JPH05281469A - 異なる屈折率の材質からなる適合された複数の要素を用いた広帯域光学縮小系 - Google Patents

異なる屈折率の材質からなる適合された複数の要素を用いた広帯域光学縮小系

Info

Publication number
JPH05281469A
JPH05281469A JP5017208A JP1720893A JPH05281469A JP H05281469 A JPH05281469 A JP H05281469A JP 5017208 A JP5017208 A JP 5017208A JP 1720893 A JP1720893 A JP 1720893A JP H05281469 A JPH05281469 A JP H05281469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
reduction system
quartz glass
catadioptric optical
optical reduction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5017208A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3589680B2 (ja
Inventor
David Williamson
ウィリアムソン デビット
Satish Desai
デサイ サティッシュ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SVG Lithography Systems Inc
Original Assignee
SVG Lithography Systems Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SVG Lithography Systems Inc filed Critical SVG Lithography Systems Inc
Publication of JPH05281469A publication Critical patent/JPH05281469A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3589680B2 publication Critical patent/JP3589680B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0892Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/14Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • G02B27/283Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】360〜372nmの範囲内の波長で使う、色
補正され殆ど歪みのない光学縮小系を与える。 【構成】いずれも2つの異なる材質、石英ガラスとクラ
ウンガラス、から成る第1、第2および第4のレンズ群
LG1,LG2およびLG4と、第3のレンズLG3、
非球面の縮小ミラー30、フォールディングミラー1
8、ビームスピリッタ24、4分の1波長板26とから
成り、360〜372nmの範囲内の波長、即ちI線の
帯域幅、で殆ど歪みのない状態で色補正されたレチクル
10の光学縮小パターンをウエハー42上に投影する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般的には半導体製造
において使用される光学系に関連し、より詳細には、I
線(I−Iine)に使用するための補正された反射屈折光
学縮小系に関連する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】半導体
は、通常は種々のホトリソグラフイ技術を使って製造さ
れる。半導体の中で使用される回路は、レチクルを通し
て半導体チップ上に複写される。この複写は、しばしば
光学系を用いて行われる。かかる光学系の設計はしばし
ば複雑なものとなり、寸法がどんどん小さくなりつつあ
