JPH05280943A - 形状測定用光源装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被測定面の反射率に拘わらず分解能が高くか
つＳＮ比が良好な出力信号を得ることができるようにレ
ーザービームを被測定面へ照射することができる形状測
定用光源装置を提供すること。 【構成】 半導体レーザー１４の射出側には半導体レー
ザー１４から射出されるレーザービームのうち接合面に
交差する方向のレーザービームを被測定面６０Ａに集束
するコリメートレンズ１６が配設され、コリメートレン
ズ１６の射出側にはレーザービームを半導体レーザー１
４の接合面に沿う方向にスリット状に発散しかつ接合面
に交差する方向ではそのまま通過させるシリンドリカル
レンズ１８が配設される。これにより、被測定面６０Ａ
には、半導体レーザー１４の接合面に沿う方向に発散さ
れたスリット状のレーザービームが照射される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、形状測定用光源装置に
かかり、特に、スリット状のレーザービームを被測定面
に照射し被測定面からの反射光を受光することにより被
測定面の形状を測定する形状測定装置の光源装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、非接触にて被測定面の凸凹等の形状を三角測量法を
用いて測定する形状測定装置がある（特公昭５０−３６
３７４号公報、特開昭５６−１３８２０４号公報、特開
昭５７−２２５０８号公報、特開昭５８−５２５０８号
公報等）。

【０００３】これらの形状測定装置は、スリット状のレ
ーザービーム（以下、スリット光線という）を被測定面
へ照射し、その照射した光の光軸と所定の角度をもって
設けられたセンサにおける被測定面の反射光の受光位置
によって表面形状等を測定する。詳細には、図３に示す
ように、形状測定装置１２は、半導体レーザー５０、コ
リメートレンズ５２及び拡散レンズ５４を備えた光源装
置１０と、受光レンズ５６及び受光素子５８を備えた受
光装置と、受光素子５８に接続された演算回路６２とか
ら構成される。上記拡散レンズ５４にはロッドレンズや
シリンドリカルレンズが用いられている。また、受光素
子５８には、ＣＣＤセンサやＰＳＤ素子が用いられてい
る。

【０００４】この形状測定装置１２によれば、半導体レ
ーザー５０の射出光がコリメートレンズ５２により被測
定面６０Ａに集束するようにされる。また、コリメート
レンズ５２から射出されたレーザービームは、拡散レン
ズ５４によってスリット光線として被測定面６０Ａへ照
射されるようになっている。そして、被測定面６０Ａに
おける輝線が受光レンズ５６により集光され、受光素子
５８へ照射される。従って、この受光素子５８上には、
被測定面６０Ａ上の輝線の光の像（以下、スリット像と
いう）が結像される。受光素子５８は結像されたスリッ
ト像の位置に応じた電気信号を演算回路６２に出力す
る。

【０００５】なお、上記光源装置１０は、図５に示した
ように、鏡筒３０を備えており、コリメートレンズ５２
が鏡筒３０の内部に固定されている。鏡筒３０の図５右
方向には拡散レンズ５４がレンズストッパー３４によっ
て固定されている。また、鏡筒３０の図５左方向にはレ
ーザーホルダー３２に固定された半導体レーザー５０が
設けられている。このレーザーホルダー３２の外周及び
鏡筒３０の内周はネジ状とされており、図５矢印Ａ方向
にレーザーホルダー３２を回転することによって、半導
体レーザー５０とコリメートレンズ５２との距離が小さ
くなるようになっている。このように、半導体レーザー
５０とコリメートレンズ５２との距離を変化させること
により、所定の位置にある被測定面６０Ａにスリット光
線が集束するように調節する。

【０００６】また、上記受光装置の光軸は光源装置１０
の光軸と所定の角度θをもって取り付けられている。こ
のため、被測定面６０Ａが光源装置１０の光軸方向に段
差がある場合には、被測定面６０Ａ上の光点の位置は、
段差に応じて光源装置１０の光軸方向に変位することに
なり、受光素子５８上での光像は、図４（１）に示した
ようになる。この受光素子５８として２次元ＣＣＤセン
サを用いると、例えば、受光素子５８の図４紙面水平方
向で任意のライン５９Ａ、５９Ｂの出力信号は、図４
（２）、（３）のようになる。２次元ＣＣＤセンサは、
このような信号を演算回路６２に出力する。

