JPH05291704A - Metal vapor laser system - Google Patents
Metal vapor laser systemInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、複数台の金属蒸気レー
ザ装置内を順次通過させてを大きなレーザ光を得るよう
にした金属蒸気レーザ装置システムに係り、特にこのシ
ステムにおける放電ガス消費量及び消費電力量の低減、
更には窓ガラスの反射等によるレーザ光の減衰を防止す
るようにした金属蒸気レーザ装置システムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal vapor laser device system which sequentially passes through a plurality of metal vapor laser devices to obtain a large laser beam. Reduction of power consumption,
Further, the present invention relates to a metal vapor laser device system which prevents attenuation of laser light due to reflection of window glass or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の金属蒸気レーザ装置システムに使
用されている金属蒸気レーザ装置は、例えば図２に示す
ように構成されている。2. Description of the Related Art A metal vapor laser apparatus used in a conventional metal vapor laser apparatus system is constructed, for example, as shown in FIG.
【０００３】従来の金属蒸気レーザ装置は、金属蒸気を
生成する金属蒸気源１が内部に設置されており、この金
属蒸気源１を設置したセラミック管２の両端には、一対
の電極である陽極３及び陰極４が接続されて放電管５が
形成されている。この放電管５の陽極３及び陰極４は、
それぞれ電極フランジ６，７に固定され、この電極フラ
ンジ６，７は、前記放電管５を包囲する胴体８及び絶縁
管９と各ブリュスタ管１０との間にそれぞれ介在されて
取付け固定されている。In a conventional metal vapor laser device, a metal vapor source 1 for generating metal vapor is installed inside, and a ceramic tube 2 in which the metal vapor source 1 is installed has both ends of an anode, which is a pair of electrodes. 3 and the cathode 4 are connected to form a discharge tube 5. The anode 3 and the cathode 4 of this discharge tube 5 are
The electrode flanges 6 and 7 are respectively fixed. The electrode flanges 6 and 7 are mounted and fixed by being interposed between the body 8 and the insulating tube 9 surrounding the discharge tube 5 and each Brewster tube 10.
【０００４】放電管５の外周面は、断熱材１１で包囲さ
れ、この断熱材１１は、前記胴体８及び絶縁管９で覆わ
れている。そして、各電極フランジ６，７には、前記一
対のブリュスタ管１０の一方がそれぞれ接続されてお
り、この各ブリュスタ管１０の開口部には、ブリュスタ
窓である窓ガラス１２がそれぞれ取付けられ、これらの
各窓ガラス１２の外側には、出力ミラー１３と全反射ミ
ラー１４とが配置されて共振器が構成される。The outer peripheral surface of the discharge tube 5 is surrounded by a heat insulating material 11, which is covered with the body 8 and the insulating tube 9. One of the pair of Brewster tubes 10 is connected to each of the electrode flanges 6 and 7, and a window glass 12 that is a Brewster window is attached to an opening of each of the Brewster tubes 10. An output mirror 13 and a total reflection mirror 14 are arranged outside each window glass 12 to configure a resonator.
【０００５】金属蒸気レーザ装置の陰極４側（図２右
側）に位置する一方のブリュスタ管１０には、例えばネ
オン（Ｎｅ）ガス等の放電ガスを供給するガス供給管１
５が接続され、また陽極３側（同左側）に位置する他方
のブリュスタ管１０には、ガス排気管１６が接続されて
いる。このガス排気管１６は、流量調整弁１７を介して
真空排気ポンプ１８に接続される。A gas supply pipe 1 for supplying a discharge gas such as neon (Ne) gas to one of the Brewster tubes 10 located on the cathode 4 side (right side in FIG. 2) of the metal vapor laser device.
5 is connected, and a gas exhaust pipe 16 is connected to the other Brewster pipe 10 located on the anode 3 side (the same left side). The gas exhaust pipe 16 is connected to a vacuum exhaust pump 18 via a flow rate adjusting valve 17.
