金属酸化物及びテルル系合金を担持した担体は、所
望に応じ、含浸法によってアルカリ金属塩が担持され
る。この工程で使用される溶媒は、例えば、水、アルコ
ール、アセトン、エーテル等が使用できる。
た卑金属酸化物及びテルル系合金を担持した担体は、所
望に応じ、含浸法によってアルカリ金属塩が担持され
る。この工程で使用される溶媒は、例えば、水、アルコ
ール、アセトン、エーテル等が使用できる。
【0027】アルカリ金属塩の担持率は、触媒の全重量
に対して0wt%〜30wt%であり、好ましくは、0
wt%〜20wt%である。アルカリ金属塩の担持率が
30wt%を越える場合には単位重量当たりの触媒の活
性が低くなる傾向がある。
に対して0wt%〜30wt%であり、好ましくは、0
wt%〜20wt%である。アルカリ金属塩の担持率が
30wt%を越える場合には単位重量当たりの触媒の活
性が低くなる傾向がある。
【0028】本発明のもう一つの目的は、かくして調製
された卑金属酸化物及びテルル系合金を担体に担持した
新規な触媒、並びに、卑金属酸化物、テルル系合金及び
アルカリ金属塩を担体に担持した新規な触媒をプロピレ
ンのオキシクロリネーション反応に使用することであ
る。プロピレンのオキシクロリネーションによるアリル
クロライド合成反応は液相、あるいは、気相のどちらで
行なっても構わないが、気相の方が好ましい。
された卑金属酸化物及びテルル系合金を担体に担持した
新規な触媒、並びに、卑金属酸化物、テルル系合金及び
アルカリ金属塩を担体に担持した新規な触媒をプロピレ
ンのオキシクロリネーション反応に使用することであ
る。プロピレンのオキシクロリネーションによるアリル
クロライド合成反応は液相、あるいは、気相のどちらで
行なっても構わないが、気相の方が好ましい。
【0029】気相で反応を行なう場合の反応温度は、本
発明の触媒成分や調製条件によって性能が異なるため一
概に決められないが、典型的には100℃から400
℃、好ましくは100℃から350℃である。100℃
未満では、十分な活性が得られず、また、400℃を越
える場合には副生成物が多くなり目的のアリルクロライ
ドの選択性が低下する傾向がある。
発明の触媒成分や調製条件によって性能が異なるため一
概に決められないが、典型的には100℃から400
℃、好ましくは100℃から350℃である。100℃
未満では、十分な活性が得られず、また、400℃を越
える場合には副生成物が多くなり目的のアリルクロライ
ドの選択性が低下する傾向がある。
【0030】反応圧力は、同様に一概に範囲を決めるこ
とは困難であるが、常圧から50気圧の範囲、好ましく
は常圧から30気圧の範囲である。反応圧力が50気圧
を越えても、それ以上加圧する効果は小さく不経済にな
る。
とは困難であるが、常圧から50気圧の範囲、好ましく
は常圧から30気圧の範囲である。反応圧力が50気圧
を越えても、それ以上加圧する効果は小さく不経済にな
る。
【0031】本発明の方法においては、反応原料として
プロピレン、塩化水素、酸素を用いる。各原料は工業的
に入手可能なものであれば特に制限はなく使用できる。
反応には必要ならば希釈ガスを用いることも可能であ
る。希釈ガスは本反応に対して不活性なものであればよ
く、例えば、窒素、アルゴン、炭酸ガス、メタン、エタ
ン、プロパン等を用いることができる。反応にフィード
する各原料組成は爆発範囲を考慮して容量%で次の範囲
で用いる。
プロピレン、塩化水素、酸素を用いる。各原料は工業的
に入手可能なものであれば特に制限はなく使用できる。
反応には必要ならば希釈ガスを用いることも可能であ
る。希釈ガスは本反応に対して不活性なものであればよ
く、例えば、窒素、アルゴン、炭酸ガス、メタン、エタ
ン、プロパン等を用いることができる。反応にフィード
する各原料組成は爆発範囲を考慮して容量%で次の範囲
で用いる。
【0032】 プロピレン; 4〜90% 塩化水素 ; 1〜50% 酸素 ; 1〜50% 希釈ガス ; 0〜90% プロピレン、塩化水素、酸素の各成分が上記組成の下限
未満では、工業的に十分な反応速度が得られない。一
方、塩化水素が上限を越えると副生成物の生成が多くな
り、さらに、酸素が上限を越えると燃焼生成物が多くな
ることがあるので好ましくない。
未満では、工業的に十分な反応速度が得られない。一
方、塩化水素が上限を越えると副生成物の生成が多くな
り、さらに、酸素が上限を越えると燃焼生成物が多くな
ることがあるので好ましくない。
【0033】原料ガスの供給速度は、触媒の性能あるい
