JPH05288942A - 耐放射線イメージファイバの製法 - Google Patents
耐放射線イメージファイバの製法Info
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- JPH05288942A JPH05288942A JP4095661A JP9566192A JPH05288942A JP H05288942 A JPH05288942 A JP H05288942A JP 4095661 A JP4095661 A JP 4095661A JP 9566192 A JP9566192 A JP 9566192A JP H05288942 A JPH05288942 A JP H05288942A
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 極めて優秀な耐放射線性を有するイメージフ
ァイバを製造する。 【構成】 イメージファイバ母材11を溶融紡糸し、得
られたイメージファイバ13にγ線を照射したのち、水
素雰囲気で加熱する。
ァイバを製造する。 【構成】 イメージファイバ母材11を溶融紡糸し、得
られたイメージファイバ13にγ線を照射したのち、水
素雰囲気で加熱する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、耐放射線特性が格段
に向上した耐放射線イメージファイバを製造する方法に
関する。
に向上した耐放射線イメージファイバを製造する方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】イメージファイバの用途として、原子力
発電所内の冷却水配管内の検査などの放射線環境下での
使用がある。このような用途に用いられるイメージファ
イバとしては、放射線に被曝されても伝送特性の劣化が
極力少ないものが当然必要となってくる。従来、このよ
うな放射線環境下で使用される耐放射線イメージファイ
バとしては、図2に示すように、純粋石英ガラスからな
る多数のコア1…と、これらコア1…の周囲を包囲する
フッ素ドープ石英ガラスからなるクラッド2と、これら
全体を被覆する石英ガラスからなるジャケット3を有す
るものが知られている。
発電所内の冷却水配管内の検査などの放射線環境下での
使用がある。このような用途に用いられるイメージファ
イバとしては、放射線に被曝されても伝送特性の劣化が
極力少ないものが当然必要となってくる。従来、このよ
うな放射線環境下で使用される耐放射線イメージファイ
バとしては、図2に示すように、純粋石英ガラスからな
る多数のコア1…と、これらコア1…の周囲を包囲する
フッ素ドープ石英ガラスからなるクラッド2と、これら
全体を被覆する石英ガラスからなるジャケット3を有す
るものが知られている。
【0003】このようなイメージファイバは、純粋石英
ガラスからなるコアと、フッ素ドープ石英ガラスからな
るクラットを有するコア/グラッド構造の光ファイバを
多数本整列状態で束ね、ジャケットとなる純粋石英ガラ
ス製パイプ内に収め、加熱して一体化したイメージファ
イバ母材を作り、このイメージファイバ母材を溶融紡糸
する方法で製造されている。ところが、この溶融紡糸の
際、イメージファイバ内に欠陥が生じ、得られるイメー
ジファイバ内にこの欠陥がそのまま存在することにな
る。この欠陥は放射線被曝時にカラーセンター(着色中
心)に変化し、伝送特性劣化の原因となっている。
ガラスからなるコアと、フッ素ドープ石英ガラスからな
るクラットを有するコア/グラッド構造の光ファイバを
多数本整列状態で束ね、ジャケットとなる純粋石英ガラ
ス製パイプ内に収め、加熱して一体化したイメージファ
イバ母材を作り、このイメージファイバ母材を溶融紡糸
する方法で製造されている。ところが、この溶融紡糸の
際、イメージファイバ内に欠陥が生じ、得られるイメー
ジファイバ内にこの欠陥がそのまま存在することにな
る。この欠陥は放射線被曝時にカラーセンター(着色中
心)に変化し、伝送特性劣化の原因となっている。
【0004】このため、イメージファイバ中に存在する
欠陥を取り除くため、イメージファイバを水素雰囲気中
で加熱する方法がとられ、欠陥を予め取り除き、耐放射
線性を高めるようにしていた。しかしながら、この方法
を用いても、イメージファイバの耐放射線特性はいまだ
