JPH0519450A - 位相シフトレチクル検査装置 - Google Patents
位相シフトレチクル検査装置Info
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- JPH0519450A JPH0519450A JP3170271A JP17027191A JPH0519450A JP H0519450 A JPH0519450 A JP H0519450A JP 3170271 A JP3170271 A JP 3170271A JP 17027191 A JP17027191 A JP 17027191A JP H0519450 A JPH0519450 A JP H0519450A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 位相シフトレチクルの位相部材の位相変化量
の所定値からのずれ量と、吸収体パターン及び位相部材
パターンの微小欠陥との双方を単純な構成でかつ効率的
に検査を行えるようにする。 【構成】 位相シフトレチクル5の位相部材の位相変化
量の所定値からのずれ量検査装置2と、吸収体パターン
及び位相部材パターンの微小欠陥検査装置3とを隣接し
て設けて、X−Yステージを移動させて位相シフトレチ
クルをずれ量の検査装置2と微小欠陥検査装置3とに選
択的に搬送して検査する。
の所定値からのずれ量と、吸収体パターン及び位相部材
パターンの微小欠陥との双方を単純な構成でかつ効率的
に検査を行えるようにする。 【構成】 位相シフトレチクル5の位相部材の位相変化
量の所定値からのずれ量検査装置2と、吸収体パターン
及び位相部材パターンの微小欠陥検査装置3とを隣接し
て設けて、X−Yステージを移動させて位相シフトレチ
クルをずれ量の検査装置2と微小欠陥検査装置3とに選
択的に搬送して検査する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、位相シフトレチクル
の位相部材の位相変化量の所定値からのずれ量と、吸収
体パターン及び位相部材パターンの欠陥との双方を検査
するための装置に関するものである。
の位相部材の位相変化量の所定値からのずれ量と、吸収
体パターン及び位相部材パターンの欠陥との双方を検査
するための装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、位相シフトレチクルの位相部
材の位相変化量の所定値からのずれ量を測定する装置
と、吸収体パターン及び位相部材パターンの微小欠陥と
を検査する装置として、下記のものがある。ずれ量を測
定する装置として、例えば光源から出た光をハーフミラ
ーにより二光束に分割して、一方の光束をその光路上に
配設されている透明基板上に形成されている位相シフト
パターンを透過させて検出器へ導き、他方の光束をその
光路上に配設されかつ上記透明基板と屈折率及び厚さの
同一の透明基板を透過させて検出器へ導いて、双方の光
束の光路差に対応して変化する検出器の受光面に生ずる
干渉象を解析して位相ずれ量を測定するものである。
材の位相変化量の所定値からのずれ量を測定する装置
と、吸収体パターン及び位相部材パターンの微小欠陥と
を検査する装置として、下記のものがある。ずれ量を測
定する装置として、例えば光源から出た光をハーフミラ
ーにより二光束に分割して、一方の光束をその光路上に
配設されている透明基板上に形成されている位相シフト
パターンを透過させて検出器へ導き、他方の光束をその
光路上に配設されかつ上記透明基板と屈折率及び厚さの
同一の透明基板を透過させて検出器へ導いて、双方の光
束の光路差に対応して変化する検出器の受光面に生ずる
干渉象を解析して位相ずれ量を測定するものである。
【0003】また吸収体パターン及び位相部材パターン
の微小欠陥を検査する装置として、特開平2−2102
50号公報に記載のものがある。この検査装置において
は、照明光を集光レンズを通して試料台の所定位置に載
置されたホトマスクを照明し、上記試料台は駆動手段に
より位置決めされ、その位置は正確に計測される。ホト
マスクの透過光は、集光レンズを通過して撮像素子(カ
メラヘッド)上にホトマスクパターンを形成する。カメ
ラコントローラで制御された撮像素子からの信号を画像
