JPH05269425A - 回転塗布装置 - Google Patents
回転塗布装置Info
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- JPH05269425A JPH05269425A JP6728492A JP6728492A JPH05269425A JP H05269425 A JPH05269425 A JP H05269425A JP 6728492 A JP6728492 A JP 6728492A JP 6728492 A JP6728492 A JP 6728492A JP H05269425 A JPH05269425 A JP H05269425A
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- JP
- Japan
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- coating
- disk
- optical disk
- shaped substrate
- spin
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
- B23Q3/18—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine for positioning only
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 円盤状基板に塗料をスピンコート法により塗
布する回転塗布装置において、塗布用ノズルが円盤状基
板の半径方向に複数個直線上に配列されている回転塗布
装置。さらに、塗料の構成物が同じで少なくとも２種類
以上の液温に保温された塗料が各塗布用ノズルから吐出
可能な構造を有する前記回転塗布装置。 【効果】 円盤状基板に一定量塗布するために円盤状基
板を低速回転させる場合回転は一回転のみで良く、また
この低速回転時にすでに塗料は円盤状基板全面にほぼ行
き渡っているので、高速回転により所定の厚さにする時
間も短縮でき、さらに液温が異なる塗料を吐出させるこ
とによって、円盤状基板の内周側と外周側で塗膜の厚み
分布を操作することもできる。
布する回転塗布装置において、塗布用ノズルが円盤状基
板の半径方向に複数個直線上に配列されている回転塗布
装置。さらに、塗料の構成物が同じで少なくとも２種類
以上の液温に保温された塗料が各塗布用ノズルから吐出
可能な構造を有する前記回転塗布装置。 【効果】 円盤状基板に一定量塗布するために円盤状基
板を低速回転させる場合回転は一回転のみで良く、また
この低速回転時にすでに塗料は円盤状基板全面にほぼ行
き渡っているので、高速回転により所定の厚さにする時
間も短縮でき、さらに液温が異なる塗料を吐出させるこ
とによって、円盤状基板の内周側と外周側で塗膜の厚み
分布を操作することもできる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は円盤状基板に紫外線硬化
型樹脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転塗
布装置に関するものである。
型樹脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転塗
布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来知られている円盤状基板の樹脂被膜
方法は、例えば、光ディスクでは、グルーブと称される
溝が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタ
クリルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオ
レフィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルー
ブが形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称
される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により回転塗
布してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた
後、紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
方法は、例えば、光ディスクでは、グルーブと称される
溝が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタ
クリルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオ
レフィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルー
ブが形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称
される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により回転塗
布してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた
後、紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
【０００３】次に真空蒸着法やスパッタ法等によりグル
ーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを作
製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コート
剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により
回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜していた。
ーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを作
製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コート
剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により