【０００７】演算回路６２は、入力された信号に基づい
て、上記受光素子５８上の全てのラインとスリット像６
４との交点位置（光点位置）を求めることによって、受
光素子５８上におけるスリット像６４の位置を求める。
求めた位置の各々の偏差を求めて、被測定面６０Ａの段
差を求める。この段差を受光素子５８の全てに亘って求
めることによって測定対象物６０の形状を測定すること
ができる。

【０００８】上記光点位置は、以下の式（１）に示した
ように、受光素子５８の任意のラインから出力される信
号の加重平均によって求めることができる。すなわち、
任意のラインにおけるスリット像の位置範囲から位置を
特定する場合、受光素子における位置に照射された光量
で重みを付けて平均を求める（図８（１）参照）。これ
により、受光素子５８上の光点が所定の大きさになって
も、光点の位置を求めることができる。

【０００９】 Ｚａ＝｛Σ（Ｉi ・Ｚi ）｝／ΣＩi −−−（１） 但し、ｉ＝０、１、・・・ Ｚａ：光点位置 Ｚi ：受光素子における位置 Ｉi ：位置Ｚi に照射された光量 また、予め設定されたしきい値Ｉｏ以上のレーザービー
ムが受光素子に照射された位置について単純な平均を行
うことによって求めることもできる。すなわち、図８
（２）に示したように、出力信号のしきい値Ｉｏの交点
Ｑ１，Ｑ２を求め、交点Ｑ１，Ｑ２に対応する受光素子
上の位置Ｚｂ，Ｚｃを求める。求めた位置Ｚｂ，Ｚｃの
中心値Ｚｄを、受光素子５８上におけるスリット像６４
とラインとの交点の光点位置として求める。

【００１０】なお、予め測定対象物６０の基準面に対応
する受光素子５８上の所定の位置を基準位置と定める
と、被測定面６０Ａの基準位置からの変位に応じて受光
素子５８上に像点の変位となって表れるので、受光素子
５８上の光像位置に応じて出力される信号に基づいて求
めたスリット像６４の位置と予め設定された基準の光点
位置との偏差を求めることによって、基準面からの被測
定面の変位を求めることができる。

【００１１】しかしながら、半導体レーザー５０は、そ
の発光部５０Ａの縦横比が大きいことは周知である。こ
れにより、図７（２）、（３）に示したように、半導体
レーザー５０を光源装置に取り付けるときの発光部５０
Ａの方向によって、被測定面６０Ａ上のスリット光線の
幅が異なってしまう。スリット光線の幅方向は、測定方
向であるため、スリット光線の幅が広くなると、被測定
面の位置を特定するための照射範囲が増加する。この照
射範囲が増加することによって、スリット光線は被測定
面の表面粗さ等の影響を受け易くなり、受光素子５８へ
照射される被測定面６０Ａの反射光量は尖鋭度が低くな
ってしまう。従って、位置を検出するための分解能が低
下することになる。このため、上記のように加重平均や
単純な平均によって求めた値に対応する受光素子５８上
の位置が実際の位置よりずれて求められ、適正な測定値
を得ることができない。

【００１２】また、半導体レーザー５０は、その発光部
５０Ａのｐｎ接合面に沿う方向とｐｎ接合面に交差する
方向とでは、レーザービームの射出（広がり）角度が異
なることは周知である（図７（１）参照）。例えば、量
産性が高い半導体レーザーでは、半導体レーザー５０の
接合面に沿う方向の角度は約１０°であるのに対して、
接合面と直交する方向の角度は３０°から４０°にな
る。従って、半導体レーザー５０を光源装置に取り付け
るときの発光部５０Ａの方向によって、拡散レンズ５２
による発散領域が異なるため、被測定面６０Ａに照射さ
れるスリット光線の端部付近の光強度が変化することに
なる。この関係を図６に示した。なお、図６においてＹ
は、被測定面６０Ａの位置と対応するものであり、光軸
中心（０）が最大の光強度になる。従って、発光部５０
Ａのｐｎ接合面に沿う方向に発散される場合には、スリ
ット光線の端部付近の光強度が最も低下し、受光素子５
８に照射されるスリット光線の端部付近のスリット像の
位置に対応する出力信号のＳＮ比が最低になる。