メモリを介して比較判定回路で設計データと比較判別し
て欠陥を特定するものである。
の微小欠陥を検査する装置として、特開平2−2102
50号公報に記載のものがある。この検査装置において
は、照明光を集光レンズを通して試料台の所定位置に載
置されたホトマスクを照明し、上記試料台は駆動手段に
より位置決めされ、その位置は正確に計測される。ホト
マスクの透過光は、集光レンズを通過して撮像素子(カ
メラヘッド)上にホトマスクパターンを形成する。カメ
ラコントローラで制御された撮像素子からの信号を画像
メモリを介して比較判定回路で設計データと比較判別し
て欠陥を特定するものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来例では、吸収体パ
ターン及び位相部材パターンの微小欠陥検査系のみであ
るので、位相部材の位相ずれ量が定量的に計測できず、
一方、位相ずれ量の測定系のみでは、微小欠陥が検査で
きない欠点がある。これを解消するためには、両者を一
体とすればよいが、光学系が複雑となり過ぎるという問
題点がある。
ターン及び位相部材パターンの微小欠陥検査系のみであ
るので、位相部材の位相ずれ量が定量的に計測できず、
一方、位相ずれ量の測定系のみでは、微小欠陥が検査で
きない欠点がある。これを解消するためには、両者を一
体とすればよいが、光学系が複雑となり過ぎるという問
題点がある。
【0005】この発明の目的は、位相シフトレチクルの
位相部材の位相変化量の所定値からのずれ量と吸収体パ
ターン及び位相部材パターンの微小欠陥との双方を簡単
な構成で、効率的に検査を行えるようにすることであ
る。
位相部材の位相変化量の所定値からのずれ量と吸収体パ
ターン及び位相部材パターンの微小欠陥との双方を簡単
な構成で、効率的に検査を行えるようにすることであ
る。
【0006】
【課題を解決する為の手段】この発明において、ずれ量
の検査装置と微小欠陥検査装置とを隣接して設け、搬送
装置により位相シフトレチクルをずれ量の検査装置と微
小欠陥検査装置に選択的に搬送してずれ量の検査と微小
欠陥検査とを同一検査系で行えるようにしている。
の検査装置と微小欠陥検査装置とを隣接して設け、搬送
装置により位相シフトレチクルをずれ量の検査装置と微
小欠陥検査装置に選択的に搬送してずれ量の検査と微小
欠陥検査とを同一検査系で行えるようにしている。
【0007】またこの発明においては、検査を効率的に
行えるようにするために、ずれ量の検査済みの位相シフ
トレチクルを格納するための格納装置を設け、この格納
装置に格納している位相シフトレチクルを互いに隣接し
て設けてあるずれ量の検査装置と、吸収体パターン及び
位相部材パターンの微小欠陥検査装置とに選択的に搬送
できる構成としている。
行えるようにするために、ずれ量の検査済みの位相シフ
トレチクルを格納するための格納装置を設け、この格納
装置に格納している位相シフトレチクルを互いに隣接し
て設けてあるずれ量の検査装置と、吸収体パターン及び
位相部材パターンの微小欠陥検査装置とに選択的に搬送
できる構成としている。
【0008】
【作用】この発明では、同一検査系でずれ量の検査と微
小欠陥検査とが行える。位相シフトレチクルを格納する
ための格納装置を設けることにより、検査に時間がかか
る微小欠陥検査の間に、この検査とは独立してずれ量の
検査を行って格納装置に格納することにより、両方の検
査が効率的に行える。
小欠陥検査とが行える。位相シフトレチクルを格納する
ための格納装置を設けることにより、検査に時間がかか
る微小欠陥検査の間に、この検査とは独立してずれ量の
検査を行って格納装置に格納することにより、両方の検
査が効率的に行える。
【0009】
【実施例】この発明の第1実施例を図1を参照して説明
する。環境チャンバ1内には、位相部材の位相変化量の
所定値からのずれ量の検査装置2と、この検査装置に隣
接して吸収体パターン及び位相部材の微小欠陥検査装置
3とをそれぞれ設けてある。ずれ量の検査装置2と微小
欠陥検査装置3とは、環境チャンバ1内底部に設けらて
いる定盤4上に間接的に固定されている。
する。環境チャンバ1内には、位相部材の位相変化量の
所定値からのずれ量の検査装置2と、この検査装置に隣
接して吸収体パターン及び位相部材の微小欠陥検査装置
