JPH05254969A - 機能性物品 - Google Patents

機能性物品

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JPH05254969A
JPH05254969A JP4360514A JP36051492A JPH05254969A JP H05254969 A JPH05254969 A JP H05254969A JP 4360514 A JP4360514 A JP 4360514A JP 36051492 A JP36051492 A JP 36051492A JP H05254969 A JPH05254969 A JP H05254969A
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layer
oxide
oxide film
thickness
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Hidekazu Ando
英一 安藤
Akira Mitsui
彰 光井
Yasuo Hayashi
泰夫 林
Koichi Seki
宏一 関
Koichi Osada
幸一 長田
Susumu Suzuki
すすむ 鈴木
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Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】基板1上に、錫と珪素の酸化物膜2、窒化物
(特に窒化チタン)等からなる機能性薄膜3、錫と珪素
の酸化物膜4を順次形成する。必要に応じて、その上
に、ジルコニウムと珪素の酸化物等からなる耐薬品性保
護膜を形成する。 【効果】ニュートラル色調を有し、遮熱性能が高く、摩
耗性能に優れた熱線遮断ガラスを提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、機能性物品に関するも
のであり、特に、耐久性と外観に優れた機能性物品に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、マグネトロンスパッタリング
法を用いて多層膜を大面積ガラス基板上に成膜したLo
w−Eガラス、熱線遮断ガラス(通常、熱反ガラスと呼
称される)が用いられている。建築用に用いられるこれ
らのガラスは、省エネルギー効果、意匠性に優れている
ため、近年その普及が著しい。
【0003】高い耐久性が必要な熱線遮断ガラスの用途
として自動車用窓ガラスがある。自動車用窓ガラスで
は、近年その使用ガラス面積が増大してきている。車内
の快適性の維持/向上のため、熱線遮断ガラスが使われ
るようになってきた。自動車においては、安全性の面か
ら透過率が高く、かつ反射率が低いことが要求される。
特に、乗用車ではその可視光線透過率は70%以上であ
ることが法律で義務づけられている。また、反射色も干
渉による色調は好まれず、できるだけニュートラルな外
観(通常のコートなしのガラスと同様な外観)が必要と
される。
【0004】スパッタリング法によるLow−Eガラス
は、通常、酸化物膜/銀/酸化物膜の3層構成である。
銀を利用するこのタイプのLow−Eガラスは、耐久性
に難点があるので、単板ガラスでは使えず、複層ガラ
ス、または合わせガラスの形にして用いられる。自動車
の風防ガラスとリアガラスにも、スパッタリング法によ
る酸化亜鉛/銀/酸化亜鉛の3層膜が合わせの接着面側
にコートされ熱線遮断ガラスとして実用化されている。
【0005】スパッタリング法による単板の熱線遮断ガ
ラスは、金属膜または窒化物膜から選ばれた1層と、酸
化錫または酸化チタンなどの酸化物膜を組合わせて、2
層または3層の多層膜として、その膜厚を適当に調整す
ることで必要な透過率と光学的干渉による反射色調を具
現させている。酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜の3層構
成にして、膜材料の選択と膜厚を調整することで、高透
過率で低反射率を有する熱線遮断ガラスを得ることがで
きる。しかし、従来から用いられている膜材料では、高
い耐久性が必要な自動車用には、まだその性能が充分で
ない。また、光学的な干渉による反射色を呈するので、
ニュートラル色調の必要な自動車用には改良が必要であ
る。
【0006】一方、熱分解を利用して酸化チタンなどの
酸化物膜をコートした単板の熱線遮断ガラス、あるい
は、導電性酸化錫をコートしたLow−Eガラスは、反
射率が比較的高いこと、耐久性が充分でないことなどの
問題もあり、乗用車のドアガラス用熱線遮断ガラスとし
て適当ではない。
【0007】自動車のドアガラスには、強度の面から強
化単板ガラスが使用される。このための熱線遮断膜に
は、高い耐久性とニュートラルな色調が必要である。こ
の用途には、珪素または硼素のうちから選ばれる少なく
とも一種とジルコニウムを含む高い耐久性を有する複合
酸化物膜などを保護膜として窒化チタンなどの熱線遮断
膜上にコートしたものが実用化されている。この単板熱
線遮断ガラスは、耐久性と色調に優れているが、熱線遮
断性能をより高めることが望まれる。
【0008】一方、窒化チタンなどの熱線遮断膜を、珪
素または硼素のうちから選ばれる少なくとも一種とジル
コニウムを含む高い耐久性を有する複合酸化物膜などで
挟んだ3層からなる熱線遮断ガラスは、珪素または硼素
の含有量を調節し、その屈折率を最適化することで、ニ
ュートラル色調でかつ遮熱性能のよいものを得ることが
できる。しかし、珪素または硼素のうち少なくとも一種
を含む複合酸化物膜は、成膜速度が遅く、生産性に劣る
こと、また、スパッタリングターゲットを作るのに高温
での焼結ホットプレスを使用しなければならず材料コス
トが高くなるなどの問題点があった。このため実用化す
るうえでの障害になっていた。
【0009】一方、建築用では自動車用のようなニュー
トラル色の制限はなく、また耐久性のスパッタリングも
やや緩やかである。しかし、従来の熱線反射ガラスでは
膜の機械的強度が不充分であり、膜が疵つきやすいとい
う問題を有していた。疵は主として取り扱い上の不注意
によってつくことが多い。疵は製造、運搬時、建物の施
工時、また窓ガラスの清掃時にまで、つまり、あらゆる
瞬間に発生する可能性がある。製造時の疵は製品の歩留