十分とはいえず、高い線量の被曝に対して伝送特性の劣
化が見られた。
欠陥を取り除くため、イメージファイバを水素雰囲気中
で加熱する方法がとられ、欠陥を予め取り除き、耐放射
線性を高めるようにしていた。しかしながら、この方法
を用いても、イメージファイバの耐放射線特性はいまだ
十分とはいえず、高い線量の被曝に対して伝送特性の劣
化が見られた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】よって、この発明にお
ける課題は、高線量の放射線被曝を受けても伝送特性の
低下のない極めて耐放射線特性の優れたイメージファイ
バを製造する方法を得ることにある。
ける課題は、高線量の放射線被曝を受けても伝送特性の
低下のない極めて耐放射線特性の優れたイメージファイ
バを製造する方法を得ることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる課題は、溶融紡糸
後のイメージファイバにγ線を照射し、しかるのち水素
雰囲気中で加熱する方法により解決される。γ線の照射
は、溶融紡糸に引き続いて連続的に(タンデム)行うこ
ともでき、また溶融紡糸後に一且巻き取り、これを照射
する方法であってもよい。
後のイメージファイバにγ線を照射し、しかるのち水素
雰囲気中で加熱する方法により解決される。γ線の照射
は、溶融紡糸に引き続いて連続的に(タンデム)行うこ
ともでき、また溶融紡糸後に一且巻き取り、これを照射
する方法であってもよい。
【0007】以下、この発明を詳しく説明する。図1
は、この発明の製法の一例を実施するに好適な装置を示
すもので、図1符号11はイメージファイバ母材であ
る。このイメージファイバ母材11は、特に限定される
ものではないが、耐放射線性の点から、純粋石英からな
るコアと、フッ素ドープ石英ガラスあるいはホウ素ドー
プ石英ガラスからなるグラッドを有するコア/グラッド
型光ファイバを多数本整列状態で束ね、これを石英ガラ
スからなるパイプ内に収めて加熱し、一体化したものな
どが好ましい。このイメージファイバ母材11は加熱炉
のヒータ12でその端部が溶融され、溶融紡糸されて所
望の径を有するイメージファイバ13となる。
は、この発明の製法の一例を実施するに好適な装置を示
すもので、図1符号11はイメージファイバ母材であ
る。このイメージファイバ母材11は、特に限定される
ものではないが、耐放射線性の点から、純粋石英からな
るコアと、フッ素ドープ石英ガラスあるいはホウ素ドー
プ石英ガラスからなるグラッドを有するコア/グラッド
型光ファイバを多数本整列状態で束ね、これを石英ガラ
スからなるパイプ内に収めて加熱し、一体化したものな
どが好ましい。このイメージファイバ母材11は加熱炉
のヒータ12でその端部が溶融され、溶融紡糸されて所
望の径を有するイメージファイバ13となる。
【0008】このイメージファイバ13は、耐熱性紫外
線硬化型樹脂液が満たされた樹脂被覆ダイス14に連続
的に導かれ、該樹脂液が塗布されたのち、紫外線架橋筒
15に送られ、ここで紫外線照射を受ける。これによ
り、上記樹脂液は硬化し、樹脂被覆が施される。この樹
脂被覆が設けられたイメージファイバ13は、引き続い
て連続的に照射室16に送られる。照射室16は、その
室内を走行するイメージファイバ13にγ線を照射する
ためのもので、その内部にはコバルト−60などのγ線
源17が設置されている。
線硬化型樹脂液が満たされた樹脂被覆ダイス14に連続
的に導かれ、該樹脂液が塗布されたのち、紫外線架橋筒
15に送られ、ここで紫外線照射を受ける。これによ
り、上記樹脂液は硬化し、樹脂被覆が施される。この樹
脂被覆が設けられたイメージファイバ13は、引き続い
て連続的に照射室16に送られる。照射室16は、その
室内を走行するイメージファイバ13にγ線を照射する
ためのもので、その内部にはコバルト−60などのγ線
源17が設置されている。
【0009】イメージファイバ13は、この照射室16
内を走行する間に約107〜109レントゲンの線量のγ
線照射を受けたのち、巻取ドラム18に巻き取られる。
イメージファイバ13の走行線速は通常10〜100m
/分程度であるので、γ線源としては比較的高線量率で
γ線照射できるものが好ましく、コバルト−60を用い
た場合には1010キュリー程度のものを用いることにな
る。