は生成物の選択性や生成速度によって左右される。その
ため、その範囲を一律に決めることは困難であるが、触
媒層の容積に対する原料ガスの流速すなわちガス空間速
度(SV)で表して、100から50,000h−1の
範囲で反応を行なうことが好ましい。SVが100未満
では、工業的に満足できるアリルクロライドの生成速度
が得られず、一方、SVが50,000を越えると原料
の転化率が低下して経済的ではなくなる場合もある。
は生成物の選択性や生成速度によって左右される。その
ため、その範囲を一律に決めることは困難であるが、触
媒層の容積に対する原料ガスの流速すなわちガス空間速
度(SV)で表して、100から50,000h−1の
範囲で反応を行なうことが好ましい。SVが100未満
では、工業的に満足できるアリルクロライドの生成速度
が得られず、一方、SVが50,000を越えると原料
の転化率が低下して経済的ではなくなる場合もある。
【0034】本発明の方法においては、反応は固定床、
流動床、あるいは、移動床のいずれの方法でも行なうこ
とが可能である。
流動床、あるいは、移動床のいずれの方法でも行なうこ
とが可能である。
【0035】
【実施例】以下に実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明がこれらの実施例によって制限されるも
のでないことは言うまでもない。
するが、本発明がこれらの実施例によって制限されるも
のでないことは言うまでもない。
【0036】実施例1 メタバナジン酸アンモニウム0.56gとシュウ酸0.
44gを蒸留水10mlに溶かし、ここにシリカ(富士
デヴィソン化学(株)製キャリアクト−15)5.0g
を加えた。ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾
燥した後、窒素流通下400℃で1時間熱処理を行なっ
た。このようにして、8.0wt%V2O5を担持した
シリカを調製した。
44gを蒸留水10mlに溶かし、ここにシリカ(富士
デヴィソン化学(株)製キャリアクト−15)5.0g
を加えた。ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾
燥した後、窒素流通下400℃で1時間熱処理を行なっ
た。このようにして、8.0wt%V2O5を担持した
シリカを調製した。
【0037】塩化テルル0.20gと酢酸パラジウム
0.17gをアセトン50mlに溶かし、ここに上記の
8.0wt%V2O5を担持したシリカ3.00gを加
えた。ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾燥し
た後、さらに窒素流通下150℃で1時間乾燥した。室
温まで冷却後、雰囲気を窒素中に10%水素を含む混合
ガスに変え、150℃で2時間、さらに400℃で1時
間熱処理を行なった。このようにして3.0wt%テル
ル−2.5wt%パラジウム合金−7.6wt%バナジ
ウム酸化物をシリカに担持した触媒を調製した。得られ
た触媒をX線回折によって解析した結果、表1に示すT
e−PdのX線回折パターンを有する合金ができている
ことが確認された。
0.17gをアセトン50mlに溶かし、ここに上記の
8.0wt%V2O5を担持したシリカ3.00gを加
えた。ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾燥し
た後、さらに窒素流通下150℃で1時間乾燥した。室
温まで冷却後、雰囲気を窒素中に10%水素を含む混合
ガスに変え、150℃で2時間、さらに400℃で1時
間熱処理を行なった。このようにして3.0wt%テル
ル−2.5wt%パラジウム合金−7.6wt%バナジ
ウム酸化物をシリカに担持した触媒を調製した。得られ
た触媒をX線回折によって解析した結果、表1に示すT
e−PdのX線回折パターンを有する合金ができている
ことが確認された。
【0038】この触媒をガラス製の固定床流通式反応装
置に充填し、プロピレン:塩化水素:酸素:窒素=2:
2:1:2の混合ガスをSV=670h−1で供給し
た。所定の温度で反応を行ない、その生成物をガスクロ
マトグラフで分析した。結果を表6に示す。
置に充填し、プロピレン:塩化水素:酸素:窒素=2:
2:1:2の混合ガスをSV=670h−1で供給し
た。所定の温度で反応を行ない、その生成物をガスクロ
マトグラフで分析した。結果を表6に示す。
【0039】
【表1】 実施例2 メタバナジン酸アンモニウム1.14g、シュウ酸1.