まり低下を引き起こし、運搬、施工、清掃時の疵は製品
クレームを引き起こす。
【0010】このような問題を解決するため、硬く、表
面摩擦係数が小さい金属酸化膜を従来品の膜の上にオー
バーコートすることが考えられる。オーバーコート材料
としては、硬く表面摩擦係数が小さく、かつ、オーバー
コートによる色調の変化を最小限にするために屈折率の
小さなものでなければならない。従来、このような材料
としては、珪素または硼素のうちから選ばれる少なくと
も一種とジルコニウムを含む複合酸化膜が知られてい
た。しかし、前述のようにこの材料は成膜時にアーキン
グが発生しやすく、成膜速度が遅いこと、材料コストが
高くなること等の欠点を有していた。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
有していた、遮熱性能を重視すれば色調のニュートラル
からのずれが大きくなり外観的に適さなくなること、ま
た、色調を重視すると遮熱性能が劣ることを解消するも
のであり、さらには、成膜速度に優れ、材料コストを低
く抑え、安価で遮熱性能と耐久性の良好な熱線遮断ガラ
スを提供することを目的とするものである。
【0012】また、建築用においても耐久性を向上させ
た熱線反射ガラスを提供することを目的としているが、
特に従来品と同じ色調で機械的耐久性だけを向上させた
熱線反射ガラスを提供することを目的とするものであ
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題点
を解決すべくなされたものであり、基板に、機能性を有
する薄膜を少なくとも一層と、錫と珪素を含む酸化物を
主成分とする酸化物膜を少なくとも一層を形成したこと
を特徴とする機能性物品を提供する。
【0014】図1〜図4は、本発明の機能性物品の例の
断面図であるが、必ずしもこれだけに限定されるもので
はない。1はガラスやプラスチックなどの透明基板、2
は錫と珪素を含む酸化物を主成分とする酸化物膜、3は
機能性を有する薄膜(以下、機能膜という)、4は錫と
珪素を含む酸化物を主成分とする酸化物膜を示す。図2
の5は、耐薬品性保護膜である。
【0015】2、4の酸化物膜(以下、透明酸化物膜と
もいう)は、錫と珪素を含む酸化物を主成分とすればよ
く、ジルコニウム、チタン、タンタル、ビスマスなど他
の元素を含んでいてもよい。錫と珪素の割合は特に限定
されないが、錫と珪素の総量に対して、錫の割合が原子
比で5%〜95%、好ましくは30%〜90%、特に4
0%〜90%がよい。
【0016】錫の割合が少なくなりすぎると、屈折率が
低くなりすぎ、光学的干渉の効果が低下しそれにつれ遮
熱性能も低下する。さらに、大面積で直流スパッタリン
グ法により成膜するときに、アーキングが発生しやすく
なり、印加電力も制限される。このため成膜速度も低下
し生産性が悪化する。錫の量が多くなりすぎると、屈折
率があまり下がらず、光学的な干渉色が強くなり、ニュ
ートラルな外観が得られなくなる。また、オーバーコー
トしたときに色調の変化が著しくなる。
【0017】この透明酸化物膜2、4の屈折率は、ター
ゲットの錫と珪素の組成とスパッタリング条件に依存す
るが、主にターゲット組成で制御できる。本発明の錫と
珪素を主成分とする透明酸化物膜の屈折率としては、
1.5〜2.0の範囲で調節可能である。
【0018】酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜のような3
層構成の光学干渉膜として利用する場合は、あまり屈折
率が低いと干渉の効果が低下し、熱線遮断性能の向上が
小さくなる。また、屈折率が高いと干渉効果が高まり熱
線遮断性能は向上するが、干渉による反射色が鮮やかに
なる。自動車の窓ガラスに応用する場合は、ニュートラ
ルな反射が好まれるので、透明酸化物膜2、4の屈折率
としては1.6〜2.0、好ましくは1.7〜1.9、
特に1.75〜1.85がよい。
【0019】2、4の酸化物膜の膜厚は特に限定されな
いが、充分な耐擦傷性(テーバー摩耗)を付与するため
には50Å以上必要である。膜厚の増加に応じて擦傷性
が向上し400Å〜800Å程度あれば特に必要充分な
耐擦傷性が得られる。酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜の
ような膜構成にして光学干渉膜としての機能を持たせる
場合は、その屈折率にもよるが、2、4の膜厚はそれぞ
れ400Å〜1000Å程度必要である。反射色調、透
過色調、また斜視時の短波長側への干渉色のシフトを考
慮して決めればよい。赤から黄色系統の反射色は自動車
の窓ガラスとしては好まれないので、この用途には、そ
れぞれ600Å以上、好ましくは700Å以上、特に8
00Åから1000Å程度がよい。
【0020】また、特に建築用での耐擦傷性保護膜とし
て使用する場合(図3)、4の膜厚は10Åでもある程
度の耐擦傷性改善効果は認められる。4の膜厚が厚くな
ればなるほど耐擦傷性は向上する。しかしあまり厚くつ
けると色調の変化が著しくなる。このため、オーバーコ
ート膜厚としては10Å〜100Åが適当である。
【0021】3の機能膜としては特に限定はないが、窒
化物、炭化物、金属、吸収性酸化物物のうち少なくとも
一種を主成分とする膜、あるいは、かかる膜と他の膜と
の複合膜等が挙げられる。可視域はできるだけ透過し、
赤外域はできるだけ透過を抑える、即ち、透過の波長選
択性を持たせたい場合は、窒化物を主成分とする膜が好
ましく、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、クロムの
うち少なくとも一種を含む窒化物膜、酸窒化物膜、炭窒
化物膜、酸素と炭素を含む窒化物膜などがよい。このな
かでも、チタン、ジルコニウムの窒化物膜は特に優れて
いる。
【0022】機能膜3の膜厚としては特に限定はなく、
所望の透過率、反射率、色調などを考慮して決めればよ
い。自動車、特に乗用車用では、可視光線透過率が70
%以上に制限されるので、基板ガラスの種類、機能膜の
種類にもよるが、窒化物膜の場合は20Å〜100Å程
度になる。
【0023】薬品に対する耐久性、特にアルカリに対す
る安定性をさらに向上させることが必要な用途には、耐
薬品性保護膜5を形成することが好ましい。5の膜とし
ては、珪素と硼素のうち少なくとも一種とジルコニウム