る部品を半導体チップ上に配置するために行われる複写
に必要な解像度を得ることは困難である。このため、
0.35ミクロン〜0.5ミクロン位のオーダーの非常
に微細な部品の形状を複写することのできる光学縮小系
を開発するために多大な努力が払われてきた。これを達
成するには、光学系が、しばしばスペクトルの紫外線領
域の深いところの短い波長において使用できるものであ
ることが必要となる。
【0003】このような光学系の一つが、ウイリアムソ
ンに対して1990年9月4日に付与された「光学縮小
系」という米国特許No.4953960において示され
ている。ここではこれを参考文献として含む。上記の特
許で開示された光学系は、そこで意図した目的に対して
はうまく機能するが、他の半導体製造での応用において
使用されるようなより長い波長を用いての使用にはうま
く適合しない。このため、水銀スペクトルのI線を含む
より広い帯域の波長を用いた製造のためにホトリソグラ
フイにおいて使用したときに、良好な補正作用(crrect
ion )を持った光学系が必要となっている。
【0004】
【課題を解決しようとする手段及び作用】本発明は、物
体から縮小された画像の端部まで、少なくとも二つの異
なる材質からなる第1のレンズ群と、少なくとも二つの
異なる材質からなる第2のレンズ群と、ビームスプリッ
タと、第3のレンズと、非球面の縮小ミラーと、少なく
とも二つの異なる材質からなる第4のレンズ群とを備え
た反射屈折光学縮小系を具備している。各レンズ群に
は、石英ガラス又はクラウンガラスからなるレンズ要素
が含まれている。異なる材質のガラスを結合させること
により、360ナノメートルから372ナノメートルま
での間の波長、即ち、I線の帯域幅で、殆ど歪みがない
状態で機能する色補正された光学縮小系が与えられる。
【0005】従って、本発明の目的は、360ナノメー
トルから372ナノメートルまでの間の波長で使うため
の光学縮小系を与えることである。これが色補正された
ものであること及び殆ど歪みがないことは、本発明の利
点である。レンズ群が少なくとも二つの異なる材質から
なっていることが、本発明の特徴となっている。
【0006】上記の、そして上記以外の目的、利点、特
徴は、以下の詳細な説明から直ちに明らかとなるだろ
う。
【0007】
【実施例及び効果】図は、本発明に従って構成された光
学縮小系を例示している。長い共役端には、物体もしく
はレチクル10が配置されている。このレチクルには望
ましくは図の紙面に対して垂直な方向において直線偏向
された輻射光(radiation)を照射する。ウエハー42は
画像端に配置されている。レチクル10からウエハー4
2までのうちの最初の部分は、弱い正のレンズ12、負
のレンズ14、正のレンズ16からなる第1のレンズ群
である。弱い正のレンズ12は、光学ガラスの製造業者
として周知であるショット(Schott) から入手すること
のできるFK5ガラスなどのようなクラウンガラスから
なる。そのレンズ14及び正のレンズ16は、両方とも
石英ガラスからなる。第1のレンズ群と第2のレンズ群
との間には、フォールディングミラー(foIding mirro
r:光を曲げるためのミラー)18が配置されている。
第2のレンズ群は、負のレンズ20及び正のレンズ22
からなる。負のレンズ20は石英ガラスからできてい
る。一方、正のレンズ22はクラウンガラスからできて
いる。フォールディングミラー18は、この光学縮小系
を通過する輻射光の方向を90度だけ曲げる。これによ
って物体と画像の面は平行となり、光学系の全長を短く
している。第2のレンズ群の一方の側の近傍には、立方
体のビームスプリッタ24が配置されている。立方体の
ビームスプリッタ24が有する面44は、第2のレンズ
グループに近い側の面から入射された輻射光を90度だ
け曲げて第3のレンズ群を通過するようにする。立方体
のビームスプリッタ24はまた、面44上に偏向選択コ
ーティングを有しており、これは図の紙面に対して垂直
な方向において直線偏向している輻射光のみを、90度
だけ曲げる。
【0008】第3のレンズ群は4分の1波長板26及び
負のレンズ28からなる。4分の1波長板26の軸は入
射する輻射光の偏向の方向に対して45度の角度となっ
ている。その結果、立方体のビームスプリッタ24から
