JPH05254913A - セラミック焼結体の製造方法 - Google Patents

セラミック焼結体の製造方法

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JPH05254913A JP4351548A JP35154892A JPH05254913A JP H05254913 A JPH05254913 A JP H05254913A JP 4351548 A JP4351548 A JP 4351548A JP 35154892 A JP35154892 A JP 35154892A JP H05254913 A JPH05254913 A JP H05254913A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 セラミック粉末を混合し、乾燥した後、仮焼
し、粉砕して得られた粉末を、圧縮成形し、高温焼結す
るセラミック焼結体の製造方法において、セラミック粉
末を混合するときに、セラミック粉末をアルミナゾル中
に均一に分散させ、セラミック粉末をアルミナゾルでコ
ーティングすることを特徴とするセラミック焼結体の製
造方法。 【効果】 超微粒状態のセラミック粉末を、高分子のア
ルミナゾルでコーティングすることにより、セラミック
焼結体の製造工程を単純化することができ、また焼結体
の微細構造特性を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高分子のアルミナゾル
を用い、超微粒状態のセラミック粉末をコーティングす
ることでセラミック焼結体の製造工程を単純化し、焼結
体の微細構造特性を向上させたセラミック焼結体の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】セラミック焼結体の諸特性は、成形体の
微細構造により大きく左右されるため、セラミック焼結
体に関する大部分の研究開発は、均一な微細構造を有す
る成形体を得ることができる技術の開発が目標とされて
いるのが実情である。
【0003】セラミック焼結体の製造工程は、一般的に
は、原料粉末を混合する工程、これを成形する工程、及
びこの成形体を焼結し、最終的にセラミック焼結体を得
る工程から成る。また、一般的には、原料粉末の混合工
程では、良好なスラリー(slurry)を得るために、粉砕(m
illing) 、分散(dispersing)又は噴霧−乾燥(spray-dry
ing)等の方法が主に採用され、成形段階では、乾式圧縮
成形、注入成形又はコロイド圧縮成形(colloid pressin
g)する方法が採用され、焼結工程では、常圧焼結法、熱
間加圧焼結法、加圧焼結法又は熱間静水圧焼結法が採用
されている。
【0004】このような焼結体に用いられるアルミナ
は、他のセラミック原料粉末と混合し、複合材料を製造
するのに使用されるか、場合によっては焼結助剤として
使用されることもある。このようなアルミナは、主に高
純度超微粒粉末、コロイドアルミナの状態又は共沈法に
より得られた沈殿の形態で添加される。コロイドアルミ
ナゾルは、Yoldasの米国特許第3,944,658号に
記載されており、米国特許第4,532,072号に
は、水中で解こう(peptizatable)させるアルミナ製造方
法が記載されている。また最近開発された方法として
は、硝酸アルミニウム、硝酸ジルコニウムのような無機
塩を解こう剤(peptizing agent) として使用する方法が
ある(米国特許第4,574,003号及び第4,80
1,399号)。
【0005】このような方法で得られるコロイドゾル
は、主に、モノリシック(monoliths)、アルミナを主成
分とする研磨材(abrasives) 、又は複合体を製造するの
に用いられている。また、上記方法で得られた物質の密
度は、通常、理論密度より相当低いが、最近、シーディ
ング(seeding) を利用し、コロイドゾルから密度の高い
モノリシックを製造する方法が知られている。しかしな
がら、既存のコロイドゾルは、高分子ゾルとは異なり、
他の物質との付着力が弱いため、セラミック粉末にコー
ティングするのが困難であるという問題点がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、他の
物質との付着力が優れた高分子アルミナゾルを用い、超
微粒状態のセラミック原料粉末をアルミナでコーティン
グすることにより、低い焼結温度で焼結密度が高いセラ
ミック焼結体を得ることができる製造方法を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、セラミック粉
末を混合し、乾燥した後、仮焼し、粉砕して得られた粉
末を、圧縮成形し、高温焼結するセラミック焼結体の製
造方法において、セラミック粉末を混合するときに、セ
ラミック粉末をアルミナゾル中に均一に分散させ、セラ
ミック粉末をアルミナゾルでコーティングすることを特
徴とするセラミック焼結体の製造方法である。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
セラミック焼結体の製造方法では、原料粉末の混合工程