を含む酸化物膜、あるいは酸化タンタルなどがよい。膜
厚としては、特に制限はないがあまり薄いと薬品に対す
る保護膜としての効果が充分でなくなるので20Å以
上、好ましくは30Å以上がよい。擦傷性向上のために
は、少なくとも50Å以上は必要である。一方、厚すぎ
ると光学干渉の効果がでてくるので、自動車用などのよ
うに、ニュートラル色調が必要な用途では、500Å以
下、好ましくは300Å以下、特に200Å以下がよ
い。
【0024】本明細書において色調がニュートラルと
は、原則的には人間の目で見たときの色がニュートラル
であることを指すが、あえて数値で表すと、膜を形成し
ていないガラスに対する、膜を形成したガラスのガラス
面側の反射色調変化(CIE色度表示)がほぼ、Δx≦
0.02、Δy≦0.02であるものが好ましい。ただ
し、反射色調が赤や黄色がかったものは好ましくない。
また、膜を形成したガラスの膜面側の反射色調変化は、
上記ガラス面側の反射色調変化より大きな値となって
も、反射色調が赤や黄色がかっていなければよい。
【0025】本発明の熱線遮断性能を有する機能性物品
の熱線遮断性能としては、膜形成前に比べて日射透過率
が8%以上、特に10%以上減少していることが好まし
い。また、本発明の構成として、2層膜、3層膜、4層
膜の場合の例を示したが、必ずしもこれに限定されるわ
けではなく、基板と膜の間や、層間の付着力を向上させ
るための界面層を挿入したり、光学的な反射防止層を設
けたりしてもよい。
【0026】本発明の錫と珪素を含む酸化物を主成分と
する酸化物膜は、錫と珪素をCIP法(冷間等方性プレ
ス法)で固めたターゲットから、酸素雰囲気中での反応
性スパッタリング法で得ることが生産効率上望ましい
が、別にこれだけに限定されるわけではなく、酸化錫と
酸化珪素の混合酸化物ターゲットから成膜してもよい
し、その他、真空蒸着法、イオンプレーティング法、C
VD法などでもよい。
【0027】本発明の錫と珪素を含む酸化物を主成分と
する酸化物膜は、ジルコニウムと珪素を含む酸化物を主
成分とする酸化物膜に比べて、金属ターゲットを用いた
反応性スパッタリング法で形成する場合、成膜速度が速
い。例えば、ターゲットに印加する電力密度を同じにす
ると、Zr−Si(原子比1:2)ターゲットを用いて
酸化物膜を形成する場合に対して、Sn−Si(原子比
1:1)ターゲットを用いて酸化物膜を形成する場合に
は成膜速度が約2.5倍、Sn−Si(原子比4:1)
のターゲットを用いる場合は約2.6倍である。
【0028】実際には、Zr−Si系ターゲットにはア
ーキング等によりあまり大きい電力密度を印加できない
が、Sn−Si系ターゲットには、Zr−Si系ターゲ
ットの約1.6倍程度の電力密度を印加できる。したが
って、可能な限り大きな電力をターゲットに印加した場
合には、Sn−Si系ターゲットから成膜するときの速
度は、Zr−Si系ターゲットを用いた場合に比べて約
4倍となり、極めて生産効率上有効である。機能性を有
する薄膜と組み合わせて多層とした場合は、全体の膜構
成にもよるが、全体の成膜速度は約2倍程度となる。
【0029】
【作用】本発明は、錫の酸化物膜に珪素を含有させ、屈
折率を下げることによりニュートラル色調を有する機能
性物品を提供するものである。さらに、珪素の含有によ
り膜の硬度がアップするが、この膜も保護膜として使用
することにより、色調の変化が少なく、耐久性の向上し
た機能性物品を提供するものである。
【0030】窒化チタンなどの導電性窒化物膜は、その
膜厚の増加とともに近赤外域の反射率が上昇する。この
ため、波長選択性のある熱線遮断膜として用いられてい
る。一方、膜厚を厚くするとともに可視域の透過率は減
少するので、可視光線の透過率に制限がある自動車用窓
の場合は、この膜厚に制限がある。基板ガラスの種類に
もよるが、その膜厚は10Å〜20Å程度になる。
【0031】熱線遮断性能(透過率の波長選択性)を向
上させるためには、窒化物膜の厚みをできるだけ厚くす
る必要がある。このためには、窒化物膜を屈折率の比較
的高い透明酸化物膜で挟み可視光の反射防止をする方法
が考えられる。反射防止により可視光の透過率が向上す
る分、窒化物膜を厚くでき、結果として熱線遮断性能は
良くなる。
【0032】一方、窒化物膜の屈折率の波長分散によ
り、可視域全域で反射防止を施すことはできない。した
がって、反射防止の中心設計波長を可視域のどこにする
かにかかわらず、その反射光はニュートラル色調からは
ずれてくる。また、反射防止の透明酸化物膜の屈折率が
高い程、その反射色の刺激純度は高くなる。できるだけ
反射色をニュートラルにして刺激純度を下げるために
は、窒化物膜の膜質を改善するかあるいは干渉のための
透明酸化物膜の屈折率を下げる必要がある。
【0033】しかし、通常のスパッタリング法では、窒
化物膜の膜質の改善は困難である。透明酸化物膜の屈折
率を下げる場合、その屈折率が小さすぎると光学干渉の
効果が減少し反射防止効果がなくなる。結果として遮熱
性能の向上は期待できなくなる。したがって、ニュート
ラル色調で遮熱効果の向上した機能性物品を得るために
は、透明酸化物膜の屈折率として、1.6〜1.9の範
囲がよい。
【0034】膜の屈折率は、膜材料とその密度により決
まっている。大面積コートにおいては、スパッタリング
法が膜厚の均一性に優れているので、通常使用される。
大面積成膜法では直流スパッタリング法が用いられ、主
に亜鉛、錫、チタンなどの金属ターゲットからの反応性
スパッタリングによりその酸化物膜を形成する。これら
の酸化物膜の屈折率は2.0以上と高いので、酸化物膜
/窒化物膜/酸化物膜の3層構成でニュートラル色調化
を得るためには屈折率を下げる必要がある。
【0035】屈折率が1.6〜1.9の酸化物膜として
は、酸化アルミニウムがある。アルミニウムを直流で反
応性スパッタリングして酸化アルミニウムを形成するの
はアーキングの発生で必ずしも容易ではない。また、材
料自体の耐薬品性にも問題がある。その他には、珪素と
アルミニウムを含む酸化物膜、サイアロン(SiAlO
N)、珪素の酸窒化物膜(SiON)、ジルコニウムと
珪素または硼素などを含む酸化物膜などがある。アルミ
ニウムを含む膜は、耐薬品性に難がある。SiONは、
直流スパッタリングが難しい。ジルコニウムと珪素また
は硼素などを含む酸化物膜は、成膜速度が遅いので生産