入射する輻射光は、4分の1波長板26を透過した後に
円偏向となる。ミラー30によって反射された後に再び
4分の1波長板を透過すると、輻射光は図の紙面と平行
な方向に直線偏向された状態となり、従って立方体のビ
ームスプリッタ24を透過できる。表面44上の偏向選
択コーティング及び4分の1波長板26を用いることに
よって、立方体のビームスプリッタ24を通過する輻射
光の減衰を有効に軽減している。従って、もし表面44
上の偏向選択コーティングを用いなければ、4分の1波
長板26は必要なく、又、第3のレンズ群は第3のレン
ズ28のみとなる。
【0009】縮小ミラー30は、第3のレンズ群の近傍
に配置されている。縮小ミラー30として非球面ミラー
を使用すれば、球面ミラーを使用する場合よりも収差補
正が改善される。4分の1波長板26は、石英ガラスか
らできており、負のレンズ28はクラウンガラスからで
きている。第3のレンズ群とは反対側のビームスプリッ
タ24の近傍には、第4のレンズ群が配置されている。
この第4のレンズ群は、クラウンガラス製の正のレンズ
32、石英ガラス製のシェル34、石英ガラス製のシェ
ル36、石英ガラス製の弱い正のレンズ38、そしてク
ラウンガラス製の正のレンズ40からなる。シェル34
及び36は、実質的に正でも負でもないレンズ要素とさ
れている。ウエハー42は、レンズ40の近傍の画像面
内に配置される。
【0010】上記の光学系の作用は、直ちに理解するこ
とができる。物点位置におけるレチクル10の画像は、
ウエハー42上の像点において縮小されて結像される。
輻射光は第1のレンズ群を通過するとミラー18によっ
て方向を変えられ、第2のレンズ群を通過する。その
後、輻射光は立方体のビームスプリッタ24に入射し、
この中の表面44によって上方へ向けて反射される。ビ
ームスプリッタ24へ入射する輻射光は平行にはならな
い(not coIIimated)。これによりゴースト(ghost im
ag)を回避できる。輻射光はその後第3のレンズ群を通
過し、ミラー30によって立方体のビームスプリッタ2
4に戻るように反射される。輻射光は、立方体のビーム
スプリッタ24から出ると第4のレンズ群に入射し、こ
れにより像点においてウエハー42上に結像される。
【0011】本発明の構成のように二つの異なる材質の
ガラスを使用することにより、画像端の22×5ミリメ
ートルの視野に対してほとんど歪みがない状態で、36
0ナノメートルから372ナノメートルまでの波長の間
の広い帯域において機能する色補正された光学縮小系が
提供される。殆どの正のレンズ要素はクラウンガラスか
らなる。石英ガラスよりも大きな屈折率(index of ref
raction)を有するクラウンガラスでは、像面のそり(fi
eId curvatur)が少ない。加えてクラウンガラスの分散
は石英ガラスの分散よりも小さい。このような小さい分
散の正のレンズ要素と大きい分散の負のレンズ要素との
結合によって、これまで可能であった以上に広いスペク
トル範囲にわたってより良い色補正が可能となる。従っ
て、本発明において使用されるレンズ要素と異なる材質
のガラスの結合により、広いスペクトルもしくは帯域に
わたって性能が改善される。特に本発明は、I線の帯域
即ち360ナノメートルから372ナノメートルの間の
波長にわたって良好な補正を与える。
【0012】表3は、本発明の内容に基づいた光学縮小
系に対する構成データの仕様(prescription) を示すも
のである。
【0013】
【表3】
【0014】表4は、ミラー30の非球面係数を例示す
るものである。
【0015】
【表4】
【0016】これまで、好ましい具体例を例示し説明し
てきたが、当業者にとってはこの発明の思想及び範囲か
ら逸脱することなく種々の変形を行うことが可能である
ことは明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光学系を概略的に例示した図。
【符号の説明】
10 レチクル 12 レンズ 14,20,28 負のレンズ 16,22,32,38,40 正のレンズ 18 フォールディングミラー 24 ビームスプリッタ 26 4分の1波長板 28 第3のレンズ 30 ミラー 34,36 シェル 42 ウエハー 44 表面