【０００６】一方、陽極３を支持する電極支持フランジ
６と陰極４を支持する電極フランジ７との間に直流高電
圧を印加させるためのパルス高圧電源が備えられ、この
パルス高圧電源は、充電コンデンサ１９、中間コンデン
サ２０、抵抗２１、サイラトロン２２及びダイオード２
３から主に構成されている。この金属蒸気レーザ装置に
おけるレーザ発振作用は、次にようにして行なわれる。On the other hand, a pulse high voltage power source for applying a high DC voltage is provided between the electrode support flange 6 supporting the anode 3 and the electrode flange 7 supporting the cathode 4, and the pulse high voltage power source is a charging capacitor. 19, intermediate capacitor 20, resistor 21, thyratron 22 and diode 2
Mainly consists of three. The laser oscillation action in this metal vapor laser device is performed as follows.
【０００７】先ず、金属蒸気源１が内部に配置された放
電管５としてのセラミック管２内に、ガス供給管１５か
ら放電用バッファガス（放電ガス）として、例えばネオ
ンガスを供給する。次に、セラミック管２の両端に設け
られた陽極３と陰極４との間にパルス高圧電源により高
電圧を印加して放電プラズマを形成する。この放電プラ
ズマによりセラミック管２が高温に加熱されて、金属蒸
気源１から蒸気化された金属粒子（金属蒸気）が生成さ
れ、この金属粒子がレーザ媒体として形成される。First, for example, neon gas is supplied as a discharge buffer gas (discharge gas) from the gas supply pipe 15 into the ceramic tube 2 as the discharge tube 5 in which the metal vapor source 1 is arranged. Next, a high voltage is applied between the anode 3 and the cathode 4 provided at both ends of the ceramic tube 2 by a pulse high voltage power source to form discharge plasma. The discharge plasma heats the ceramic tube 2 to a high temperature to generate vaporized metal particles (metal vapor) from the metal vapor source 1, and the metal particles are formed as a laser medium.
【０００８】この金属蒸気は、セラミック管２内に拡散
しセラミック管２内の放電プラズマ中の自由電子により
励起され、この励起された金属蒸気が低いエネルギ準位
に遷移する際にレーザ光を発振する。This metal vapor diffuses in the ceramic tube 2 and is excited by free electrons in the discharge plasma in the ceramic tube 2. When the excited metal vapor makes a transition to a low energy level, laser light is oscillated. To do.
【０００９】ところで、金属蒸気レーザ装置システム
は、前述した金属蒸気レーザ装置をレーザ光の増幅器と
して用いたものであり、図３に示すように、複数台の金
属蒸気レーザ装置２４ａ，２４ｂ、２４ｃ…で構成され
る。By the way, the metal vapor laser device system uses the above-mentioned metal vapor laser device as an amplifier for laser light. As shown in FIG. 3, a plurality of metal vapor laser devices 24a, 24b, 24c ... Composed of.
【００１０】最上流側に位置する金属蒸気レーザ装置２
４ａに被増幅レーザ光２５を入射し、これによって増幅
されたレーザ光２５を順次下流側に位置する金属蒸気レ
ーザ装置２４ｂ，２４ｃ…内を通過させることによって
大きな出力のレーザ光を得るようなされている。The metal vapor laser device 2 located on the most upstream side
The laser light 25 to be amplified is incident on 4a, and the laser light 25 amplified thereby is sequentially passed through the metal vapor laser devices 24b, 24c ... There is.
【００１１】そして、最上流側に位置する金属蒸気レー
ザ装置２４ａから出射された被増幅レーザ光２５をこの
下流側に位置する金属蒸気レーザ装置２４ｂに確実に入
射させるため、両者２４ａ，２４ｂの間に一対の調整ミ
ラー２６ａ，２６ｂが配置されている。In order to surely cause the amplified laser light 25 emitted from the metal vapor laser device 24a located on the most upstream side to enter the metal vapor laser device 24b located on the downstream side, a space between the two 24a and 24b is provided. A pair of adjusting mirrors 26a and 26b are arranged in the.
【００１２】このことは、例えば金属蒸気レーザ装置２
４ｂを上流側とし金属蒸気レーザ装置２４ｃを下流側と
した時、更には金属蒸気レーザ装置２４ｃを上流側とし
金属蒸気レーザ装置２４ｄを下流側とした時等も同様で
ある。This is because, for example, the metal vapor laser device 2
The same applies when 4b is the upstream side and the metal vapor laser device 24c is the downstream side, and when the metal vapor laser device 24c is the upstream side and the metal vapor laser device 24d is the downstream side.