性に問題がある。
【0036】安定な酸化物膜で成膜速度が速く、かつ、
その屈折率が1.6から1.9の範囲にある単成分の酸
化物膜は現在見出されていない。この範囲の屈折率を持
つ酸化物膜を得るためには、チタン、亜鉛、タンタル、
ジルコニウム、錫、ビスマスなどの屈折率の高い材料と
珪素、硼素などの低い屈折率を有する材料を組合わせた
複合酸化物膜が考えられる。
【0037】高屈折率材料のうちチタン、タンタルは、
成膜速度が遅い。亜鉛は速い成膜速度を有するが耐薬品
性に難がある。本発明では、成膜速度の速い錫をベース
材料に選択し、屈折率を下げる目的で珪素を選択してい
る。
【0038】
【実施例】
<実施例1>洗浄した4mm厚のブロンズガラス板をス
パッタリング装置内にセットし、10-6Torr台まで
排気した。次に、アルゴンと酸素の混合ガス(流量比
1:9)を導入して2×10-3Torrにし、錫と珪素
(原子比で80:20)の合金ターゲットを電力密度
7.8W/cm2 でスパッタリングして錫と珪素を含む
屈折率1.85の酸化物膜(原子比でSn:Si=8
0:20)(第1層)を約800Å形成した。
【0039】スパッタリングガスをアルゴンと窒素の混
合ガス(流量比3:1)に切り換えて2×10-3Tor
rの真空度に保ち、チタンターゲットを電力密度7.8
W/cm2 でスパッタリングして窒化チタン膜(第2
層)を約60Å形成した。スパッタリングガスを再度ア
ルゴンと酸素の混合ガス(流量比1:9)に切り換え2
×10-3Torrにした後、第1層と同じ条件で錫と珪
素を含む酸化物膜(原子比でSn:Si=80:20)
(第3層)を約800Å形成した。
【0040】このようにして得た3層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、70%であった。日射透過率
は、膜形成前と比べて約12%減少した。ガラス面の反
射色調の変化をCIE色度表示で表すとΔxは−0.0
337、Δyは−0.0246であった。膜が形成され
た面(以下、コート面という)の反射色調の変化は、Δ
x=−0.0779、Δy=−0.0801であった。
青系統の反射色調のため自動車などの用途のガラスとし
て違和感はなかった。また、斜視時の反射色の変化も赤
系統にならず良好であった。500g荷重、摩耗輪CF
−10のテーバー摩耗1000回転後の可視光線透過率
変化は、−1.4%と小さかった。
【0041】<実施例2>洗浄した4mm厚のグレーガ
ラス板をスパッタリング装置内にセットし、第2層の窒
化チタン膜の厚みだけ45Åに変え、他は実施例1と同
じ3層膜を形成した。この3層構成の熱線遮断ガラスの
可視光線透過率は、70%であった。日射透過率は、膜
形成前と比べて約8.5%減少した。
【0042】ガラス面の反射色調の変化をCIE色度表
示で表すとΔxは−0.0155、Δyは−0.010
6であった。コート面の反射色調の変化は、Δx=−
0.0382、Δy=−0.0129であった。青系統
の反射色調のため自動車などの用途のガラスとして違和
感はなかった。
【0043】<実施例3>洗浄した4mm厚のブロンズ
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、実施例1
と同様な3層構成の熱線遮断ガラスを作製した。ただ
し、第2層の窒化チタン膜は約60Åに、第1層と第3
層の膜は、錫と珪素(原子比で67:33)の合金ター
ゲットをスパッタリングして錫と珪素を含む屈折率1.
75の酸化物膜(原子比でSn:Si=67:33)を
約930Å形成した。
【0044】この3層構成の熱線遮断ガラスの可視光線
透過率は、70%であった。日射透過率は、膜形成前と
比べて約11.4%減少した。ガラス面の反射色調の変
化をCIE色度表示で表すとΔxは0.0026、Δy
は0.0069であった。ガラス面の反射色は極めてニ
ュートラルであった。コート面の反射色は青系統で、そ
の色調変化は、Δx=−0.0189、Δy=−0.0
593であった。
【0045】<実施例4>洗浄した4mm厚のブロンズ
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、実施例1
と同様な3層構成の熱線遮断ガラスを作製した。ただ
し、第2層の窒化チタンの膜厚は約60Åに、第1層と
第3層の膜は、錫と珪素(原子比で50:50)の合金
ターゲットをスパッタリングして錫と珪素を含む屈折率
1.69の酸化物膜(原子比でSn:Si=50:5
0)を約930Å形成した。
【0046】この3層構成の熱線遮断ガラスの可視光線
透過率は、70%であった。日射透過率は、膜形成前と
比べて約9.3%減少した。ガラス面の反射色調の変化
をCIE色度表示で表すとΔxは0.0078、Δyは
0.0061であった。ガラス面の反射色は極めてニュ
ートラルであった。コート面の反射色調の変化は、Δx
=−0.0177、Δy=−0.0388で青系統の色
であった。
【0047】500g荷重、摩耗輪CF−10のテーバ
ー摩耗1000回転後の可視光線透過率変化は、−1.
1%と小さかった。50℃の0.1規定の硫酸、及びN
aOH中に24時間浸漬後の可視光線透過率の変化は、
それぞれ1.3%増、3.9%減であった。実用上充分
な摩耗性、耐薬品性を有していた。
【0048】<実施例5>洗浄した4mm厚のブロンズ
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、実施例1
と同様な3層構成の熱線遮断ガラスを作製した。ただ
し、第2層の窒化チタンの膜厚は約60Åに、第1層と
第3層の膜は、錫と珪素(原子比で50:50)の合金
ターゲットをスパッタリングして錫と珪素を含む屈折率
1.69の酸化物膜(原子比でSn:Si=50:5
0)を約870Å形成した。
【0049】この3層構成の熱線遮断ガラスの可視光線
透過率は、70%であった。日射透過率は、膜形成前と
比べて約10%減少した。ガラス面の反射色調の変化を
CIE色度表示で表すとΔxは0.0110、Δyは
0.0072であった。ガラス面の色調は極めてニュー
トラルであった。コート面の反射色調の変化は、Δx=
−0.0142、Δy=−0.0376であり青系統の
色であった。
【0050】500g荷重、摩耗輪CF−10のテーバ
ー摩耗1000回転後の可視光線透過率変化は、−1.