3とをそれぞれ設けてある。ずれ量の検査装置2と微小
欠陥検査装置3とは、環境チャンバ1内底部に設けらて
いる定盤4上に間接的に固定されている。
【0010】定盤4上には、位相シフトレチクル5をず
れ量の検査装置2と微小欠陥検査装置3とに選択的に搬
送するための搬送装置を設けてある。この搬送装置は、
位相シフトレチクル5を載置するX−YステージのYス
テージ6aと、このYステージを支持しているX−Yス
テージのXステージ6と、モータ7と、このモータの駆
動軸と一端で結合しかつXステージ6に形成されている
雌ねじ部とねじ結合しながらこのXステージを貫通し他
端で支持部9で軸支されているスクリュー軸8とを備え
ている。
れ量の検査装置2と微小欠陥検査装置3とに選択的に搬
送するための搬送装置を設けてある。この搬送装置は、
位相シフトレチクル5を載置するX−YステージのYス
テージ6aと、このYステージを支持しているX−Yス
テージのXステージ6と、モータ7と、このモータの駆
動軸と一端で結合しかつXステージ6に形成されている
雌ねじ部とねじ結合しながらこのXステージを貫通し他
端で支持部9で軸支されているスクリュー軸8とを備え
ている。
【0011】Yステージ6aは、Xステージ6上を図1
左右方向及び紙面に垂直方向に移動可能である。Xステ
ージ6は、定盤4の水平面上をモータ7の駆動によりス
クリュー軸8が回転するからこのスクリュー軸に沿って
矢印方向に移動して、ずれ量の検査装置2と微小欠陥検
査装置3との間を交互に往復できる。なお、定盤4にガ
イドレール(図示せず。)を設けて、Xステージ6の移
動を円滑にしている。
左右方向及び紙面に垂直方向に移動可能である。Xステ
ージ6は、定盤4の水平面上をモータ7の駆動によりス
クリュー軸8が回転するからこのスクリュー軸に沿って
矢印方向に移動して、ずれ量の検査装置2と微小欠陥検
査装置3との間を交互に往復できる。なお、定盤4にガ
イドレール(図示せず。)を設けて、Xステージ6の移
動を円滑にしている。
【0012】位相シフトレチクル5の位置はレーザ干渉
計10のレーザビームにより正確に知ることができる。
なお、Yステージ6aを紙面に対して垂直方向に駆動さ
せるためのモータと、位置測定用のレーザ干渉計とは図
中省略している。位相シフトレチクル5の検査は次のよ
うにして行う。まず、モータ7を駆動させてXステージ
6を鎖線に示す位置まで移動させて、位相シフトレチク
ル5のずれ量の検査装置2の下に位置させる。つぎに、
位相シフトレチクル5に測定ビーム2aの焦点を合わせ
ながら、位相シフトレチクルをYステージ6aを通じて
二次元的に移動させ、多点でずれ量の検査を行う。この
時、もし位相シフトレチクル5の位相部材の位相変化量
の所定値から許容値以上の誤差があれば、その位相シフ
トレチクル5は欠陥品と見なされ、その時点で検査を終
了する。
計10のレーザビームにより正確に知ることができる。
なお、Yステージ6aを紙面に対して垂直方向に駆動さ
せるためのモータと、位置測定用のレーザ干渉計とは図
中省略している。位相シフトレチクル5の検査は次のよ
うにして行う。まず、モータ7を駆動させてXステージ
6を鎖線に示す位置まで移動させて、位相シフトレチク
ル5のずれ量の検査装置2の下に位置させる。つぎに、
位相シフトレチクル5に測定ビーム2aの焦点を合わせ
ながら、位相シフトレチクルをYステージ6aを通じて
二次元的に移動させ、多点でずれ量の検査を行う。この
時、もし位相シフトレチクル5の位相部材の位相変化量
の所定値から許容値以上の誤差があれば、その位相シフ
トレチクル5は欠陥品と見なされ、その時点で検査を終
了する。
【0013】また良品と判定されれば、Xステージ6を
実線に示す位置に移動させて、位相シフトレチクル5を
微小欠陥検査装置3の真下に移動する。移動後、位相シ
フトレチクル5に測定ビーム3aの焦点を合わせなが
ら、位相シフトレチクルをYステージ6aを二次元的に
走査して、全面における吸収体パターン及び位相部材パ
ターンの微小欠陥検査を行う。この時、位相シフトレチ
クル5上の測定位置はレーザ干渉計10により常に計測
されており、欠陥部分の正確な座標を知ることができ
る。
実線に示す位置に移動させて、位相シフトレチクル5を