【００１３】更に、従来の形状測定装置１２に利用され
た半導体レーザー５０の出力は数ｍＷと低出力であるた
め、反射率が小さい被測定面６０Ａを測定する場合に
は、受光素子５８に受光される光量が少なくなる。この
ため、受光素子５８の出力信号のＳＮ比が悪化し、測定
誤差を生じることがあった。測定対象物６０の被測定面
６０Ａは、反射率が大きいとは限らないため、表面反射
率が小さい測定対象物６０の表面形状の測定が要望され
ていた。

【００１４】この表面反射率が小さい測定対象物６０の
表面形状の測定するために、半導体レーザー５０を高出
力のものを用いることが考えられる。最近では、技術の
進歩に伴って１００ｍＷ以上の高出力の半導体レーザー
５０が各種開発されている。この高出力の半導体レーザ
ーを用いれば、受光素子５８の出力信号を大きくするこ
とによって、表面反射率が小さい測定対象物６０の表面
形状を測定することができる。

【００１５】しかしながら、高出力の半導体レーザー
は、低出力の半導体レーザー５０より発光部分の縦横比
が大きくなる。例えば、高出力の半導体レーザーと従来
の低出力の半導体レーザーとでは、発光部の一辺である
ｐｎ接合面の間隔は約０．１μｍと略同じだが、他辺で
あるｐｎ接合面に沿う方向の長さは、低出力の半導体レ
ーザーは約５μｍであるのに対して、１００ｍＷ以上の
高出力の半導体レーザーは約５０μｍになる。このよう
に、半導体レーザー５０の出力が高くなると発光部分の
面積は大きくなる。このため、高出力の半導体レーザー
を従来の低出力の半導体レーザーの光学系と同様の光学
系を用いて上記のように、半導体レーザーを回転させ、
被測定面６０Ａに照射されるスリット光線の幅が広くな
ると、上記のように加重平均や単純平均によって求めた
重心値や平均値が実際の位置より更にずれて求められて
しまう。

【００１６】本発明は、上記事実を考慮して、被測定面
の形状を測定する形状測定装置において、被測定面の反
射率に拘わらず分解能が高くかつＳＮ比が良好な出力信
号を得ることができるようにレーザービームを被測定面
へ照射することができる形状測定用光源装置の提供を目
的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１に記載の本発明は、レーザービームを射出す
る半導体レーザーと、前記レーザービームを前記半導体
レーザーの接合面に交差する方向に集束させるレンズ
と、前記レンズから射出されたレーザービームを前記半
導体レーザーの接合面に沿う方向に発散させかつ前記半
導体レーザーの接合面に交差する方向ではそのまま通過
させる発散手段と、を備えている。

【００１８】請求項２に記載の本発明は、請求項１に記
載した形状測定用光源装置において、前記レンズと前記
発散手段とを固定して固定光学系とし、固定光学系及び
前記半導体レーザーの少なくとも一方を、前記発散手段
によって発散されるレーザービームの発散方向と前記半
導体レーザーの接合面に沿う方向とを略平行に維持した
まま移動できるようにした、ことを特徴としている。

【００１９】

【作用】請求項１に記載の形状測定用光源装置は、レー
ザービームを射出する半導体レーザーを備えている。半
導体レーザーから射出されたレーザービームはレンズに
照射され、このレンズは、入射されたレーザービームを
半導体レーザーの接合面に交差する方向に集束させる。
レンズから射出されたレーザービームは発散手段に照射
される。発散手段は、レンズから射出されたレーザービ
ームを半導体レーザーの接合面に沿う方向には発散させ
かつ半導体レーザーの接合面に交差する方向ではそのま
ま通過させる。この半導体レーザーの接合面の間隔、す
なわち、接合面に交差する方向の発光部の長さは接合面
に沿う方向の長さより短いので、レンズによって集束さ
れかつ発散手段によってレーザービームが発散されて、
得られるスリット光線の幅は狭くなる。また、高出力及
び低出力の半導体レーザーの接合面の間隔は略同じであ
ることにより、高出力の半導体レーザーを用いても、低
出力の半導体レーザーを用いたときと同様の狭いスリッ
ト光線の幅を得ることができる。このため、発光部の大
きさが大きな高出力の半導体レーザーを用いても、被測
定面に照射されるスリット光線の幅が広くなることはな
い。これにより、被測定面に照射されたスリット光線の
反射光を、位置に応じた信号を出力する受光素子によっ
て検出する場合においても、被測定面に照射されるスリ
ット光線の幅が広くなることがないので、ＳＮ比が低下
することがなくかつ分解能が低下して測定値にばらつく
ことがない。