1%と小さかった。50℃の0.1規定の硫酸、及びN
aOH中に24時間浸漬後の可視光線透過率の変化は、
それぞれ1.2%増、5.4%減であった。実用上充分
な摩耗性、耐薬品性を有していた。
【0051】<実施例6>洗浄した4mm厚のブロンズ
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、実施例5
と同様な3層膜を成膜した。ただし、第2層の窒化チタ
ンの膜厚は約50Åに、第1層と第3層の膜は、錫と珪
素(原子比で50:50)の合金ターゲットをスパッタ
リングして錫と珪素を含む屈折率1.69の酸化物膜
(原子比でSn:Si=50:50)を約870Å形成
した。
【0052】その後、ジルコニウムと珪素(原子比1:
2)の合金ターゲットをアルゴンと酸素の混合ガス(流
量比7:3)を導入し、電力密度9.4W/cm2 でス
パッタリングして屈折率1.7のジルコニウムと珪素を
含む酸化物膜(原子比でZr:Si=1:2)を50Å
形成した4層構成の熱線遮断ガラスを作製した。
【0053】この4層構成の熱線遮断ガラスの可視光線
透過率は、72%であった。日射透過率は、膜形成前と
比べて7.8%減少した。ガラス面の反射色調の変化を
CIE色度表示で表すとΔxは0.0056、Δyは−
0.0013であった。ガラス面の色調は極めてニュー
トラルであった。コート面の反射色調の変化は、Δx=
−0.0132、Δy=−0.0417であり青系統の
色であった。
【0054】50℃の0.1規定の硫酸、及びNaOH
中に24時間浸漬後の可視光線透過率の変化は、それぞ
れ1.0%増、0.4%減であった。実施例5に比べる
と耐アルカリ性が大幅に向上した。
【0055】第4層の保護酸化物膜の厚みを25、7
5、100Åと変えたサンプルについても同様な耐アル
カリ性試験を実施したところ、50Åのものと同様に改
善された。また、ジルコニウムと珪素を含む酸化物膜の
かわりに、ジルコニウムと硼素を含む酸化物膜(ターゲ
ット及び膜組成:原子比Zr:B=7:3)、あるいは
酸化タンタルを保護膜としても同様に耐薬品性が向上し
た。
【0056】<実施例7>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例1と同じ条件で窒化チタンの膜を
約100Å成膜した。次に、実施例1と同じ条件で錫と
珪素を含んだ酸化物膜(ターゲット及び膜組成:錫:珪
素=80:20)を、保護酸化膜として0、100、2
00、400、600、800Å形成した6種類の熱線
遮断ガラスを作製した。
【0057】実施例1と同条件でテーバー摩耗試験をし
た。1000回転後の透過率変化は、100、200、
400、600、800Åの保護酸化物膜付きサンプル
で、それぞれ4.3、3.1、1.2、0.6、0.8
%増であり、保護酸化物膜なしの場合の6%以上の増加
に比べてすべて改善された。特に、400Å以上あれば
極めて高い擦傷性を有していた。
【0058】この実施例の2層構成のサンプルの耐アル
カリ性は、実施例6と同様に、珪素または硼素のうち少
なくとも一種類とジルコニウムを含む複合酸化物膜、ま
たは酸化タンタルを25Å以上保護コートすることで改
善された。
【0059】<実施例8>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6To
rr台まで排気した。次に、窒素ガスを導入して2×1
-3Torrにし、チタンターゲットを電力密度5.0
W/cm2 でスパッタリングして窒化チタン膜(第1
層)を約300Å形成した。
【0060】次にスパッタリングガスをアルゴンと酸素
の混合ガス(流量比1:1)を導入して2×10-3To
rrにし、錫と珪素(原子比で50:50)の合金ター
ゲットを電力密度7.8W/cm2 でスパッタリングし
て錫と珪素を含む屈折率1.69の酸化物膜(原子比で
Sn:Si=50:50)(第2層)を約50Å形成し
た。
【0061】このようにして得た2層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、30%であった。第2層をつ
けることによる反射色調の変化をCIE色度表示で表す
と、Δxは−0.0010、Δyは0.0005であ
り、反射率の変化は約0.5%で、第2層をつけること
による光学特性の変化はわずかなものであることがわか
った。500g荷重、摩耗輪CS−10Fのテーバー摩
耗500回転前後の可視光線透過率変化は、5.9%で
あった。
【0062】<実施例9>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6To
rr台まで排気した。次に、アルゴンガスを導入して2
×10-3Torrにし、ステンレスターゲットを電力密
度5.0W/cm2 でスパッタリングしてステンレス膜
(第1層)を約150Å形成した。
【0063】次に実施例8と同じ条件でTiNx 膜(第
2層)を約250Å、さらにその上に錫と珪素を含む屈
折率1.69の酸化物膜(原子比でSn:Si=50:
50)(第3層)を約50Å形成した。
【0064】このようにして得た3層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、約8%であった。第3層をつ
けることによる反射色調の変化をCIE色度表示で表す
と、Δxは−0.0010、Δyは0.0005であ
り、反射率の変化は約0.5%で、第3層をつけること
による光学特性の変化はわずかなものであることがわか
った。次に500g荷重、摩耗輪CS−10Fのテーバ
ー摩耗500回転前後の可視光線透過率変化は、6.1
%であった。
【0065】<実施例10>洗浄した2mm厚のクリア
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6
orr台まで排気した。次に、アルゴンガスと酸素の混
合ガス(流量比1:1)を導入して2×10-3Torr
にし、チタンターゲットを電力密度5.0W/cm2
スパッタリングして酸化チタン層(第1層)を約50Å
形成した。
【0066】次に実施例8と同じ条件でTiNx 膜(第
2層)を約250Å、さらにその上に酸化チタン層(第
3層)を約100Å形成した。さらにその上に実施例8
と同じ条件で錫と珪素を含む屈折率1.69の酸化物膜
(原子比でSn:Si=50:50)(第4層)を約5
0Å形成した。
【0067】このようにして得た4層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、約35%であった。第4層を
つけることによるガラス面反射色調の変化をCIE色度
表示で表すと、Δxは−0.0005、Δyは−0.0
005であり、反射率の変化は約0.5%で、第4層を
つけることによる光学特性の変化はわずかなものである
ことがわかった。次に500g荷重、摩耗輪CS−10
Fのテーバー摩耗500回転前後の可視光線透過率変化
は、4.9%であった。
【0068】<実施例11>洗浄した2mm厚のクリア
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6
orr台まで排気した。次に、窒素ガスを導入して2×
10-3Torrにし、チタンターゲットを電力密度5.
