JPH05208375A - Surface polishing tape for magnetic disc - Google Patents
Surface polishing tape for magnetic discInfo
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- JPH05208375A JPH05208375A JP1515592A JP1515592A JPH05208375A JP H05208375 A JPH05208375 A JP H05208375A JP 1515592 A JP1515592 A JP 1515592A JP 1515592 A JP1515592 A JP 1515592A JP H05208375 A JPH05208375 A JP H05208375A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク用表面研磨
テープに関し、特にフレキシブル磁気ディスク、磁気テ
ープ等の磁気記録媒体を製造する際に、該磁気記録媒体
の磁気記録面の平滑化を目的とした表面研磨に用いられ
る磁気ディスク用表面研磨テープに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface polishing tape for a magnetic disk, and particularly for the purpose of smoothing the magnetic recording surface of the magnetic recording medium when manufacturing a magnetic recording medium such as a flexible magnetic disk or a magnetic tape. The present invention relates to a surface polishing tape for magnetic disk used for polishing the surface.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、フレキシブル磁気ディスク、磁気
テープ等の磁気記録媒体は高密度化の要求が一段と高ま
り、このため超平滑媒体設計技術の開発が強く望まれて
いる。通常、非磁性支持体上に磁性粉と結合剤等からな
る磁気記録層を設けてなる磁気ディスクにおいては、そ
の表面性をより一層向上させるべく、磁気記録層を形成
した後に円周方向に表面研磨処理が施される。そしてこ
のような表面研磨処理を施す事によって、磁気ヘッドと
磁気ディスク間の記録再生スペーシング損失を大幅に減
少させることが出来、その結果として、電磁変換特性は
もとより、走行安定性のより優れた磁気ディスクが得ら
れる。2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for higher density in magnetic recording media such as flexible magnetic disks and magnetic tapes. Therefore, development of ultra-smooth media design technology has been strongly desired. Usually, in a magnetic disk in which a magnetic recording layer composed of magnetic powder and a binder is provided on a non-magnetic support, the surface of the magnetic recording layer is formed in the circumferential direction after forming the magnetic recording layer in order to further improve its surface property. A polishing process is performed. By performing such a surface polishing treatment, the recording / reproducing spacing loss between the magnetic head and the magnetic disk can be greatly reduced, and as a result, not only the electromagnetic conversion characteristics but also the running stability is improved. A magnetic disk is obtained.
【０００３】前記磁気ディスクの円周方向の表面研磨
は、長尺状の支持体の一方の面上に研磨性を有する微粒
子と結合剤からなる研磨層が設けられた研磨テープを用
いて行われるのが一般的である。この様にして得られた
研磨テープを使用して磁気ディスクの表面研磨処理を行
なう際には、磁気ディスク表面研磨装置が用いられる。
この装置に於て、前記研磨テープは弾性を有するバック
アップロールにより高速回転する磁気ディスク表面に押
し当てられ、その結果として、磁性層表面に介在する微
小突起が取り除かれ表面研磨が達成される。The surface of the magnetic disk in the circumferential direction is polished by using a polishing tape in which a polishing layer made of fine particles having a polishing property and a binder is provided on one surface of a long support. Is common. When the surface of the magnetic disk is polished using the polishing tape thus obtained, a magnetic disk surface polishing apparatus is used.
In this apparatus, the polishing tape is pressed against the surface of the magnetic disk that rotates at a high speed by an elastic backup roll, and as a result, minute projections existing on the surface of the magnetic layer are removed and surface polishing is achieved.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】フレキシブル磁気ディ
スクの表面研磨時において、結合剤の研磨粒子に対する
固着力が十分ではない場合には、研磨粒子の脱粒が生
じ、スクラッチ発生を誘起したり、また、研磨粒子のデ
ィスク表面への固着が生じ、品質を著しく低下させるこ
とにつながり大きな問題となっていた。In the case of polishing the surface of a flexible magnetic disk, if the binding force of the binder to the abrasive particles is not sufficient, the abrasive particles are shed, which may cause scratches to occur. Adhesion of the abrasive particles to the disk surface occurs, resulting in a significant deterioration in quality, which is a major problem.