【００２０】また、請求項２に記載したように、レンズ
と発散手段とを固定して固定光学系とし、固定光学系及
び前記半導体レーザーの少なくとも一方を、発散手段に
よって発散されるレーザービームの発散方向と半導体レ
ーザーの接合面に沿う方向とを略平行に維持したまま移
動できるようにする。これによって、被測定面にスリッ
ト光線を結像させるために発散手段と半導体レーザーと
の位置を変更するようにしても、半導体レーザーの接合
面の方向と発散手段の発散方向との関係が変化すること
がない。このため、被測定面に照射されるスリット光線
の光強度分布が変化することなく、安定して得られる。
また、請求項１に記載したように、被測定面に照射され
るスリット光線の幅が広くなることがないので、ＳＮ比
が低下することがなくかつ分解能が低下して測定値にば
らつくことがない。

【００２１】

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を詳
細に説明する。本実施例では、発散手段としてのシリン
ドリカルレンズ１８により、レーザービームをスリット
状に拡散して被測定面へ照射するようにしたものであ
る。なお、本実施例に利用した形状測定装置１２は、図
３に示した従来例と略同様のため、同一部分には同一符
号を付して詳細な説明は省略する。

【００２２】図１に示したように、光源装置１０は、高
出力の半導体レーザー１４を備えており、図示しない形
状測定装置１２の筐体に取り付けられている。この高出
力の半導体レーザー１４としては、ブロードコンタクト
型の光増幅器等によって高出力化する半導体レーザー装
置や多重ストライプ型レーザーダイオードアレイを使用
できる。半導体レーザー１４の射出側には、球面レンズ
で構成されたコリメートレンズ１６が配設されており、
半導体レーザー１４から射出されるレーザービームのう
ち接合面に交差する方向のレーザービームはコリメート
レンズ１６により被測定面に集束される（図１（１）参
照）。なお、半導体レーザー１４から射出されるレーザ
ービームは接合面に沿う方向には射出角が小さいので、
コリメートレンズ１６により略平行光にされる（図１
（２）参照）。コリメートレンズ１６の射出側にはシリ
ンドリカルレンズ１８が配設されており、コリメートレ
ンズ１６から射出された小径のレーザービームは、シリ
ンドリカルレンズ１８に照射される。シリンドリカルレ
ンズ１８は、同一の断面凹部が一方向に連続した柱状に
なっており、半導体レーザー１４の接合面に沿う方向と
交差する方向に断面凹部が連続した方向になるように配
設されている。また、シリンドリカルレンズ１８のレン
ズパワーは、半導体レーザー１４の接合面に沿う方向に
射出されるレーザービームの小さな発散角度に対応し
て、測定するに充分な光強度がスリット光線の長さで維
持して被測定面６０Ａに照射される強さにされている。
シリンドリカルレンズ１８の射出側には被測定面６０Ａ
が位置しており、シリンドリカルレンズ１８から射出さ
れたスリット状のレーザービームは、被測定面６０Ａに
向かって照射される。

【００２３】図２に示したように、半導体レーザー１４
はレーザーホルダー２２に固定されており、レーザーホ
ルダー２２は、鏡筒２０の内部を光軸方向に移動可能に
なっている。なお、レーザーホルダー２２の移動によっ
て半導体レーザー１４の発光部の位置が光軸と交差する
方向に変位しないように、レーザーホルダー２２が鏡筒
２０の内部を摺動するようにすることが好ましい。ま
た、レーザーホルダー２２には、貫通穴２８が設けてあ
り、貫通穴２８にはネジ２４が通されている。ネジ２４
は鏡筒２０のネジ穴２５に挿入されている。このよう
に、レーザーホルダー２２が鏡筒２０に取付られてい
る。鏡筒２０とレーザーホルダー２２の間にはバネ２６
が設けてあり、バネ２６の付勢力によってレーザーホル
ダー２２はネジ頭部２４Ａに当接されている。従って、
ネジ２４を締めること、または弛めることによって半導
体レーザー１４は光軸方向に移動し、半導体レーザー１
４の接合面の方向を回転させることなく、焦点調節を行
うことができる。