11gを用いた以外は実施例1と全く同様にして15.
0wt%V2O5を担持したシリカを調製した。
11gを用いた以外は実施例1と全く同様にして15.
0wt%V2O5を担持したシリカを調製した。
【0040】塩化テルル0.43g、酢酸パラジウム
0.36g、アセトン100ml、上記の15.0wt
%V2O5を担持したシリカ3.00gを用いた以外は
実施例1と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0
wt%パラジウム合金−13.4wt%バナジウム酸化
物をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒を
X線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表
1に示すTe−PdのX線回折パターンを有する合金が
できていることが確認された。
0.36g、アセトン100ml、上記の15.0wt
%V2O5を担持したシリカ3.00gを用いた以外は
実施例1と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0
wt%パラジウム合金−13.4wt%バナジウム酸化
物をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒を
X線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表
1に示すTe−PdのX線回折パターンを有する合金が
できていることが確認された。
【0041】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0042】実施例3 メタバナジン酸アンモニウム0.27g、シュウ酸0.
20gを用いた以外は実施例1と全く同様にして4.0
wt%V2O5を担持したシリカを調製した。
20gを用いた以外は実施例1と全く同様にして4.0
wt%V2O5を担持したシリカを調製した。
【0043】上記の4.0wt%V2O5を担持したシ
リカ3.00gを用いた以外は実施例2と全く同様にし
て6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触媒
を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析した
結果、実施例1と同様に、表1に示すTe−PdのX線
回折パターンを有する合金ができていることが確認され
た。
リカ3.00gを用いた以外は実施例2と全く同様にし
て6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触媒
を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析した
結果、実施例1と同様に、表1に示すTe−PdのX線
回折パターンを有する合金ができていることが確認され
た。
【0044】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0045】実施例4 メタバナジン酸アンモニウム0.98g、シュウ酸0.
55g、蒸留水36.7ml、シリカ18.4gを用い
た以外は実施例1と全く同様にして4.0wt%V2O
5を担持したシリカを調製した。
55g、蒸留水36.7ml、シリカ18.4gを用い
た以外は実施例1と全く同様にして4.0wt%V2O
5を担持したシリカを調製した。
【0046】塩化テルル0.54g、塩化コバルト0.
48g、アセトン27ml、上記の4.0wt%V2O
5を担持したシリカ3.88gを用いた以外は実施例1
と全く同様にして6.0wt%テルル−2.8wt%コ
バルト合金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに
担持した触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によ
って解析した結果、表2に示すTe2−CoとTe−C
oのX線回折パターンを有する合金ができていることが
確認された。
48g、アセトン27ml、上記の4.0wt%V2O
5を担持したシリカ3.88gを用いた以外は実施例1
と全く同様にして6.0wt%テルル−2.8wt%コ
バルト合金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに
担持した触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によ
って解析した結果、表2に示すTe2−CoとTe−C
oのX線回折パターンを有する合金ができていることが
確認された。
【0047】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0048】
【表2】 実施例5 塩化テルル0.54g、塩化銅0.27g、エタノール
8ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5
を担持したシリカ3.87gを用いた以外は実施例4と
全く同様にして6.0wt%テルル−3.0wt%銅合
金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した
触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析
した結果、表3に示すTe−Cu合金のX線回折パター
ンを有する合金ができていることが確認された。
8ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5
を担持したシリカ3.87gを用いた以外は実施例4と
全く同様にして6.0wt%テルル−3.0wt%銅合
金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した
触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析
した結果、表3に示すTe−Cu合金のX線回折パター
ンを有する合金ができていることが確認された。
【0049】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0050】
【表3】 実施例6 塩化テルル0.54gと塩化アンチモン0.46gをア
セトン8mlに溶かし、ここに実施例4で調製した4.
0wt%V2O5を担持したシリカ3.76gを加え、
ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾燥した。窒
素中に10%水素を含む混合ガス流通下、70℃で1時
間、150℃で2時間、200℃で30分間、250℃
で30分間、300℃で30分間と段階的に昇温して熱
処理を行なった。このようにして6.0wt%テルル−
5.7wt%アンチモン合金−3.5wt%バナジウム
酸化物をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触
媒をX線回折によって解析した結果、表4に示すTe3
Sb2のX線回折パターンを有する合金ができているこ
とが確認された。
セトン8mlに溶かし、ここに実施例4で調製した4.