0W/cm2 でスパッタリングして窒化チタン層(第1
層)を約100Å形成した。
【0069】次に実施例10と同じ条件で酸化チタンの
膜(第2層)を約100Å形成した。さらにその上に実
施例8と同じ条件で錫と珪素を含む屈折率1.69の酸
化物膜(原子比でSn:Si=50:50)(第3層)
を約50Å形成した。
【0070】このようにして得た3層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、約30%であった。第3層を
つけることによるガラス面反射色調の変化をCIE色度
表示で表すと、Δxは−0.0005、Δyは−0.0
005であり、反射率の変化は約0.5%で、第3層を
つけることによる光学特性の変化はわずかなものである
ことがわかった。次に500g荷重、摩耗輪CS−10
Fのテーバー摩耗500回転前後の可視光線透過率変化
は、4.5%であった。
【0071】<実施例12>洗浄した2mm厚のクリア
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6
orr台まで排気した。次にアルゴンガスと酸素の混合
ガス(流量比1:1)を導入して2×10-3Torrに
し、チタンターゲットを電力密度5.0W/cm2 でス
パッタリングして酸化チタン層(第1層)を約100Å
形成した。
【0072】次に実施例9と同じ条件でステンレスの膜
(第2層)を約100Å形成した。さらにその上に実施
例8と同じ条件でTiNX 膜(第3層)を約800Å形
成した。さらにその上に実施例8と同じ条件で錫と珪素
を含む屈折率1.69の酸化物膜(原子比でSn:Si
=50:50)(第4層)を約50Å形成した。
【0073】このようにして得た4層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、約10%であった。第4層を
つけることによるガラス面反射色調の変化をCIE色度
表示で表すと、Δxは−0.0001、Δyは−0.0
005であり、反射率の変化は約0.2%で、第4層を
つけることによる光学特性の変化はわずかなものである
ことがわかった。次に500g荷重、摩耗輪CS−10
Fのテーバー摩耗500回転前後の可視光線透過率変化
は、3.8%であった。
【0074】<実施例13>洗浄した2mm厚のクリア
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6
orr台まで排気した。次に、アルゴンガスを導入して
2×10-3Torrにし、実施例9と同じ条件でステン
レスターゲットをスパッタリングしてステンレス層(第
1層)を約50Å形成した。
【0075】次に実施例8と同じ条件でTiNX 膜(第
2層)を約200Å形成した。さらにその上に実施例1
0と同じ条件で酸化チタン膜(第3層)を約200Å形
成した。さらにその上に実施例8と同じ条件で錫と珪素
を含む屈折率1.69の酸化物膜(原子比でSn:Si
=50:50)(第4層)を約50Å形成した。
【0076】このようにして得た4層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、約30%であった。第4層を
つけることによるガラス面反射色調の変化をCIE色度
表示で表すと、Δxは−0.0005、Δyは0.00
05であり、反射率の変化は約0.5%で、第4層をつ
けることによる光学特性の変化はわずかなものであるこ
とがわかった。次に500g荷重、摩耗輪CS−10F
のテーバー摩耗500回転前後の可視光線透過率変化
は、5.0%であった。
【0077】<比較例1>洗浄した4mm厚のグレーガ
ラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6To
rr台まで排気した。次にアルゴンと酸素の混合ガス
(流量比1:4)を導入して2×10-3Torrにし、
錫ターゲットを電力密度4.7W/cm2 でスパッタリ
ングして屈折率約2.0の酸化錫の膜(第1層)を約7
10Å形成した。
【0078】スパッタリングガスをアルゴンと窒素の混
合ガス(流量比3:1)に切り換えて2×10-3Tor
rの真空度に保ち、チタンターゲットを電力密度7.8
W/cm2 でスパッタリングして窒化チタン膜(第2
層)を約50Å形成した。スパッタリングガスを再度ア
ルゴンと酸素の混合ガス(流量比1:4)に切り換え2
×10-3Torrにした後、第1層と同じ条件で酸化錫
膜(第3層)を約710Å形成した。
【0079】このようにして得た3層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は、70%であった。日射透過率
は、コートにより約11%減少した。ガラス面の反射色
調の変化をCIE色度表示で表すとΔxは0.032
0、Δyは−0.0004であった。コート面の反射色
調の変化は、Δx=0.0546、Δy=−0.003
7であった。反射色調は、ガラス面、コート面とも赤系
統の色であった。
【0080】500g荷重、摩耗輪CF−10のテーバ
ー摩耗1000回転後の可視光線透過率変化は、−4%
と大きかった。50℃の0.1規定の硫酸、及びNaO
H中に24時間浸漬後の可視光線透過率の変化は、それ
ぞれ3〜4%増、7〜9%減であり、変化率は大きかっ
た。第1層と第2層の酸化錫の膜厚をより厚くしたサン
プルも作製して、反射色調を赤系統から青系統に変える
ことは可能であったが、色の刺激純度は大きく、また透
過色調の黄色味が大きくなるので好ましくなかった。
【0081】<比較例2>洗浄した4mm厚のブロンズ
ガラス板をスパッタリング装置内にセットし、10-6
orr台まで排気した。次にアルゴンと酸素の混合ガス
(流量比7:3)を導入して2×10-3Torrにし、
ジルコニウムと珪素(原子比1:2)の合金ターゲット
を電力密度9.4W/cm2 でスパッタリングして屈折
率約1.7のジルコニウムと珪素を含む酸化物膜(原子
比でZr:Si=1:2)(第1層)を約600Å形成
した。
【0082】スパッタリングガスをアルゴンと窒素の混
合ガス(流量比3:1)に切り換えて2×10-3Tor
rの真空度に保ち、チタンターゲットを電力密度7.8
W/cm2 でスパッタリングして窒化チタン膜(第2
層)を約35Å形成した。スパッタリングガスを再度ア
ルゴンと酸素の混合ガス(流量比7:3)に切り換え2
×10-3Torrにした後、第1層と同じ条件でジルコ
ニムと珪素を含む酸化物膜(原子比でZr:Si=1:
2)(第3層)を約600Å形成した。
【0083】このようにして得た3層構成の熱線遮断ガ
ラスの可視光線透過率は70%であった。日射透過率は
コートにより約10%減少した。ガラス面の反射色調の
変化をCIE色度表示で表すとΔxは0.0087、Δ
yは0.0062であった。コート面の反射色調の変化
は、Δx=0.0040、Δy=0.0021であっ
た。反射色調は、ガラス面、コート面とも極めてニュー
トラル色であった。
【0084】500g荷重、摩耗輪CF−10のテーバ
ー摩耗1000回転後の可視光線透過率変化は、−1.