【０００５】本発明はかかる現状に鑑みてなされたもの
である。すなわち本発明の目的は、該研磨テープを用い
研磨を行った場合に、研磨粒子の脱粒が生じることのな
いフレキシブル磁気ディスクの表面研磨テープを提供す
ることにある。The present invention has been made in view of the current situation. That is, it is an object of the present invention to provide a surface polishing tape for a flexible magnetic disk which does not cause abrasive particles to be shed when the polishing tape is used for polishing.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、支持体
と該支持体上に形成された研磨層とを有し、該研磨層は
研磨粒子と結合剤から成る磁気ディスク用表面研磨テー
プにおいて、前記研磨層中に下記の化学式２の構造を有
するトリアジンチオール化合物を含有する磁気ディスク
用表面研磨テープが得られる。According to the present invention, there is provided a surface polishing tape for a magnetic disk having a support and a polishing layer formed on the support, the polishing layer comprising abrasive particles and a binder. In, a surface polishing tape for a magnetic disk is obtained, which contains a triazine thiol compound having the structure of the following chemical formula 2 in the polishing layer.
【０００７】[0007]
【化２】 [Chemical 2]
【０００８】[0008]
【作用】本発明において、図２に示すように、研磨テー
プの表面硬度は、トリアジンチオール化合物が添加され
たことによって、研磨粒子と結合剤間の親和性が高めら
れ、両者の結合力が向上することにより大きくなる。そ
のため研磨テープと磁気ディスクの接触研磨時の加圧下
状態においても高い研磨能力を保持し、且、脱粒がなく
均一な研磨能力を持つ研磨テープを得ることができる。
従って本発明による研磨テープを用いて磁気ディスクの
研磨を行なうことにより、表面研磨性の劣化がなく、図
３に示すように所望研磨時間が短縮できるようになり、
生産効率が向上する。In the present invention, as shown in FIG. 2, the surface hardness of the polishing tape is increased by the addition of the triazine thiol compound, the affinity between the polishing particles and the binder is increased, and the bonding strength between the two is improved. It becomes larger by doing. Therefore, it is possible to obtain a polishing tape which has a high polishing ability even under a pressure applied during the contact polishing of the polishing tape and the magnetic disk, and has a uniform polishing ability without shedding.
Therefore, by polishing the magnetic disk using the polishing tape according to the present invention, the surface polishing property is not deteriorated, and the desired polishing time can be shortened as shown in FIG.
Production efficiency is improved.
【０００９】[0009]
［材料］本発明において用いることのできる支持体とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリアセテート、
ポリイミド等の長尺フィルムがあり、いずれを用いても
よい。[Material] As the support that can be used in the present invention, polyethylene terephthalate, polyacetate,
There is a long film such as polyimide, and any of them may be used.
【００１０】研磨粒子は、モース硬度６以上の微粉末で
あればよく、溶融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、α
−酸化鉄、ダイヤモンド、酸化珪素、酸化チタン等があ
げられる。該微粉末の平均粒子径は０．０１〜１０μm
、好ましくは０．３〜３μmの範囲内にあればよい。The abrasive particles may be fine powders having a Mohs hardness of 6 or more, such as fused alumina, silicon carbide, chromium oxide and α.
-Iron oxide, diamond, silicon oxide, titanium oxide, etc. may be mentioned. The average particle size of the fine powder is 0.01 to 10 μm
, Preferably 0.3 to 3 μm.
【００１１】結合剤としては、従来市販されている樹脂
を使用することができる。例えば、本発明において用い
られる結合剤としては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、エポキシ樹脂、フェノキシ樹
脂、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−マイレン酸共重合体、ポリビニルブチラール樹
脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリウレ
タン樹脂などをあげることが出来る。As the binder, a resin which has been commercially available can be used. For example, as the binder used in the present invention, vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, epoxy resin, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl propionate copolymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, Examples thereof include vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymer, polyvinyl butyral resin, acrylonitrile-butadiene copolymer, polyurethane resin and the like.
【００１２】本発明において用いられるトリアジンチオ
ール化合物としては、下記の化学式３の構造に、−Ｈ
Ｓ、−（ＣＨ4 Ｈ9 ）2 Ｎ、−Ｃ6 Ｈ5 ＮＨなどの官能
基を有する化合物を挙げる事ができる。The triazine thiol compound used in the present invention has a structure represented by the following chemical formula -H:
S, - (CH 4 H 9 ) 2 N, can be exemplified a compound having a functional group, such as -C 6 H 5 NH.