0wt%V2O5を担持したシリカ3.76gを加え、
ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾燥した。窒
素中に10%水素を含む混合ガス流通下、70℃で1時
間、150℃で2時間、200℃で30分間、250℃
で30分間、300℃で30分間と段階的に昇温して熱
処理を行なった。このようにして6.0wt%テルル−
5.7wt%アンチモン合金−3.5wt%バナジウム
酸化物をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触
媒をX線回折によって解析した結果、表4に示すTe3
Sb2のX線回折パターンを有する合金ができているこ
とが確認された。
【0051】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0052】
【表4】 実施例7 塩化テルル0.54g、塩化鉄0.27g、アセトン8
ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5を
担持したシリカ3.95gを用いた以外は実施例4と全
く同様にして6.0wt%テルル−1.3wt%鉄合金
−3.7wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触
媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析し
た結果、表5に示すTe2−FeのX線回折パターンを
有する合金ができていることが確認された。
ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5を
担持したシリカ3.95gを用いた以外は実施例4と全
く同様にして6.0wt%テルル−1.3wt%鉄合金
−3.7wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触
媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析し
た結果、表5に示すTe2−FeのX線回折パターンを
有する合金ができていることが確認された。
【0053】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0054】
【表5】 実施例8 塩化テルル0.54g、酢酸パラジウム0.45g、ア
セトン45ml、及び実施例4で調製した4.0wt%
V2O5を担持したシリカ3.50gを用いた以外は実
施例5と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0w
t%パラジウム合金−3.6wt%バナジウム酸化物を
シリカに担持した。さらにこれを、塩化カリウム0.0
3gを蒸留水8mlに溶かした溶液に加えた。ロータリ
ー・エバポレーターを用いて減圧乾燥した後、さらに窒
素流通下150℃で1時間乾燥した。このようにして
6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
0.7%塩化カリウム−3.5wt%バナジウム酸化物
をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒をX
線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表1
に示すTe−PdのX線回折パターンを有する合金がで
きていることが確認された。
セトン45ml、及び実施例4で調製した4.0wt%
V2O5を担持したシリカ3.50gを用いた以外は実
施例5と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0w
t%パラジウム合金−3.6wt%バナジウム酸化物を
シリカに担持した。さらにこれを、塩化カリウム0.0
3gを蒸留水8mlに溶かした溶液に加えた。ロータリ
ー・エバポレーターを用いて減圧乾燥した後、さらに窒
素流通下150℃で1時間乾燥した。このようにして
6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
0.7%塩化カリウム−3.5wt%バナジウム酸化物
をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒をX
線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表1
に示すTe−PdのX線回折パターンを有する合金がで
きていることが確認された。
【0055】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0056】比較例1 V2O5を担持しないシリカ(富士デヴィソン化学
(株)製キャリアクト−15)を用いた以外は実施例2
と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0wt%パ
ラジウム合金をシリカに担持した触媒を調製した。得ら
れた触媒をX線回折によって解析した結果、実施例1と
同様に、表1に示すTe−PdのX線回折パターンを有
する合金ができていることが確認された。
(株)製キャリアクト−15)を用いた以外は実施例2
と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0wt%パ
ラジウム合金をシリカに担持した触媒を調製した。得ら
れた触媒をX線回折によって解析した結果、実施例1と
同様に、表1に示すTe−PdのX線回折パターンを有
する合金ができていることが確認された。
【0057】この触媒を用い、実施例1と全く同様にし
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
てプロピレンのオキシクロリネーション反応を行なっ
た。結果を表6に示す。
【0058】
【表6】
【0059】
【発明の効果】本発明によれば、卑金属酸化物及びテル
ル系合金を担体に担持した新規な触媒並びに、卑金属酸
化物、テルル系合金及びアルカリ金属塩を担体に担持し
た新規な触媒を各種の反応に用いることができる。
ル系合金を担体に担持した新規な触媒並びに、卑金属酸
化物、テルル系合金及びアルカリ金属塩を担体に担持し
た新規な触媒を各種の反応に用いることができる。
【0060】プロピレンのオキシクロリネーション反応
に本発明の触媒を用いれば、低温での反応が可能とな
り、また、高い選択率でアリルクロライドを得ることが
できるさらに、塩素化に塩素ではなく塩化水素を使用す
ることができる。
に本発明の触媒を用いれば、低温での反応が可能とな
り、また、高い選択率でアリルクロライドを得ることが
できるさらに、塩素化に塩素ではなく塩化水素を使用す
ることができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年4月24日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】塩化テルル0.20gと酢酸パラジウム
0.17gをアセトン50mlに溶かし、ここに上記の
8.0wt%V2O5を担持したシリカ3.00gを加
えた。ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾燥し