3%と小さかった。50℃の0.1規定の硫酸、及びN
aOH中に24時間浸漬後の可視光線透過率の変化は、
両方とも±1%以内であり、変化率は小さかった。
【0085】ただし、ジルコニウムと珪素を含む酸化物
膜の成膜速度は、錫と珪素を含む酸化物膜のそれと比べ
ると(同じ印加電力密度)約38%であり、かなり遅い
ものであった。複数のカソードを有するインライン型ス
パッタリング装置での推定タクト時間は、実施例1の場
合の約2倍弱になり、生産性は極めて悪くなる。
【0086】<比較例3>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例1と同じ条件で窒化チタンの膜を
約100Å成膜した。次に、比較例1と同じ条件で酸化
錫(ターゲット:錫)を、400Å形成した熱線遮断ガ
ラスを作製した。実施例1と同条件でテーバー摩耗試験
をした。1000回転後の透過率変化は4.4%であ
り、保護膜により改善はされているが、実施例7の40
0Å保護コートと比べると、変化幅はかなり大きかっ
た。
【0087】<比較例4>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例8と同じ条件で窒化チタンの膜を
約300Å形成した。実施例8と同じ条件でテーバー摩
耗試験をした。500回転前後の可視光線透過率変化は
6.8%であり、実施例8と比較すると変化幅は大きか
った。
【0088】<比較例5>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例9と同じ条件でステンレスの膜
(第1層)を約150Å形成した。次に実施例8と同じ
条件で窒化チタンの膜(第2層)を約250Å形成し
た。実施例9と同じ条件でテーバー摩耗試験をした。5
00回転前後の可視光線透過率の変化は6.9%であ
り、実施例9と比較すると変化幅は大きかった。
【0089】<比較例6>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例10と同じ条件で酸化チタン層
(第1層)を約50Å形成した。次にTiNx 層(第2
層)を約250Å、次いで酸化チタン膜(第3層)を約
100Å形成した。実施例10と同じ条件でテーバー摩
耗試験をした。500回転前後の可視光線透過率の変化
は5.5%であり、実施例10と比較すると変化幅は大
きかった。
【0090】<比較例7>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例11と同じ条件で窒化チタン層
(第1層)を約100Å形成した。次に酸化チタン層
(第2層)を約100Å形成した。実施例11と同じ条
件でテーバー摩耗試験をした。500回転前後の可視光
線透過率の変化は5.0%であり、実施例11と比較す
ると変化幅は大きかった。
【0091】<比較例8>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例12と同じ条件で酸化チタン層
(第1層)を約100Å形成した。次にステンレスの膜
(第2層)を約100Å、さらにその上にTiNx の膜
(第3層)を約800Å形成した。実施例12と同じ条
件でテーバー摩耗試験をした。500回転前後の可視光
線透過率の変化は4.4%であり、実施例12と比較す
ると大きかった。
【0092】<比較例9>洗浄した2mm厚のクリアガ
ラス板の上に、実施例13と同じ条件でステンレス層
(第1層)を約50Å形成した。次にTiNx 膜(第2
層)を約200Å、さらにその上に酸化チタンの膜(第
3層)を約200Å形成した。実施例13と同じ条件で
テーバー摩耗試験をした。500回転前後の可視光線透
過率の変化は5.5%であり、実施例13と比較すると
大きかった。
【0093】
【発明の効果】本発明は、ニュートラル色調を維持した
まま遮熱性能のよい熱線遮断ガラスを可能にするもので
ある。また、これまであったジルコニウムに珪素または
硼素を添加した酸化物膜を保護膜にした2層系よりも3
〜4%程日射エネルギー透過率を低減できる。
【0094】本発明と同じ遮熱性能、同じニュートラル
外観を有するジルコニウムに珪素または硼素を添加した
複合酸化物膜の3層系に比べると、約2倍の生産性が得
られること、ターゲットも安価な錫をベースに冷間等方
プレスで作製できるので材料コストも低く抑えられる利
点がある。また、保護コートとして使用すれば下地の光
学特性をあまり変えることなく、耐久性だけを向上させ
ることが可能である。
【0095】本発明の錫と珪素を含む複合酸化物膜は、
耐久性、特に摩耗性能に優れるので熱線遮断ガラスだけ
でなく、磁気ディスク、レンズ、プラスチックなどさま
ざまの保護コート材料として用いることが可能である。
さらに、錫と珪素の割合を変えることで屈折率を調節で
きるので光学膜材料としても使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の機能性物品の一例の断面図
【図2】本発明の機能性物品の他の例の断面図
【図3】本発明の機能性物品の他の例の断面図
【図4】本発明の機能性物品の他の例の断面図
【符号の説明】
1:基板 2、4:錫と珪素を含む酸化物を主成分とする酸化物膜 3:機能性を有する薄膜 5:耐薬品性保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B60J 1/00 Z 7447−3D E04C 1/42 B 7904−2E E06B 5/00 B (72)発明者 関 宏一 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 長田 幸一 東京都千代田区丸の内二丁目1番2号 旭 硝子株式会社内 (72)発明者 鈴木 すすむ 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板に、機能性を有する薄膜を少なくとも