回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜していた。
【０００４】また、コンパクトディスクでは予め所定の
情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、情
報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッタ
法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保護
コート剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法
により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜を
製膜していた。
情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、情
報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッタ
法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保護
コート剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法
により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜を
製膜していた。
【０００５】このようにハードコート剤や保護コート剤
等の紫外線硬化型樹脂を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、円盤状基板を低速回転させ
ながら一つの塗布用ノズルを使用して樹脂を一定位置か
ら一定量円盤状基板に塗布した後、円盤状基板を高速回
転させて余分な紫外線硬化型樹脂を振り切って被膜を形
成していた。
等の紫外線硬化型樹脂を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、円盤状基板を低速回転させ
ながら一つの塗布用ノズルを使用して樹脂を一定位置か
ら一定量円盤状基板に塗布した後、円盤状基板を高速回
転させて余分な紫外線硬化型樹脂を振り切って被膜を形
成していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、一つの塗布用ノズルしか使用していないので、
紫外線硬化型樹脂を一定量塗布する時間とこれを円盤状
基板全面に行き渡らせるための回転時間が長くなってし
まい、その結果、製造時間が長くなるという問題点を有
していた。
法では、一つの塗布用ノズルしか使用していないので、
紫外線硬化型樹脂を一定量塗布する時間とこれを円盤状
基板全面に行き渡らせるための回転時間が長くなってし
まい、その結果、製造時間が長くなるという問題点を有
していた。
【０００７】更に、一つの塗布用ノズルしか使用してい
ないので一定粘度の紫外線硬化型樹脂しか塗布できず、
円盤状基板の内周側と外周側で厚み分布を調整すること
もできなかった。
ないので一定粘度の紫外線硬化型樹脂しか塗布できず、
円盤状基板の内周側と外周側で厚み分布を調整すること
もできなかった。
【０００８】本発明が解決しようとする課題は、円盤状
基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をスピンコート法によ
り塗布する回転塗布装置において、製造時間を短くして
生産性を向上させ、更に円盤状基板の内周側と外周側で
紫外線硬化型樹脂等の塗料に厚み分布を調整して塗布す
ることができるようにすることにある。
基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をスピンコート法によ
り塗布する回転塗布装置において、製造時間を短くして
生産性を向上させ、更に円盤状基板の内周側と外周側で
紫外線硬化型樹脂等の塗料に厚み分布を調整して塗布す
ることができるようにすることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、円盤状基板に塗料をスピンコート法によっ
て塗布する回転塗布装置において、塗布用ノズルが該円
盤状基板の半径方向に複数個直線上に配列されているこ
とを特徴とする回転塗布装置、及び、塗料の構成物が同
じで少なくとも２種類の液温に保温された塗料が各塗布
用ノズルから吐出可能な構造を有することを特徴とする
回転塗布装置を提供する。
するために、円盤状基板に塗料をスピンコート法によっ
て塗布する回転塗布装置において、塗布用ノズルが該円
盤状基板の半径方向に複数個直線上に配列されているこ
とを特徴とする回転塗布装置、及び、塗料の構成物が同
じで少なくとも２種類の液温に保温された塗料が各塗布
用ノズルから吐出可能な構造を有することを特徴とする
回転塗布装置を提供する。
【００１０】本発明で使用する塗料は、スピンコート法
を適用できる塗料で有れば、熱硬化型塗料及び紫外線硬
化型塗料とも、特に制限なく使用することができるが、
光ディスクの分野の如き熱による基板等の変形が製品の
欠陥に直結する分野では、紫外線硬化型塗料を使用する
ことが望ましい。
を適用できる塗料で有れば、熱硬化型塗料及び紫外線硬
化型塗料とも、特に制限なく使用することができるが、
光ディスクの分野の如き熱による基板等の変形が製品の
欠陥に直結する分野では、紫外線硬化型塗料を使用する
ことが望ましい。
【００１１】少なくとも２種類の液温に保温された塗料
が各塗布用ノズルから吐出可能な構造とするには、温度
コントロールか可能な少なくとも２種類の塗料タンクか
らバルブ操作により、目的とするノズルに塗料を供給す
る方法が挙げられる。なお、塗料タンクから塗布用ノズ
ルまでの配管系には、保温対策を施しておくことが望ま
しい。
が各塗布用ノズルから吐出可能な構造とするには、温度
コントロールか可能な少なくとも２種類の塗料タンクか
らバルブ操作により、目的とするノズルに塗料を供給す
る方法が挙げられる。なお、塗料タンクから塗布用ノズ
ルまでの配管系には、保温対策を施しておくことが望ま
しい。
【００１２】
【作用】本発明によれば、円盤状基板に塗料をスピンコ
ート法により塗布する回転塗布装置において、塗布用ノ
ズルが円盤状基板の半径方向に複数個直線上に配列され
ているので、円盤状基板に一定量塗布するために円盤状
基板を低速回転させる場合、回転は一回転のみで良く、
また、この低速回転時に、すでに塗料が円盤状基板のほ
ぼ全面に行き渡っているので、所定の厚さにするための