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも二つの異なる材質からなる屈
    折要素を含む第1のレンズ群と、少なくとも二つの異な
    る材質からなる屈折要素を含む第2のレンズ群と、ビー
    ムスプリッタと、第3のレンズ群と、縮小ミラーと、少
    なくとも二つの異なる材質からなる屈折要素を含む第4
    のレンズ群とからなり、この系に入射する輻射光は、前
    記第1のレンズ群、前記第2のレンズ群、前記ビームス
    プリッタ、前記第3のレンズ群を通過し、前記ミラーに
    よって反射され前記第3のレンズ、前記ビームスプリッ
    タ、及び前記第4のレンズ群を通過するよう戻されると
    いうように構成されていることを特徴とする、長い共役
    端から短い共役端までの反射屈折光学縮小系。
  2. 【請求項2】 前記縮小ミラーは球面であることを特徴
    とする請求項1記載の反射屈折光学縮小系。
  3. 【請求項3】 前記縮小ミラーは非球面であることを特
    徴とする請求項1記載の反射屈折光学縮小系。
  4. 【請求項4】 更に、入射の面に対して垂直な方向に直
    線偏向された輻射光のみを90度曲げるようにされたコ
    ーティング手段が、前記ビームスプリッタ上に設けられ
    たことを特徴とする請求項3記載の反射屈折光学縮小
    系。
  5. 【請求項5】 更に、前記ビームスプリッタと前記第3
    のレンズとの間に4分の1波長板が設けられたことを特
    徴とする請求項4記載の反射屈折光学縮小系。
  6. 【請求項6】 更に、前記第1のレンズ群と前記第2の
    レンズ群との間にフォールディングミラーが設けられた
    ことを特徴とする請求項1記載の反射屈折光学縮小系。
  7. 【請求項7】 前記少なくとも二つの異なる材質は、ク
    ラウンガラスと石英ガラスであることを特徴とする請求
    項1記載の反射屈折光学縮小系。
  8. 【請求項8】 前記第1のレンズ群は、クラウンガラス
    製の第1の正のレンズと、石英ガラス製の負のレンズ
    と、石英ガラス製の第2の正のレンズとを含んでいるこ
    とを特徴とする請求項7記載の反射屈折光学縮小系。
  9. 【請求項9】 前記第2のレンズ群は石英ガラス製の負
    のレンズと、クラウンガラス製の負のレンズとを含んで
    いることを特徴とする請求項7記載の反射屈折光学縮小
    系。
  10. 【請求項10】 前記第3のレンズは、クラウンガラス
    製の負のレンズであることを特徴とする請求項7記載の
    反射屈折光学縮小系。
  11. 【請求項11】 前記第4のレンズ群は、クラウンガラ
    ス製の第1の正のレンズと、石英ガラス製の第1のシェ
    ルと、石英ガラス製の第2のシェルと、石英ガラス製の
    第2の正のレンズと、クラウンガラス製の第3の正のレ
    ンズとを含んでいることを特徴とする請求項7記載の反
    射屈折光学縮小系。
  12. 【請求項12】 クラウンガラス製の第1の正のレンズ
    と、石英ガラス製の第1の負のレンズと、石英ガラス製
    の第2の正のレンズと、フォールディングミラーと、石
    英ガラス製の第2の負のレンズと、クラウンガラス製の
    第3の正のレンズと、石英ガラス製のビームスプリッタ
    と、石英ガラス製の4分の1波長板と、クラウンガラス
    製の第3の負のレンズと、球面縮小ミラーと、クラウン
    ガラス製の第4の正のレンズと、石英ガラス製の第1の
    シェルと、石英ガラス製の第2のシェルと、石英ガラス
    製の第5の正のレンズと、クラウンガラス製の第6の正
    のレンズとを具備し、この系に入射する輻射光が前記第
    1の正のレンズ、前記第1の負のレンズ、前記第2の正
    のレンズを通過し、前記フォールディングミラーによっ
    て進路を曲げられ、前記第2の負のレンズ及び前記第3
    の正のレンズを通過し、前記ビームスプリッタによって
    反射されて前記4分の1波長板及び前記第3の負のレン
    ズを通過し、前記非球面縮小レンズによって反射されて
    前記ビームスプリッタを通って戻され、前記第4の正の
    レンズ、前記第1のシェル、前記第2のシェル、前記第
    5の正のレンズ、前記第6の正のレンズを通過するとい
    うように構成されていることを特徴とする半導体製造に
    応用されるホトリソグラフイに使用するための、長い共
    役端から短い共役端までの反射屈折光学縮小系。
  13. 【請求項13】 半導体製造に応用されるホトリソグラ
    フイに使用するための反射屈折光学縮小系であって、以
    下の仕様(prescription)を有し、 【表1】 ここで非球面は以下の非球面係数 【表2】 を有していることを特徴とする半導体製造に応用される
    ホトリソグラフイに使用するための反射屈折光学縮小
    系。
JP01720893A 1992-02-06 1993-02-04 反射屈折光学縮小系 Expired - Fee Related JP3589680B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/831,818 US5212593A (en) 1992-02-06 1992-02-06 Broad band optical reduction system using matched multiple refractive element materials
US07/831818 1992-02-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05281469A true JPH05281469A (ja) 1993-10-29
JP3589680B2 JP3589680B2 (ja) 2004-11-17