    1層と、錫と珪素を含む酸化物を主成分とする酸化物膜
    を少なくとも1層とを形成したことを特徴とする機能性
    物品。
  2. 【請求項2】錫と珪素を含む酸化物を主成分とする酸化
    物膜の可視光の屈折率が、1.5〜2.0の範囲にある
    ことを特徴とする請求項1の機能性物品。
  3. 【請求項3】錫と珪素を含む酸化物を主成分とする酸化
    物膜における錫の割合Sn/(Sn+Si)が、原子比
    で5%〜95%であることを特徴とする請求項1の機能
    性物品。
  4. 【請求項4】機能性を有する薄膜が、窒化物、炭化物、
    金属、吸収性酸化物のうち少なくとも一種を主成分とす
    る膜を少なくとも1層有することを特徴とする請求項
    1、2または3の機能性物品。
  5. 【請求項5】基板に、酸化物膜、窒化物膜、酸化物膜の
    少なくとも3層をこの順に積層してなる機能性物品にお
    いて、基板側から数えて第1層と第3層の酸化物膜は、
    錫と珪素を含む酸化物を主成分とする酸化物膜であっ
    て、その膜厚は40nm以上100nm以下であり、第
    2層の窒化物膜の膜厚は2nm以上10nm以下である
    ことを特徴とする機能性物品。
  6. 【請求項6】基板に、酸化物膜、窒化物膜、酸化物膜、
    酸化物膜の少なくとも4層をこの順に積層してなる機能
    性物品において、基板側から数えて第1層と第3層の酸
    化物膜の少なくとも一方は、錫と珪素を含む酸化物を主
    成分とする酸化物膜からなり、第4層の酸化物膜は、珪
    素、硼素のうち少なくとも一種とジルコニウムを含む酸
    化物膜あるいはタンタルを主成分とする酸化物膜である
    ことを特徴とする機能性物品。
  7. 【請求項7】可視光線透過率が、70%以上であること
    を特徴とする請求項5または6の機能性物品。
  8. 【請求項8】基板に、窒化物膜、酸化物膜の少なくとも
    2層をこの順に積層してなる機能性物品において、基板
    側から数えて第1層の窒化物膜の膜厚は10nm以上1
    00nm以下であり、第2層の酸化物膜は、錫と珪素を
    含む酸化物を主成分とする酸化物膜であって、その膜厚
    が1nm以上50nm以下であることを特徴とする機能
    性物品。
  9. 【請求項9】基板に、金属膜、窒化物膜、酸化物膜の少
    なくとも3層をこの順に積層してなる機能性物品におい
    て、基板側から数えて第1層の金属膜の膜厚は1nm以
    上30nm以下、第2層の窒化物膜の膜厚は10nm以
    上100nm以下、第3層の酸化物膜は、錫と珪素を含
    む酸化物を主成分とする酸化物膜であって、その膜厚は
    1nm以上50nm以下であることを特徴とする機能性
    物品。
  10. 【請求項10】基板に、酸化物膜、窒化物膜、酸化物
    膜、酸化物膜の少なくとも4層をこの順に積層してなる
    機能性物品において、第4層の酸化物膜は、錫と珪素を
    含む酸化物を主成分とする酸化物膜からなることを特徴
    とする機能性物品。
  11. 【請求項11】基板に、酸化物膜、窒化物膜、酸化物
    膜、酸化物膜の少なくとも4層をこの順に積層してなる
    機能性物品において、第4層の酸化物膜は、錫と珪素を
    含む酸化物を主成分とする酸化物膜からなり、基板側か
    ら数えて第1層の酸化物膜の膜厚は1nm以上30nm
    以下、第2層の窒化物膜の膜厚は5nm以上100nm
    以下、第3層の酸化物膜の膜厚は5nm以上100nm
    以下、第4層の酸化物膜の膜厚は1nm以上50nm以
    下であることを特徴とする機能性物品。
  12. 【請求項12】基板に、窒化物膜、酸化物膜、酸化物膜
    の少なくとも3層をこの順に積層してなる機能性物品に
    おいて、基板側から数えて第2層と第3層の酸化物膜の
    少なくとも一方は、錫と珪素を含む酸化物を主成分とす
    る酸化物膜からなり、基板側から数えて第1層の窒化物
    膜の膜厚は1nm以上50nm以下、第2層の酸化物膜
    の膜厚は1nm以上50nm以下、第3層の酸化物膜の
    膜厚は1nm以上50nm以下であることを特徴とする
    機能性物品。
  13. 【請求項13】基板に、酸化物膜、金属膜、窒化物膜、
    酸化物膜の少なくとも4層をこの順に積層してなる機能
    性物品において、基板側から数えて第1層の酸化物膜の
    膜厚は1nm以上50nm以下、第2層の金属膜の膜厚
    は1nm以上50nm以下、第3層の窒化物膜の膜厚は
    5nm以上100nm以下、第4層の酸化物膜は、錫と
    珪素を含む酸化物を主成分とする酸化物膜であって、そ
    の膜厚は1nm以上50nm以下であることを特徴とす
    る機能性物品。
  14. 【請求項14】基板に、金属膜、窒化物膜、酸化物膜、
    酸化物膜の少なくとも4層をこの順に積層してなる機能
    性物品において、基板側から数えて第3層と第4層の酸
    化物膜の少なくとも一方は、錫と珪素を含む酸化物を主
    成分とする酸化物膜からなり、基板側から数えて第1層
    の金属膜の膜厚は1nm以上30nm以下、第2層の窒
    化物膜の膜厚は5nm以上50nm以下、第3層の酸化
    物膜の膜厚は1nm以上50nm以下、第4層の酸化物
    膜の膜厚は1nm以上50nm以下であることを特徴と
    する機能性物品。
  15. 【請求項15】窒化物膜が、チタン、ジルコニウム、ハ
    フニウム、クロムのうち少なくとも一種の窒化物を主成
    分とすることを特徴とする請求項4、5、6、8、9、
    10、11、12、13または14の機能性物品。
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