た後、さらに窒素流通下150℃で1時間乾燥した。室
温まで冷却後、雰囲気を窒素中に10%水素を含む混合
ガスに変え、150℃で2時間、さらに400℃で1時
間熱処理を行なった。このようにして3.0wt%テル
ル−2.5wt%パラジウム合金−7.6wt%バナジ
ウム酸化物をシリカに担持した触媒を調製した。得られ
た触媒をX線回折によって解析した結果、表1に示すT
ePdのX線回折パターンを有する合金ができているこ
とが確認された。
0.17gをアセトン50mlに溶かし、ここに上記の
8.0wt%V2O5を担持したシリカ3.00gを加
えた。ロータリー・エバポレーターを用いて減圧乾燥し
た後、さらに窒素流通下150℃で1時間乾燥した。室
温まで冷却後、雰囲気を窒素中に10%水素を含む混合
ガスに変え、150℃で2時間、さらに400℃で1時
間熱処理を行なった。このようにして3.0wt%テル
ル−2.5wt%パラジウム合金−7.6wt%バナジ
ウム酸化物をシリカに担持した触媒を調製した。得られ
た触媒をX線回折によって解析した結果、表1に示すT
ePdのX線回折パターンを有する合金ができているこ
とが確認された。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0040
【補正方法】変更
【補正内容】
【0040】塩化テルル0.43g、酢酸パラジウム
0.36g、アセトン100ml、上記の15.0wt
%V2O5を担持したシリカ3.00gを用いた以外は
実施例1と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0
wt%パラジウム合金−13.4wt%バナジウム酸化
物をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒を
X線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表
1に示すTePdのX線回折パターンを有する合金がで
きていることが確認された。
0.36g、アセトン100ml、上記の15.0wt
%V2O5を担持したシリカ3.00gを用いた以外は
実施例1と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0
wt%パラジウム合金−13.4wt%バナジウム酸化
物をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒を
X線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表
1に示すTePdのX線回折パターンを有する合金がで
きていることが確認された。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0043
【補正方法】変更
【補正内容】
【0043】上記の4.0wt%V2O5を担持したシ
リカ3.00gを用いた以外は実施例2と全く同様にし
て6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触媒
を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析した
結果、実施例1と同様に、表1に示すTePdのX線回
折パターンを有する合金ができていることが確認され
た。
リカ3.00gを用いた以外は実施例2と全く同様にし
て6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触媒
を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析した
結果、実施例1と同様に、表1に示すTePdのX線回
折パターンを有する合金ができていることが確認され
た。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】塩化テルル0.54g、塩化コバルト0.
48g、アセトン27ml、上記の4.0wt%V2O
5を担持したシリカ3.88gを用いた以外は実施例1
と全く同様にして6.0wt%テルル−2.8wt%コ
バルト合金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに
担持した触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によ
って解析した結果、表2に示すTe2CoとTeCoの
X線回折パターンを有する合金ができていることが確認
された。
48g、アセトン27ml、上記の4.0wt%V2O
5を担持したシリカ3.88gを用いた以外は実施例1
と全く同様にして6.0wt%テルル−2.8wt%コ
バルト合金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに
担持した触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によ
って解析した結果、表2に示すTe2CoとTeCoの
X線回折パターンを有する合金ができていることが確認
された。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0048
【補正方法】変更
【補正内容】
【0048】
【表2】 実施例5 塩化テルル0.54g、塩化銅0.27g、エタノール
8ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5
を担持したシリカ3.87gを用いた以外は実施例4と
全く同様にして6.0wt%テルル−3.0wt%銅合
金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した
触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析
した結果、表3に示すTe−Cu合金のX線回折パター
ンを有する合金ができていることが確認された。
8ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5
を担持したシリカ3.87gを用いた以外は実施例4と
全く同様にして6.0wt%テルル−3.0wt%銅合
金−3.6wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した
触媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析
した結果、表3に示すTe−Cu合金のX線回折パター
ンを有する合金ができていることが確認された。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0052
【補正方法】変更
【補正内容】
【0052】
【表4】 実施例7 塩化テルル0.54g、塩化鉄0.27g、アセトン8
ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5を
担持したシリカ3.95gを用いた以外は実施例4と全
く同様にして6.0wt%テルル−1.3wt%鉄合金
−3.7wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触
媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析し