微小欠陥検査装置3の真下に移動する。移動後、位相シ
フトレチクル5に測定ビーム3aの焦点を合わせなが
ら、位相シフトレチクルをYステージ6aを二次元的に
走査して、全面における吸収体パターン及び位相部材パ
ターンの微小欠陥検査を行う。この時、位相シフトレチ
クル5上の測定位置はレーザ干渉計10により常に計測
されており、欠陥部分の正確な座標を知ることができ
る。
【0014】この発明の第2実施例を図2及び図3を参
照して説明する。この実施例は、第1実施例とは、搬送
装置の構成が相違しており、また位相シフトレチクルを
格納する格納装置を備えている点でも相違している。こ
こで、搬送装置の具体的構成について説明する。ローダ
20は定盤14上にガイドレール14a,14aに沿っ
て移動可能に設けられている。ローダ20は、位相シフ
トレチクル15をずれ量の検査装置12と、この検査装
置に隣接して設けてある微小欠陥検査装置13とに選択
的に搬送するためのものである。ローダ20は、その上
部に旋回部20aを設けてあり、この旋回部から伸縮可
能のアーム20bが突出され、このアーム先端部に位相
シフトレチクル15を載置する搬送板20cを取付けて
ある。ローダ20は旋回部20aを中心として搬送板2
0cが旋回可能である。
照して説明する。この実施例は、第1実施例とは、搬送
装置の構成が相違しており、また位相シフトレチクルを
格納する格納装置を備えている点でも相違している。こ
こで、搬送装置の具体的構成について説明する。ローダ
20は定盤14上にガイドレール14a,14aに沿っ
て移動可能に設けられている。ローダ20は、位相シフ
トレチクル15をずれ量の検査装置12と、この検査装
置に隣接して設けてある微小欠陥検査装置13とに選択
的に搬送するためのものである。ローダ20は、その上
部に旋回部20aを設けてあり、この旋回部から伸縮可
能のアーム20bが突出され、このアーム先端部に位相
シフトレチクル15を載置する搬送板20cを取付けて
ある。ローダ20は旋回部20aを中心として搬送板2
0cが旋回可能である。
【0015】定盤14の一側部(図2右側部)には、位
相シフトレチクル15を格納する格納装置21を上下動
可能に設けてある。格納装置21のケーシング内に複数
段の棚を設けて、検査済みの位相シフトレチクル15の
複数枚を格納できるようにしている。格納装置21とロ
ーダ20との位置関係は、互いに対向しており、搬送板
20cは格納装置21のケーシング内に差込みできる位
置にある。
相シフトレチクル15を格納する格納装置21を上下動
可能に設けてある。格納装置21のケーシング内に複数
段の棚を設けて、検査済みの位相シフトレチクル15の
複数枚を格納できるようにしている。格納装置21とロ
ーダ20との位置関係は、互いに対向しており、搬送板
20cは格納装置21のケーシング内に差込みできる位
置にある。
【0016】微小欠陥検査装置13の下方の定盤14上
にX−Yステージを設けてあり、このステージのXステ
ージ16はガイドレール14b,14bに沿って図2矢
印方向に移動可能である。そしてXステージ16上に位
相シフトレチクル15を載置するためのX−Yステージ
のYステージ16aがガイドレール16a1,16a1
に沿って図2矢印方向に移動可能に設けられている。
にX−Yステージを設けてあり、このステージのXステ
ージ16はガイドレール14b,14bに沿って図2矢
印方向に移動可能である。そしてXステージ16上に位
相シフトレチクル15を載置するためのX−Yステージ
のYステージ16aがガイドレール16a1,16a1
に沿って図2矢印方向に移動可能に設けられている。
【0017】この実施例による位相シフトレチクル1
5,15aの検査方法を説明する。位相シフトレチクル
15の表面に位相部材の位相ずれ量検査装置12の測定
ビーム12aの焦点を合わせながら、位相シフトレチク
ル15をローダ20を通じて二次元的に移動させること
で、多点でずれ量の測定を行う。このずれ量の検査は微
小欠陥検査に比較して、大まかに行えばよく、位相シフ
トレチクル15の搬送機構にはさほど厳しい精度は必要
とされない。
5,15aの検査方法を説明する。位相シフトレチクル
15の表面に位相部材の位相ずれ量検査装置12の測定
ビーム12aの焦点を合わせながら、位相シフトレチク