【００１３】[0013]
【発明が解決しようとする課題】従来の金属蒸気レーザ
装置システムでは、システムを構成する各金属蒸気レー
ザ装置２４ａ，２４ｂ，２４ｃ…を個々に運転する必要
があるため、放電ガスを全数台に注入する他、放電ガス
を排気する真空排気ポンプも全数台作動させる必要があ
る。このため、放電ガスを多量に消費するばかりでな
く、真空排気ポンプの運転に伴い多量の電力を消費して
いる。In the conventional metal vapor laser device system, it is necessary to individually operate each metal vapor laser device 24a, 24b, 24c, ... In addition, it is necessary to operate all the vacuum exhaust pumps that exhaust the discharge gas. Therefore, not only a large amount of discharge gas is consumed, but also a large amount of electric power is consumed as the vacuum exhaust pump operates.
【００１４】また、個々の金属蒸気レーザ装置２４ａ，
２４ｂ，２４ｃ…には、レーザ光１９の入射口と出射口
に窓ガラス１２がそれぞれ設置されていため、得られた
レー光が多数の窓ガラス１２の反射や汚れ等によって減
衰してしまうといった問題があった。In addition, each metal vapor laser device 24a,
Since the window glass 12 is installed at each of the entrance and the exit of the laser light 19 in 24b, 24c ..., the obtained ray light is attenuated by reflection and dirt of many window glasses 12. was there.
【００１５】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは、低運転コストで、且つ安
定したレーザ光出力が得られ、しかも故障の少ない金属
蒸気レーザ装置システムを提供することにある。The present invention has been made in consideration of the above circumstances. An object of the present invention is to provide a metal vapor laser device system that can obtain a stable laser light output at a low operating cost and has few failures. To do.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る金属蒸気レーザ装置システムは、複数
の金属蒸気レーザ装置の内部を順次通過させてレーザ光
を増幅させるようにした金属蒸気レーザ装置システムに
おいて、前記各金属蒸気レーザ装置を電気的に絶縁され
たフレキシブルな継手管を介して互いに直列に接続した
ことを特徴とするものである。In order to achieve the above object, a metal vapor laser device system according to the present invention comprises a metal vapor laser device configured to sequentially pass through a plurality of metal vapor laser devices to amplify laser light. In the laser device system, the metal vapor laser devices are connected in series with each other through a flexible electrically insulated joint pipe.
【００１７】[0017]
【作用】上記のように構成した本発明によれば、例えば
最上流側に位置する金属蒸気レーザ装置にガス供給管
を、最下流側に位置する金属蒸気レーザ装置にガス排気
管をそれぞれ取り付けることにより、全金属蒸気レーザ
装置内に放電ガスを充満させることができ、これによっ
て、１台分の放電ガス量と、１個の真空排気ポンプで金
属蒸気レーザ装置システムを作動させることができる。
また、窓ガラスを最上流側に位置する金属蒸気レーザ装
置の入射口と最下流側に位置する金属蒸気レーザ装置の
出射口の２枚で済ますことができる。According to the present invention configured as described above, for example, the gas supply pipe is attached to the metal vapor laser device located on the most upstream side, and the gas exhaust pipe is attached to the metal vapor laser device located on the most downstream side. With this, the discharge gas can be filled in the all metal vapor laser device, and thus, the metal vapor laser device system can be operated by one discharge gas amount and one vacuum exhaust pump.
Further, it is possible to use only two window glasses, the entrance of the metal vapor laser device located on the most upstream side and the exit port of the metal vapor laser device located on the most downstream side.
【００１８】[0018]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１を参照して説
明する。なお、従来の構成と同一または対応する部分に
は、図２及び図３と同一の符号を用いて説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Note that the same or corresponding portions as those of the conventional configuration will be described using the same reference numerals as those in FIGS.
【００１９】本実施例は、例えば５台の金属蒸気レーザ
装置２４ａ〜２４ｅを用いて被増幅レーザ光２５を増幅
させるようにした例を示すもので、各金属蒸気レーザ装
置２４ａ〜２４ｅは、この両端部に接続された一対のブ
リュスタ管１０がほぼ直線状に延びるように直列に配置
されている。This embodiment shows an example in which the amplified laser light 25 is amplified by using, for example, five metal vapor laser devices 24a to 24e. A pair of Brewster tubes 10 connected to both ends are arranged in series so as to extend substantially linearly.