において、アルミナゾル中にセラミック粉末を分散させ
た後、ゲル化する前にセラミック粉末が沈降したり、粉
末が凝集して固まらないよう維持しながらゲル化した
後、仮焼する。このように仮焼工程を経た成形体は、セ
ラミック粉末がアルミナでコーティングされた状態、即
ちアルミナ素地 (matrix) から成る。
【0009】高分子アルミナゾルは、pH3.5近傍で
ゲル化が始まるが、大部分の、硝化、酸化又は炭化セラ
ミック粉末は、そのスラリーのpHが3.5以上であ
り、このようなセラミック粉末とアルミナゾルとを混合
すると、セラミック粉末の表面から徐々にゲル化が進行
する。アルミナゾルを混合媒体(mixing media)としたセ
ラミック粉末のスラリーは、撹拌器、ボールミル等で1
0〜30分程度撹拌し、充分に混合した後、石膏型等の
型に注ぎ込みゲル化させる。この際、アルミナゾルの分
散媒を徐々に除去することにより、スラリーのゲル化を
促進することができる。
【0010】このようにゲル化した成形体は、一般的な
セラミック焼結体の製造工程に従い、例えば室温で乾燥
し、500〜600℃で仮焼した後、粉砕し、約10,
000psi でペレットにする。次いでこのペレットを、
20,000〜40,000psi で冷間静水圧圧縮して
成形した後、所定の昇温速度と焼結雰囲気下で焼結し、
セラミック焼結体を得る。このような本発明の製造方法
によって得られたセラミック焼結体は、従来の焼結体に
比べ焼結密度が高く、また同時に均一な微細構造を有す
る。
【0011】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的
に説明する。 実施例1TiN/Al23 /TiAlON複合体の製造 蒸留水90mlと88%ギ酸10mlとの溶液に、95%ア
ルミニウム tert-ブトキシド23.22g を、70〜8
0℃で徐々に加えた後3時間加熱反応させ、アルミナゾ
ルを調製した。次に、このアルミナゾル15ml(Al2
3 として0.875g 含有)に、AlN29g 及びT
iN28g を加えて十分に撹拌してスラリーを得、これ
を石膏型に注ぎ込み室温で乾燥し、更に80℃で約一日
乾燥させた後、600℃で約5時間仮焼した。
【0012】次に、仮焼した成形体を粉砕し、200メ
ッシュで篩分した後、10kpsiで圧縮してペレットと
し、このペレットを40kpsiで冷間静水圧圧縮し、成形
体を得た。また上述の方法と同様にして、TiNに対す
るAlNのモル比を0.83から2.0まで変化させ
て、成形体を作製し、表1に示す温度(℃)と時間(h
r)で焼結し、TiN/Al23 /TiAlON複合
体を製造した。得られた複合体について、AlNとTi
Nのモル比、及び加えたアルミナ量が焼結密度に及ぼす
影響を調べた。結果を表1に示す。
【0013】
【表1】
【0014】実施例2窒化ケイ素の製造(添加剤:Y23 5.0重量%、A
23 5.5重量%) 蒸留水270mlとギ酸30mlとの溶液に、アルミニウム
tert-ブトキシド57.85g を、70〜90℃で反応
させ、アルミナゾルを調製した。次に、このアルミナゾ
ル20ml(Al23 として1.11g 含有)に、窒化
ケイ素18.09g 及びイットリア1.01g を加えて
撹拌した。得られたスラリーを石膏型に注ぎ込み乾燥
し、再度、乾燥器を使用し70℃で乾燥した後、650
℃で3時間仮焼した。
【0015】次に、仮焼した成形体を粉砕し、200メ
ッシュで篩分した後、10kpsiで圧縮してペレットと
し、このペレットを40kpsiで冷間静水圧圧縮し、成形
体を得た。得られた成形体を窒化ケイ素と窒化ホウ素と
の混合粉末の中に埋設し、窒素雰囲気下で20℃/分で
昇温し、1,750℃で2.5時間焼結した。得られた
焼結体の焼結密度は、理論密度の99%以上であった。
【0016】また、窒化ケイ素粉末と、焼結助剤(sinte
ring additive)としてのY23 (5.0重量%)と、
AlN(1.49重量%)とをアルミナゾル(3.66
重量%、Al23 として3.66重量%含有)に分散
させ、上記と同様にして焼結した。得られた焼結体の焼
結密度は、理論密度の99%以上であった。これらの焼
結体をX線回折で分析した結果、β−窒化ケイ素が99
%以上であることが認められた。また、表2に示す種類
の窒化ケイ素[Ube E10(商品名)、H.C.S
tarck(商品名)]を用い、焼結助剤量を変え、上
述の方法と同様にして焼結体を製造した。なお、このと
きの焼結条件(焼結温度および時間)を表2に示す。焼
結体の焼結密度(g/cm3) 、曲げ強度(MOR) 及び破壊靭性
(K1C) を測定した。結果を表2に示す。
【0017】
【表2】
【0018】実施例3SiAlONの製造 実施例1と同様にして、表3に示す原料モル比の焼結体
(SiAlON)を製造した。なお、このときの焼結条
件(焼結温度および時間)を表3に示す。得られた焼結
体をX線回折で分析した結果、原料モル比が、Si3
4 /AlN/Al23 =5/1/1である焼結体、及
び5.5/0.5/0.5である焼結体は、β−Si3
4 像だけが現われ、原料モル比が、1/1/1である
焼結体は、β1 −Si3 Al335 に現われた。得
られた焼結体の焼結密度(g/cm3)、硬さ(Diamond Pyrami