ル15をローダ20を通じて二次元的に移動させること
で、多点でずれ量の測定を行う。このずれ量の検査は微
小欠陥検査に比較して、大まかに行えばよく、位相シフ
トレチクル15の搬送機構にはさほど厳しい精度は必要
とされない。
【0018】またYステージ16a上に載置された他の
位相シフトレチクル15aに微小欠陥検査装置13の測
定ビーム13aの焦点を合わせながら、Xステージ16
をガイドレール14b,14bに沿って移動させると共
に、Yステージ16aを図2矢印方向に移動させて、位
相シフトレチクル15a全面における吸収体パターン及
び位相部材パターンの微小欠陥検査を行う。
位相シフトレチクル15aに微小欠陥検査装置13の測
定ビーム13aの焦点を合わせながら、Xステージ16
をガイドレール14b,14bに沿って移動させると共
に、Yステージ16aを図2矢印方向に移動させて、位
相シフトレチクル15a全面における吸収体パターン及
び位相部材パターンの微小欠陥検査を行う。
【0019】検査は、位相シフトレチクル15のずれ量
の検査と、位相シフトレチクル15aの微小欠陥検査と
を同時並行して行い、検査時間の長い微小欠陥検査の間
に複数枚の位相シフトレチクル15のずれ量の検査を行
い、この際ずれ量の検査を終了した位相シフトレチクル
については、図3に示すようにローダ20の旋回部20
aを旋回させて、搬送板20cを図2の位置から90°
時計方向に回転して、終了した位相シフトレチクル15
を格納装置21内へ収納しておく。微小欠陥検査を終了
した時点で、X−Yステージへの位相シフトレチクル1
5の受け渡しをローダ20で行って、微小欠陥検査を行
う。
の検査と、位相シフトレチクル15aの微小欠陥検査と
を同時並行して行い、検査時間の長い微小欠陥検査の間
に複数枚の位相シフトレチクル15のずれ量の検査を行
い、この際ずれ量の検査を終了した位相シフトレチクル
については、図3に示すようにローダ20の旋回部20
aを旋回させて、搬送板20cを図2の位置から90°
時計方向に回転して、終了した位相シフトレチクル15
を格納装置21内へ収納しておく。微小欠陥検査を終了
した時点で、X−Yステージへの位相シフトレチクル1
5の受け渡しをローダ20で行って、微小欠陥検査を行
う。
【0020】この使用例によれば、検査時間の長い微小
欠陥検査の間に、ずれ量の検査を複数枚の位相シフトレ
チクルについてでき、もしずれ量に欠陥が発見されれ
ば、微小欠陥検査は行う必要がなく、装置全体として効
率の良い検査が行える。他の使用例として、ずれ量の検
査済みの位相シフトレチクル15を格納装置21に格納
することなく、そのまま微小欠陥検査装置13に移して
微小欠陥検査を行うようにしてもよい。
欠陥検査の間に、ずれ量の検査を複数枚の位相シフトレ
チクルについてでき、もしずれ量に欠陥が発見されれ
ば、微小欠陥検査は行う必要がなく、装置全体として効
率の良い検査が行える。他の使用例として、ずれ量の検
査済みの位相シフトレチクル15を格納装置21に格納
することなく、そのまま微小欠陥検査装置13に移して
微小欠陥検査を行うようにしてもよい。
【0021】
【発明の効果】この発明によれば、ずれ量の検査装置
と、吸収体パターン及び位相部材の微小欠陥検査装置と
を互いに隣接して設け、位相シフトレチクルを搬送装置
により各装置に選択的に搬送して検査できる構成として
いるので、従来の光学系が複雑となり過ぎる問題を解決
できて、全体として単純な構成とすることができ、装置
の設計に大きな自由度を持たせることが可能である。
と、吸収体パターン及び位相部材の微小欠陥検査装置と
を互いに隣接して設け、位相シフトレチクルを搬送装置
により各装置に選択的に搬送して検査できる構成として
いるので、従来の光学系が複雑となり過ぎる問題を解決
できて、全体として単純な構成とすることができ、装置
の設計に大きな自由度を持たせることが可能である。
【0022】この発明によれば、検査時間の長い微小欠
陥検査の間に複数枚の位相シフトレチクルのずれ量の検
査を行うことができ、またもしずれ量に欠陥が発見され
れば、微小欠陥検査は行う必要がないから、効率の良い
検査が行える。
陥検査の間に複数枚の位相シフトレチクルのずれ量の検
査を行うことができ、またもしずれ量に欠陥が発見され