た結果、表5に示すTe2FeのX線回折パターンを有
する合金ができていることが確認された。
ml、及び実施例4で調製した4.0wt%V2O5を
担持したシリカ3.95gを用いた以外は実施例4と全
く同様にして6.0wt%テルル−1.3wt%鉄合金
−3.7wt%バナジウム酸化物をシリカに担持した触
媒を調製した。得られた触媒をX線回折によって解析し
た結果、表5に示すTe2FeのX線回折パターンを有
する合金ができていることが確認された。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0054
【補正方法】変更
【補正内容】
【0054】
【表5】 実施例8 塩化テルル0.54g、酢酸パラジウム0.45g、ア
セトン45ml、及び実施例4で調製した4.0wt%
V2O5を担持したシリカ3.50gを用いた以外は実
施例5と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0w
t%パラジウム合金−3.6wt%バナジウム酸化物を
シリカに担持した。さらにこれを、塩化カリウム0.0
3gを蒸留水8mlに溶かした溶液に加えた。ロータリ
ー・エバポレーターを用いて減圧乾燥した後、さらに窒
素流通下150℃で1時間乾燥した。このようにして
6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
0.7%塩化カリウム−3.5wt%バナジウム酸化物
をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒をX
線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表1
に示すTePdのX線回折パターンを有する合金ができ
ていることが確認された。
セトン45ml、及び実施例4で調製した4.0wt%
V2O5を担持したシリカ3.50gを用いた以外は実
施例5と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0w
t%パラジウム合金−3.6wt%バナジウム酸化物を
シリカに担持した。さらにこれを、塩化カリウム0.0
3gを蒸留水8mlに溶かした溶液に加えた。ロータリ
ー・エバポレーターを用いて減圧乾燥した後、さらに窒
素流通下150℃で1時間乾燥した。このようにして
6.0wt%テルル−5.0wt%パラジウム合金−
0.7%塩化カリウム−3.5wt%バナジウム酸化物
をシリカに担持した触媒を調製した。得られた触媒をX
線回折によって解析した結果、実施例1と同様に、表1
に示すTePdのX線回折パターンを有する合金ができ
ていることが確認された。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0056
【補正方法】変更
【補正内容】
【0056】比較例1 V2O5を担持しないシリカ(富士デヴィソン化学
(株)製キャリアクト−15)を用いた以外は実施例2
と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0wt%パ
ラジウム合金をシリカに担持した触媒を調製した。得ら
れた触媒をX線回折によって解析した結果、実施例1と
同様に、表1に示すTePdのX線回折パターンを有す
る合金ができていることが確認された。
(株)製キャリアクト−15)を用いた以外は実施例2
と全く同様にして6.0wt%テルル−5.0wt%パ
ラジウム合金をシリカに担持した触媒を調製した。得ら
れた触媒をX線回折によって解析した結果、実施例1と
同様に、表1に示すTePdのX線回折パターンを有す
る合金ができていることが確認された。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0060
【補正方法】変更
【補正内容】
【0060】プロピレンのオキシクロリネーション反応
に本発明の触媒を用いれば、低温での反応が可能とな
り、また、高い選択率でアリルクロライドを得ることが
できる。さらに、塩素化に塩素ではなく塩化水素を使用
することができる。
に本発明の触媒を用いれば、低温での反応が可能とな
り、また、高い選択率でアリルクロライドを得ることが
できる。さらに、塩素化に塩素ではなく塩化水素を使用
することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】卑金属酸化物及びテルル系合金を担体に担
持した触媒。 - 【請求項2】卑金属酸化物、テルル系合金及びアルカリ
金属塩を担体に担持した触媒。 - 【請求項3】プロピレン、塩化水素及び酸素からオキシ
クロリネーションによりアリルクロライドを製造する方
法において、請求項1または請求項2に記載の触媒を用
いることを特徴とするアリルクロライドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4119822A JPH05293379A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 新規触媒及びアリルクロライドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4119822A JPH05293379A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 新規触媒及びアリルクロライドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05293379A true JPH05293379A (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=14771111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4119822A Pending JPH05293379A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 新規触媒及びアリルクロライドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05293379A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010025650A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Wakasawan Energ Kenkyu Center | バナジウム酸化物を含有する可逆性感湿材料、及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-04-15 JP JP4119822A patent/JPH05293379A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010025650A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Wakasawan Energ Kenkyu Center | バナジウム酸化物を含有する可逆性感湿材料、及びその製造方法 |
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