高速回転の時間も短縮できる。更に、各ノズルから塗料
の構成物が同じで、液温が異なる塗料を吐出する構造と
することによって、粘度の異なる塗料を吐出することが
可能となり、その結果、円盤状基板の内周側と外周側に
おける塗料の広がり速度に差を付与することができるた
め、塗膜の厚み分布を調整することもできる。
ート法により塗布する回転塗布装置において、塗布用ノ
ズルが円盤状基板の半径方向に複数個直線上に配列され
ているので、円盤状基板に一定量塗布するために円盤状
基板を低速回転させる場合、回転は一回転のみで良く、
また、この低速回転時に、すでに塗料が円盤状基板のほ
ぼ全面に行き渡っているので、所定の厚さにするための
高速回転の時間も短縮できる。更に、各ノズルから塗料
の構成物が同じで、液温が異なる塗料を吐出する構造と
することによって、粘度の異なる塗料を吐出することが
可能となり、その結果、円盤状基板の内周側と外周側に
おける塗料の広がり速度に差を付与することができるた
め、塗膜の厚み分布を調整することもできる。
【００１３】
【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【００１４】（実施例１）図１に示したように、半径４
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を上にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側を保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０
１」（大日本インキ化学工業社製）４を塗布した。
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を上にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側を保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０
１」（大日本インキ化学工業社製）４を塗布した。
【００１５】この場合、図２に示したように、塗布用ノ
ズル５は、円盤状基板である光ディスク１の半径方向に
直線上に３mm間隔で内径２５mmから３７mmまで５点配置
されており、各ノズル径はいずれもφ０．８mmの同じ径
で、１．８kgf／cm2の圧力の圧縮空気で保護コート剤４
を押し出すように設定した。
ズル５は、円盤状基板である光ディスク１の半径方向に
直線上に３mm間隔で内径２５mmから３７mmまで５点配置
されており、各ノズル径はいずれもφ０．８mmの同じ径
で、１．８kgf／cm2の圧力の圧縮空気で保護コート剤４
を押し出すように設定した。
【００１６】次に、光ディスク１を６０ｒｐｍの低速回
転で１秒間だけ回転させることによって各ノズルから押
し出された保護コート剤４は、光ディスク１に塗布され
ると同時に広がって行くため、１秒間で塗布を終了して
も、ほぼ光ディスク全面に行き渡っている状態であっ
た。
転で１秒間だけ回転させることによって各ノズルから押
し出された保護コート剤４は、光ディスク１に塗布され
ると同時に広がって行くため、１秒間で塗布を終了して
も、ほぼ光ディスク全面に行き渡っている状態であっ
た。
【００１７】さらに、光ディスク１を６，０００ｒｐｍ
の高速回転で１秒間だけ回転させることによって余分な
保護コート剤を振り切り、その後、紫外線を照射するこ
とによって塗膜を硬化させて、所定の膜厚１４μｍの保
護コート層を形成した。
の高速回転で１秒間だけ回転させることによって余分な
保護コート剤を振り切り、その後、紫外線を照射するこ
とによって塗膜を硬化させて、所定の膜厚１４μｍの保
護コート層を形成した。
【００１８】（実施例２）図３に示したように、半径４
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を下にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７
０４」（大日本インキ化学工業社製）６を塗布した。
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を下にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７
０４」（大日本インキ化学工業社製）６を塗布した。
【００１９】この場合、図４に示したように、塗布用ノ
ズル７は、円盤状基板である光ディスク１の半径方向に
直線上に３mm間隔で内径２５mmから３７mmまで５点配置
されており、各ノズル径はいずれもφ０．５mmの同じ径
で、０．４kgf／cm2の圧力の圧縮空気でハードコート剤
６を押し出すように設定した。
ズル７は、円盤状基板である光ディスク１の半径方向に
直線上に３mm間隔で内径２５mmから３７mmまで５点配置
されており、各ノズル径はいずれもφ０．５mmの同じ径
で、０．４kgf／cm2の圧力の圧縮空気でハードコート剤
６を押し出すように設定した。
【００２０】ただし、ハードコート剤の場合は、硬化収
縮により光ディスクのそり角が増大するため特に外周側
では内周側よりも薄くすることが好ましいので、塗料の
構成物は同じであって、ハードコート剤を外周側の２点
の塗布用ノズルから供給されるハードコート剤の液温を
２８℃に保温し、残りの３点の塗布用ノズルからは室温
（２３℃）のハードコート剤を夫々押し出した。
縮により光ディスクのそり角が増大するため特に外周側
では内周側よりも薄くすることが好ましいので、塗料の
構成物は同じであって、ハードコート剤を外周側の２点
の塗布用ノズルから供給されるハードコート剤の液温を
２８℃に保温し、残りの３点の塗布用ノズルからは室温
（２３℃）のハードコート剤を夫々押し出した。
【００２１】次に、光ディスク１を６０ｒｐｍの低速回
転で１秒間だけ回転させることによって各ノズルから押
し出されたハードコート剤６は、光ディスク１に塗布さ
れると同時に広がって行くため、１秒間で塗布を終了し
ても、ほぼ光ディスク全面に行き渡っている状態であっ
た。
転で１秒間だけ回転させることによって各ノズルから押
し出されたハードコート剤６は、光ディスク１に塗布さ
れると同時に広がって行くため、１秒間で塗布を終了し
ても、ほぼ光ディスク全面に行き渡っている状態であっ
た。
【００２２】さらに、光ディスク１を６，０００ｒｐｍ
の高速回転で１秒間だけ回転させることによって余分な
ハードコート剤を振り切り、その後、紫外線を照射する