Family

ID=25259939

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01720893A Expired - Fee Related JP3589680B2 (ja) 1992-02-06 1993-02-04 反射屈折光学縮小系

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5212593A (ja)
EP (1) EP0554994B1 (ja)
JP (1) JP3589680B2 (ja)
KR (1) KR100301149B1 (ja)
CA (1) CA2088902A1 (ja)
DE (1) DE69306428T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009524493A (ja) * 2006-01-26 2009-07-02 ヴォルク オプティカル インコーポレーテッド 超低分散(ed)材料を使用する改良された診断眼科レンズ

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE36740E (en) * 1990-03-30 2000-06-20 Nikon Corporation Cata-dioptric reduction projection optical system
US5668673A (en) * 1991-08-05 1997-09-16 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
JP3235077B2 (ja) * 1991-09-28 2001-12-04 株式会社ニコン 露光装置、該装置を用いた露光方法、及び該装置を用いた半導体素子製造方法
JP2750062B2 (ja) * 1992-12-14 1998-05-13 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
JP2698521B2 (ja) * 1992-12-14 1998-01-19 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
US5537260A (en) * 1993-01-26 1996-07-16 Svg Lithography Systems, Inc. Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture
JPH09311278A (ja) 1996-05-20 1997-12-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
JP3395801B2 (ja) * 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
DE4417489A1 (de) * 1994-05-19 1995-11-23 Zeiss Carl Fa Höchstaperturiges katadioptrisches Reduktionsobjektiv für die Miktrolithographie
US5559629A (en) * 1994-08-19 1996-09-24 Tamarack Scientific Co., Inc. Unit magnification projection system and method
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
US5488229A (en) * 1994-10-04 1996-01-30 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet microlithography system
US5559338A (en) * 1994-10-04 1996-09-24 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet optical imaging system for microlithography and/or microfabrication
JPH08179204A (ja) 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3454390B2 (ja) 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JPH08203812A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Nikon Corp 反射屈折縮小投影光学系及び露光装置
US5650877A (en) * 1995-08-14 1997-07-22 Tropel Corporation Imaging system for deep ultraviolet lithography
DE19616922A1 (de) * 1996-04-27 1997-10-30 Zeiss Carl Fa Hochauflösendes lichtstarkes Objektiv
JPH103039A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Nikon Corp 反射屈折光学系
JPH103041A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Nikon Corp 反射屈折縮小光学系
US6157498A (en) 1996-06-19 2000-12-05 Nikon Corporation Dual-imaging optical system
US5757493A (en) * 1996-10-16 1998-05-26 Tropel Corporation Interferometer with catadioptric imaging system having expanded range of numerical aperture
KR19990030944A (ko) * 1997-10-07 1999-05-06 정선종 리소그래피용 반사굴절 결상광학계
JP4717974B2 (ja) 1999-07-13 2011-07-06 株式会社ニコン 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置
US7414785B2 (en) 2000-02-24 2008-08-19 Asml Holding N.V. Ultraviolet polarization beam splitter with minimum apodization
US6480330B1 (en) * 2000-02-24 2002-11-12 Silicon Valley Group, Inc. Ultraviolet polarization beam splitter for microlithography
US6486940B1 (en) 2000-07-21 2002-11-26 Svg Lithography Systems, Inc. High numerical aperture catadioptric lens
TW575904B (en) * 2001-08-21 2004-02-11 Asml Us Inc Optical projection for microlithography
US7136220B2 (en) * 2001-08-21 2006-11-14 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens
WO2004019105A1 (en) * 2002-08-19 2004-03-04 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens having a polarization beamsplitter
US8208198B2 (en) * 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151365A1 (en) * 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
JP5769356B2 (ja) 2004-05-17 2015-08-26 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 中間像を有するカタジオプトリック投影対物レンズ
US7324185B2 (en) 2005-03-04 2008-01-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8248577B2 (en) 2005-05-03 2012-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE102006022958A1 (de) * 2006-05-11 2007-11-22 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs
DE102007014587A1 (de) 2007-03-23 2008-09-25 Carl Zeiss Smt Ag Doppelbrechende Verzögerungsplattenanordnung
CN103765289B (zh) 2010-08-27 2017-05-17 小利兰·斯坦福大学托管委员会 具有先进的成像性质的显微镜成像设备
JP5627476B2 (ja) * 2011-01-19 2014-11-19 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
IL234766A (en) * 2014-09-21 2015-09-24 Visionsense Ltd Fluorescent Imaging System
JP6493087B2 (ja) * 2015-08-24 2019-04-03 株式会社デンソー 車載カメラ装置
WO2018145193A1 (en) * 2017-02-10 2018-08-16 Novadaq Technologies ULC Open-field handheld fluorescence imaging systems and methods
US11747639B2 (en) * 2019-07-22 2023-09-05 Lawrence Livermore National Security, Llc Birefringent waveplate and method for forming a waveplate having a birefringent metasurface