内を走行する間に約107〜109レントゲンの線量のγ
線照射を受けたのち、巻取ドラム18に巻き取られる。
イメージファイバ13の走行線速は通常10〜100m
/分程度であるので、γ線源としては比較的高線量率で
γ線照射できるものが好ましく、コバルト−60を用い
た場合には1010キュリー程度のものを用いることにな
る。
【0010】巻回状態のイメージファイバ13は、つい
で水素雰囲気下で加熱されて処理される。この処理は、
加熱可能な耐圧容器内に巻回状態のイメージファイバ1
3を収容し、該容器内に水素ガスを充填し、容器内のイ
メージファイバを加熱することによって行われる。ここ
で用いられる水素ガスとしては純粋水素ガス以外に、水
素ガスとアルゴンガス,窒素ガスなどの不活性ガスとの
混合ガスであってもよ、い。この処理により、水素原子
がイメージファイバをなすガラス中に浸透、拡散してゆ
き、欠陥を治癒する。この際、樹脂被覆は、水素分子の
浸透には全く障害とはならず、また架橋状態にあるの
で、加熱劣化することもほとんどない。
で水素雰囲気下で加熱されて処理される。この処理は、
加熱可能な耐圧容器内に巻回状態のイメージファイバ1
3を収容し、該容器内に水素ガスを充填し、容器内のイ
メージファイバを加熱することによって行われる。ここ
で用いられる水素ガスとしては純粋水素ガス以外に、水
素ガスとアルゴンガス,窒素ガスなどの不活性ガスとの
混合ガスであってもよ、い。この処理により、水素原子
がイメージファイバをなすガラス中に浸透、拡散してゆ
き、欠陥を治癒する。この際、樹脂被覆は、水素分子の
浸透には全く障害とはならず、また架橋状態にあるの
で、加熱劣化することもほとんどない。
【0011】このような製法によれば、溶融紡糸後のイ
メージファイバ13にγ線を照射することで、積極的に
イメージファイバ13内に多くの欠陥を生成させ、この
欠陥を次工程での水素処理で取り除いているので、極め
て高い耐放射線性が得られる。また、あらかじめ、供用
時に受ける被曝線量が予測される場合には、γ線照射時
の照射線量をこれに対応させることができ、効率的な処
理を施すことができる。さらに、この例の製法では、γ
線照射を溶融紡糸に引きつづいて連続的にタンデムで行
っているので、作業時間が短縮され、製造コストの低減
が可能である。
メージファイバ13にγ線を照射することで、積極的に
イメージファイバ13内に多くの欠陥を生成させ、この
欠陥を次工程での水素処理で取り除いているので、極め
て高い耐放射線性が得られる。また、あらかじめ、供用
時に受ける被曝線量が予測される場合には、γ線照射時
の照射線量をこれに対応させることができ、効率的な処
理を施すことができる。さらに、この例の製法では、γ
線照射を溶融紡糸に引きつづいて連続的にタンデムで行
っているので、作業時間が短縮され、製造コストの低減
が可能である。
【0012】また、本発明の製法では、γ線照射を必ず
しも溶融紡糸とタンデムで行う必要はなく、樹脂被覆を
施したイメージファイバを一且巻取ドラムに巻き取り、
この巻回されたされたイメージファイバを照射室内にて
γ線照射したのち、水素雰囲気中で加熱処理してもよ
い。また、巻取後のイメージファイバを予め水素雰囲気
中で加熱して、溶融紡糸時に生じた欠陥を取り除き、つ
いでγ線照射を行ったのち、再び水素雰囲気中で加熱す
る方法を採用してもよい。これらの方法では、γ線照射
の際のγ線源としては比較的小型の低線量率のものが使
用でき、設備、放射線設備の管理の点で有利となる。
しも溶融紡糸とタンデムで行う必要はなく、樹脂被覆を
施したイメージファイバを一且巻取ドラムに巻き取り、
この巻回されたされたイメージファイバを照射室内にて
γ線照射したのち、水素雰囲気中で加熱処理してもよ
い。また、巻取後のイメージファイバを予め水素雰囲気
中で加熱して、溶融紡糸時に生じた欠陥を取り除き、つ
いでγ線照射を行ったのち、再び水素雰囲気中で加熱す
る方法を採用してもよい。これらの方法では、γ線照射
の際のγ線源としては比較的小型の低線量率のものが使
用でき、設備、放射線設備の管理の点で有利となる。
【0013】以下、実施例を示して具体的に説明する。 (実施例1)イメージファイバ母材を溶融紡糸して、外
径1.5mmのイメージファイバを得た。このイメージ
ファイバはコアが純粋石英ガラスからなり、グラッドは
フッ素ドープ石英ガラスからなるもので、コア径が6.