ことによって塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成
した。得られたハードコート層は、内周側と外周側に塗
布したハードコート剤の液温が異なり、そのため粘度が
異なっているため、内周側の膜厚が６μｍ、外周側の膜
厚が３μｍであった。
の高速回転で１秒間だけ回転させることによって余分な
ハードコート剤を振り切り、その後、紫外線を照射する
ことによって塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成
した。得られたハードコート層は、内周側と外周側に塗
布したハードコート剤の液温が異なり、そのため粘度が
異なっているため、内周側の膜厚が６μｍ、外周側の膜
厚が３μｍであった。
【００２３】このようにして得られた光ディスクのそり
角は最大でも１．５mradであり、規格を十分に満足する
範囲であった。
角は最大でも１．５mradであり、規格を十分に満足する
範囲であった。
【００２４】（比較例１）図１に示したように、半径４
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を上にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側を保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０
１」４を塗布した。
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を上にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側を保護するために保護コート剤「ＳＤ−３０
１」４を塗布した。
【００２５】この場合、図５に示したように、ノズル径
φ０．８mmの塗布用ノズル８は、光ディスク１の半径位
置２５mmに１つのみ配置されており、１．８kgf／cm2の
圧力の圧縮空気で保護コート剤４を押し出すように設定
した。
φ０．８mmの塗布用ノズル８は、光ディスク１の半径位
置２５mmに１つのみ配置されており、１．８kgf／cm2の
圧力の圧縮空気で保護コート剤４を押し出すように設定
した。
【００２６】次に、光ディスク１を６０ｒｐｍの低速回
転で３秒間だけ回転させることによってノズルから押し
出された保護コート剤４は、光ディスク１に塗布される
と同時に広がって行くため、３秒間で塗布を終了した時
点で光ディスクの半分まで行き渡っている状態であっ
た。
転で３秒間だけ回転させることによってノズルから押し
出された保護コート剤４は、光ディスク１に塗布される
と同時に広がって行くため、３秒間で塗布を終了した時
点で光ディスクの半分まで行き渡っている状態であっ
た。
【００２７】さらに、光ディスク全面に保護コート剤を
行き渡らせ、更に所定の膜厚１４μｍにすると共に、余
分な保護コート剤を振り切るために、６０００ｒｐｍの
高速回転で５秒間回転させる必要があった。
行き渡らせ、更に所定の膜厚１４μｍにすると共に、余
分な保護コート剤を振り切るために、６０００ｒｐｍの
高速回転で５秒間回転させる必要があった。
【００２８】実施例１では高速回転に要する時間が１秒
間であったのと比較して、スピンコートに要する時間が
非常に長かった。
間であったのと比較して、スピンコートに要する時間が
非常に長かった。
【００２９】（比較例２）図３に示したように、半径４
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を下にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７
０４」６を塗布した。
３mmの円盤状基板である光ディスク１を記録膜２の形成
面側を下にしてターンテーブル３上に設置し、記録膜２
の形成面側とは反対側の面にハードコート剤「ＥＸ−７
０４」６を塗布した。
【００３０】この場合、図６に示したように、ノズル径
φ０．５mmの塗布用ノズル９は、光ディスク１の半径位
置２５mmに１つのみ配置されており、０．４kgf／cm2の
圧力の圧縮空気でハードコート剤６を押し出すように設
定した。
φ０．５mmの塗布用ノズル９は、光ディスク１の半径位
置２５mmに１つのみ配置されており、０．４kgf／cm2の
圧力の圧縮空気でハードコート剤６を押し出すように設
定した。
【００３１】次に光ディスク１を６０ｒｐｍの低速回転
で３回転だけ回転させることによってノズルから押し出
されるハードコート剤６は、光ディスク１に塗布される
と同時に広がって行くため、３秒間で塗布を終了した時
点で光ディスクの半分まで行き渡っている状態であっ
た。
で３回転だけ回転させることによってノズルから押し出
されるハードコート剤６は、光ディスク１に塗布される
と同時に広がって行くため、３秒間で塗布を終了した時
点で光ディスクの半分まで行き渡っている状態であっ
た。
【００３２】さらに、光ディスク全面にハードコート剤
を行き渡らせると共に、余分なハードコート剤を振り切
るために、６０００ｒｐｍの高速回転で５秒間回転させ
る必要があった。
を行き渡らせると共に、余分なハードコート剤を振り切
るために、６０００ｒｐｍの高速回転で５秒間回転させ
る必要があった。
【００３３】実施例２では高速回転に要する時間が１秒
間であったのと比較して、スピンコートに要する時間が
非常に長かった。
間であったのと比較して、スピンコートに要する時間が
非常に長かった。
【００３４】得られた未硬化の塗膜に紫外線を照射して
硬化させて得られたハードコート層は、内周側の膜厚が
４μｍ、外周側の膜厚が６μｍであり、光ディスクのそ
り角が最大で、規格内の３．５mradであるが、実施例２
と比較して機械特性が悪かった。
硬化させて得られたハードコート層は、内周側の膜厚が
４μｍ、外周側の膜厚が６μｍであり、光ディスクのそ
り角が最大で、規格内の３．５mradであるが、実施例２
と比較して機械特性が悪かった。
【００３５】
【発明の効果】本発明の回転塗布装置は、塗布用ノズル
が円盤状基板の半径方向に複数個直線上に配列されてい
るので、円盤状基板に一定量塗布するために円盤状基板
を低速回転させる場合の回転は一回転のみで良く、また
この低速回転時にすでに塗料は円盤状基板全面にほぼ行
き渡っているので、高速回転により所定の厚さにする時
間も短縮できる。更に、各ノズルからは塗料の構成物は
同じであって液温が異なる塗料が吐出される構造とする
ことにより、円盤状基板の内周側と外周側で塗膜の厚み
に分布を持たせることもできる。