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2082213A5 (ja) * 1970-03-06 1971-12-10 Delmas Jean Raymond
GB1321303A (en) * 1970-03-31 1973-06-27 Pilkington Perkin Elmer Ltd Optical systems
US3753608A (en) * 1971-04-15 1973-08-21 Honeywell Inc Optical polarization spot size changing devices
US4302079A (en) * 1980-04-10 1981-11-24 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Photolithographic projection apparatus using light in the far ultraviolet
US4953960A (en) * 1988-07-15 1990-09-04 Williamson David M Optical reduction system
JP2847883B2 (ja) * 1990-03-30 1999-01-20 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系
US5089913A (en) * 1990-07-11 1992-02-18 International Business Machines Corporation High resolution reduction catadioptric relay lens

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009524493A (ja) * 2006-01-26 2009-07-02 ヴォルク オプティカル インコーポレーテッド 超低分散(ed)材料を使用する改良された診断眼科レンズ

Also Published As

Publication number Publication date
KR100301149B1 (ko) 2001-10-22
US5212593A (en) 1993-05-18
DE69306428D1 (de) 1997-01-23
CA2088902A1 (en) 1993-08-07
EP0554994A1 (en) 1993-08-11
EP0554994B1 (en) 1996-12-11
DE69306428T2 (de) 1997-04-03
JP3589680B2 (ja) 2004-11-17
KR930018292A (ko) 1993-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05281469A (ja) 異なる屈折率の材質からなる適合された複数の要素を用いた広帯域光学縮小系
US5089913A (en) High resolution reduction catadioptric relay lens
US5241423A (en) High resolution reduction catadioptric relay lens
JP3636212B2 (ja) 反射屈折縮小光学系
JP4717974B2 (ja) 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置
JP3747958B2 (ja) 反射屈折光学系
US4171871A (en) Achromatic unit magnification optical system
US5686728A (en) Projection lithography system and method using all-reflective optical elements
US7190530B2 (en) Projection objectives including a plurality of mirrors with lenses ahead of mirror M3
TWI420249B (zh) 投影曝光裝置、投影曝光方法及投影物
US5712735A (en) Catadioptric reduction projection optical system
JPH04234722A (ja) 補償型光学システム
JPH1048526A (ja) 高分解能高光度対物レンズ
US5303001A (en) Illumination system for half-field dyson stepper
JP2000003852A (ja) 反射屈折型投影光学系を備える投影露光装置
US4964705A (en) Unit magnification optical system
US6424471B1 (en) Catadioptric objective with physical beam splitter
US6081382A (en) Catadioptric reduction projection optical system
JPH1184248A (ja) 反射屈折縮小光学系
KR20020008756A (ko) 높은 개구수를 지닌 반사굴절 렌즈
US20030039028A1 (en) High numerical aperture projection for microlithography
US6101047A (en) Catadioptric optical system for lithography
JP2005512151A (ja) カタジオプトリック縮小対物レンズ
US6654164B1 (en) Photolithography lens
JP2008529094A (ja) 中間像を有する反射屈折投影対物レンズ

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040616

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040818

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080827

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080827

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080827

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080827

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090827

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100827

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110827

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120827

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees