JPH05268425A - 半導体レーザ出力制御装置 - Google Patents
半導体レーザ出力制御装置Info
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- JPH05268425A JPH05268425A JP4061803A JP6180392A JPH05268425A JP H05268425 A JPH05268425 A JP H05268425A JP 4061803 A JP4061803 A JP 4061803A JP 6180392 A JP6180392 A JP 6180392A JP H05268425 A JPH05268425 A JP H05268425A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 待機状態の環境温度の低下による半導体レー
ザの劣化を防止することが可能な半導体レーザ出力制御
装置を提供する。 【構成】 半導体レーザからのレーザビームを偏向手段
により偏向し、感光体駆動制御手段により駆動される感
光体上を走査してその表面上に情報を書込むレーザビー
ム走査装置を備え、半導体レーザのレーザ出力を光検出
手段12により検出し、光検出手段12の出力信号と基
準信号とを比較手段16により比較し、その比較手段1
6からの出力信号により半導体レーザに流す電流値を制
御することにより半導体レーザの出力制御を行う半導体
レーザ出力制御装置において、タイミング信号を発生す
るタイマー21を設け、レーザビーム走査装置の情報書
込待機時に、タイマー21からの出力に応じて半導体レ
ーザの出力制御を行うレーザ出力制御手段22を設け
た。
ザの劣化を防止することが可能な半導体レーザ出力制御
装置を提供する。 【構成】 半導体レーザからのレーザビームを偏向手段
により偏向し、感光体駆動制御手段により駆動される感
光体上を走査してその表面上に情報を書込むレーザビー
ム走査装置を備え、半導体レーザのレーザ出力を光検出
手段12により検出し、光検出手段12の出力信号と基
準信号とを比較手段16により比較し、その比較手段1
6からの出力信号により半導体レーザに流す電流値を制
御することにより半導体レーザの出力制御を行う半導体
レーザ出力制御装置において、タイミング信号を発生す
るタイマー21を設け、レーザビーム走査装置の情報書
込待機時に、タイマー21からの出力に応じて半導体レ
ーザの出力制御を行うレーザ出力制御手段22を設け
た。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザプリンタ、レー
ザ複写機等に使用される半導体レーザ出力制御装置に関
する。
ザ複写機等に使用される半導体レーザ出力制御装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザ光源として半導体レーザを
用いたレーザ複写機等においては、半導体レーザの出力
を安定化させるために、カウンタ等を用いた半導体レー
ザ出力制御装置が備えられている。そこで、今、その半
導体レーザ出力制御装置の一例を図14に基づいて説明
する。
用いたレーザ複写機等においては、半導体レーザの出力
を安定化させるために、カウンタ等を用いた半導体レー
ザ出力制御装置が備えられている。そこで、今、その半
導体レーザ出力制御装置の一例を図14に基づいて説明
する。
【0003】半導体レーザ1より出射されたレーザビー
ムは、コリメータレンズ2によりコリメートされて偏向
手段としての回転多面鏡3aにより偏向され、fθレン
ズ4により拡大走査され、その走査光はミラー5,6、
カバーガラス7を順次介して、感光体8の面上に結像さ
れ、これにより画像の記録が行われる。なお、前記回転
多面鏡3aと、前記fθレンズ4と、前記ミラー5,6
とは、レーザビーム走査装置3をなしている。そして、
この場合、光検出手段としての光検出器9は、情報書込
領域外に設けられ、回転多面鏡3aで偏向されたレーザ
ビームを検出して同期信号aを発生する。この同期信号
aは、信号処理回路10に送られる。この信号処理回路
10では、情報信号bを半導体レーザ駆動回路11に印
加するが、そのタイミングを光検出器9からの同期信号
aにより制御する。その半導体レーザ駆動回路11は、
信号処理回路10からの情報信号bに応じて半導体レー
ザ1を駆動制御する。これにより、情報信号bで変調さ
れたレーザビームが感光体8に照射されて静電潜像が形
成される。また、半導体レーザ1から後方に出射される
レーザビームは、光検出器12に入射して光強度が検出
され、この検出された出力信号は制御回路13に送られ
る。この制御回路13は、その出力信号に応じて半導体
レーザ駆動回路11を制御し、これにより半導体レーザ
1の出力光量を一定に制御する。図15は、レーザビー
ム走査装置3等のレーザ光出射部が筐体14内に収めら
れている様子を示したものである。
ムは、コリメータレンズ2によりコリメートされて偏向
手段としての回転多面鏡3aにより偏向され、fθレン
ズ4により拡大走査され、その走査光はミラー5,6、
カバーガラス7を順次介して、感光体8の面上に結像さ
れ、これにより画像の記録が行われる。なお、前記回転
多面鏡3aと、前記fθレンズ4と、前記ミラー5,6
とは、レーザビーム走査装置3をなしている。そして、
この場合、光検出手段としての光検出器9は、情報書込
領域外に設けられ、回転多面鏡3aで偏向されたレーザ
ビームを検出して同期信号aを発生する。この同期信号
aは、信号処理回路10に送られる。この信号処理回路
10では、情報信号bを半導体レーザ駆動回路11に印
加するが、そのタイミングを光検出器9からの同期信号
aにより制御する。その半導体レーザ駆動回路11は、
信号処理回路10からの情報信号bに応じて半導体レー
ザ1を駆動制御する。これにより、情報信号bで変調さ
れたレーザビームが感光体8に照射されて静電潜像が形
成される。また、半導体レーザ1から後方に出射される
レーザビームは、光検出器12に入射して光強度が検出
され、この検出された出力信号は制御回路13に送られ
る。この制御回路13は、その出力信号に応じて半導体
レーザ駆動回路11を制御し、これにより半導体レーザ
1の出力光量を一定に制御する。図15は、レーザビー
ム走査装置3等のレーザ光出射部が筐体14内に収めら
れている様子を示したものである。
【0004】図16は、半導体レーザ駆動回路11及び
その制御回路13の構成を詳細に示すものである。半導
体レーザ1から後方に出射されたレーザビームは、フォ
トダイオードよりなる光検出器12に入射し、レーザビ
ームの光強度に比例した電流を出力する。この電流は、
制御回路13内の増幅器15により電圧に変換され、比
較手段としての比較器16に送られることにより基準電
圧Vref と比較される。この比較器16の出力電圧は、
これに入力される電圧の大小関係により高レベル又は低
レベルとなりアップダウンカウンタ17のカウントモー
ドを制御する。その一例として、半導体レーザ1からの
レーザビームの強度が基準値よりも弱い時には、比較器
16の出力が低レベルになり、アップダウンカウンタ1
7はアップカウンタとして動作する状態となる。タイミ
ング信号T1 によりエッジ検出回路18がアップダウン
カウンタ17へのイネーブル信号Enを解除すると、ア
ップダウンカウンタ17は発振器19からのクロック信
号Ckによりその計数値が増加していく。このアップダ
ウンカウンタ17の計数力は、D/A変換器20に送ら
れここでアナログ量に変換され、半導体レーザ駆動回路
11に入力され、これにより半導体レーザ1の駆動出力
の制御が行われる。
その制御回路13の構成を詳細に示すものである。半導
体レーザ1から後方に出射されたレーザビームは、フォ
トダイオードよりなる光検出器12に入射し、レーザビ
ームの光強度に比例した電流を出力する。この電流は、
制御回路13内の増幅器15により電圧に変換され、比
較手段としての比較器16に送られることにより基準電
圧Vref と比較される。この比較器16の出力電圧は、
これに入力される電圧の大小関係により高レベル又は低
レベルとなりアップダウンカウンタ17のカウントモー
ドを制御する。その一例として、半導体レーザ1からの
レーザビームの強度が基準値よりも弱い時には、比較器
16の出力が低レベルになり、アップダウンカウンタ1
7はアップカウンタとして動作する状態となる。タイミ
ング信号T1 によりエッジ検出回路18がアップダウン
カウンタ17へのイネーブル信号Enを解除すると、ア
ップダウンカウンタ17は発振器19からのクロック信
号Ckによりその計数値が増加していく。このアップダ
ウンカウンタ17の計数力は、D/A変換器20に送ら
れここでアナログ量に変換され、半導体レーザ駆動回路
11に入力され、これにより半導体レーザ1の駆動出力
の制御が行われる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】一般に、レーザ複写機
では、周囲の環境温度の変化がゆるやかであり、半導体
レーザ1とその取付け金具の熱容量の影響で、その半導
体レーザ1の出力変動は短時間では無視することができ
る。そこで、レーザ複写機においては、半導体レーザ1
の出力制御を行うタイミング信号T1 を、電源投入
時、プリントON時、紙間等の時に発生させ、半導
体レーザ1の出力を制御していた。また、レーザビーム
走査装置の情報書込停止時、すなわち、「待機状態」に
おいては、半導体レーザ1は全く出力させないか、或い
は、同期信号aを発生させるために情報書込領域以外で
の短い時間のみ出力させるようにしていた。また、この
ような待機状態においては、画像出力をさせることはな
く、半導体レーザ1の出力光量を一定にしておく必要は
ないため、前述したような半導体レーザ1の出力制御の
動作は行われていなかった。
では、周囲の環境温度の変化がゆるやかであり、半導体
レーザ1とその取付け金具の熱容量の影響で、その半導
体レーザ1の出力変動は短時間では無視することができ
る。そこで、レーザ複写機においては、半導体レーザ1
の出力制御を行うタイミング信号T1 を、電源投入
時、プリントON時、紙間等の時に発生させ、半導
体レーザ1の出力を制御していた。また、レーザビーム
走査装置の情報書込停止時、すなわち、「待機状態」に
おいては、半導体レーザ1は全く出力させないか、或い
は、同期信号aを発生させるために情報書込領域以外で
の短い時間のみ出力させるようにしていた。また、この
ような待機状態においては、画像出力をさせることはな
く、半導体レーザ1の出力光量を一定にしておく必要は
ないため、前述したような半導体レーザ1の出力制御の
動作は行われていなかった。
【0006】図17は、各温度におけるレーザ(LD)
駆動電流に対する半導体レーザ1の出力光量の特性を示
したものである。そこで、温度を低温、中温度、高温度
の場合に分けて示すと、温度が高温になるほど、LD駆
動電流に対する光量は低下する。言い替えると、温度が
高くなるほど同じ光量を得るには、大きな駆動電流が必
要となる。このように半導体レーザ1の出力光量は温度
に対して非常に不安定であるため、前述したようなレー
ザビームの出力制御が行われていた。
駆動電流に対する半導体レーザ1の出力光量の特性を示
したものである。そこで、温度を低温、中温度、高温度
の場合に分けて示すと、温度が高温になるほど、LD駆
動電流に対する光量は低下する。言い替えると、温度が
高くなるほど同じ光量を得るには、大きな駆動電流が必
要となる。このように半導体レーザ1の出力光量は温度
に対して非常に不安定であるため、前述したようなレー
ザビームの出力制御が行われていた。
【0007】しかし、従来のレーザ複写機等において
は、待機時においてはレーザ出力制御が行われておら
ず、このためその待機時に装置の環境温度が大きく低下
したような場合、環境温度が高い状態でのLD駆動電流
の大きさで半導体レーザ1を駆動させてしまうことにな
り、これにより定格出力以上の出力をさせて半導体レー
ザ1自身を劣化させてしまう恐れがあった。
は、待機時においてはレーザ出力制御が行われておら
ず、このためその待機時に装置の環境温度が大きく低下
したような場合、環境温度が高い状態でのLD駆動電流
の大きさで半導体レーザ1を駆動させてしまうことにな
り、これにより定格出力以上の出力をさせて半導体レー
ザ1自身を劣化させてしまう恐れがあった。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
半導体レーザからのレーザビームを偏向手段により偏向
し、感光体駆動制御手段により駆動される感光体上を走
査してその表面上に情報を書込むレーザビーム走査装置
を備え、前記半導体レーザのレーザ出力を光検出手段に
より検出し、前記光検出手段の出力信号と基準信号とを
比較手段により比較し、その比較手段からの出力信号に
より前記半導体レーザに流す電流値を制御することによ
り前記半導体レーザの出力制御を行う半導体レーザ出力
制御装置において、タイミング信号を発生するタイマー
を設け、前記レーザビーム走査装置の情報書込待機時
に、前記タイマーからの出力に応じて前記半導体レーザ
の出力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた。
半導体レーザからのレーザビームを偏向手段により偏向
し、感光体駆動制御手段により駆動される感光体上を走
査してその表面上に情報を書込むレーザビーム走査装置
を備え、前記半導体レーザのレーザ出力を光検出手段に
より検出し、前記光検出手段の出力信号と基準信号とを
比較手段により比較し、その比較手段からの出力信号に
より前記半導体レーザに流す電流値を制御することによ
り前記半導体レーザの出力制御を行う半導体レーザ出力
制御装置において、タイミング信号を発生するタイマー
を設け、前記レーザビーム走査装置の情報書込待機時
に、前記タイマーからの出力に応じて前記半導体レーザ
の出力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた。
【0009】請求項2記載の発明は、半導体レーザから
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の温度を検出する温度検
出手段を設け、前記レーザビーム走査装置の情報書込待
機時に、前記温度検出手段からの出力に応じて前記半導
体レーザの出力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた
ことを特徴とする半導体レーザ出力制御装置。
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の温度を検出する温度検
出手段を設け、前記レーザビーム走査装置の情報書込待
機時に、前記温度検出手段からの出力に応じて前記半導
体レーザの出力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた
ことを特徴とする半導体レーザ出力制御装置。
【0010】請求項3記載の発明は、半導体レーザから
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前
記光検出手段からの出力に応じて前記半導体レーザの出
力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた。
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前
記光検出手段からの出力に応じて前記半導体レーザの出
力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた。
【0011】請求項4記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、レーザビームの
情報書込領域以外にて半導体レーザの出力制御を行うよ
うにレーザビーム結像位置制御手段を設けた。
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、レーザビームの
情報書込領域以外にて半導体レーザの出力制御を行うよ
うにレーザビーム結像位置制御手段を設けた。
【0012】請求項5記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、偏向手段の停止
回転位置を制御してレーザビームを情報書込領域以外に
停止させた状態で半導体レーザの出力制御を行うように
レーザビーム結像位置制御手段を設けた。
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、偏向手段の停止
回転位置を制御してレーザビームを情報書込領域以外に
停止させた状態で半導体レーザの出力制御を行うように
レーザビーム結像位置制御手段を設けた。
【0013】請求項6記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、感光体を駆動し
た状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビ
ーム結像位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項
1,2又は3記載の半導体レーザ出力制御装置。
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、感光体を駆動し
た状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビ
ーム結像位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項
1,2又は3記載の半導体レーザ出力制御装置。
【0014】請求項7記載の発明には、請求項1,2又
は3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に
そのレーザビームを遮断する遮断手段を設け、レーザ出
力制御手段は、レーザビーム走査装置の情報書込待機時
に、前記遮断手段によりレーザビームが遮断された状態
で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビーム結
像位置制御手段を設けた。
は3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に
そのレーザビームを遮断する遮断手段を設け、レーザ出
力制御手段は、レーザビーム走査装置の情報書込待機時
に、前記遮断手段によりレーザビームが遮断された状態
で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビーム結
像位置制御手段を設けた。
【0015】請求項8記載の発明には、請求項1,2又
は3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に
ビーム反射手段のレーザビームに対する入射角度を偏向
するビーム角度偏向手段を設け、レーザ出力制御手段
は、レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記ビ
ーム角度偏向手段によりレーザビームを感光体上から退
避させた状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレ
ーザビーム結像位置制御手段を設けた。
は3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に
ビーム反射手段のレーザビームに対する入射角度を偏向
するビーム角度偏向手段を設け、レーザ出力制御手段
は、レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記ビ
ーム角度偏向手段によりレーザビームを感光体上から退
避させた状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレ
ーザビーム結像位置制御手段を設けた。
【0016】請求項9記載の発明には、請求項1,2又
は3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に
配置されたレンズをその光軸方向に移動させるレンズ移
動手段を設け、レーザ出力制御手段は、レーザビーム走
査装置の情報書込待機時に、前記レンズ移動手段により
前記レンズを移動させ前記レーザビームの結像位置が感
光体上より移動した状態で半導体レーザの出力制御動作
を行うようにレーザビーム結像位置制御手段を設けた。
は3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に
配置されたレンズをその光軸方向に移動させるレンズ移
動手段を設け、レーザ出力制御手段は、レーザビーム走
査装置の情報書込待機時に、前記レンズ移動手段により
前記レンズを移動させ前記レーザビームの結像位置が感
光体上より移動した状態で半導体レーザの出力制御動作
を行うようにレーザビーム結像位置制御手段を設けた。
【0017】請求項10記載の発明は、請求項1記載の
発明において、タイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けた。
発明において、タイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けた。
【0018】請求項11記載の発明は、請求項2又は3
記載の発明において、タイミング信号を発生するタイマ
ーを設け、このタイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けた。
記載の発明において、タイミング信号を発生するタイマ
ーを設け、このタイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けた。
【0019】
【作用】請求項1記載の発明においては、待機状態にお
いて、環境温度が大きく低下しても、その待機中にある
一定の時間間隔で半導体レーザの出力制御を行わせるこ
とが可能となる。
いて、環境温度が大きく低下しても、その待機中にある
一定の時間間隔で半導体レーザの出力制御を行わせるこ
とが可能となる。
【0020】請求項2記載の発明においては、待機状態
において、環境感度が大きく低下しても、その待機中に
半導体レーザの温度を検出してその温度変化がある一定
レベルとなる度に半導体レーザの出力制御を行わせるこ
とが可能となる。
において、環境感度が大きく低下しても、その待機中に
半導体レーザの温度を検出してその温度変化がある一定
レベルとなる度に半導体レーザの出力制御を行わせるこ
とが可能となる。
【0021】請求項3記載の発明においては、待機状態
において、環境温度が大きく低下しても、その待機中に
半導体レーザの出力をモニターし、その出力変化がある
一定レベルとなる度に半導体レーザの出力制御を行わせ
ることが可能となる。
において、環境温度が大きく低下しても、その待機中に
半導体レーザの出力をモニターし、その出力変化がある
一定レベルとなる度に半導体レーザの出力制御を行わせ
ることが可能となる。
【0022】請求項4記載の発明においては、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
が情報書込領域外を走査している時にのみ半導体レーザ
を発光させることが可能する。
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
が情報書込領域外を走査している時にのみ半導体レーザ
を発光させることが可能する。
【0023】請求項5記載の発明においては、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行ってもポリゴンモータ
を停止させ、レーザビームが情報書込領域外に静止して
いる状態で半導体レーザを発光させることが可能とな
る。
中に半導体レーザの出力制御を行ってもポリゴンモータ
を停止させ、レーザビームが情報書込領域外に静止して
いる状態で半導体レーザを発光させることが可能とな
る。
【0024】請求項6記載の発明においては、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
が露光される時には感光体を回転させることが可能とな
る。
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
が露光される時には感光体を回転させることが可能とな
る。
【0025】請求項7記載の発明においては、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
は遮断手段により遮断され、これにより静止した感光体
上をレーザビームが露光するようなことをなくすことが
可能となる。
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
は遮断手段により遮断され、これにより静止した感光体
上をレーザビームが露光するようなことをなくすことが
可能となる。
【0026】請求項8記載の発明においては、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
は感光体外へ退避した状態となるため、静止した感光体
上をレーザビームが露光するようなことをなくすことが
可能となる。
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
は感光体外へ退避した状態となるため、静止した感光体
上をレーザビームが露光するようなことをなくすことが
可能となる。
【0027】請求項9記載の発明においては、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
は感光体上では結像せず、レーザビームの露光による感
光体上への影響を小さくさせることが可能となる。
中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビーム
は感光体上では結像せず、レーザビームの露光による感
光体上への影響を小さくさせることが可能となる。
【0028】請求項10,11記載の発明においては、
待機状態中に一定の時間毎に感光体上のレーザビーム結
像位置が移動するため、レーザビームの出力制御を行っ
ても常に感光体上の同一位置にレーザビームが照射され
るようなことはなく、感光体への露光による影響を小さ
くさせることが可能となる。
待機状態中に一定の時間毎に感光体上のレーザビーム結
像位置が移動するため、レーザビームの出力制御を行っ
ても常に感光体上の同一位置にレーザビームが照射され
るようなことはなく、感光体への露光による影響を小さ
くさせることが可能となる。
【0029】
【実施例】請求項1記載の発明の一実施例を図1〜図3
に基づいて説明する。なお、従来技術(図14〜図1
6)と同一部分についての説明は省略し、その同一部分
については同一符号を用いる。
に基づいて説明する。なお、従来技術(図14〜図1
6)と同一部分についての説明は省略し、その同一部分
については同一符号を用いる。
【0030】図1は、半導体レーザ出力制御装置の構成
を示すものである。この装置は、半導体レーザ1からの
レーザビームを回転多面鏡3aにより偏向し、図示しな
い感光体駆動制御手段により駆動される感光体8上を走
査してその表面上に情報を書込むレーザビーム走査装置
3を備え、半導体レーザ1のレーザ出力を光検出器12
により検出し、その光検出器12の出力信号と基準信号
とを比較器16により比較し、その比較器16からの出
力信号により半導体レーザ1に流す電流値を制御するこ
とにより半導体レーザ1の出力制御を行うというもので
ある。
を示すものである。この装置は、半導体レーザ1からの
レーザビームを回転多面鏡3aにより偏向し、図示しな
い感光体駆動制御手段により駆動される感光体8上を走
査してその表面上に情報を書込むレーザビーム走査装置
3を備え、半導体レーザ1のレーザ出力を光検出器12
により検出し、その光検出器12の出力信号と基準信号
とを比較器16により比較し、その比較器16からの出
力信号により半導体レーザ1に流す電流値を制御するこ
とにより半導体レーザ1の出力制御を行うというもので
ある。
【0031】このような半導体レーザ出力制御装置にお
いて、本実施例では、タイミング信号T2 を発生するタ
イマー21を設け、レーザビーム走査装置3の情報書込
みの待機時に、タイマー21からの出力に応じて半導体
レーザ1の出力制御を行うレーザ出力制御手段22を設
けたものである。この場合、レーザ出力制御手段22
は、エッジ検出回路18から半導体レーザ駆動回路11
までの回路を含めた構成となっている。
いて、本実施例では、タイミング信号T2 を発生するタ
イマー21を設け、レーザビーム走査装置3の情報書込
みの待機時に、タイマー21からの出力に応じて半導体
レーザ1の出力制御を行うレーザ出力制御手段22を設
けたものである。この場合、レーザ出力制御手段22
は、エッジ検出回路18から半導体レーザ駆動回路11
までの回路を含めた構成となっている。
【0032】このような構成において、以下、タイマー
21とレーザ出力制御手段の働きを中心に説明してい
く。タイマー21は、複写機が待機状態であることを示
すレディー信号T0 が、本体の制御回路から入力されて
いる時のみに動作を行う。このタイマー21は、待機状
態にある一定時間間隔tp でタイミング信号T2 をエッ
ジ検出回路18に出力する。このエッジ検出回路18で
は、タイミング信号T1或いはT2 によりアップダウン
カウンタ17へのイネーブル信号Enを解除する。この
イネーブル信号Enの解除により、従来技術でも述べた
ような半導体レーザ1の光量制御が行われる。これによ
り、タイミング信号T1 により従来と同様のタイミング
(電源投入時、プリントON時、紙挿入間等)で“出力
制御”を行うことができる。また、待機状態において
も、タイマー21からのタイミング信号T2 により、あ
る一定間隔で“出力制御”を行うことができる。
21とレーザ出力制御手段の働きを中心に説明してい
く。タイマー21は、複写機が待機状態であることを示
すレディー信号T0 が、本体の制御回路から入力されて
いる時のみに動作を行う。このタイマー21は、待機状
態にある一定時間間隔tp でタイミング信号T2 をエッ
ジ検出回路18に出力する。このエッジ検出回路18で
は、タイミング信号T1或いはT2 によりアップダウン
カウンタ17へのイネーブル信号Enを解除する。この
イネーブル信号Enの解除により、従来技術でも述べた
ような半導体レーザ1の光量制御が行われる。これによ
り、タイミング信号T1 により従来と同様のタイミング
(電源投入時、プリントON時、紙挿入間等)で“出力
制御”を行うことができる。また、待機状態において
も、タイマー21からのタイミング信号T2 により、あ
る一定間隔で“出力制御”を行うことができる。
【0033】ここで、半導体レーザ1のレーザ出力制御
の具体例を図2及び図3に基づいて説明する。図2は、
待機状態において、図3に示すような環境温度の変化が
生じた時の、半導体レーザ1(LD)の温度、LDの出
力、タイミング信号T2 の発生時期、そのタイミング信
号T2 によるLDの出力制御の様子を示したものであ
る。この場合、待機状態において、図3に示すような環
境温度の変化がある場合、LDの出力制御を行わない
と、図2の破線aで示すようにLDを定格出力以上で出
力させてしまう恐れがある。このようなことから本実施
例では、複写機が待機状態となった時点から、波形bに
示すようにtp の時間間隔でタイマー21からタイミン
グ信号T2 を発生させる。これにより、ある一定間隔で
前述したような出力制御が行われ、LDの出力は波形c
に示すようになり、待機状態の初期の時点の出力からは
大きく変化しない。
の具体例を図2及び図3に基づいて説明する。図2は、
待機状態において、図3に示すような環境温度の変化が
生じた時の、半導体レーザ1(LD)の温度、LDの出
力、タイミング信号T2 の発生時期、そのタイミング信
号T2 によるLDの出力制御の様子を示したものであ
る。この場合、待機状態において、図3に示すような環
境温度の変化がある場合、LDの出力制御を行わない
と、図2の破線aで示すようにLDを定格出力以上で出
力させてしまう恐れがある。このようなことから本実施
例では、複写機が待機状態となった時点から、波形bに
示すようにtp の時間間隔でタイマー21からタイミン
グ信号T2 を発生させる。これにより、ある一定間隔で
前述したような出力制御が行われ、LDの出力は波形c
に示すようになり、待機状態の初期の時点の出力からは
大きく変化しない。
【0034】上述したように、書込みでない待機状態に
おいて、環境温度が大きく低下しても、その待機中に、
ある一定の時間間隔で半導体レーザの出力制御を行わせ
ることが可能なため、その半導体レーザを定格出力以上
の出力で発光させるようなことがなく、これにより半導
体レーザ自身の劣化を防ぐことができる。なお、タイマ
ー21から出力されるタイミング信号T2 を頻繁に出力
させる必要はなく、その間隔tp を例えば10分とか2
0分とかいう間隔とするようにしてもよい。
おいて、環境温度が大きく低下しても、その待機中に、
ある一定の時間間隔で半導体レーザの出力制御を行わせ
ることが可能なため、その半導体レーザを定格出力以上
の出力で発光させるようなことがなく、これにより半導
体レーザ自身の劣化を防ぐことができる。なお、タイマ
ー21から出力されるタイミング信号T2 を頻繁に出力
させる必要はなく、その間隔tp を例えば10分とか2
0分とかいう間隔とするようにしてもよい。
【0035】次に、請求項2記載の発明の一実施例を図
4及び図5に基づいて説明する。なお、請求項1記載の
発明(図1)と同一部分についての説明は省略し、その
同一部分については同一符号を用いる。
4及び図5に基づいて説明する。なお、請求項1記載の
発明(図1)と同一部分についての説明は省略し、その
同一部分については同一符号を用いる。
【0036】本実施例では、図4に示す半導体レーザ出
力制御装置において、レーザビーム走査装置3の温度を
検出する温度検出手段としての温度検出器23を設け、
レーザビーム走査装置3の情報書込待機時に、温度検出
器23からの出力に応じて半導体レーザ1の出力制御を
行うレーザ出力制御手段24を設けたものである。この
場合、レーザ出力制御手段24は、温度検出器23が接
続されたタイミング信号T3 を発生するタイミング信号
発生回路25、タイミング信号T3 が送られるエッジ検
出回路18等により構成されている。
力制御装置において、レーザビーム走査装置3の温度を
検出する温度検出手段としての温度検出器23を設け、
レーザビーム走査装置3の情報書込待機時に、温度検出
器23からの出力に応じて半導体レーザ1の出力制御を
行うレーザ出力制御手段24を設けたものである。この
場合、レーザ出力制御手段24は、温度検出器23が接
続されたタイミング信号T3 を発生するタイミング信号
発生回路25、タイミング信号T3 が送られるエッジ検
出回路18等により構成されている。
【0037】このような構成において、温度検出器23
(例えば、サーミスタ)は、装置内部の半導体レーザ1
の近傍に配置されており、これにより半導体レーザ1の
温度を検出している。タイミング信号発生回路25は、
複写機が待機状態であることを示すレディー信号T0 が
本体制御回路から入力されている時のみにタイミング信
号T3 を発生する。タイミング信号発生回路25は、待
機状態において、温度変化がある一定の温度taだけ生
じる毎にタイミング信号T3 をエッジ検出回路18に出
力する。このエッジ検出回路18は、タイミング信号T
1 或いはT3 によりアップダウンカウンタ17へのイネ
ーブル信号Enを解除する。このイネーブル信号Enの
解除により、半導体レーザ1の光量制御が行われる。こ
れにより、タイミング信号T1 により従来と同様のタイ
ミング(電源投入時、プリントON時、紙挿入間等)で
“出力制御”を行うことができる。また、待機状態にお
いても、タイマー21からのタイミング信号T3 によ
り、ある一定の温度変化が生じる毎に“出力制御”を行
うことができる。
(例えば、サーミスタ)は、装置内部の半導体レーザ1
の近傍に配置されており、これにより半導体レーザ1の
温度を検出している。タイミング信号発生回路25は、
複写機が待機状態であることを示すレディー信号T0 が
本体制御回路から入力されている時のみにタイミング信
号T3 を発生する。タイミング信号発生回路25は、待
機状態において、温度変化がある一定の温度taだけ生
じる毎にタイミング信号T3 をエッジ検出回路18に出
力する。このエッジ検出回路18は、タイミング信号T
1 或いはT3 によりアップダウンカウンタ17へのイネ
ーブル信号Enを解除する。このイネーブル信号Enの
解除により、半導体レーザ1の光量制御が行われる。こ
れにより、タイミング信号T1 により従来と同様のタイ
ミング(電源投入時、プリントON時、紙挿入間等)で
“出力制御”を行うことができる。また、待機状態にお
いても、タイマー21からのタイミング信号T3 によ
り、ある一定の温度変化が生じる毎に“出力制御”を行
うことができる。
【0038】ここで、半導体レーザ1のレーザ出力制御
の具体例を図5に基づいて説明する。今、複写機が待機
状態となった時点のLDの温度Toからn×taの温度
変化があると、タイミング信号発生回路25からタイミ
ング信号T3 が発生する。これにより、タイミング信号
T3 により出力制御が行われ、LDの出力は波形dのよ
うになり、待機状態となった時点の出力からは大きく変
化しない。
の具体例を図5に基づいて説明する。今、複写機が待機
状態となった時点のLDの温度Toからn×taの温度
変化があると、タイミング信号発生回路25からタイミ
ング信号T3 が発生する。これにより、タイミング信号
T3 により出力制御が行われ、LDの出力は波形dのよ
うになり、待機状態となった時点の出力からは大きく変
化しない。
【0039】上述したように、待機状態において、環境
温度が大きく低下しても、その待機中に半導体レーザ1
の温度を検出してその温度変化がある一定レベルとなる
度に半導体レーザ1の出力制御を行わせるようにしたの
で、半導体レーザを定格出力以上の出力で発光させるよ
うなことがなくなり、素子の劣化を防止することができ
る。
温度が大きく低下しても、その待機中に半導体レーザ1
の温度を検出してその温度変化がある一定レベルとなる
度に半導体レーザ1の出力制御を行わせるようにしたの
で、半導体レーザを定格出力以上の出力で発光させるよ
うなことがなくなり、素子の劣化を防止することができ
る。
【0040】なお、本実施例においては、温度検出器2
3を半導体レーザ1の近傍に取付けた例について述べた
が、これに限るものではなく他の場所に設置するように
してもよい。このような場合には、温度測定点の温度
と、半導体レーザ部の温度との関係を予め求めておき、
測定された温度から半導体レーザ部の温度を予測して、
これによりタイミング信号T3 を発生させるようにすれ
ばよい。
3を半導体レーザ1の近傍に取付けた例について述べた
が、これに限るものではなく他の場所に設置するように
してもよい。このような場合には、温度測定点の温度
と、半導体レーザ部の温度との関係を予め求めておき、
測定された温度から半導体レーザ部の温度を予測して、
これによりタイミング信号T3 を発生させるようにすれ
ばよい。
【0041】次に、請求項3記載の発明の一実施例を図
6及び図7に基づいて説明する。なお、請求項1記載の
発明(図1)と同一部分についての説明は省略し、その
同一部分については同一符号を用いる。
6及び図7に基づいて説明する。なお、請求項1記載の
発明(図1)と同一部分についての説明は省略し、その
同一部分については同一符号を用いる。
【0042】本実施例では、図6に示す半導体レーザ出
力制御装置において、レーザビーム走査装置3の情報書
込待機時に、光検出器12からの出力に応じて半導体レ
ーザ1の出力制御を行うレーザ出力制御手段26を設け
たものである。この場合、レーザ出力制御手段26は、
タイミング信号T4 を発生するタイミング信号発生回路
25、エッジ検出回路18等により構成されている。タ
イミング信号発生回路25には、増幅器15からの出力
信号が送られるようになっている。
力制御装置において、レーザビーム走査装置3の情報書
込待機時に、光検出器12からの出力に応じて半導体レ
ーザ1の出力制御を行うレーザ出力制御手段26を設け
たものである。この場合、レーザ出力制御手段26は、
タイミング信号T4 を発生するタイミング信号発生回路
25、エッジ検出回路18等により構成されている。タ
イミング信号発生回路25には、増幅器15からの出力
信号が送られるようになっている。
【0043】このような構成において、タイミング信号
発生回路25は、複写機が待機状態であることを示すレ
ディー信号T0 が本制御回路から入力されている時のみ
にタイミング信号T4 を出力する。また、タイミング信
号発生回路25には、半導体レーザ1からのレーザビー
ムの強度に比例する信号が、増幅器15を介して入力さ
れる。そして、そのタイミング信号発生回路25は、待
機状態において、増幅器15からの出力の変化がある一
定値Vpだけ生じる度にタイミング信号T4 をエッジ検
出回路18に出力する。このエッジ検出回路18は、タ
イミング信号T1 或いはT4 によりアップダウンカウン
タ17へのイネーブル信号Enを解除する。このイネー
ブル信号Enの解除により、LDの光量制御を行うこと
ができる。これにより、タイミング信号T1 により従来
と同様なタイミングで出力制御を行うことができる。ま
た、待機状態においても、タイミング信号発生回路25
からのタイミング信号T4 により、レーザビームの強度
にある一定の出力差が生じる度に出力制御を行うことが
できる。
発生回路25は、複写機が待機状態であることを示すレ
ディー信号T0 が本制御回路から入力されている時のみ
にタイミング信号T4 を出力する。また、タイミング信
号発生回路25には、半導体レーザ1からのレーザビー
ムの強度に比例する信号が、増幅器15を介して入力さ
れる。そして、そのタイミング信号発生回路25は、待
機状態において、増幅器15からの出力の変化がある一
定値Vpだけ生じる度にタイミング信号T4 をエッジ検
出回路18に出力する。このエッジ検出回路18は、タ
イミング信号T1 或いはT4 によりアップダウンカウン
タ17へのイネーブル信号Enを解除する。このイネー
ブル信号Enの解除により、LDの光量制御を行うこと
ができる。これにより、タイミング信号T1 により従来
と同様なタイミングで出力制御を行うことができる。ま
た、待機状態においても、タイミング信号発生回路25
からのタイミング信号T4 により、レーザビームの強度
にある一定の出力差が生じる度に出力制御を行うことが
できる。
【0044】ここで、半導体レーザ1のレーザ出力制御
の具体例を図7に基づいて説明する。複写機が待機状態
となった時の光検出器12の出力Vref からVpの出力
があると、タイミング信号発生回路25からタイミング
信号T4 が発生する。このタイミング信号T4 により出
力制御が行われ、LDの出力は波形eのようになり、待
機状態となった時点の出力から大きく変化しない。
の具体例を図7に基づいて説明する。複写機が待機状態
となった時の光検出器12の出力Vref からVpの出力
があると、タイミング信号発生回路25からタイミング
信号T4 が発生する。このタイミング信号T4 により出
力制御が行われ、LDの出力は波形eのようになり、待
機状態となった時点の出力から大きく変化しない。
【0045】上述したように、待機状態において、環境
温度が大きく低下しても、この待機状態中に半導体レー
ザ1の出力をモニターして、この出力変化がある一定レ
ベルとなる度に半導体レーザ1の出力制御を行うことが
できるため、半導体レーザ1を定格出力以上の出力で発
光させるようなことがなくなり、これにより素子の劣化
を防止することが可能となる。
温度が大きく低下しても、この待機状態中に半導体レー
ザ1の出力をモニターして、この出力変化がある一定レ
ベルとなる度に半導体レーザ1の出力制御を行うことが
できるため、半導体レーザ1を定格出力以上の出力で発
光させるようなことがなくなり、これにより素子の劣化
を防止することが可能となる。
【0046】なお、本実施例においては、待機状態にお
けるLDの出力をモニターするために、LDを出力させ
る必要がある。そこで、待機状態においては、同期信号
を発生させるために、情報書込み領域外でLDを発光さ
せている時のLDの出力をモニターするようにすればよ
い。さらに、ここでは、半導体レーザ1の出力のモニタ
ーを光検出器12により行う場合の例について述べた
が、この他の手段としてその出力をモニターするように
してもよく、例えば、同期信号を発生させるために用い
ている光検出器12の出力をモニターするようにしても
よい。
けるLDの出力をモニターするために、LDを出力させ
る必要がある。そこで、待機状態においては、同期信号
を発生させるために、情報書込み領域外でLDを発光さ
せている時のLDの出力をモニターするようにすればよ
い。さらに、ここでは、半導体レーザ1の出力のモニタ
ーを光検出器12により行う場合の例について述べた
が、この他の手段としてその出力をモニターするように
してもよく、例えば、同期信号を発生させるために用い
ている光検出器12の出力をモニターするようにしても
よい。
【0047】ところで、通常における複写機の待機状態
においては、感光体8は回転せず停止状態にある。この
ためそのような待機状態において、請求項1〜3記載の
発明の出力制御の動作を行わせると、出力制御の動作を
行う度にレーザビームを停止した感光体8の同一箇所に
露光させることになり、これにより感光体8のある一部
分だけを劣化させる恐れがある。そこで、このような不
具合を防止することを目的として、以下に述べるような
請求項4〜9記載の発明についての説明を順次行ってい
くことにする。
においては、感光体8は回転せず停止状態にある。この
ためそのような待機状態において、請求項1〜3記載の
発明の出力制御の動作を行わせると、出力制御の動作を
行う度にレーザビームを停止した感光体8の同一箇所に
露光させることになり、これにより感光体8のある一部
分だけを劣化させる恐れがある。そこで、このような不
具合を防止することを目的として、以下に述べるような
請求項4〜9記載の発明についての説明を順次行ってい
くことにする。
【0048】そこで、請求項4記載の発明の一実施例を
図8に基づいて説明する。図8は、請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
図8に基づいて説明する。図8は、請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
【0049】レーザ出力制御手段22には、レーザビー
ム走査装置3の情報書込待機時に、レーザビームの情報
書込領域以外にて半導体レーザ1の出力制御を行わせる
ためにレーザビーム結像位置制御手段としての信号処理
回路27が設けられている。この信号処理回路27に
は、複写機が待機状態であることを示すレディー信号T
0 が本体制御回路から入力されていると共に、光検出器
9からの同期信号によりタイミングを制御し、待機状態
においては、情報書込領域外のみにおいて半導体レーザ
1を駆動させる。このようなことから、待機状態におい
ては出力制御はレーザビームが情報書込領域外を走査し
ている時のみに行われることになる。
ム走査装置3の情報書込待機時に、レーザビームの情報
書込領域以外にて半導体レーザ1の出力制御を行わせる
ためにレーザビーム結像位置制御手段としての信号処理
回路27が設けられている。この信号処理回路27に
は、複写機が待機状態であることを示すレディー信号T
0 が本体制御回路から入力されていると共に、光検出器
9からの同期信号によりタイミングを制御し、待機状態
においては、情報書込領域外のみにおいて半導体レーザ
1を駆動させる。このようなことから、待機状態におい
ては出力制御はレーザビームが情報書込領域外を走査し
ている時のみに行われることになる。
【0050】上述したように、待機状態中に半導体レー
ザ1の出力制御を行っても、レーザビームが情報書込領
域外を走査している時にのみ半導体レーザ1を発光させ
るため、静止した感光体8上をレーザビームが露光する
ことをなくすことができ、これにより感光体8の表面の
劣化を防止することができる。
ザ1の出力制御を行っても、レーザビームが情報書込領
域外を走査している時にのみ半導体レーザ1を発光させ
るため、静止した感光体8上をレーザビームが露光する
ことをなくすことができ、これにより感光体8の表面の
劣化を防止することができる。
【0051】次に、請求項5記載の発明の一実施例を図
9に基づいて説明する。図9は、請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
9に基づいて説明する。図9は、請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
【0052】レーザ出力制御手段22には、レーザビー
ム走査装置3の情報書込待機時に、偏向手段としての回
転多面鏡3a(ポリゴンミラー)の停止回転位置を制御
してレーザビームを情報書込領域以外に停止させた状態
で半導体レーザ1に出力制御を行わせるために、レーザ
ビーム結像位置制御手段としてのポリゴンモータ制御回
路28が設けられている。このポリゴンモータ制御回路
28は、ポリゴンモータ3bの回転を制御する。そこ
で、このようなポリゴンモータ制御回路28を設けた理
由について述べる。前述した請求項4記載の発明におい
ては、同期信号を用いて出力制御を情報書込領域外で行
わせるようにしていた。しかし、この情報書込領域外を
レーザビームが走査している時間は非常に短いため、出
力制御を高速で行わせなくてはならず、回路上の制約を
受ける。そこで、本実施例では、待機状態において出力
制御を行わせる時にポリゴンモータ3bの回転を停止さ
せると共に、ポリゴンモータ3bの回転停止位置を制御
してレーザビームを情報書込領域外へ向かわせるように
したものである。
ム走査装置3の情報書込待機時に、偏向手段としての回
転多面鏡3a(ポリゴンミラー)の停止回転位置を制御
してレーザビームを情報書込領域以外に停止させた状態
で半導体レーザ1に出力制御を行わせるために、レーザ
ビーム結像位置制御手段としてのポリゴンモータ制御回
路28が設けられている。このポリゴンモータ制御回路
28は、ポリゴンモータ3bの回転を制御する。そこ
で、このようなポリゴンモータ制御回路28を設けた理
由について述べる。前述した請求項4記載の発明におい
ては、同期信号を用いて出力制御を情報書込領域外で行
わせるようにしていた。しかし、この情報書込領域外を
レーザビームが走査している時間は非常に短いため、出
力制御を高速で行わせなくてはならず、回路上の制約を
受ける。そこで、本実施例では、待機状態において出力
制御を行わせる時にポリゴンモータ3bの回転を停止さ
せると共に、ポリゴンモータ3bの回転停止位置を制御
してレーザビームを情報書込領域外へ向かわせるように
したものである。
【0053】ポリゴンモータ制御回路28には、レディ
ー信号T0 及び光検出器9からの同期信号aが入力され
るようになっており、待機状態においては、ポリゴンモ
ータ3bの回転を停止させるように制御していると共
に、その回転角も制御しており、同期信号を用いてレー
ザビームが情報書込領域外へ向かうようにしている。従
って、待機状態における出力制御は、レーザビームが情
報書込領域外へ向いた状態で行われることになるため、
レーザビームの照射による感光体8の情報書込領域上の
劣化を防止することができる。
ー信号T0 及び光検出器9からの同期信号aが入力され
るようになっており、待機状態においては、ポリゴンモ
ータ3bの回転を停止させるように制御していると共
に、その回転角も制御しており、同期信号を用いてレー
ザビームが情報書込領域外へ向かうようにしている。従
って、待機状態における出力制御は、レーザビームが情
報書込領域外へ向いた状態で行われることになるため、
レーザビームの照射による感光体8の情報書込領域上の
劣化を防止することができる。
【0054】なお、本実施例においては、待機状態にお
いては、常にポリゴンモータ3bをレーザビームが情報
書込領域外へ向かうように制御させた場合について述べ
たが、実際には、出力制御を行う時のみ、ポリゴンモー
タ3bをレーザビームが情報書込領域外へ向かうように
制御すればよい。そこで、待機状態に出力制御を行うタ
イミング信号T2 により、ポリゴンモータ3bの回転制
御(停止及び回転角制御)を行わせるようにしてもよ
い。
いては、常にポリゴンモータ3bをレーザビームが情報
書込領域外へ向かうように制御させた場合について述べ
たが、実際には、出力制御を行う時のみ、ポリゴンモー
タ3bをレーザビームが情報書込領域外へ向かうように
制御すればよい。そこで、待機状態に出力制御を行うタ
イミング信号T2 により、ポリゴンモータ3bの回転制
御(停止及び回転角制御)を行わせるようにしてもよ
い。
【0055】次に、請求項6記載の発明の一実施例を図
10に基づいて説明する。図10は請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
10に基づいて説明する。図10は請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
【0056】レーザ出力制御手段には、レーザビーム走
査装置の情報書込待機時に、感光体8を駆動した状態で
半導体レーザ1の出力制御を行わせるために、レーザビ
ーム結像位置制御手段としての感光体駆動制御回路29
が設けられている。この感光体駆動制御回路29には、
タイマー21からタイミング信号T2 が入力され、この
タイミング信号T2 により出力制御が行われる時には、
感光体モータ30を駆動させて感光体8を回転させるよ
うに制御する。このため、待機状態に出力制御が行われ
る時には、感光体8は回転している状態となり、感光体
8の同一箇所を繰り返して走査露光するというようなこ
とがなくなり、これにより感光体8表面の劣化を防止す
ることができる。
査装置の情報書込待機時に、感光体8を駆動した状態で
半導体レーザ1の出力制御を行わせるために、レーザビ
ーム結像位置制御手段としての感光体駆動制御回路29
が設けられている。この感光体駆動制御回路29には、
タイマー21からタイミング信号T2 が入力され、この
タイミング信号T2 により出力制御が行われる時には、
感光体モータ30を駆動させて感光体8を回転させるよ
うに制御する。このため、待機状態に出力制御が行われ
る時には、感光体8は回転している状態となり、感光体
8の同一箇所を繰り返して走査露光するというようなこ
とがなくなり、これにより感光体8表面の劣化を防止す
ることができる。
【0057】次に、請求項7記載の発明の一実施例を図
11に基づいて説明する。図11は請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
11に基づいて説明する。図11は請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
【0058】筐体14内のレーザビームの出射口の付近
にはシャッター31が配置されており、このシャッター
31はソレノイド32により矢印方向に移動できるよう
になっている。これらシャッター31とソレノイド32
とは、遮断手段33を構成している。また、レーザ出力
制御手段22には、レーザビーム走査装置3の情報書込
待機時に、前記遮断手段33によりレーザビームが遮断
された状態で半導体レーザ1の出力制御を行わせるため
に、レーザビーム結像位置制御手段としてのソレノイド
駆動制御回路34が設けられている。
にはシャッター31が配置されており、このシャッター
31はソレノイド32により矢印方向に移動できるよう
になっている。これらシャッター31とソレノイド32
とは、遮断手段33を構成している。また、レーザ出力
制御手段22には、レーザビーム走査装置3の情報書込
待機時に、前記遮断手段33によりレーザビームが遮断
された状態で半導体レーザ1の出力制御を行わせるため
に、レーザビーム結像位置制御手段としてのソレノイド
駆動制御回路34が設けられている。
【0059】このソレノイド駆動制御回路34には、タ
イマー21からタイミング信号T2が入力され、出力制
御が行われる時には、ソレノイド32を駆動し、シャッ
ター31を図中左方向へ移動させるように制御する。こ
れにより待機状態において出力制御が行われる時には、
そのシャッター31により出射口が閉じられ、レーザビ
ームは感光体8の面上に照射されなくなる。
イマー21からタイミング信号T2が入力され、出力制
御が行われる時には、ソレノイド32を駆動し、シャッ
ター31を図中左方向へ移動させるように制御する。こ
れにより待機状態において出力制御が行われる時には、
そのシャッター31により出射口が閉じられ、レーザビ
ームは感光体8の面上に照射されなくなる。
【0060】上述したように、シャッター31を用いて
レーザビームの遮断を行うことにより、感光体8上をレ
ーザビームが露光することがなくなり、これにより感光
体8の表面上の劣化を防止することができる。
レーザビームの遮断を行うことにより、感光体8上をレ
ーザビームが露光することがなくなり、これにより感光
体8の表面上の劣化を防止することができる。
【0061】なお、本実施例では、シャッター31を出
射口に配置した場合について述べたが、シャッター31
の位置はこの位置に限られるものではなく、レーザビー
ムの光路上のどこの位置でもよい。その一例として、コ
リメートレンズ2とポリゴンミラー3aとの間の光路上
に配置するようにしてもよい。また、シャッター31
は、機械(メカ)的な構造の他に、液晶シャッター等の
光学的なものを用いるようにしてもよい。また、ここで
は、シャッター等によるレーザビームの遮断を待機状態
において出力制御が行われる時のみに実行させる場合に
ついて述べたが、待機状態においては感光体8上をレー
ザビームにより露光させる必要はない。そこで、待機状
態においては、常にレーザビームを遮断させるようにし
てもよく、この場合には、例えば、レディー信号により
ソレノイド32を駆動制御させるような構成とすればよ
い。
射口に配置した場合について述べたが、シャッター31
の位置はこの位置に限られるものではなく、レーザビー
ムの光路上のどこの位置でもよい。その一例として、コ
リメートレンズ2とポリゴンミラー3aとの間の光路上
に配置するようにしてもよい。また、シャッター31
は、機械(メカ)的な構造の他に、液晶シャッター等の
光学的なものを用いるようにしてもよい。また、ここで
は、シャッター等によるレーザビームの遮断を待機状態
において出力制御が行われる時のみに実行させる場合に
ついて述べたが、待機状態においては感光体8上をレー
ザビームにより露光させる必要はない。そこで、待機状
態においては、常にレーザビームを遮断させるようにし
てもよく、この場合には、例えば、レディー信号により
ソレノイド32を駆動制御させるような構成とすればよ
い。
【0062】次に、請求項8記載の発明の一実施例を図
12に基づいて説明する。図12は請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
12に基づいて説明する。図12は請求項1記載の発明
(図1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行
わせた時の感光体8の表面の劣化を防止するための例に
ついて述べたものである。なお、本実施例は、請求項1
記載の発明の他に、請求項2〜3記載の発明の場合にも
適用させることが可能である。
【0063】筐体14内のレーザビームの出射光路上に
は、ミラー35が配設されている。このミラー35に
は、スプリング36とソレノイド37とが取付けられて
いる。ミラー35はPを支点として回転自在に設けられ
ている。これらミラー35と、スプリング36と、ソレ
ノイド37とは、ビーム角度偏向手段38を構成してい
る。また、レーザ出力制御手段22には、レーザビーム
走査装置3の情報書込待機時に、ビーム角度偏向手段3
8によりレーザビームを感光体8上から退避させた状態
で半導体レーザの出力制御を行わせるために、レーザビ
ーム結像位置制御手段としてのソレノイド駆動制御回路
39が設けらている。
は、ミラー35が配設されている。このミラー35に
は、スプリング36とソレノイド37とが取付けられて
いる。ミラー35はPを支点として回転自在に設けられ
ている。これらミラー35と、スプリング36と、ソレ
ノイド37とは、ビーム角度偏向手段38を構成してい
る。また、レーザ出力制御手段22には、レーザビーム
走査装置3の情報書込待機時に、ビーム角度偏向手段3
8によりレーザビームを感光体8上から退避させた状態
で半導体レーザの出力制御を行わせるために、レーザビ
ーム結像位置制御手段としてのソレノイド駆動制御回路
39が設けらている。
【0064】このソレノイド駆動制御回路39には、タ
イマー21からタイミング信号T2が入力され、このタ
イミング信号T2 により出力制御が行われる時にはソレ
ノイド37を駆動し、このソレノイド37によりミラー
35はP点を支点として時計方向に回転させられる。こ
のため、待機状態に出力制御が行われる時には、ミラー
35のレーザビームに対する角度が変えられ、これによ
りミラー35による反射光が感光体8の面上から退避し
露光されなくなる。
イマー21からタイミング信号T2が入力され、このタ
イミング信号T2 により出力制御が行われる時にはソレ
ノイド37を駆動し、このソレノイド37によりミラー
35はP点を支点として時計方向に回転させられる。こ
のため、待機状態に出力制御が行われる時には、ミラー
35のレーザビームに対する角度が変えられ、これによ
りミラー35による反射光が感光体8の面上から退避し
露光されなくなる。
【0065】上述したように、ミラー35を用いてレー
ザビームを感光体8の表面から退避させることにより、
感光体8の表面の劣化を防止することができる。
ザビームを感光体8の表面から退避させることにより、
感光体8の表面の劣化を防止することができる。
【0066】なお、本実施例では、レーザビームを感光
体8の面上から退避させる方法として、ミラー35の傾
きを変更させる場合の例について述べたが、これに限る
ものではなく、レーザビーム光路上の光学部品の傾きを
変更させることによりレーザビームを感光体8の面上か
ら退避させることもでき、例えば、ポリゴンミラー3a
の角度を偏向させるようにしてもよい。また、ここで
は、ミラー35等の角度を偏向させてレーザビームを感
光体8上から退避させる動作を待機状態において出力制
御が行われる時のみに実行させる場合について述べた
が、その待機状態においてはレーザビームを感光体8の
面上から常に退避させるようにしてもよい。次に、請求
項9記載の発明の一実施例を図13に基づいて説明す
る。図13は請求項1記載の発明(図1参照)を用い、
待機状態において、出力制御を行わせた時の感光体8の
表面の劣化を防止するための例について述べたものであ
る。なお、本実施例は、請求項1記載の発明の他に、請
求項2〜3記載の発明の場合にも適用させることが可能
である。
体8の面上から退避させる方法として、ミラー35の傾
きを変更させる場合の例について述べたが、これに限る
ものではなく、レーザビーム光路上の光学部品の傾きを
変更させることによりレーザビームを感光体8の面上か
ら退避させることもでき、例えば、ポリゴンミラー3a
の角度を偏向させるようにしてもよい。また、ここで
は、ミラー35等の角度を偏向させてレーザビームを感
光体8上から退避させる動作を待機状態において出力制
御が行われる時のみに実行させる場合について述べた
が、その待機状態においてはレーザビームを感光体8の
面上から常に退避させるようにしてもよい。次に、請求
項9記載の発明の一実施例を図13に基づいて説明す
る。図13は請求項1記載の発明(図1参照)を用い、
待機状態において、出力制御を行わせた時の感光体8の
表面の劣化を防止するための例について述べたものであ
る。なお、本実施例は、請求項1記載の発明の他に、請
求項2〜3記載の発明の場合にも適用させることが可能
である。
【0067】半導体レーザ1の出射光路上には、レンズ
としてのコリメートレンズ2aが配設されている。この
コリメートレンズ2aは、ソレノイド40により光軸方
向(矢印方向)に移動できるようになっている。これら
コリメートレンズ2aと、ソレノイド40とは、レンズ
移動手段41を構成している。また、レーザ出力制御手
段22には、レーザビーム走査装置3の情報書込待機時
に、レンズ移動手段41によりコリメートレンズ2aを
移動させレーザビームの結像位置が感光体8上より移動
した状態で半導体レーザ1の出力制御動作を行わせるた
めにレーザビーム結像位置制御手段としてのソレノイド
駆動制御回路42が設けられている。
としてのコリメートレンズ2aが配設されている。この
コリメートレンズ2aは、ソレノイド40により光軸方
向(矢印方向)に移動できるようになっている。これら
コリメートレンズ2aと、ソレノイド40とは、レンズ
移動手段41を構成している。また、レーザ出力制御手
段22には、レーザビーム走査装置3の情報書込待機時
に、レンズ移動手段41によりコリメートレンズ2aを
移動させレーザビームの結像位置が感光体8上より移動
した状態で半導体レーザ1の出力制御動作を行わせるた
めにレーザビーム結像位置制御手段としてのソレノイド
駆動制御回路42が設けられている。
【0068】通常時(コピー動作時)には、ソレノイド
40は駆動されないため、コリメートレンズ2aは正規
の箇所に位置し、半導体レーザ1から出射されたレーザ
ビームを正確にコリメートする。一方、待機状態におい
て出力制御が行われる時には、タイマー21からのタイ
ミング信号T2 がソレノイド駆動制御回路42に入力さ
れ、これによりソレノイド40が駆動され、コリメート
レンズ2aが正規の箇所から光軸方向に移動する。この
移動によりレーザビームはコリメートされない状態とな
り、感光体8上では結像位置がずれた位置となり、レー
ザビームは結像されずボケた状態となる。このように感
光体8の面上のボケた状態でのレーザビームの単位面積
当たりの光強度は、結像された状態での光強度と比べて
非常に小さなものとすることができるため、感光体8の
面上に与える影響も非常に小さなものとすることができ
る。
40は駆動されないため、コリメートレンズ2aは正規
の箇所に位置し、半導体レーザ1から出射されたレーザ
ビームを正確にコリメートする。一方、待機状態におい
て出力制御が行われる時には、タイマー21からのタイ
ミング信号T2 がソレノイド駆動制御回路42に入力さ
れ、これによりソレノイド40が駆動され、コリメート
レンズ2aが正規の箇所から光軸方向に移動する。この
移動によりレーザビームはコリメートされない状態とな
り、感光体8上では結像位置がずれた位置となり、レー
ザビームは結像されずボケた状態となる。このように感
光体8の面上のボケた状態でのレーザビームの単位面積
当たりの光強度は、結像された状態での光強度と比べて
非常に小さなものとすることができるため、感光体8の
面上に与える影響も非常に小さなものとすることができ
る。
【0069】上述したように、待機状態において出力制
御を行わせる場合に、レーザビームの光路上のコリメー
トレンズ2aを光軸方向に移動させることにより、感光
体8から結像位置をずらし(デフォーカスし)、これに
よりレーザビームの露光により感光体8の表面に与える
影響を小さくし劣化を防止させることができる。
御を行わせる場合に、レーザビームの光路上のコリメー
トレンズ2aを光軸方向に移動させることにより、感光
体8から結像位置をずらし(デフォーカスし)、これに
よりレーザビームの露光により感光体8の表面に与える
影響を小さくし劣化を防止させることができる。
【0070】なお、本実施例においては、レーザビーム
の光路上のコリメートレンズ2aを光軸方向に移動させ
る動作を、待機状態において出力制御が行われる時のみ
実行させる場合について述べたが、この他に待機状態に
おいては常にデフォーカスさせるようにしてもよい。
の光路上のコリメートレンズ2aを光軸方向に移動させ
る動作を、待機状態において出力制御が行われる時のみ
実行させる場合について述べたが、この他に待機状態に
おいては常にデフォーカスさせるようにしてもよい。
【0071】また、これまで述べた請求項7〜9の発明
の実施例(図11〜図13)において、シャッター3
1、ミラー35、コリメートレンズ2aを移動又は回転
させる手段として、それぞれソレノイド32,37,4
0を使用した場合の例について述べたが、この他に例え
ば、圧電アクチュエータ、モータにラックとピニオンを
組み合わせた構成とすることも可能である。
の実施例(図11〜図13)において、シャッター3
1、ミラー35、コリメートレンズ2aを移動又は回転
させる手段として、それぞれソレノイド32,37,4
0を使用した場合の例について述べたが、この他に例え
ば、圧電アクチュエータ、モータにラックとピニオンを
組み合わせた構成とすることも可能である。
【0072】次に、請求項10記載の発明の一実施例に
ついて説明する。本実施例は、請求項1記載の発明(図
1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行わせ
た時の感光体8の表面の劣化を防止するための例につい
て述べたものである。
ついて説明する。本実施例は、請求項1記載の発明(図
1参照)を用い、待機状態において、出力制御を行わせ
た時の感光体8の表面の劣化を防止するための例につい
て述べたものである。
【0073】図1の装置において、タイマー21から出
力されたタイミング信号T2 に応じて感光体8を短時間
駆動させる図示しない感光体短時間駆動制御手段が設け
られている。また、その感光体短時間駆動制御手段の駆
動前後の前記感光体8上へ照射されるレーザビームの結
像位置が異なるように制御する図示しないレーザビーム
結像位置制御手段が設けられている。
力されたタイミング信号T2 に応じて感光体8を短時間
駆動させる図示しない感光体短時間駆動制御手段が設け
られている。また、その感光体短時間駆動制御手段の駆
動前後の前記感光体8上へ照射されるレーザビームの結
像位置が異なるように制御する図示しないレーザビーム
結像位置制御手段が設けられている。
【0074】このような構成において、感光体短時間駆
動制御手段及びレーザビーム結像位置制御手段を用い
て、待機状態中に一定の時間毎に、感光体8の面上での
レーザビーム結像位置を移動させることができるため、
レーザビームの出力制御を行っても常に感光体8面上の
同一位置にレーザビームが照射されることがなく、感光
体8への露光による影響を小さくでき、これにより感光
体8の表面の劣化を防止させることができる。しかも、
この場合、待機状態中の感光体8の駆動時間も短いた
め、騒音も出にくくなる。
動制御手段及びレーザビーム結像位置制御手段を用い
て、待機状態中に一定の時間毎に、感光体8の面上での
レーザビーム結像位置を移動させることができるため、
レーザビームの出力制御を行っても常に感光体8面上の
同一位置にレーザビームが照射されることがなく、感光
体8への露光による影響を小さくでき、これにより感光
体8の表面の劣化を防止させることができる。しかも、
この場合、待機状態中の感光体8の駆動時間も短いた
め、騒音も出にくくなる。
【0075】次に、請求項11記載の発明の一実施例に
ついて説明する。本実施例は、請求項2,3記載の発明
(図4,6参照)を用い、待機状態において、出力制御
を行わせた時の感光体8面上の劣化を防止するための例
について述べたものである。
ついて説明する。本実施例は、請求項2,3記載の発明
(図4,6参照)を用い、待機状態において、出力制御
を行わせた時の感光体8面上の劣化を防止するための例
について述べたものである。
【0076】図1の装置において、タイミング信号T2
を発生するタイマー(図1のタイマー21参照)を設
け、このタイマーから出力されたタイミング信号T2 に
応じて感光体8を短時間駆動させる図示しない感光体短
時間駆動制御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手
段の駆動前後の感光体8面上へ照射されるレーザビーム
の結像位置が異なるように制御する図示しないレーザビ
ーム結像位置制御手段を設けたものである。
を発生するタイマー(図1のタイマー21参照)を設
け、このタイマーから出力されたタイミング信号T2 に
応じて感光体8を短時間駆動させる図示しない感光体短
時間駆動制御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手
段の駆動前後の感光体8面上へ照射されるレーザビーム
の結像位置が異なるように制御する図示しないレーザビ
ーム結像位置制御手段を設けたものである。
【0077】このような構成において、タイマー、感光
体短時間駆動制御手段、レーザビーム結像位置制御手段
を用いて、待機状態中に一定の時間毎に、感光体8の面
上でのレーザビーム結像位置を移動させることができる
ため、レーザビームの出力制御を行っても常に感光体8
面上の同一位置にレーザビームが照射されることがな
く、感光体8への露光による影響を小さくでき、これに
より感光体8の表面の劣化を防止させることができる。
しかも、この場合、待機状態中の感光体8の駆動時間も
短いため、騒音も出にくくなる。
体短時間駆動制御手段、レーザビーム結像位置制御手段
を用いて、待機状態中に一定の時間毎に、感光体8の面
上でのレーザビーム結像位置を移動させることができる
ため、レーザビームの出力制御を行っても常に感光体8
面上の同一位置にレーザビームが照射されることがな
く、感光体8への露光による影響を小さくでき、これに
より感光体8の表面の劣化を防止させることができる。
しかも、この場合、待機状態中の感光体8の駆動時間も
短いため、騒音も出にくくなる。
【0078】
【発明の効果】請求項1記載の発明は、半導体レーザか
らのレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動
制御手段により駆動される感光体上を走査してその表面
上に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半
導体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前
記光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により
比較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体
レーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レ
ーザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、タイミング信号を発生するタイマーを設け、前記レ
ーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記タイマー
からの出力に応じて前記半導体レーザの出力制御を行う
レーザ出力制御手段を設けたので、待機状態において、
環境温度が大きく低下しても、その待機中にある一定の
時間間隔で半導体レーザの出力制御を行わせることが可
能なため、半導体レーザを定格出力以上の出力で発光さ
せて劣化を防止させることができるものである。
らのレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動
制御手段により駆動される感光体上を走査してその表面
上に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半
導体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前
記光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により
比較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体
レーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レ
ーザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、タイミング信号を発生するタイマーを設け、前記レ
ーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記タイマー
からの出力に応じて前記半導体レーザの出力制御を行う
レーザ出力制御手段を設けたので、待機状態において、
環境温度が大きく低下しても、その待機中にある一定の
時間間隔で半導体レーザの出力制御を行わせることが可
能なため、半導体レーザを定格出力以上の出力で発光さ
せて劣化を防止させることができるものである。
【0079】請求項2記載の発明は、半導体レーザから
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の温度を検出する温度検
出手段を設け、前記レーザビーム走査装置の情報書込待
機時に、前記温度検出手段からの出力に応じて前記半導
体レーザの出力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた
ので、待機状態において、環境感度が大きく低下して
も、その待機中に半導体レーザの温度を検出してその温
度変化がある一定レベルとなる度に半導体レーザの出力
制御を行わせることが可能なため、半導体レーザを定格
出力以上の出力で発光させて劣化を防止させることがで
きるものである。
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の温度を検出する温度検
出手段を設け、前記レーザビーム走査装置の情報書込待
機時に、前記温度検出手段からの出力に応じて前記半導
体レーザの出力制御を行うレーザ出力制御手段を設けた
ので、待機状態において、環境感度が大きく低下して
も、その待機中に半導体レーザの温度を検出してその温
度変化がある一定レベルとなる度に半導体レーザの出力
制御を行わせることが可能なため、半導体レーザを定格
出力以上の出力で発光させて劣化を防止させることがで
きるものである。
【0080】請求項3記載の発明は、半導体レーザから
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前
記光検出手段からの出力に応じて前記半導体レーザの出
力制御を行うレーザ出力制御手段を設けたので、待機状
態において、環境温度が大きく低下しても、その待機中
に半導体レーザの出力をモニターし、その出力変化があ
る一定レベルとなる度に半導体レーザの出力制御を行わ
せることが可能なため、半導体レーザを定格出力以上の
出力で発光させて劣化を防止させることができるもので
ある。
のレーザビームを偏向手段により偏向し、感光体駆動制
御手段により駆動される感光体上を走査してその表面上
に情報を書込むレーザビーム走査装置を備え、前記半導
体レーザのレーザ出力を光検出手段により検出し、前記
光検出手段の出力信号と基準信号とを比較手段により比
較し、その比較手段からの出力信号により前記半導体レ
ーザに流す電流値を制御することにより前記半導体レー
ザの出力制御を行う半導体レーザ出力制御装置におい
て、前記レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前
記光検出手段からの出力に応じて前記半導体レーザの出
力制御を行うレーザ出力制御手段を設けたので、待機状
態において、環境温度が大きく低下しても、その待機中
に半導体レーザの出力をモニターし、その出力変化があ
る一定レベルとなる度に半導体レーザの出力制御を行わ
せることが可能なため、半導体レーザを定格出力以上の
出力で発光させて劣化を防止させることができるもので
ある。
【0081】請求項4記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、レーザビームの
情報書込領域以外にて半導体レーザの出力制御を行うよ
うにレーザビーム結像位置制御手段を設けたので、待機
状態中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビ
ームが情報書込領域外を走査している時にのみ半導体レ
ーザを発光させることが可能なため、静止した状態の感
光体の面上をレーザビームが露光することはなく、これ
により感光体面上の劣化を防止させることができるもの
である。
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、レーザビームの
情報書込領域以外にて半導体レーザの出力制御を行うよ
うにレーザビーム結像位置制御手段を設けたので、待機
状態中に半導体レーザの出力制御を行っても、レーザビ
ームが情報書込領域外を走査している時にのみ半導体レ
ーザを発光させることが可能なため、静止した状態の感
光体の面上をレーザビームが露光することはなく、これ
により感光体面上の劣化を防止させることができるもの
である。
【0082】請求項5記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、偏向手段の停止
回転位置を制御してレーザビームを情報書込領域以外に
停止させた状態で半導体レーザの出力制御を行うように
レーザビーム結像位置制御手段を設けたので、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行ってもポリゴンモータ
を停止させ、レーザビームが情報書込領域外に静止して
いる状態で半導体レーザを発光させることが可能なた
め、静止した状態の感光体の面上をレーザビームが露光
することはなく、これにより感光体面上の劣化を防止さ
せることができるものである。
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、偏向手段の停止
回転位置を制御してレーザビームを情報書込領域以外に
停止させた状態で半導体レーザの出力制御を行うように
レーザビーム結像位置制御手段を設けたので、待機状態
中に半導体レーザの出力制御を行ってもポリゴンモータ
を停止させ、レーザビームが情報書込領域外に静止して
いる状態で半導体レーザを発光させることが可能なた
め、静止した状態の感光体の面上をレーザビームが露光
することはなく、これにより感光体面上の劣化を防止さ
せることができるものである。
【0083】請求項6記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、感光体を駆動し
た状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビ
ーム結像位置制御手段を設けたので、待機状態中に半導
体レーザの出力制御を行っても、レーザビームが露光さ
れる時には感光体を回転させることが可能なため、感光
体面上の劣化を防止させることができるものである。
3記載の発明において、レーザ出力制御手段には、レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、感光体を駆動し
た状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビ
ーム結像位置制御手段を設けたので、待機状態中に半導
体レーザの出力制御を行っても、レーザビームが露光さ
れる時には感光体を回転させることが可能なため、感光
体面上の劣化を防止させることができるものである。
【0084】請求項7記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザビームの出射光路上にそ
のレーザビームを遮断する遮断手段を設け、レーザ出力
制御手段は、レーザビーム走査装置の情報書込待機時
に、前記遮断手段によりレーザビームが遮断された状態
で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビーム結
像位置制御手段を設けたので、待機状態中に半導体レー
ザの出力制御を行っても、レーザビームは遮断手段によ
り遮断され、これにより静止した感光体上をレーザビー
ムが露光するようなことをなくすことが可能なため、感
光体面上の劣化を防止させることができるものである。
3記載の発明において、レーザビームの出射光路上にそ
のレーザビームを遮断する遮断手段を設け、レーザ出力
制御手段は、レーザビーム走査装置の情報書込待機時
に、前記遮断手段によりレーザビームが遮断された状態
で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビーム結
像位置制御手段を設けたので、待機状態中に半導体レー
ザの出力制御を行っても、レーザビームは遮断手段によ
り遮断され、これにより静止した感光体上をレーザビー
ムが露光するようなことをなくすことが可能なため、感
光体面上の劣化を防止させることができるものである。
【0085】請求項8記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザビームの出射光路上にビ
ーム反射手段のレーザビームに対する入射角度を偏向す
るビーム角度偏向手段を設け、レーザ出力制御手段は、
レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記ビーム
角度偏向手段によりレーザビームを感光体上から退避さ
せた状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザ
ビーム結像位置制御手段を設けたので、待機状態中に半
導体レーザの出力制御を行っても、レーザビームは感光
体外へ退避した状態となるため、静止した感光体上をレ
ーザビームが露光するようなことはなくすことが可能な
ため、感光体面上の劣化を防止させることができるもの
である。
3記載の発明において、レーザビームの出射光路上にビ
ーム反射手段のレーザビームに対する入射角度を偏向す
るビーム角度偏向手段を設け、レーザ出力制御手段は、
レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記ビーム
角度偏向手段によりレーザビームを感光体上から退避さ
せた状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザ
ビーム結像位置制御手段を設けたので、待機状態中に半
導体レーザの出力制御を行っても、レーザビームは感光
体外へ退避した状態となるため、静止した感光体上をレ
ーザビームが露光するようなことはなくすことが可能な
ため、感光体面上の劣化を防止させることができるもの
である。
【0086】請求項9記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に配
置されたレンズをその光軸方向に移動させるレンズ移動
手段を設け、レーザ出力制御手段は、レーザビーム走査
装置の情報書込待機時に、前記レンズ移動手段により前
記レンズを移動させ前記レーザビームの結像位置が感光
体上より移動した状態で半導体レーザの出力制御動作を
行うようにレーザビーム結像位置制御手段を設けたの
で、待機状態中に半導体レーザの出力制御を行っても、
レーザビームは感光体上では結像せず、レーザビームの
露光による感光体上への影響を小さくさせることが可能
なため、感光体面上の劣化を防止させることができるも
のである。
3記載の発明において、レーザビームの出射光路上に配
置されたレンズをその光軸方向に移動させるレンズ移動
手段を設け、レーザ出力制御手段は、レーザビーム走査
装置の情報書込待機時に、前記レンズ移動手段により前
記レンズを移動させ前記レーザビームの結像位置が感光
体上より移動した状態で半導体レーザの出力制御動作を
行うようにレーザビーム結像位置制御手段を設けたの
で、待機状態中に半導体レーザの出力制御を行っても、
レーザビームは感光体上では結像せず、レーザビームの
露光による感光体上への影響を小さくさせることが可能
なため、感光体面上の劣化を防止させることができるも
のである。
【0087】請求項10記載の発明は、請求項1記載の
発明において、タイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けたので、待機状態中に一定の時間毎に感光体上の
レーザビーム結像位置が移動するため、レーザビームの
出力制御を行っても常に感光体上の同一位置にレーザビ
ームが照射されるようなことはなく、感光体への露光に
よる影響を小さくさせることが可能なため、感光体面上
の劣化を防止させることができ、しかも、待機状態中の
感光体駆動時間も短いため騒音も低減させることができ
るものである。
発明において、タイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けたので、待機状態中に一定の時間毎に感光体上の
レーザビーム結像位置が移動するため、レーザビームの
出力制御を行っても常に感光体上の同一位置にレーザビ
ームが照射されるようなことはなく、感光体への露光に
よる影響を小さくさせることが可能なため、感光体面上
の劣化を防止させることができ、しかも、待機状態中の
感光体駆動時間も短いため騒音も低減させることができ
るものである。
【0088】請求項11記載の発明は、請求項2又は3
記載の発明において、タイミング信号を発生するタイマ
ーを設け、このタイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けたので、請求項10記載の発明と同様な効果を得
ることができるものである。
記載の発明において、タイミング信号を発生するタイマ
ーを設け、このタイマーから出力されたタイミング信号
に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制
御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前
後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置
が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段
を設けたので、請求項10記載の発明と同様な効果を得
ることができるものである。
【図1】請求項1記載の発明の一実施例である半導体レ
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
【図2】半導体レーザの出力制御の様子を示す特性図で
ある。
ある。
【図3】待機状態における環境温度の変化の様子を示す
特性図である。
特性図である。
【図4】請求項2記載の発明の一実施例である半導体レ
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
【図5】待機状態における環境温度の変化の様子を示す
特性図である。
特性図である。
【図6】請求項3記載の発明の一実施例である半導体レ
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
【図7】待機状態における環境温度の変化の様子を示す
特性図である。
特性図である。
【図8】請求項4記載の発明の一実施例である半導体レ
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
【図9】請求項5記載の発明の一実施例である半導体レ
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
ーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
【図10】請求項6記載の発明の一実施例である半導体
レーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
レーザ出力制御装置の様子を示すブロック図である。
【図11】請求項7記載の発明の一実施例である半導体
レーザ出力制御装置の様子を示す構成図である。
レーザ出力制御装置の様子を示す構成図である。
【図12】請求項8記載の発明の一実施例である半導体
レーザ出力制御装置の様子を示す構成図である。
レーザ出力制御装置の様子を示す構成図である。
【図13】請求項9記載の発明の一実施例である半導体
レーザ出力制御装置の様子を示す構成図である。
レーザ出力制御装置の様子を示す構成図である。
【図14】従来における半導体レーザ出力制御装置の全
体構成を示す構成図である。
体構成を示す構成図である。
【図15】筐体内に収められたレーザビーム走査装置の
様子を示す側面図である。
様子を示す側面図である。
【図16】半導体レーザ出力制御装置の様子を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図17】半導体レーザの光量特性を示す特性図であ
る。
る。
1 半導体レーザ 3 レーザビーム走査装置 3a 偏向手段 12 光検出手段 16 比較手段 21 タイマー 22 レーザ出力制御手段 23 温度検出手段 24,26 レーザ出力制御手段 27〜29 レーザビーム結像位置制御手段 33 遮断手段 34 レーザビーム結像位置制御手段 38 ビーム角度偏向手段 39 レーザビーム結像位置制御手段 41 レンズ移動手段 42 レーザビーム結像位置制御手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 幸一 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 小野 健一 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 山川 健志 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 中川 日出男 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内
Claims (11)
- 【請求項1】 半導体レーザからのレーザビームを偏向
手段により偏向し、感光体駆動制御手段により駆動され
る感光体上を走査してその表面上に情報を書込むレーザ
ビーム走査装置を備え、前記半導体レーザのレーザ出力
を光検出手段により検出し、前記光検出手段の出力信号
と基準信号とを比較手段により比較し、その比較手段か
らの出力信号により前記半導体レーザに流す電流値を制
御することにより前記半導体レーザの出力制御を行う半
導体レーザ出力制御装置において、タイミング信号を発
生するタイマーを設け、前記レーザビーム走査装置の情
報書込待機時に、前記タイマーからの出力に応じて前記
半導体レーザの出力制御を行うレーザ出力制御手段を設
けたことを特徴とする半導体レーザ出力制御装置。 - 【請求項2】 半導体レーザからのレーザビームを偏向
手段により偏向し、感光体駆動制御手段により駆動され
る感光体上を走査してその表面上に情報を書込むレーザ
ビーム走査装置を備え、前記半導体レーザのレーザ出力
を光検出手段により検出し、前記光検出手段の出力信号
と基準信号とを比較手段により比較し、その比較手段か
らの出力信号により前記半導体レーザに流す電流値を制
御することにより前記半導体レーザの出力制御を行う半
導体レーザ出力制御装置において、前記レーザビーム走
査装置の温度を検出する温度検出手段を設け、前記レー
ザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記温度検出手
段からの出力に応じて前記半導体レーザの出力制御を行
うレーザ出力制御手段を設けたことを特徴とする半導体
レーザ出力制御装置。 - 【請求項3】 半導体レーザからのレーザビームを偏向
手段により偏向し、感光体駆動制御手段により駆動され
る感光体上を走査してその表面上に情報を書込むレーザ
ビーム走査装置を備え、前記半導体レーザのレーザ出力
を光検出手段により検出し、前記光検出手段の出力信号
と基準信号とを比較手段により比較し、その比較手段か
らの出力信号により前記半導体レーザに流す電流値を制
御することにより前記半導体レーザの出力制御を行う半
導体レーザ出力制御装置において、前記レーザビーム走
査装置の情報書込待機時に、前記光検出手段からの出力
に応じて前記半導体レーザの出力制御を行うレーザ出力
制御手段を設けたことを特徴とする半導体レーザ出力制
御装置。 - 【請求項4】 レーザ出力制御手段には、レーザビーム
走査装置の情報書込待機時に、レーザビームの情報書込
領域以外にて半導体レーザの出力制御を行うようにレー
ザビーム結像位置制御手段を設けたことを特徴する請求
項1,2又は3記載の半導体レーザ出力制御装置。 - 【請求項5】 レーザ出力制御手段には、レーザビーム
走査装置の情報書込待機時に、偏向手段の停止回転位置
を制御してレーザビームを情報書込領域以外に停止させ
た状態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビ
ーム結像位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項
1,2又は3記載の半導体レーザ出力制御装置。 - 【請求項6】 レーザ出力制御手段には、レーザビーム
走査装置の情報書込待機時に、感光体を駆動した状態で
半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビーム結像
位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項1,2又
は3記載の半導体レーザ出力制御装置。 - 【請求項7】 レーザビームの出射光路上にそのレーザ
ビームを遮断する遮断手段を設け、レーザ出力制御手段
には、レーザビーム走査装置の情報書込待機時に、前記
遮断手段によりレーザビームが遮断された状態で半導体
レーザの出力制御を行うようにレーザビーム結像位置制
御手段を設けたことを特徴とする請求項1,2又は3記
載の半導体レーザ出力制御装置。 - 【請求項8】 レーザビームの出射光路上にビーム反射
手段のレーザビームに対する入射角度を偏向するビーム
角度偏向手段を設け、レーザ出力制御手段には、レーザ
ビーム走査装置の情報書込待機時に、前記ビーム角度偏
向手段によりレーザビームを感光体上から退避させた状
態で半導体レーザの出力制御を行うようにレーザビーム
結像位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項1,
2又は3記載の半導体レーザ出力制御装置。 - 【請求項9】 レーザビームの出射光路上に配置された
レンズをその光軸方向に移動させるレンズ移動手段を設
け、レーザ出力制御手段には、レーザビーム走査装置の
情報書込待機時に、前記レンズ移動手段により前記レン
ズを移動させ前記レーザビームの結像位置が感光体上よ
り移動した状態で半導体レーザの出力制御動作を行うよ
うにレーザビーム結像位置制御手段を設けたことを特徴
とする請求項1,2又は3記載の半導体レーザ出力制御
装置。 - 【請求項10】 タイマーから出力されたタイミング信
号に応じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動
制御手段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動
前後の前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位
置が異なるように制御するレーザビーム結像位置制御手
段を設けたことを特徴とする請求項1記載の半導体レー
ザ出力制御装置。 - 【請求項11】 タイミング信号を発生するタイマーを
設け、このタイマーから出力されたタイミング信号に応
じて感光体を短時間駆動させる感光体短時間駆動制御手
段を設け、この感光体短時間駆動制御手段の駆動前後の
前記感光体上へ照射されるレーザビームの結像位置が異
なるように制御するレーザビーム結像位置制御手段を設
けたことを特徴とする請求項2又は3記載の半導体レー
ザ出力制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4061803A JPH05268425A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 半導体レーザ出力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4061803A JPH05268425A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 半導体レーザ出力制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05268425A true JPH05268425A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=13181618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4061803A Pending JPH05268425A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 半導体レーザ出力制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05268425A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013003164A (ja) * | 2011-06-10 | 2013-01-07 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および多色画像形成装置 |
-
1992
- 1992-03-18 JP JP4061803A patent/JPH05268425A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013003164A (ja) * | 2011-06-10 | 2013-01-07 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および多色画像形成装置 |
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