が円盤状基板の半径方向に複数個直線上に配列されてい
るので、円盤状基板に一定量塗布するために円盤状基板
を低速回転させる場合の回転は一回転のみで良く、また
この低速回転時にすでに塗料は円盤状基板全面にほぼ行
き渡っているので、高速回転により所定の厚さにする時
間も短縮できる。更に、各ノズルからは塗料の構成物は
同じであって液温が異なる塗料が吐出される構造とする
ことにより、円盤状基板の内周側と外周側で塗膜の厚み
に分布を持たせることもできる。
【図１】実施例１及び比較例１に示したスピンコート法
により円盤状基板である光ディスクに保護コート剤を塗
布する概念図である。
により円盤状基板である光ディスクに保護コート剤を塗
布する概念図である。
【図２】実施例１で使用した回転塗布装置の概念図であ
る。
る。
【図３】実施例２及び比較例２に示したスピンコート法
により円盤状基板である光ディスクにハードコート剤を
塗布する概念図である。
により円盤状基板である光ディスクにハードコート剤を
塗布する概念図である。
【図４】実施例２で使用した回転塗布装置の概念図であ
る。
る。
【図５】比較例１で使用した従来の回転塗布装置の概念
図である。
図である。
【図６】比較例２で使用した従来の回転塗布装置の概念
図である。
図である。
１ 光ディスク ２ 記録膜 ３ ターンテーブル ４ 保護コート剤 ５ 直線上に複数個配置された保護コート剤塗布用ノズ
ル ６ ハードコート剤 ７ 直線上に複数個配置されたハードコート剤塗布用ノ
ズル ８ １つのみの保護コート剤塗布用ノズル ９ １つのみのハードコート剤塗布用ノズル
ル ６ ハードコート剤 ７ 直線上に複数個配置されたハードコート剤塗布用ノ
ズル ８ １つのみの保護コート剤塗布用ノズル ９ １つのみのハードコート剤塗布用ノズル
Claims (2)
- 【請求項１】 円盤状基板に塗料をスピンコート法によ
って塗布する回転塗布装置において、塗布用ノズルが該
円盤状基板の半径方向に複数個直線上に配列されている
ことを特徴とする回転塗布装置。 - 【請求項２】 塗料の構成物が同じで少なくとも２種類
の液温に保温された塗料が各塗布用ノズルから吐出可能
な構造を有することを特徴とする請求項１記載の回転塗
布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6728492A JPH05269425A (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 回転塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6728492A JPH05269425A (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 回転塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05269425A true JPH05269425A (ja) | 1993-10-19 |
Family
ID=13340527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6728492A Pending JPH05269425A (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 回転塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05269425A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09120165A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-05-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法及びその装置 |
| US6025012A (en) * | 1995-09-20 | 2000-02-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for determining film thickness control conditions and discharging liquid to a rotating substrate |
| JP2009028662A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Mazda Motor Corp | ワークの接合方法 |
| US20130216730A1 (en) * | 2010-10-25 | 2013-08-22 | Panasonic Corporation | Apparatus and method for manufacturing optical recording medium |
-
1992
- 1992-03-25 JP JP6728492A patent/JPH05269425A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09120165A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-05-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法及びその装置 |
| US6025012A (en) * | 1995-09-20 | 2000-02-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for determining film thickness control conditions and discharging liquid to a rotating substrate |
| JP2009028662A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Mazda Motor Corp | ワークの接合方法 |
| US20130216730A1 (en) * | 2010-10-25 | 2013-08-22 | Panasonic Corporation | Apparatus and method for manufacturing optical recording medium |
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