5μm,コア間隔が10μm,△n1.0%、画素数が
30.000のものである。このイメージファイバに、
紡糸直後に紫外線硬化型樹脂を塗布し、紫外線架橋筒で
硬化せしめ、厚さ150μmの被覆を設けた。このもの
を直ちにかつ連続的に照射室に導き、γ線照射を行っ
た。γ線源としては、108Ciのコバルト−60を用
いた。
径1.5mmのイメージファイバを得た。このイメージ
ファイバはコアが純粋石英ガラスからなり、グラッドは
フッ素ドープ石英ガラスからなるもので、コア径が6.
5μm,コア間隔が10μm,△n1.0%、画素数が
30.000のものである。このイメージファイバに、
紡糸直後に紫外線硬化型樹脂を塗布し、紫外線架橋筒で
硬化せしめ、厚さ150μmの被覆を設けた。このもの
を直ちにかつ連続的に照射室に導き、γ線照射を行っ
た。γ線源としては、108Ciのコバルト−60を用
いた。
【0014】ついで、これを巻き取りドラムに巻き取っ
たのち、これを耐圧容器内に収めついで耐圧容器内を一
且真空排気したのち、純粋水素ガスを導入し、内部を圧
力2kg/cm2の水素ガス雰囲気とし、内蔵ヒーター
によって150℃で24時間加熱処理を行った。このよ
うにして得られたイメージファイバに対して2×108
Rのγ線を照射し、照射前後での伝送画像を評価したと
ころ、照射後においても伝送画像の着色は全く認められ
ず、伝送特性の劣化はなかった。
たのち、これを耐圧容器内に収めついで耐圧容器内を一
且真空排気したのち、純粋水素ガスを導入し、内部を圧
力2kg/cm2の水素ガス雰囲気とし、内蔵ヒーター
によって150℃で24時間加熱処理を行った。このよ
うにして得られたイメージファイバに対して2×108
Rのγ線を照射し、照射前後での伝送画像を評価したと
ころ、照射後においても伝送画像の着色は全く認められ
ず、伝送特性の劣化はなかった。
【0015】比較として、コバルト−60によるγ線照
射を行わずに、水素雰囲気中での加熱処理のみを同条件
で行ったイメージファイバについて、同様に2×108
Rのγ線照射を行い、伝送画像の評価を行ったところ、
着色が認められ、伝送特性の劣化が見られた。また、評
価のためのγ線照射線量を106Rと低くした場合で
は、伝送画像に着色が認められなかった。これらの結果
から明らかなように、γ線照射したのち水素雰囲気で加
熱することで、格段に耐放射性が向上することがわか
る。
射を行わずに、水素雰囲気中での加熱処理のみを同条件
で行ったイメージファイバについて、同様に2×108
Rのγ線照射を行い、伝送画像の評価を行ったところ、
着色が認められ、伝送特性の劣化が見られた。また、評
価のためのγ線照射線量を106Rと低くした場合で
は、伝送画像に着色が認められなかった。これらの結果
から明らかなように、γ線照射したのち水素雰囲気で加
熱することで、格段に耐放射性が向上することがわか
る。
【0016】(実施例2)まず、実施例1と同様にして
紫外線硬化型樹脂からなる被覆を有するイメージファイ
バを製造し、巻取ドラムに巻き取った。ついで、このも
のを同様の耐圧容器に収め、水素圧力2kg/cm2、
温度150℃、時間24時間の条件で処理したのち、コ
バルト−60によるγ線照射を実施した。ついで、この
ものをさらに水素圧力2kg/cm2、温度150℃、
時間24時間の条件で2回目の水素雰囲気中での加熱処
理を施して、目的とする耐放射線イメージファイバを得
た。このものに108Rのγ線照射を行ったが、画像伝
送特性に劣化は認められなかった。
紫外線硬化型樹脂からなる被覆を有するイメージファイ
バを製造し、巻取ドラムに巻き取った。ついで、このも
のを同様の耐圧容器に収め、水素圧力2kg/cm2、
温度150℃、時間24時間の条件で処理したのち、コ
バルト−60によるγ線照射を実施した。ついで、この
ものをさらに水素圧力2kg/cm2、温度150℃、
時間24時間の条件で2回目の水素雰囲気中での加熱処
理を施して、目的とする耐放射線イメージファイバを得
た。このものに108Rのγ線照射を行ったが、画像伝
送特性に劣化は認められなかった。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の耐放射
線イメージファイバの製法は、イメージファイバ母材を
溶融紡糸し、得られたイメージファイバにγ線を照射し
たのち、水素雰囲気で加熱するものであるので、極めて
優秀な耐放射線特性を有するものが製造できる。特に、
イメージファイバの紡糸とγ線照射とをタンデムで行う
ものでは作業効果率が向上し、製造コストを低減するこ
ともできる。
線イメージファイバの製法は、イメージファイバ母材を
溶融紡糸し、得られたイメージファイバにγ線を照射し
たのち、水素雰囲気で加熱するものであるので、極めて
優秀な耐放射線特性を有するものが製造できる。特に、
イメージファイバの紡糸とγ線照射とをタンデムで行う
ものでは作業効果率が向上し、製造コストを低減するこ
ともできる。
【図1】 この発明の製法を実施するための装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図2】 イメージファイバの一例を示す概略断面図で
ある。
ある。
11…イメージファイバ母材、12…ヒータ、13…イ
メージファイバ、14…樹脂被覆ダイス、15…紫外線
架橋筒、16…照射室、17…線源、18…巻取ドラム
メージファイバ、14…樹脂被覆ダイス、15…紫外線
架橋筒、16…照射室、17…線源、18…巻取ドラム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 妻沼 孝司 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株式 会社佐倉工場内 (72)発明者 真田 和夫 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株式 会社佐倉工場内