【００２４】シリンドリカルレンズ１８によってスリッ
ト状に発散されたスリット光線は被測定面６０Ａに照射
され、このスリット状に発散された光線と被測定面６０
Ａとの交点が輝く、すなわち、被測定面６０Ａの形状に
応じた形状に照明される。被測定面６０Ａに照射された
スリット状に発散されたスリット光線は、受光レンズ５
６を介して、受光素子５８に結像される。また、この受
光素子５８は、２次元にＣＣＤ素子が配列された２次元
ＣＣＤセンサ等によって照射されたレーザービームの位
置及び光強度に応じた電気信号を演算回路６２に出力す
るようになっている。

【００２５】以下、本実施例の作用について説明する。
半導体レーザー１４からレーザービームが射出される
と、コリメートレンズ１６及びシリンドリカルレンズ１
８を介して被測定面６０Ａに照射される。コリメートレ
ンズ１６に入射されるレーザービームは、接合面に交差
する方向のレーザービームが被測定面６０Ａ上に集束さ
れ（図１（１）参照）、接合面に沿う方向にはスリット
状に発散される（図１（２）参照）。従って、被測定面
６０Ａには、半導体レーザー１４の接合面に沿う方向の
スリット状のレーザービームが照射される。被測定面６
０Ａに照射されたレーザービーム（スリット光線）の反
射光は、受光レンズ５６により集光されて、受光素子５
８上に照射される。

【００２６】被測定面６０Ａの反射光は、受光レンズ５
６を介して受光素子５８上に照射される。受光素子５８
は照射されたレーザービームの位置及び光強度に応じた
信号を演算回路６２へ出力する。演算回路６２は、入力
された信号の基づいて加重平均を行うことによってスリ
ット像６４の位置に対応する値（重心値）、または、単
純平均を行うことによってスリット像６４の位置に対応
する値（平均値）を求め、受光素子５８上におけるスリ
ット像の位置を求める。求めたスリット像の位置の偏差
を求めることによって、被測定面の段差を求めることが
できる。このように、本実施例の形状測定装置１２で
は、受光素子５８の出力信号に基づいて演算回路６２に
よって被測定面６０Ａの段差を算出する。

【００２７】ここで、上記のように被測定面に照射され
るスリット光線は、半導体レーザー１４の接合面に沿う
方向にレーザービームが発散されるため、半導体レーザ
ー１４の接合面と直交する方向にレーザービームが発散
されて幅の広いスリット光線になることなく、狭い幅の
スリット光線になる。これにより、スリット光線の幅が
広くなって、位置を検出するための分解能が低下するこ
とがない。このため、受光素子５８には、狭い幅のスリ
ット光線によるスリット像が形成され、受光素子５８は
先鋭度の高い信号を出力する。これにより、上記のよう
に加重平均や単純な平均によって求めたスリット光線の
位置に対応する受光素子５８上の位置は、実際の位置に
対応して適正に求められ、最適な測定対象物の形状を得
ることができる。

【００２８】また、半導体レーザー１４は、半導体レー
ザー１４の接合面に沿う方向とスリット光線の長さ方向
とが一致した状態を維持しつつ、鏡筒２０の内部を光軸
方向に移動できる。従って、半導体レーザー１４とコリ
メートレンズ１６との距離を変化させて被測定面６０Ａ
に照射されるスリット光線の焦点調節を行っても、半導
体レーザー１４の接合面と直交する方向にレーザービー
ムが発散されてスリット光線の幅が広くなることなく、
狭い幅のスリット光線を被測定面６０Ａへ照射すること
ができる。これにより、受光素子５８は、スリット光線
の焦点調節を行っても先鋭度の高い信号を出力し、スリ
ット光線の位置は、実際の位置に対応して適正に求めら
れる。