れば、微小欠陥検査は行う必要がないから、効率の良い
検査が行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施例を示す正面図である。
【図2】この発明の第2実施例を示す要部の斜視図であ
る。
る。
【図3】格納装置の使用状態を示す斜視図である。
2 ずれ量の検査装置
3 微小欠陥検査装置
5 位相シフトレチクル
6 X−YステージのXステージ
6a X−YステージのYステージ
12 ずれ量の検査装置
13 微小欠陥検査装置
15 位相シフトレチクル
15a 位相シフトレチクル
16 X−YステージのXステージ
16a X−YステージのYステージ
20 ローダ
20a 旋回部
20c 搬送板
21 格納装置
Claims (2)
- 【請求項1】位相シフトレチクルの位相部材の位相変化
量の所定値からのずれ量と、吸収体パターン及び位相部
材パターンの微小欠陥とを検査する装置において、 前記位相部材の位相変化量の所定値からのずれ量の検査
装置と、 前記ずれ量の検査装置に隣接して設けられた前記吸収体
パターン及び前記位相部材パターンの微小欠陥検査装置
と、 位相シフトレチクルを前記ずれ量の検査装置と前記微小
欠陥検査装置とに選択的に搬送する搬送装置と、を有す
ることを特徴とする位相シフトレチクル検査装置。 - 【請求項2】位相シフトレチクルの位相部材の位相変化
量の所定値からのずれ量と、吸収体パターン及び位相部
材パターンの微小欠陥とを検査する装置において、 前記位相部材の位相変化量の所定値からのずれ量の検査
装置と、 前記ずれ量の検査装置に隣接して設けられ、ステージ上
に載置された位相シフトレチクルにおける前記吸収体パ
ターン及び前記位相部材パターンの微小欠陥を検査する
装置と、 位相シフトレチクルを格納する格納装置と、 前記格納装置に格納されている位相シフトレチクルを、
前記ずれ量の検査装置の検査位置と前記微小欠陥検査装
置のステージ上とに選択的に搬送する搬送装置と、 を有することを特徴とする位相シフトレチクル検査装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3170271A JPH0519450A (ja) | 1991-07-11 | 1991-07-11 | 位相シフトレチクル検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3170271A JPH0519450A (ja) | 1991-07-11 | 1991-07-11 | 位相シフトレチクル検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0519450A true JPH0519450A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15901847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3170271A Pending JPH0519450A (ja) | 1991-07-11 | 1991-07-11 | 位相シフトレチクル検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0519450A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7438246B2 (en) | 2004-03-02 | 2008-10-21 | Hirado Kinzoku Kogyo Co., Ltd. | Casting runner crushing device |
-
1991
- 1991-07-11 JP JP3170271A patent/JPH0519450A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7438246B2 (en) | 2004-03-02 | 2008-10-21 | Hirado Kinzoku Kogyo Co., Ltd. | Casting runner crushing device |
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