【００２０】そして、互いに隣接する金属蒸気レーザ装
置２４ａと２４ｂ、２４ｂと２４ｃ、２４ｃと２４ｄ、
２４ｄと２４ｅ同士は、それぞれ互いに対向するブリュ
スタ管１０を介してフレキシブルで電気的に絶縁された
継手管２７によって個々に接続されている。この接続方
向は、正極側と正極側、負極側と負極側とが互いに接続
する方向として、高電圧放電が安定に行えるようになさ
れている。The metal vapor laser devices 24a and 24b, 24b and 24c, 24c and 24d, which are adjacent to each other,
24d and 24e are individually connected by a flexible and electrically insulated joint pipe 27 via Brewster pipes 10 facing each other. This connection direction is such that the positive electrode side and the positive electrode side are connected to each other, and the negative electrode side and the negative electrode side are connected to each other, so that high voltage discharge can be stably performed.
【００２１】そして、最上流側に位置する金属蒸気レー
ザ装置２４ａのブリュスタ管１０には、ネオンガス等の
放電ガスを供給するガス供給管１５が接続され、最下流
側に位置する金属蒸気レーザ装置２４ｅのブリュスタ管
１０には、ガス排気管１６が接続されている。このガス
排気管１６は、流量調整弁１７を介して真空排気ポンプ
１８に接続されている。A gas supply pipe 15 for supplying a discharge gas such as neon gas is connected to the brewer tube 10 of the metal vapor laser device 24a located on the most upstream side, and the metal vapor laser device 24e located on the most downstream side. A gas exhaust pipe 16 is connected to the Brewster pipe 10. The gas exhaust pipe 16 is connected to a vacuum exhaust pump 18 via a flow rate adjusting valve 17.
【００２２】なお、前記ブリュスタ管１０の継手管１７
との継手部端面には、ブリュスタ窓を形成する窓ガラス
１２が装着されていない。窓ガラス１２は、最上流側に
位置する金属蒸気レーザ装置２４ａの入射口と最下流側
に位置する金属蒸気レーザ装置２４ｅの出射口にのみ取
付けられている。The joint pipe 17 of the Brewster pipe 10
The window glass 12 forming the Brewster window is not attached to the end face of the joint portion with. The window glass 12 is attached only to the entrance of the metal vapor laser device 24a located on the most upstream side and the exit of the metal vapor laser device 24e located on the most downstream side.
【００２３】これにより、ガス供給管１５から供給され
た放電ガスを金属蒸気レーザ装置２４ａ〜２４ｅ内を順
次流れさせ真空排気ポンプ１８から排出させて、１台分
の放電ガス量と、１個の真空排気ポンプ１８で金属蒸気
レーザ装置システムを作動させることができるようなさ
れている。As a result, the discharge gas supplied from the gas supply pipe 15 sequentially flows through the metal vapor laser devices 24a to 24e and is discharged from the vacuum exhaust pump 18, and the discharge gas amount for one unit and one discharge gas amount. The vacuum pump 18 is adapted to operate the metal vapor laser system.
【００２４】さて、個々の金属蒸気レーザ装置２４ａ〜
２４ｅのパルス２極放電は、陽極３及び陰極４を支持し
これらに電流を流す電極フランジ６，７（図２参照）に
接続されたパルス高圧電源によりなされる。このパルス
高圧電源は、充電コンデンサ１９、中間コンデンサ２
０、抵抗２１、サイラトロン２２及びダイオード２２等
からなる回路によって構成されている。Now, the individual metal vapor laser devices 24a to 24a.
The pulsed bipolar discharge of 24e is performed by a pulsed high voltage power supply which is connected to the electrode flanges 6 and 7 (see FIG. 2) which support the anode 3 and the cathode 4 and pass a current through them. This pulse high voltage power supply includes a charging capacitor 19 and an intermediate capacitor 2.
0, a resistor 21, a thyratron 22, a diode 22 and the like.