【００２９】更に、半導体レーザー１４から射出される
レーザービームの発散角度は、半導体レーザー１４の方
向によって異なる（図７（１）参照）が、本実施例では
シリンドリカルレンズ１８のレンズパワーを、半導体レ
ーザー１４の接合面に沿う方向の発散角度に対応し、測
定するに充分な光強度がスリット光線の長さで維持する
強さにしている。これにより、被測定面６０Ａに照射さ
れるスリット光線の全てに亘り安定した光強度分布のレ
ーザービームを被測定面６０Ａに照射することができ
る。従って、受光素子５８に照射された端部付近のスリ
ット像の出力信号のＳＮ比が低下することはない。

【００３０】以上説明したように、本実施例では、スリ
ット光線の線幅が広くなることがなくかつ被測定面６０
Ａの照射される位置によって光強度が変化することな
く、適正なスリット光線を被測定面６０Ａに照射するこ
とができるので、受光素子は、先鋭度の高い信号を出力
することができ、表面反射率の低い被測定面であっても
分解能が高くかつＳＮ比が良好に距離や段差等によって
測定対象物の形状を測定することができる。

【００３１】なお、本実施例ではシリンドリカルレンズ
を利用してスリット状の光を得る例について説明した
が、スリット状の光を得る素子としてロッドレンズ、シ
リンドリカルミラー等を用いることもでき、回転多面鏡
等のレーザービームをスキャンすることによりスリット
状の光を得ることもできる。

【００３２】また、本実施例では受光素子として２次元
ＣＣＤセンサを用いた場合について説明したが、受光素
子として２次元ＣＣＤセンサに限定されるものではな
く、撮像管を用いたテレビジョンシステムによる位置検
出方法を用いてセンサ上で２次元の位置を出力すること
のできる素子を利用してもよい。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、反
射率の小さい被測定面の測定であっても、高いＳＮ比及
び高い分解能で被測定面の形状を測定することができる
ように被測定面に照射するレーザービームを形成するこ
とができる、という優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】（１）は、本発明の実施例にかかる形状測定用
光源装置において半導体レーザーの接合面に沿う方向か
ら見た光源装置の側面図である。（２）は、（１）の上
面図である。

【図２】本発明の実施例にかかる形状測定用光源装置の
構成を示す断面図である。

【図３】形状測定装置の概略構成を示す斜視図である。

【図４】（１）は、形状測定装置の受光素子（受光面）
上におけるレーザービームの照射状態を示す線図であ
る。（２）、（３）は受光素子の出力信号の例を示す線
図である。

【図５】従来の形状測定装置の光源装置の構成を示す断
面図である。

【図６】半導体レーザーの向きと被測定面に照射される
スリット線幅の光強度分布との関係を示す線図である。

【図７】（１）は、半導体レーザーの発光部分を示す斜
視図である。（２）、（３）は半導体レーザーの向きと
被測定面に照射されるスリット線幅との関係を示す線図
である。

【図８】（１）、（２）は、受光素子の任意のラインに
おける位置と照射される光量との関係を示す線図であ
る。

【符号の説明】

１０ 光源装置 １２ 形状測定装置 １４ 半導体レーザー １６ コリメートレンズ １８ シリンドリカルレンズ ５６ 受光レンズ ５８ 受光素子 ６２ 演算回路 ６０ 測定対象物 ６０Ａ 被測定面

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザービームを射出する半導体レーザ
   ーと、前記レーザービームを前記半導体レーザーの接合
   面に交差する方向に集束させるレンズと、前記レンズか
   ら射出されたレーザービームを前記半導体レーザーの接
   合面に沿う方向に発散させかつ前記半導体レーザーの接
   合面に交差する方向ではそのまま通過させる発散手段
   と、を備えた形状測定用光源装置。
2. 【請求項２】 前記レンズと前記発散手段とを固定して
   固定光学系とし、固定光学系及び前記半導体レーザーの
   少なくとも一方を、前記発散手段によって発散されるレ
   ーザービームの発散方向と前記半導体レーザーの接合面
   に沿う方向とを略平行に維持したまま移動できるように
   した、ことを特徴とする請求項１記載の形状測定用光源
   装置。