Claims (3)
- 【請求項1】 イメージファイバ母材を溶融紡糸し、得
られたイメージファイバにγ線を照射したのち、水素雰
囲気で加熱することを特徴とする耐放射線イメージファ
イバの製法。 - 【請求項2】 請求項1記載の耐放射線イメージファイ
バの製法において、溶融紡糸に引き続いて連続的にγ線
を照射することを特徴とする耐放射線イメージファイバ
の製法。 - 【請求項3】 請求項1記載の耐放射線イメージファイ
バの製法において、溶融紡糸後のイメージファイバを一
且巻き取り、ついでこれにγ線を照射することを特徴と
する耐放射線イメージファイバの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4095661A JPH05288942A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 耐放射線イメージファイバの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4095661A JPH05288942A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 耐放射線イメージファイバの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05288942A true JPH05288942A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=14143682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4095661A Pending JPH05288942A (ja) | 1992-04-15 | 1992-04-15 | 耐放射線イメージファイバの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05288942A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0879799A3 (en) * | 1997-05-16 | 1999-07-21 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Silica glass article and manufacturing process therefor |
EP0943936A2 (en) * | 1998-03-20 | 1999-09-22 | Polymicro Technologies, Inc. | Gamma radiation sterilized fiber optic UV delivery systems |
US6333283B1 (en) | 1997-05-16 | 2001-12-25 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Silica glass article and manufacturing process therefor |
US6588236B2 (en) | 1999-07-12 | 2003-07-08 | Kitagawa Industries Co., Ltd. | Method of processing a silica glass fiber by irradiating with UV light and annealing |
CN109574491A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-04-05 | 烽火通信科技股份有限公司 | 一种耐辐射光纤的制备方法 |
-
1992
- 1992-04-15 JP JP4095661A patent/JPH05288942A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0879799A3 (en) * | 1997-05-16 | 1999-07-21 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Silica glass article and manufacturing process therefor |
US5983673A (en) * | 1997-05-16 | 1999-11-16 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Silica glass article and manufacturing process therefor |
US6333283B1 (en) | 1997-05-16 | 2001-12-25 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Silica glass article and manufacturing process therefor |
US6709997B2 (en) | 1997-05-16 | 2004-03-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Silica glass article and manufacturing process therefor |
EP0943936A2 (en) * | 1998-03-20 | 1999-09-22 | Polymicro Technologies, Inc. | Gamma radiation sterilized fiber optic UV delivery systems |
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