【００２５】このパルス高圧電源は、充電コンデンサ１
９に充電された電荷がサイラトロン２２を点弧すること
により、例えばほぼ１０-7秒以下の立上り時間で放電電
流を発生するようにされている。サイラトロン２２はパ
ルス放電スイッチング素子である。発生させるパルス高
電圧は、電圧が数KV〜数十KV、繰返し周波数が数kHz〜
数十kHz である。その他の構成は図２と同一であるので
その説明を省略する。次に上記実施例の作用について説
明する。This pulse high-voltage power supply includes a charging capacitor 1
The electric charge charged in 9 ignites the thyratron 22 to generate a discharge current with a rise time of, for example, about 10 −7 seconds or less. The thyratron 22 is a pulse discharge switching element. The pulse high voltage to be generated is several KV to several tens of KV, and the repetition frequency is several kHz.
It is several tens of kHz. The other configuration is the same as that of FIG. 2, and therefore its explanation is omitted. Next, the operation of the above embodiment will be described.
【００２６】先ず、１台の真空排気ポンプ１８を作動さ
せて、金属蒸気レーザ装置システムを構成する個々の金
属蒸気レーザ装置２４ａ〜２４ｅの各セラミック管２
（図２参照）内を排気し、所要の真空度に保持した上で
ガス供給管１５から所定の流量のヘリウムガス等の放電
ガスを注入する。注入された放電ガスは、順にセラミッ
ク管２内を流れ真空排気ポンプ系１８によって排出され
る。このことは、消費する放電ガス量が金属蒸気レーザ
装置１台分で済むことを示す。また、この時の排気量
は、個々のセラミック管２内の放電ガスの圧力が放電が
安定に生じる所定の圧力になるように流量調整バルブ１
７で調整する。First, one evacuation pump 18 is operated to operate the ceramic tubes 2 of the individual metal vapor laser devices 24a to 24e constituting the metal vapor laser device system.
(Refer to FIG. 2) The inside is evacuated, and after maintaining the required degree of vacuum, a discharge gas such as helium gas is injected from the gas supply pipe 15 at a predetermined flow rate. The injected discharge gas sequentially flows through the ceramic tube 2 and is discharged by the vacuum exhaust pump system 18. This indicates that the amount of discharge gas consumed is sufficient for one metal vapor laser device. Further, the exhaust amount at this time is set so that the pressure of the discharge gas in each ceramic tube 2 becomes a predetermined pressure at which the discharge is stably generated.
Adjust with 7.
【００２７】次に個々の金属蒸気レーザ装置２４ａ〜２
４ｅのパルス高圧電源を作動させて、個々のセラミック
管２内にプラズマを生起させ、このプラズマによって金
属蒸気源１（図２参照）が金属蒸気を生成し得る温度ま
で昇温させる。この時、レーザ発振に必要な温度は、例
えば金属蒸気源１が銅の場合には、約１５００℃であ
る。この温度状態を保持することにより、セラミック管
２内に金属蒸気を一様に分布させることができる。Next, individual metal vapor laser devices 24a-2
The pulse high-voltage power supply 4e is operated to generate plasma in each ceramic tube 2, and the plasma raises the temperature to a temperature at which the metal vapor source 1 (see FIG. 2) can generate metal vapor. At this time, the temperature required for laser oscillation is about 1500 ° C. when the metal vapor source 1 is copper, for example. By maintaining this temperature state, the metal vapor can be uniformly distributed in the ceramic tube 2.
【００２８】この金属蒸気にプラズマ中の自由電子が衝
突して金属蒸気が励起され、やがてセラミック管２内は
反転分布の状態となる。この状態では励起された金属蒸
気が低エネルギ準位に遷移する際にレーザ光を発生する
ことになる。Free electrons in the plasma collide with the metal vapor to excite the metal vapor, and eventually the ceramic tube 2 is in a population inversion state. In this state, laser light is generated when the excited metal vapor makes a transition to a low energy level.
【００２９】そして、被増幅レーザ光２５を最上流側に
位置する金属蒸気レーザ装置２４ａの入射口にこの窓ガ
ラス１２から入射することにより、前述のエネルギ準位
の遷移によって被増幅レーザ光２４の光強度の増幅を行
い、次の金属蒸気レーザ装置２４ｂに窓ガラスを透過す
ることなく入射して再び増幅を行い、この増幅を金属蒸
気レーザ装置２４ｃ〜２４ｅに亘って多段に行った後、
最下流側に位置する金属蒸気レーザ装置２４ｅの出射口
の窓ガラス１２から大出力のレーザ光２５ａを得るので
ある。Then, the amplified laser light 25 is made incident on the entrance of the metal vapor laser device 24a located on the most upstream side from the window glass 12, so that the amplified laser light 24 is changed by the above-mentioned energy level transition. After amplifying the light intensity, the metal vapor laser device 24b is incident on the next metal vapor laser device 24b without passing through the window glass and amplified again, and after this amplification is performed in multiple stages over the metal vapor laser devices 24c to 24e,
A large output laser beam 25a is obtained from the window glass 12 at the exit of the metal vapor laser device 24e located on the most downstream side.
【００３０】このように本実施例によれば、放電ガスの
消費量を大幅に減少させることができるばかりでなく、
多数の金属蒸気レーザ装置を１台の真空排気ポンプで駆
動させて、消費電力量等の低コスト化を図ることができ
る。更に、レーザ光の多段増幅時に生じる多数の窓ガラ
スでの減衰をなくすこともできる。As described above, according to the present embodiment, not only the discharge gas consumption can be greatly reduced, but also
A large number of metal vapor laser devices can be driven by a single vacuum exhaust pump to reduce costs such as power consumption. Further, it is possible to eliminate the attenuation in a large number of window glasses that occurs when the laser light is amplified in multiple stages.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
放電ガスの消費量を大幅に低減させることができるばか
りでなく、真空排気ポンプの駆動数を減少させて電気消
費量及び故障要因を低減させることができる。更に、レ
ーザ光増幅時の窓ガラス等による減衰をなくすことがで
き、高い効率を有する金属蒸気レーザ装置システムを提
供することができる。As described above, according to the present invention,
Not only can the consumption of discharge gas be significantly reduced, but the number of vacuum pumps to be driven can also be reduced to reduce electricity consumption and cause of failure. Further, it is possible to eliminate the attenuation due to the window glass or the like when the laser light is amplified, and it is possible to provide a metal vapor laser device system having high efficiency.
【図１】本発明に係る金属蒸気レーザ装置システムの一
実施例を示す概略図。FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a metal vapor laser device system according to the present invention.
【図２】金属蒸気レーザ装置を回路図を併記して示す断
面図。FIG. 2 is a sectional view showing a metal vapor laser device together with a circuit diagram.
【図３】従来の金属蒸気レーザ装置システムの例を示す
概略図。FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a conventional metal vapor laser device system.
２ セラミック管 ３ 陽極 ４ 陰極 ５ 放電管 ６，７ 電極フランジ １０ ブリュスタ管 １２ 窓ガラス １５ ガス供給管 １６ ガス排出管 ２４ａ〜２４ｅ 金属蒸気レーザ装置 ２５ 被増幅レーザ光 ２７ 継手管 2 Ceramic tube 3 Anode 4 Cathode 5 Discharge tube 6,7 Electrode flange 10 Brewster tube 12 Window glass 15 Gas supply tube 16 Gas discharge tube 24a to 24e Metal vapor laser device 25 Amplified laser light 27 Joint tube
Claims (1)
通過させてレーザ光を増幅させるようにした金属蒸気レ
ーザ装置システムにおいて、前記各金属蒸気レーザ装置
を電気的に絶縁されたフレキシブルな継手管を介して互
いに直列に接続したことを特徴とする金属蒸気レーザ装
置システム。1. A metal vapor laser device system in which laser light is amplified by sequentially passing through a plurality of metal vapor laser devices, wherein each metal vapor laser device is a flexible joint tube electrically insulated. A metal vapor laser device system, wherein the metal vapor laser device system is connected in series via the.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8678792A JPH05291704A (en) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | Metal vapor laser system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8678792A JPH05291704A (en) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | Metal vapor laser system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05291704A true JPH05291704A (en) | 1993-11-05 |
Family
ID=13896475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8678792A Pending JPH05291704A (en) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | Metal vapor laser system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05291704A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2557328C2 (en) * | 2013-07-19 | 2015-07-20 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" (ТГУ) | Multielement radiator based on metal vapours and compounds thereof |
-
1992
- 1992-04-08 JP JP8678792A patent/JPH05291704A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2557328C2 (en) * | 2013-07-19 | 2015-07-20 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" (ТГУ) | Multielement radiator based on metal vapours and compounds thereof |
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