dal Number)、曲げ強度(MOR) 及び破壊靭性(K1C) を測
定した。結果を表3に示す。
【0019】
【表3】
【0020】実施例415容量%ジルコニア−アルミナ複合体の製造 硝酸塩として安定化させたジルコニアゾル(ZnO2
して25重量%含有)108.6mlにアルミナ100g
を分散させた後、これにアルミナゾル(Al23 とし
て2.39g 含有)30mlを加えて撹拌した後、実施例
1と同様にして成形体を得た。この成形体を空気中で
1,550℃で2時間焼結し、焼結体(ジルコニア強化
されたアルミナ複合体)を製造した。得られた焼結体の
焼結密度は、理論密度の99%以上であった。この焼結
体の曲げ強度は、95.1±6ksiであり、破壊靭性
は、5.15±0.24MPa・m1/2であった。また焼結体
をX線回折で分析した結果、四角形(tetragonal)の像だ
けが認められた。
【0021】実施例523 3mol %を含有するZrO2 −5.5重量%A
23 複合体の製造 ジルコニア( Aldrich Chemicals、d=5.5g/cm3
27.63g とY23 1.58g とを、実施例1と同
様にして得たアルミナゾル(Al23 として1.70
g 含有)35mlに良く混合し、実施例1と同様にして成
形体を製造した。この成形体を高純度のアルゴン雰囲気
下で1,400℃で2時間、1,500℃で2.5時
間、常圧で焼結して焼結体を得た。密度は、各々5.1
4g/cm3 と5.74g/cm3 であった。
【0022】実施例6アルミナ−窒素チタニウム複合体の製造 窒化アルミニウム64mmolと酸化チタニウム48mmolを
60mlのアルミナゾル(Al23 として2.0g 含
有)に分散させた後、実施例1と同様にして成形体を得
た。この成形体を窒素雰囲気下で1,650℃で1.5
時間、常圧で焼結し、この焼結体を得た。この焼結体の
密度は4.245g/cm3 であり、X線回折で分析した結
果、窒化チタニウムとアルミナから構成されていること
が認められた。また、上記成形体を粉砕した粉末を、
1,450℃で1時間、35MPa で熱間加圧焼結し、密
度4.27g/cm3 の焼結体を得た。この焼結体の破壊靭
性(10kgの荷重を測定した値)は3.3±0.3MPa・
m1/2であった。
【0023】実施例7TiN/Al23 /TiAlON−SiCウィスカ−
(whisker) 複合体の製造 アルミナゾル(Al23 として4.8g 含有)31ml
に、炭化シリコンウィスカー(whisker) 5.0g を分散
させた後、窒化アルミニウムと窒化チタニウムを加え、
約20分撹拌し、スラリーを調製し、実施例1と同様に
して成形体を得た。この成形体を、窒素雰囲気下で1,
680℃で2時間、1,780℃で3時間、常圧で焼結
して焼結体を得た。密度は、各々2.51g/cm3 と4.
46g/cm3 であった。
【0024】実施例8アルミナ−炭化ケイ素複合体の製造 アルミナゾル50mlに、炭化ケイ素5.0g を加え、約
15分撹拌した後、アルミナ粉末39.1g を撹拌しな
がら加え、スラリーを調製し、実施例1と同様にして成
形体を得た。この成形体をアルゴン雰囲気下で1,55
0℃と1,700℃で2時間ずつ常圧で焼結して焼結体
を得た。密度は、各々3.49g/cm3 と3.51g/cm3
であった。この値はボーエン(Bowen) の“消える高分
子”を使用した複合体の密度と相応する。
【0025】実施例9アルミナ−窒化ケイ素ウィスカー(whisker) 複合体の製
アルミナゾル(Al23 として2.0g 含有)17ml
に、炭化ケイ素ウィスカー(アメリカンメトリックス、
5−60μm )2.0g を分散した後、アルミナ16.
0g を加え、約20分撹拌してスラリーを調製し、実施
例1と同様にして成形体を得た。この成形体をアルゴン
雰囲気下で1,700℃で2時間、常圧で焼結し、密度
が3.28g/cm3 の焼結体を得た。
【0026】
【発明の効果】本発明によると、超微粒状態のセラミッ
ク粉末を、高分子のアルミナゾルでコーティングするこ
とにより、セラミック焼結体の製造工程を単純化するこ
とができ、また焼結体の微細構造特性を向上させること
ができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミック粉末を混合し、乾燥した後、
    仮焼し、粉砕して得られた粉末を、圧縮成形し、高温焼
    結するセラミック焼結体の製造方法において、 セラミック粉末を混合するときに、セラミック粉末をア
    ルミナゾル中に均一に分散させ、セラミック粉末をアル
    ミナゾルでコーティングすることを特徴とするセラミッ
    ク焼結体の製造方法。
  2. 【請求項2】 アルミナゾル中のアルミナが、セラミッ
    ク粉末の10重量%以下である請求項1記載の製造方
    法。
  3. 【請求項3】 セラミック粉末をアルミナゾル中に均一
    に分散させた後、アルミナゾルの分散媒を徐々に除去
    し、スラリーのゲル化を促進させる請求項1記載の製造
    方法。
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