【００１３】[0013]
【化３】 [Chemical 3]
【００１４】トリアジンチオール化合物の添加量は研磨
粒子に対して、０．１〜５wt％の範囲内であればよく、
好ましくは１〜３wt％の範囲内であれば良い。５％を越
すと分散性が悪くなり、０．１％以下では実効的な効果
を呈しない。The amount of the triazine thiol compound added may be in the range of 0.1 to 5 wt% with respect to the abrasive particles.
It is preferably within the range of 1 to 3 wt%. If it exceeds 5%, the dispersibility deteriorates, and if it is 0.1% or less, no effective effect is exhibited.
【００１５】本発明による研磨テープを従来用いられて
いる研磨テープと比較するため、本発明を実施して得ら
れる試料と、従来による比較試料との間で性能比較試験
を行った。In order to compare the polishing tape according to the present invention with the conventionally used polishing tape, a performance comparison test was conducted between a sample obtained by carrying out the present invention and a conventional comparative sample.
【００１６】実施例１ 塗料として次の組成のものを用
いた。 Example 1 A paint having the following composition was used.
【００１７】 (a) 溶融アルミナ（平均粒径０．５μm)…８０重量部 (b) ポリウレタン樹脂（Ｔｇ ２５℃）…６重量部（固
形分） (c) ポリ塩化ビニル …１４重量部
（固形分） (d) トリアジンチオール化合物（ジスネット三協化成）
…２．０重量部 (e) メチルエチルケトン／トルエン …９０重量部／
９０重量部 上記の組成をボールミルにて５０時間混練後、イソシア
ネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）４
重量部（固形分）を加えて、さらに１時間混練し塗料を
得た。これを厚さ５０μm のポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）フィルム上に、乾燥後の研磨層の厚さが１
５μm となる様に塗布・乾燥させ、幅２５．４ｍｍにス
リットし、内径１５２ｍｍのコアに１００ｍ巻き取り、
これを６５℃、７２時間キュアリングして試料とした。(A) Fused alumina (average particle size 0.5 μm) ... 80 parts by weight (b) Polyurethane resin (Tg 25 ° C.) ... 6 parts by weight (solid content) (c) Polyvinyl chloride ... 14 parts by weight (solid) Min) (d) Triazine thiol compound (Disnet Sankyo Kasei)
2.0 parts by weight (e) Methyl ethyl ketone / toluene 90 parts by weight /
90 parts by weight After kneading the above composition in a ball mill for 50 hours, an isocyanate compound (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Co.) 4
A part by weight (solid content) was added, and the mixture was kneaded for 1 hour to obtain a coating material. This is placed on a polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 50 μm and the thickness of the polishing layer after drying is 1
It is coated and dried to a thickness of 5 μm, slit into a width of 25.4 mm, and wound around a core with an inner diameter of 152 mm for 100 m.
This was cured at 65 ° C. for 72 hours to prepare a sample.
【００１８】比較例１ 比較例１にて研磨層を形成する
際、(d) のトリアジンチオール化合物以外は実施例１と
同様にして試料を得た。[0018] When forming a polishing layer in Comparative Example 1 Comparative Example 1, to obtain a sample in the same manner as in Example 1 except triazine thiol compound of (d).
【００１９】図１は上記実施例および比較例にて得られ
た各試料を処理する磁気ディスク研磨装置である。図に
おいて、１は磁気ディスク、２は研磨テープ、３ａ及び
３ｂはガイドロール、４はバックアップロール、５はス
リットエアノズルである。試料はこの装置に装着し、下
記の表１の示す処理条件について直径３．５″（８９ｍ
ｍ）のフレキシブル磁気ディスクの表面研磨処理を行っ
た。FIG. 1 shows a magnetic disk polishing apparatus for processing the samples obtained in the above-mentioned examples and comparative examples. In the figure, 1 is a magnetic disk, 2 is a polishing tape, 3a and 3b are guide rolls, 4 is a backup roll, and 5 is a slit air nozzle. The sample was mounted on this device and the diameter was 3.5 ″ (89 m) under the processing conditions shown in Table 1 below.
The surface of the flexible magnetic disk of m) was subjected to a surface polishing treatment.
【００２０】[0020]
【表１】 [Table 1]
【００２１】図２は本発明における実施例及び比較例に
おいて得られた研磨テープを使用した場合での、表面硬
度の関係を示す図である。本実施例の方が比較例の場合
より３４％大きいことが分かる。FIG. 2 is a diagram showing the relationship of surface hardness when the polishing tapes obtained in Examples and Comparative Examples of the present invention are used. It can be seen that this example is 34% larger than the comparative example.
【００２２】図３は研磨時間と磁気ディスク表面光沢度
の関係を示す図である。ここで磁気ディスクの表面光沢
度はグロスメータにより評価した。FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the polishing time and the glossiness of the magnetic disk surface. Here, the surface glossiness of the magnetic disk was evaluated by a gloss meter.
【００２３】スクラッチ発生率及びトラック品質検査は
次のようにして行った。すなわち、各研磨テープを用い
て得られた磁気ディスク、各サンプル各１００枚、合計
２００枚を用い、表面研磨時における目視による磁気デ
ィスクの表面観察を行うことによってスクラッチ発生率
を調査した。また、下記の表２に示される条件でトラッ
ク品質検査を行った。The scratch occurrence rate and the track quality inspection were conducted as follows. That is, the scratch occurrence rate was investigated by visually observing the surface of the magnetic disk at the time of surface polishing, using the magnetic disks obtained by using the respective polishing tapes, 100 samples for each sample, and 200 samples in total. Further, a track quality inspection was conducted under the conditions shown in Table 2 below.
【００２４】[0024]
【表２】 [Table 2]
【００２５】以上のようにして得られたスクラッチ発生
率及びトラック品質検査結果は下記の表３に示す通りで
ある。この表から分かるように、実施例は比較例に比べ
て明かに研磨粒子の脱粒及び研磨によるスクラッチが発
生せず、所望の表面粗さが得られることを示している。The scratch occurrence rate and the track quality inspection result obtained as described above are shown in Table 3 below. As can be seen from this table, the example clearly shows that the desired surface roughness can be obtained without the occurrence of scratches due to abrasive particle shedding and polishing, as compared with the comparative example.
【００２６】[0026]
【表３】 [Table 3]
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上に述べたように本発明による研磨テ
ープを用いる事により、表面研磨時における研磨粒子の
脱粒がなく、均一な表面性が得られる。また、所望の表
面粗さを得るための必要研磨時間が短時間である。従っ
て高品質の磁気ディスクを生産することが可能となり、
磁気ディスクの生産効率が向上する。As described above, by using the polishing tape according to the present invention, it is possible to obtain uniform surface property without the abrasive particles being shed during surface polishing. Further, the polishing time required for obtaining the desired surface roughness is short. Therefore, it becomes possible to produce high quality magnetic disks,
The production efficiency of magnetic disks is improved.
【図１】本発明の実施例及び比較例に於て磁気ディスク
の表面研磨装置を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a magnetic disk surface polishing apparatus in Examples and Comparative Examples of the present invention.
【図２】実施例と比較例における表面硬度の比較を示す
図。FIG. 2 is a diagram showing a comparison of surface hardness between an example and a comparative example.
【図３】実施例と比較例における必要研磨時間とグロス
の変化を示す図。FIG. 3 is a diagram showing changes in required polishing time and gloss in Examples and Comparative Examples.
１ 磁気ディスク ２ 研磨テープ ３ａ，３ｂ ガイドロール ４ バックアップロール ５ スリットエアノズル 1 magnetic disk 2 polishing tape 3a, 3b guide roll 4 backup roll 5 slit air nozzle
Claims (1)
とを有し、該研磨層は研磨粒子と結合剤から成る磁気デ
ィスク用表面研磨テープにおいて、前記研磨層中に下記
の化学式１の構造を有するトリアジンチオール化合物を
含有することを特徴とする磁気ディスク用表面研磨テー
プ。 【化１】 1. A surface-polishing tape for a magnetic disk comprising a support and a polishing layer formed on the support, the polishing layer comprising abrasive particles and a binder, wherein the polishing layer has the following chemical formula: A surface-polishing tape for a magnetic disk, comprising a triazine thiol compound having a structure of 1. [Chemical 1]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1515592A JPH05208375A (en) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | Surface polishing tape for magnetic disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1515592A JPH05208375A (en) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | Surface polishing tape for magnetic disc |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05208375A true JPH05208375A (en) | 1993-08-20 |
Family
ID=11880910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1515592A Withdrawn JPH05208375A (en) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | Surface polishing tape for magnetic disc |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05208375A (en) |
-
1992
- 1992-01-30 JP JP1515592A patent/JPH05208375A/en not_active Withdrawn
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990408 |