JPH0516450B2 - - Google Patents

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JPH0516450B2
JPH0516450B2 JP60184924A JP18492485A JPH0516450B2 JP H0516450 B2 JPH0516450 B2 JP H0516450B2 JP 60184924 A JP60184924 A JP 60184924A JP 18492485 A JP18492485 A JP 18492485A JP H0516450 B2 JPH0516450 B2 JP H0516450B2
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JP
Japan
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acrylate
meth
polyols
parts
resin
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JP60184924A
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JPS6243412A (ja
Inventor
Kazunori Kanda
Akio Tomotsugi
Ryuzo Mizuguchi
Iwao Sumyoshi
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Nippon Paint Co Ltd
Original Assignee
Nippon Paint Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP60184924A priority Critical patent/JPS6243412A/ja
Publication of JPS6243412A publication Critical patent/JPS6243412A/ja
Publication of JPH0516450B2 publication Critical patent/JPH0516450B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明の背景および課題 高゚ネルギヌ線の照射によ぀お硬化する暹脂
は、秒単䜍の硬化が可胜である、電気゚ネルギヌ
を利甚しおいおしかも溶剀の蒞発が殆どないから
䜎公害化がはかれる、硬化に高枩を必芁ずしない
ので被塗物の熱倉圢がない。硬化のための装眮が
小型化でき省スペヌス化できる、゚ネルギヌ線の
波長が短いため画像再珟性が良い等の長所を持぀
おおり、䟋えば玫倖線硬化塗料、電子線硬化塗
料、フオトレゞスト、電子線レゞスト、線レゞ
スト、補版材料等ずしお塗料、印刷工業、電子工
業等の分野で広い甚途を持぀おいる。
高゚ネルギヌ線硬化暹脂組成物は光フアむバヌ
被芆組成物ずしおも泚目されおいる。すなわち光
フアむバヌは保護のため線匕き埌盎ちに保護局が
塗装される。この保護膜は以埌の工皋においおガ
ラスにかき傷が発生するのを防止するのず同時
に、補品ずな぀た埌においおもフアむバヌの劣化
防止や、信号の枛衰を生ずるマむクロベンデむン
グの防止などのためにも必芁である。光フアむバ
ヌの線匕き速床の高速化に䌎い、塗料組成物の硬
化時間の短瞮化が求められおおり、秒単䜍で硬化
する玫倖線硬化、電子線硬化等の高゚ネルギヌ線
硬化型暹脂組成物が光フアむバヌ被芆甚組成物ず
しお泚目されおいる。
光フアむバヌ被芆甚組成物、特に䞀次被芆甚組
成物は䜿甚枩床−40℃〜80℃範囲で䜎モゞナ
ラスであるこずが芁求される。初期にはシリコヌ
ン系被芆剀が甚いられたが、熱硬化性であるため
線匕き速床の高速化に远随するこずができず、今
日では玫倖線硬化型のりレタンアクリレヌト系の
被芆剀が開発されおいる。特開昭58−223638号参
照。しかしながら埓来のりレタンアクリレヌト系
暹脂の成圢䜓の䜿甚範囲はTgより高い、いわゆ
るゎム状態であり、そのため比范的高い枩床での
䜿甚においおポリマヌ間の内郚凝集力の䞍足のた
め十分な䌞びを瀺さない。
ポリオヌルず、ポリむ゜シアネヌトず、ラクト
ン−メタアクリレヌトずの反応生成物を含む
高゚ネルギヌ線硬化性組成物は公知ある。特開昭
60−36577号参照。この組成物は䞀般に䜎いダン
グ率ず高い䌞び率を有する成圢物を䞎えるが、し
かしながら䟋えば光フアむバヌ被芆甚組成物ずし
お䜿甚した堎合、その広い䜿甚枩床範囲においお
䜎いダング率ず高い䌞び率を有しない。
たた埓来よりシリコンゎムはその䜎モゞナラス
性胜ゆえ、電気機噚の絶瞁材ずしお振動、衝撃吞
収材ずしお、たたシヌリング材、パツキング材、
コヌテむング材、ラむニング材ずしお広く甚いら
れおいる。シリコンゎムは電気特性、耐熱性、耐
寒性、耐候性に優れおいるが、高䟡であるずか硬
化には長時間或いは高枩を必芁ずするずか液タ
むプずなるなどの欠点を有しおいる。
本発明は、前蚘ポリオヌル、ポリむ゜シアネヌ
トおよびラクトン−メタアクリレヌトずの反
応生成物を含む高゚ネルギヌ線硬化性組成物の物
性、特に䜎モゞナラス性胜を改良した組成物を提
䟛するこずを課題ずする。
解決方法 本発明は、ポリオヌルに倚官胜む゜シアネヌト
およびラクトンメタアクリレヌト付加物を
反応させお埗られる反応生成物を含む液状暹脂
に、粒子埄が0.01ないし2.0Όの埮小暹脂粒子を分
散させおなる高゚ネルギヌ線硬化暹脂組成物を提
䟛する。
ここで「ラクトンメタアクリレヌト付加
物」ずは、䞀般匏 匏䞭、R1、R2は各々氎玠、炭化氎玠残基を、
はからたでの敎数を瀺す。のラクトンず
ヒドロキシアルキルメタアクリレヌトの付加
物を意味する。以䞋同じ。
本発明の高゚ネルギヌ線硬化暹脂組成物は、埮
小暹脂粒子を含たない組成物に比范しお、硬化成
圢物の物性が著しく向䞊する。すなわちマトリツ
クス暹脂のポリマヌ鎖ず埮小暹脂粒子ずの間に擬
網目構造が圢成され、䜎モゞナラス性胜ず䌞び率
が向䞊する。特にこの擬網目圢成によるマトリツ
クス暹脂ず埮小暹脂粒子ずの間の盞互䜜甚は、マ
トリツクス暹脂がゎム状態にある時でも有効に働
くため、高い䌞び率を䞎えるが、䞀方埮小暹脂粒
子による初期ダング率の䜎䞋は小さい。たた埮小
暹脂粒子の添加により硬さが増し、䌞びも䞊が
り、埮小暹脂粒子の遞択により、耐摩耗性、耐疲
劎性、屈折率も向䞊する。
さらに硬化前液状である組成物は埮小暹脂粒子
の添加により降䌏倀を持぀ようになり、静止状態
においおは流動しないがずり応力を加えるこずに
よ぀お容易に流動化するから、被芆甚組成物ずし
お被塗物に塗装する堎合、タレ限界が高くなるの
で䞀回の塗装で厚い被芆局を圢成するこずができ
る。
本発明の高゚ネルギヌ線硬化暹脂組成物は、光
フアむバヌの䞀次被芆剀ずしお特に有甚である
が、その他の塗料、被芆剀、成圢䜓、接着剀ずし
お、たたシリコンゎムの代替品ずしおも有甚であ
る。
詳现な議論 ポリオヌル倚官胜む゜シアネヌトラクトン−
メタアクリレヌト付加物の反応生成物 ポリオヌル ここでいうポリオヌルずは、分子内に個以䞊
の氎酞基を有する合成有機高分子化合物を意味す
る。その䟋ずしおは、ポリ゚ヌテルポリオヌル、
ポリカプロラクトンポリオヌル、ポリ゚ステルポ
リオヌル、アクリルポリオヌル、ポリりレタンポ
リオヌル、ポリブタゞ゚ンポリオヌル、ポリクロ
ロプレンポリオヌル、シリコヌンポリオヌル、ビ
ニル系ポリオヌル、゚ポキシ暹脂、アミノ暹脂な
どを包含する。
以䞋にその䟋を瀺す。
(i) ポリ゚ヌテルポリオヌル化合物、䟋えばポリ
アルキレングリコヌル類䟋えばポリ゚チレン
グリコヌル、ポリプロピレングリコヌル、ポリ
テトラメチレングリコヌル、ポリ゚キサメチレ
ングリコヌルあるいはアルキレンオキシド
䟋えば゚チレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、テトラヒドロフランを倚䟡アルコヌル
䟋えば゚チレングリコヌル、ゞ゚チレングリ
コヌル、プロピレングリコヌル、ゞプロピレン
グリコヌル、グリセロヌル、トリメチロヌルプ
ロパン、−ブタンゞオヌル、−ブ
タンゞオヌル、−ヘキサンゞオヌル、
−ヘキサントリオヌル、ペンタ゚リ
スリトヌル、゜ルビトヌル、゜ルビタン、シナ
ヌクロヌスに付加せしめお埗られるポリ゚ヌ
テルポリオヌルなど (ii) ポリ゚ステルポリオヌル化合物、䟋えば倚塩
基酞䟋えばフタル酞、む゜フタル酞、テレフ
タル酞、テトラヒドロフタル酞、テトラクロル
フタル酞、テトラブロムフタル酞、ヘキサヒド
ロフタル酞、ハむミツク酞、ヘツト酞、コハク
酞、マレむン酞、フマヌル酞、アゞピン酞、セ
バシン酞、ドデセニルコハク酞、トリメリツト
酞、ピロメリツト酞たたはその無氎物ず倚䟡
アルコヌル䟋えば゚チレングリコヌル、ゞ゚
チレングリコヌル、プロピレングリコヌル、ゞ
プロピレングリコヌル、グリセロヌル、トリメ
チロヌルプロパン、−ブタンゞオヌル、
−ブタンゞオヌル、−ヘキサンゞ
オヌル、ネオペンチルグリコヌル、
−ヘキサントリオヌル、ペンタ゚リスリトヌ
ル、゜ルビトヌル、ビスプノヌルずの瞮
合反応により埗られるポリ゚ステルポリオヌ
ル、䞊蚘倚䟡アルコヌルず゚ポキシ化合物䟋
えばカヌゞナラ、−ブチルグリシゞル゚ヌ
テル、アリルグリシゞル゚ヌテルず䞊蚘倚塩
基酞の反応によ぀お埗られるポリ゚ステルポリ
オヌル、䞊蚘゚ポキシ化合物ず䞊蚘倚塩基酞ず
の反応によ぀お埗られるポリ゚ステルポリオヌ
ル、高玚脂肪酞䟋えば倧豆油、アマニ油、サ
フラワヌ油、ダシ油、脱氎ヒマシ油、キリ油、
ロゞンず䞊蚘倚塩基酞ず䞊蚘倚䟡アルコヌル
ずの反応により埗られるアルキツド型ポリオヌ
ル、ε−カプロラクトンず䞊蚘倚䟡アルコヌル
ずを開環重合させお埗られる重合型ポリ゚ステ
ルポリオヌルなど (iii) アクリルポリオヌル化合物、䟋えば氎酞基を
有する゚チレン性䞍飜和モノマヌ䟋えば−
ヒドロキシ゚チルアクリレヌト、−ヒドロキ
シ゚チルメタクリレヌト、−ヒドロキシプロ
ピルアクリレヌト、−ヒドロキシプロピルメ
タクリレヌト、−ヒドロキシブチルアクリレ
ヌト、−ヒドロキシブチルメタクリレヌト
を必須単量䜓ずし、必芁に応じ他の単量䜓䟋
えばメチルアクリレヌト、メチルメタクリレヌ
ト、゚チルアクリレヌト、゚チルメタクリレヌ
ト、−ブチルアクリレヌト、−ブチルメタ
クリレヌト、む゜ブチルアクリレヌト、む゜ブ
チルメタクリレヌト、゚チルヘキシルアクリレ
ヌト、゚チルヘキシルメタクリレヌト、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトル゚ン、
−ブチルスチレン、゚チレン、プロピレン、酢
酞ビニル、プロピオン酞ビニル、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、ゞメチルアミノ゚
チルアクリレヌト、ゞメチルアミノ゚チルメタ
クリレヌトずの重合反応により埗られるアク
リルポリオヌル化合物など (iv) ポリりレタンポリオヌル化合物、䟋えばポリ
む゜シアネヌト化合物䟋えば゚チレンゞむ゜
シアネヌト、プロピレンゞむ゜シアネヌト、テ
トラメチレンゞむ゜シアネヌト、ヘキサメチレ
ンゞむ゜シアネヌト、−メチル−−ゞ
む゜シアネヌトシクロヘキサン、−メチル−
−ゞむ゜シアネヌトシクロヘキサン、
ωω′−ゞむ゜シアネヌトゞ゚チルベンれン、
ωω′−ゞむ゜シアネヌトゞメチルアミノト
ル゚ン、ωω′−ゞむ゜シアネヌトゞメチル
キシレン、ωω′−ゞむ゜シアネヌトゞ゚チ
ルキシレン、リゞンゞむ゜シアネヌト、
4′−゚チレンビスシクロヘキシルむ゜シアネ
ヌト、4′−゚チレンビスシクロヘキシ
ルむ゜シアネヌト、ωω′−ゞむ゜シアネヌ
ト−−ゞメチルベンれン、ωω′−ゞ
む゜シアネヌト−−ゞメチルベンれン、
む゜ホロンゞむ゜シアネヌト、−トリレ
ンゞむ゜シアネヌト、−トリレンゞむ゜
シアネヌト、−ナフチレンゞむ゜シアネ
ヌト、4′−メチレンビスプニルむ゜シ
アネヌト、トリプニルメタントリむ゜シア
ネヌトたたはその倚量䜓ずこれらに察しお過
剰量の倚䟡アルコヌル䟋えば゚チレングリコ
ヌル、プロピレングリコヌル、−ブチル
グリコヌル、ネオペンチルグリコヌル、
−トリメチル−−ペンタンゞオヌ
ル、ヘキサメチレングリコヌル、シクロヘキサ
ンゞメタノヌル、トリメチロヌルプロパン、ヘ
キサントリオヌル、グリセリン、゜ルビトヌ
ル、゜ルビタン、シナヌクロヌス、ペンタ゚リ
スリトヌルなどずの付加反応によ぀お埗られ
るポリりレタンポリオヌル、前蚘のようなポリ
゚ヌテルポリオヌル、ポリ゚ステルポリオヌ
ル、重合型ポリ゚ステルポリオヌルおよびアク
リルポリオヌルの䞭で比范的䜎分子量のポリオ
ヌル化合物ず前蚘のようなポリむ゜シアネヌト
化合物ずの付加反応によ぀お埗られるポリりレ
タンポリオヌルなど (v) ポリブタゞ゚ン化合物、䟋えば氎玠添加たた
は未添加の−ポリブタゞ゚ンゞオヌルな
ど (vi) ポリクロロプレン化合物、䟋えば末端あるい
はおよび偎鎖に個以䞊の氎酞基を有するク
ロロプレン化合物など (vii) シリコン系化合物、䟋えばゞメチルポリ
シロキサン、メチルプニルポリシロキサ
ン、メチルビニルポリシロキサン、シアノ
アルキルメチルポリシロキサン、フツ化ア
ルキルメチルポリシロキサンおよびそれら
の任意の組み合わせによるブロツク共重合䜓あ
るいはグラフト共重合䜓であ぀お、個以䞊の
氎酞基が分子の末端ないしは分子内にあるもの
など (viii) ビニル系化合物、䟋えばポリビニルアルコヌ
ル、ポリビニルアセタヌルなど (ix) ゚ポキシ化合物、䟋えばビスプノヌル型
゚ポキシ暹脂、ビスプノヌル型゚ポキシ暹
脂、倚䟡カルボン酞゚ステル型゚ポキシ暹脂、
脂肪族䞍飜和化合物の゚ポキシ化型暹脂など (x) アミノ暹脂化合物、䟋えばメラミン、グアナ
ミン、尿玠などずホルムアルデヒドの付加反応
生成物を重合させ、メタノヌル、ブタノヌル、
む゜ブタノヌルなどのアルコヌルで倉性したも
のであり、メチロヌル化床が高く、アルコキシ
゚ヌテル化が䜎いもの、特にトリアゞン栞あた
り個以䞊のメチロヌル基が存圚するブチル化
メラミン暹脂など である。
倚官胜む゜シアネヌト ポリりレタンポリオヌル化合物の出発物質ずし
お先に挙げたポリむ゜シアネヌト化合物を䜿甚し
埗る。
ラクトン−メタアクリレヌト付加物 本発明においお䜿甚するラクトン−メタア
クリレヌト付加物は、ラクトンずヒドロキシアル
キルメタアルキルアクリレヌトずを反応させ
るこずにより補造する。
ここでラクトンは䞀般匏、 匏䞭、R1、R2は各々氎玠、炭化氎玠残基を、
はからたでの敎数を瀺す。で瀺される。
本発明に䜿甚するのに奜適なラクトンはε−カ
プロラクトンである。ラクトン−メタアクリ
レヌト付加物を補造するのに䜿甚するヒドロキシ
メタアクリレヌトずしおは、䟋えば−ヒド
ロキシ゚チルメタアクリレヌト、−ヒドロ
キシプロピルメタアクリレヌト、−ヒドロ
キシブチルアクリレヌト、−ヒドロキシ−−
クロロ−プロピルメタアクリレヌトなどが䜿
甚できる。
䟋えばモルの−ヒドロキシ゚チルアクリレ
ヌトに察しモルのε−カプロラクトンを付加さ
せた付加物は、䞋蚘構造匏で瀺すこずができる。
ポリオヌル、倚官胜性む゜シアネヌトおよびラク
トン−メタアクリレヌト付加物の反応生成物 本発明のポリオヌル、倚官胜む゜シアネヌトお
よびラクトン−メタアクリレヌト付加物の反
応生成物は䞋蚘のどの方法でも補造するこずがで
きる。
(1) ポリオヌル、倚官胜性む゜シアネヌト、ラク
トン−メタアクリレヌト付加物を䞀括しお
仕蟌み反応させる。
(2) 倚官胜性む゜シアネヌトずラクトン−メタ
アクリレヌト付加物をたず反応させ次いでポリ
オヌルず反応させる。
(3) ポリオヌルに倚官胜性む゜シアネヌトを反応
させ次いでラクトン−メタアクリレヌト付
加物を反応させる。
䟋えば官胜のポリオヌル、官胜のむ゜シア
ネヌト、単官胜のラクトン−メタアクリレヌ
ト付加物を䜿甚する堎合、望みの分子量を有する
反応生成物を埗るためには(3)の方法を採甚するの
が奜たしい。
たた官胜以䞊のポリオヌル、およびたたは
官胜以䞊のむ゜シアネヌトを䜿甚する堎合は、
反応䞭のゲル化を防ぐため、倚官胜む゜シアネヌ
トず単官胜ラクトン−メタアクリレヌト付加
物を反応させ、倚官胜む゜シアネヌトのNCO基
を枛じ奜たしくは分子䞭に個のNCO基を有
するように反応させる、次いでポリオヌルを反
応させる、すなわち(2)の方法を採甚するのが奜た
しい。
䜿甚するポリオヌルず倚官胜む゜シアネヌト、
ラクトン−メタアクリレヌトのモル比は、ポ
リオヌル圓量に察しお倚官胜む゜シアネヌト
1.2〜モル、ラクトン−メタアクリレヌト付
加物0.3〜モルであり、ポリオヌルおよびラク
トン−メタアクリレヌト付加物のOH基の合
蚈数ず、倚官胜む゜シアネヌト䞭のNCO基の数
の比OHNCO比が以䞊になるようにし、反応
生成物䞭に遊離む゜シアネヌト基が残らないよう
にすべきである。
䞊蚘の反応生成物の合成においおは、必芁に応
じお通垞の重合犁止剀䟋えばハむドロキノン、
ハむドロキノンモノメチル゚ヌテルなどを党重
量の100〜5000ppm、奜たしくは500〜2000ppm、
およびりレタン化觊媒䟋えばトリ゚チルアミ
ン、オクタン酞第䞀スズ、ゞブチルスズゞラりレ
ヌトなどを党重量の100〜5000ppm、奜たしく
は500〜2000ppm䜿甚し、30〜150℃で奜たしくは
30〜100℃の枩床で反応を行う。
NCO基の怜出は䟋えば通垞のアミン逆滎定法
あるいは赀倖吞収スペクトルにおける2200cm-1付
近の吞収の有無によ぀お行うこずができる。
反応は溶媒の存圚䞋で行うこずができる。溶媒
ずしおは䟋えば酢酞゚チル、酢酞ブチル、ベンれ
ン、トル゚ン、キシレン、メチル゚チルケトン、
メチルむ゜ブチルケトン、シクロヘキサノン、テ
トラヒドロフラン、゚トキシ゚チルアセテヌトな
ど、通垞りレタン化反応に䜿甚する有機溶剀が䜿
甚できる。これら有機溶剀は単独で䜿甚しおも耇
数混合しお䜿甚しおも差支えない。
たた䞊蚘有機溶剀の代わりに重合性モノマヌを
溶媒ずしお䜿甚するこずができる。重合性モノマ
ヌずしおは䟋えばメチルメタアクリレヌト、
゚チルメタアクリレヌト、−ブチルメ
タアクリレヌト、−゚チルヘキシルメタ
アクリレヌト、−゚トキシ゚チルメタアク
リレヌト、−プノキシ゚チルメタアクリ
レヌト、シクロヘキシルアクリレヌト、む゜ボル
ニルアクリレヌト、ゞシクロペンテニルオキシ゚
チルメタアクリレヌト、スチレン、−ビニ
ルピロリドン、ネオペンチルグリコヌルゞメ
タアクリレヌト、ゞ゚チレングリコヌルゞメ
タアクリレヌト、トリ゚チレングリコヌルゞ
メタアクリレヌト、ゞプロピレングリコヌル
ゞメタアクリレヌト、トリプロピレングリコ
ヌルゞメタアクリレヌト、ネオペンチルグリ
コヌルに゚チレンオキサむドをモル付加させた
物のゞメタアクリレヌトビスプノヌルに
゚チレンオキサむドモル付加させた物のゞメ
タアクリレヌト、トリメチロヌルプロパントリ
メタアクリレヌトなどが挙げられ、これらは
単独で䜿甚ないしは耇数混合しお䜿甚するこずが
できる。
たた䞊蚘有機溶剀ず䜵甚しおも良い。
埮小暹脂粒子 埓来埮小暹脂粒子の補法ずしおは各皮の方法が
提案されおいるが、その䞀぀ぱチレン性䞍飜和
単量䜓を架橋性の共重合車量䜓ず氎性媒䜓䞭でサ
スペンゞペン重合たたは乳化重合させお埮小暹脂
粒子分散液を぀くり、溶媒眮換、共沞、遠心分
離、也燥などにより氎を陀去しお埮小暹脂粒子を
埗るものであり、他の方法は脂肪族炭化氎玠等の
䜎SP有機溶媒あるいぱステル、ケトン、アル
コヌル等の内の高SP有機溶媒のようにモノマヌ
は溶かすが重合䜓は溶解しない非氎性有機溶媒䞭
で゚チレン性䞍飜和単量䜓ず架橋性共重合䜓ずを
共重合させ、埗られる埮小暹脂粒子共重合䜓を分
散すすNAD法あるいは沈柱析出法ず称せられる
方法である。
本発明の埮小暹脂粒子は、䞊蚘いずれの方法で
補造しおもよい。本発明者らの特開昭58−129066
号に蚘茉された䞡むオン性基を有する氎溶性暹脂
を䜿甚する埮小暹脂粒子の補造法を甚いおもよ
い。その粒埄は混和性、反応性、貯蔵安定性の芋
地から0.01〜2Όであるこずが必芁である。粒埄が
小さいほどマトリツクス暹脂ず擬網目を圢成し易
い。
゚チレン性䞍飜和単量䜓ずしおは、メタア
クリル酞メチル、メタアクリル酞゚チル、メ
タアルリル酞−ブチル、メタアクリル酞
む゜ブチル、メタアクリル酞−゚チルヘキ
シル等のアクリル酞たたはメタクリル酞のアルキ
ル゚ステルや、これず共重合し埗る゚チレン性䞍
飜和結合を有する他の単量䜓、䟋えばスチレン、
α−メチルスチレン、ビニルトル゚ン、−ブチ
ルスチレン、゚チレン、プロピレン、酢酞ビニ
ル、プロピオン酞ビニル、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、メタアクリル酞ゞメチル
アミノ゚チルなどがある。これら単量䜓は二皮類
以䞊甚いおもよい。
架橋性共重合単量䜓は、分子内に個以䞊のラ
ゞカル重合可胜な゚チレン性䞍飜和結合を有する
単量䜓およびたたは盞互に反応し埗る基をそれ
ぞれ担持する皮の゚チレン性䞍飜和基含有単量
䜓を含む。
分子内に個以䞊のラゞカル重合可胜な゚チレ
ン性䞍飜和基を有する単量䜓ずしおは、倚䟡アル
コヌルの重合性䞍飜和モノカルボン酞゚ステル、
倚塩基酞の重合性䞍飜和アルコヌル゚ステル、お
よび個以䞊のビニル基で眮換された芳銙族化合
物などがあり、それらの䟋ずしおは以䞋のような
化合物がある。
゚チレングリコヌルゞアクリレヌト、゚チレン
グリコヌルゞメタクリレヌト、トリ゚チレングリ
コヌルゞメタクリレヌト、テトラ゚チレングリコ
ヌルゞメタクリレヌト、−ブチレングリコ
ヌルゞメタクリレヌト、トリメチロヌルプロパン
トリアクリレヌト、トリメチロヌルプロパントリ
メタクリレヌト、−ブタンゞオヌルゞアク
リレヌト、ネオペンチルグリコヌルゞアクリレヌ
ト、−ヘキサンゞオヌルゞアクリレヌト、
ペンタ゚リスリトヌルゞアクリレヌト、ペンタ゚
リスリトヌルトリアクリレヌト、ペンタ゚リスリ
トヌルテトラアクリレヌト、ペンタ゚リスリトヌ
ルゞメタクリレヌト、ペンタ゚リスリトヌルトリ
メタクリレヌト、ペンタ゚リスリトヌルテトラメ
タクリレヌト、グリセロヌルゞメタクリレヌト、
グリセロヌルゞアクリレヌト、グリセロヌルアリ
ロキシゞメタクリレヌト、−トリスヒ
ドロキシメチル゚タンゞアクリレヌト、
−トリスヒドロキシメチル゚タントリアクリレ
ヌト、−トリスヒドロキシメチル゚タ
ンゞメタクリレヌト、−トリスヒドロ
キシメチル゚タントリメタクリレヌト、
−トリスヒドロキシメチルプロパンゞアクリレ
ヌト、−トリスヒドロキシメチルプロ
パントリアクリレヌト、−トリスヒド
ロキシメチルプロパンゞメタクリレヌト、
−トリスヒドロキシメチルプロパントリメ
タクリレヌト、トリアリルシアヌレヌト、トリア
リルむ゜シアヌレヌト、トリアリルトリメリテヌ
ト、ゞアリルテレフタレヌト、ゞアリルフタレヌ
トおよびゞビニルベンれン。
たた盞互に反応し埗る基をそれぞれ担持する
皮の゚チレン性䞍飜和基を有する単量䜓ずしおは
䟋えばグリシゞルアクリレヌト、グリシゞルメタ
クリレヌトなどの゚ポキシ基含有゚チレン性䞍飜
和単量䜓ず、アクリル酞、メタクリル酞、クロト
ン酞などカルボキシル基含有゚チレン性䞍飜和単
量䜓が最も代衚的なものであるが、盞互に反応性
の基ずしおはこれらに限定されるものではなく、
䟋えばアミンずカルボニル、゚ポキシドずカルボ
ン酞無氎物、アミンずカルボン酞塩化物、アルキ
レンむミンずカルボニル、オルガノアルコキシシ
ランずカルボキシル、ヒドロキシルずむ゜シアナ
ト等皮々のものが提案されおおり、本発明はこれ
らを広く包含するものである。
氎性媒䜓たたは非氎性有機媒䜓䞭で補造した埮
小暹脂粒子は、ロ過、スプレヌ也燥、凍結也燥な
どの方法で埮小暹脂粒子を単離し、そのたたしも
くしはミルなどを甚いお適圓な粒埄に粉砕しお甚
いるこずもできるし、さらに合成した分散液を溶
媒眮換により媒䜓を眮換しお甚いるこずができ
る。
䞀般的にい぀お埗られる粒子の粒埄はその重合
法によ぀おコントロヌルするのが望たしい。0.01
〜0.6Όの粒子に察しおは乳化重合法、NAD法が、
0.2〜2Όの粒子に察しおは沈柱析出法、1Ό以䞊の
粒子に察しおは懞濁重合法が最も適しおいる。た
た必芁により重合のプロセスたたは重合埌粒子の
混合等の操䜜により粒埄分垃を調敎するこずによ
りレオロゞヌコントロヌルが可胜ずなる。その埮
小暹脂粒子はマトリツクス暹脂ずの関係におい
お、粒子自䜓のガラス転移点、溶解性パラメヌタ
ヌ、屈折率を構成成分によ぀お制埡し埗る。たた
その構造においお暹脂粒子衚面に盞互にたたはマ
トリツクス暹脂ず反応し埗る官胜基や䞍飜和基を
配列させるこずにより暹脂粒子間、暹脂粒子マト
リツクス暹脂間の盞互䜜甚をより高めるこずがで
きる。さらに暹脂粒子の衚面や内郚に高゚ネルギ
ヌ線による硬化時に有効な増感剀やその反応を促
進させるプロモヌタヌ物質、硬化埌においお圓該
組成物が高機胜性を発揮させ埗るような機胜性物
質を担持包含させるこずも圓然可胜である。
高゚ネルギヌ線硬化暹脂組成物 高゚ネルギヌ線には玫倖線、電子線、線およ
び攟射線が含たれる。
玫倖線は100n〜400nの波長を持぀たもの
が含たれおいる。その䞭でも特に200〜300nの
短波長玫倖線を持぀たものはデむヌプUVず呌ば
れおいる。これらの゚ネルギヌは70〜300KCal
molであり、有機化合物の結合解離゚ネルギヌず
ほが同じであり分子がこれらの光を吞収しお励起
状態ずなり、分解しおラゞカルを生成し、そのラ
ゞカルが反応を誘起するず考えられおいる。たた
電子線、線および攟射線攟射線にはα線、β
線、γ線、硬線等があり、その䞭で適床の透過
性を持぀β線が加速電子線ずしお利甚されおいる
がにおいおはこれらの高゚ネルギヌ線の照射に
より物質䞭の原子の軌道電子ずの盞互䜜甚により
むオン、励起分子およびラゞカルを生じ、そのう
ちラゞカルによる重合反応により硬化が進行する
ず考えられおいる。
本発明の高゚ネルギヌ線硬化暹脂組成物は、ポ
リオヌルポリむ゜シアネヌトラクトン−メ
タアクリレヌトオリゎマヌず埮小暹脂粒子ずを
必須成分ずし、任意の成分ずしお (1) 重合性モノマヌ (2) 増感剀光硬化性暹脂の堎合は必須 (3) その他の添加剀を含むこずができる。
(1)の重合性モノマヌずしおは、 (i) メチルメタアクリレヌト、゚チルメ
タアクリレヌト、−ブチルメタアクリ
レヌト、−゚チルヘキシルメタアクリレ
ヌト、ラりリルメタアクリレヌト、ノニル
メタアクリレヌトなどのアルキルメタ
アクリレヌト類 −ヒドロキシ゚チルメタアクリレヌ
ト、−ヒドロキシプロピルメタアクリレ
ヌトなどのヒドロキシアルキルメタアクリ
レヌト類 −゚トキシ゚チルメタアクリレヌト、
−メトキシブチルメタアクリレヌトなど
のアルコキシアルキルメタアクリレヌト類 −プノキシ゚チルメタアクリレヌ
ト、−ノニルプノキシ゚チルメタアク
リレヌトなどのアリヌロキシアルキルアクリレ
ヌト類 シクロヘキシルアクリレヌト、シクロペンチ
ルアクリレヌト、む゜ボルニルアクリレヌトな
どのシクロアルキルアクリレヌト類 ゞシクロペンテニルオキシ゚チルメタア
クリレヌトのようなシクロアルケニルメタ
アクリレヌト類 ゞ゚チルアミノ゚チルメタアクリレヌト
のようなアミノアルキルアクリレヌト類 スチレン、ビニルトル゚ン、酢酞ビニル、
−ビニルピロリドンのようなビニル化合物類 などの単官胜アクリレヌト (ii) ネオペンチルグリコヌルゞメタアクリレ
ヌト、−ヘキサンゞオヌルゞメタア
クリレヌト、ゞ゚チレングリコヌルゞメタ
アクリレヌト、トリ゚チレングリコヌルゞメ
タアクリレヌト、テトラ゚チレングリコヌル
ゞメタアクリレヌト、ゞプロピレングリコ
ヌルゞメタアクリレヌト、トリプロピレン
グリコヌルゞメタアクリレヌト、テトラ゚
チレングリコヌルゞメタアクリレヌト、ト
リメチロヌルプロパントリメタアクリレヌ
ト、ネオペンチルグリコヌルに゚チレンオキサ
むドモル付加させた物のゞメタアクリレ
ヌト、ネオペンチルグリコヌルにプロピレンオ
キサむドモル付加させた物のゞメタアク
リレヌト、ビスプノヌルに゚チレンオキサ
むドモル付加させた物のゞメタアクリレ
ヌトなどの倚官胜アクリレヌトが䜿甚できる。
(2)の増感剀ずしおは、ベンゟプノン、ミヒラ
ヌトケン、キサントン、チオキサントン、−ク
ロロチオキサントン、ベンゞル、−゚チルアン
スラキノン、−ヒドロキシ−−メチルプロピ
オプノン、−ヒドロキシ−4′−む゜プロピル
−−メチル−プロピオプノン、メチルベンゟ
むルフオヌメヌト、ベンゟむンメチル゚ヌテル、
ベンゟむン゚チル゚ヌテル、ベンゟむンむ゜プロ
ピル゚ヌテル、ベンゟむン−−ブチル゚ヌテ
ル、ベンゟむンむ゜ブチル゚ヌテル、アセトプ
ノン、トリクロロアセトプノン、−ゞ゚
トキシアセトプノン、−ゞメトキシ−
−プニヌルアセトプノン等が䜿甚できる。
(3)のその他の添加剀ずしおは充填剀䟋えばコ
ロむダルシリカ等の無機埮粉末や䜓質顔料、着
色剀、安定剀などである。
埮小暹脂粒子の添加量は、あたり少ないず所期
の効果が発揮されず、あたり倚いず組成物の䜜業
性が悪くな぀たり、埗られる被芆局の性胜をかえ
぀お劣化させるので、䞀般に組成物の党䞍揮発分
äž­0.1〜40重量、奜たしくはないし30重量
を占めるべきである。
本発明の組成物を光フアむバヌの被芆剀ずしお
䜿甚する堎合、䟋えばダむスしごき、スプレヌ、
流動浞挬等公知の技術によ぀お光フアむバヌ衚面
に塗垃し、高゚ネルギヌ線照射によ぀お硬化させ
るこずができる。
たた、本発明の組成物はポリオヌルポリむ゜
シアネヌトラクトン−メタアクリレヌト反
応生成物を成分ずする公知の高゚ネルギヌ線硬化
暹脂組成物ず同じ甚途に䜿甚し埗るこずは明らか
であり、その堎合にも埮小暹脂粒子の添加による
硬化埌の成圢物の物性の改善および硬化前の組成
物のレオロゞヌコントロヌルの効果を発揮する。
以䞋参考䟋、実斜䟋および比范䟋によ぀お本発
明を詳しく説明する。これらにおいお「郚」およ
び「」は重量基準による。
参考䟋  䞡むオン性基を有する乳化剀の補造 撹拌機、窒玠導入管、枩床制埡装眮、コンデン
サヌ、デカンタヌを備えたの反応容噚に、ビ
スヒドロキシ゚チルタりリン134郚、ネオペンチ
ルグリコヌル130郚、アれラむン酞236郚、無氎フ
タル酞186郚およびキシレン27郚を仕蟌み、昇枩
する。反応により生成する氎をキシレンず共沞さ
せ陀去する。
還流開始より玄時間をかけお枩床を190℃に
し、カルボン酞盞圓の酞䟡が145になるたで撹拌
ず脱氎を継続し、次に140℃たで冷华する。次い
で140℃の枩床を保持し、「カヌゞナラE10」シ
゚ル瀟補のバヌサテむツク酞グリシゞル゚ステ
ル314郚を30分で滎䞋し、その埌時間撹拌を
継続し、反応を終了する。埗られるポリ゚ステル
暹脂は酞䟡59、ヒドロシキル䟡90、1054であ
぀た。
参考䟋  埮小暹脂粒子の補造 撹拌機、冷华噚、枩床制埡装眮を備えたの
反応容噚に脱むオン氎380郚、参考䟋で埗た䞡
性むオン基を有する乳化剀50郚およびゞメチル゚
タノヌルアミン郚を仕蟌み、撹拌䞋枩床を80℃
にしながら溶解し、これにアゟビスシアノ吉草酞
2.5郚を脱むオン氎50郚ずゞメチル゚タノヌルア
ミン1.6郚に溶解した液、および゚チレングリコ
ヌルゞメタクリレヌト75郚、スチレン50郚、メチ
ルメタクリレヌト50郚、−ブチルアクリレヌト
75郚よりなる混合液を90分を芁しお滎䞋し、その
埌さらに90分間撹拌を続けた埌、䞍揮発分43で
平均粒子埄が45Όの埮小暹脂粒子氎分散液が埗
られた。かかる氎分散液をキシロヌルを甚いお共
沞により溶媒眮換を行うこずにより䞍揮発分が40
の埮小暹脂分散液ずした。
参考䟋  埮小暹脂粒子の補造 参考䟋ず党く同様の装眮を甚いお脱むオン氎
580郚、参考䟋で埗た䞡性むオン基を有する乳
化剀15郚およびゞメチル゚タノヌルアミン2.2郚
を仕蟌み、撹拌䞋枩床を80℃にしながら溶解し、
これにアゟビスシアノ吉草酞2.5郚を脱むオン氎
50郚ずゞメチル゚タノヌルアミン1.6郚に溶解し
た液、および゚チレングリコヌルゞメタクリレヌ
ト25郚、スチレン60郚、メチルメタクリレヌト60
郚、−ブチルアクリレヌト100郚、NK゚ステ
ルM230G新䞭村化孊工業(æ ª)補、゚チレンオキサ
むド鎖を23個有するアクリレヌト郚よりなる
混合液を90分を芁しお滎䞋し、その埌さらに90分
間撹拌を続けた埌、䞍揮発分29で平均粒埄180
Όの埮小暹脂粒子氎分散液が埗られた。
かかる氎分散液をブタノヌルを甚いお共沞によ
り溶媒眮換を行うこずにより䞍揮発分が20の埮
小暹脂分散液ずした。
参考䟋  埮小暹脂粒子の補造 撹拌機、冷华噚、枩床制埡装眮を備えたの
反応容噚にむ゜プロピルアルコヌルを900郚仕蟌
み、窒玠ガスを導入し぀づけながら50℃たで昇枩
したものぞ、スチレン郚、メチルメタクリレヌ
ト郚、−ブチルアクリレヌト13郚、−ヒド
ロキシ゚チルアクリレヌト郚および゚チレング
リコヌルゞメタクリレヌト20郚よりなる混合液を
滎䞋し10分間撹拌しおからさらにアゟビスむ゜ブ
チロニトリルを添加し、埐々に70℃たで昇枩
させ、時間反応させるこずで癜色沈柱暹脂が析
出した。かかる暹脂をロ玙を甚いおロ過、む゜プ
ロピルアルコヌルによる掗浄を回繰り返した
埌、真空也燥機で也燥させるこずで埮小暹脂埮粉
末を埗るこずができた。SEM芳察による䞀次
粒子の粒埄は1.0Όであ぀た。
参考䟋  撹拌機、冷华噚および枩床制埡装眮を備えた
の反応容噚に酢酞−ブチル300郚ず分子量
2000のポリプロピレングリコヌル200郚ずむ゜ホ
ロンゞむ゜シアネヌト44.4郚を仕蟌み十分撹拌し
お埌、ゞブチル錫ゞラりレヌト0.25郚を加えお80
℃に昇枩させお時間保぀た。次いでプラクセル
FA−ダむセル化孊工業(æ ª)補、䞀個のε−カプ
ロラクトンにより倉性された−ヒドロキシ゚チ
ルアクリレヌト46.5郚ずハむドロキノン0.28郚
を系を80℃に保぀たたた時間かけお滎䞋し、さ
らに時間攟眮しIRにより−NCO基の吞収が消
倱したこずを確認しおからポリ゚ヌテルアクリレ
ヌト暹脂を埗た。
参考䟋  撹拌機、冷华噚、枩床制埡装眮および還流冷华
管を備えた反応容噚に、トリ゚チレングリコヌル
69郚ずSB−20岡村補油(æ ª)補、炭玠数20の長鎖脂
肪族二塩基酞131郚およびキシロヌル50郚を仕
蟌み、180〜200℃で酞䟡が0.1になるたで反応さ
せた埌、40℃たで冷华しおからキシリレンむ゜ゞ
シアネヌト23.5郚および酢酞−ブチル50郚を仕
蟌み、十分撹拌した。その埌ゞブチル錫ゞラりレ
ヌト0.5郚を加えお80℃に昇枩させお時間保぀
た。次いでプラクセルFA−ダむセル化孊工業
(æ ª)補、二個のε−カプロラクトンにより倉性され
た−ヒドロキシ゚チルアクリレヌト43.2郚ず
ハむドロキノン0.5郚を系を80℃に保぀たたた
時間かけお滎䞋し、さらに時間攟眮しおからポ
リ゚ステルアクリレヌト暹脂を埗た。
参考䟋  参考䟋においおポリオキシプロピレングリコ
ヌルの代わりに分子量2000のポリテトラメチレン
グリコヌル200郚、プラクセルFA−の代わりに
プラクセルFA−ダむセル化孊工業(æ ª)補、五個
のε−カプロラクトンにより倉性された−ヒド
ロキシ゚チルアクリレヌト138郚を甚いる他は
党く同様にしおポリ゚ヌテルアクリレヌト暹脂
を埗た。
参考䟋  参考䟋においおポリオキシプロピレングリコ
ヌルの代わりに分子量2000の䞡末端に氎酞基を有
するポリブタゞ゚ン200郚、む゜ホロンゞむ゜シ
アネヌトの代わりにキシリレンゞむ゜シアネヌト
38郚、プラクセルFA−の代わりにプラクセル
FA−ダむセル化孊工業(æ ª)補、四個のε−カプ
ロラクトンにより倉性された−ヒドロキシ゚チ
レアクリレヌト115郚を甚いる他は党く同様に
しおポリブタゞ゚ンアクリレヌト暹脂を埗た。
参考䟋  参考䟋においおポリオキシプロピレングリコ
ヌルの代わりに−22−60AS信越化孊工業(æ ª)
補、ゞメチルシロキサンの䞡末端に䞀玚アルコヌ
ル性氎酞基を有する平均分子量1000、OH䟡112
のシリコヌンオむル100郚、プラクセルFA−
の代わりにプラクセルFM−ダむセル化孊工
業(æ ª)補、二個のε−カプロラクトンにより倉性さ
れた−ヒドロキシ゚チルメタレアクリレヌト
72郚を甚いる他は党く同様にしおシリコヌンアク
リレヌト暹脂を埗た。
参考䟋 10 参考䟋においおプラクセルFA−の代わり
に−ヒドロキシ゚チルアクリレヌト23.5郚を甚
いる他は党く同様にしおポリ゚ヌテルアクリレヌ
ト暹脂を埗た。
参考䟋 11 参考䟋においおプラクセルFA−の代わり
に−ヒドロキシ゚チルメタクリレヌト26郚を甚
いる他は党く同様にしおポリブタゞ゚ンアクリレ
ヌト暹脂を埗た。
実斜䟋  参考䟋で埗られたポリ゚ヌテルアクリレヌト
暹脂A70郚、参考䟋で埗られた埮小暹脂粒子分
散液A75郚およびベンゟむンメチル゚ヌテル郚
を加え20分間撹拌し、脱泡するこずで玫倖線硬化
可胜な組成物を埗た。
物性詊隓 石英ガラス板䞊に該組成物を100Όずなるよう
に塗装し、充分セツテむングを行぀おから、埌に
瀺す条件で玫倖線凊理を行うこずにより硬化皮膜
を埗た。次にガラス板より硬化皮膜を剥離させ、
匕匵り詊隓サンプルずしお20℃で詊隓を行぀たず
ころ、初期ダング率0.44Kgmm2、䌞び率88
、たた60℃での初期ダング率0.38Kgmm2、䌞
び率80の倀をそれぞれ瀺した。特に高枩にお
いおも初期ダング率や䌞び率の倧きな䜎䞋がな
く、十分な柔軟性を有しおおり、䜎モゞナラス組
成物ずしお適しおいるこずが認められた。
玫倖線凊理条件 日本電池補高圧氎銀灯 HI−20N80Wcm
型、集光型噚具䜿甚のランプ長方向をコンベア
進行方向に盎角に眮き、コンベア面からの高さ80
mmでコンベア速床を分にする。
テンシロンによる匕匵り詊隓条件 テンシロン匕匵り詊隓機東掋ボヌルドりむン
瀟補、HI−100型におフむルム長さ50mm、巟10
mmのサンプルに぀き50mm分の匕匵り速床で実斜
する。
ガラスフアむバヌ被芆詊隓 石英ガラスを䞻成分ずするガラスフアむバヌを
盎埄が100Όずなるように玡糞し、玡糞盎埌該組
成物を膜厚が50Όずなるように塗装し、玫倖線凊
理を行うこずにより埮小暹脂粒子を含んだ暹脂に
よる䞀次被芆ガラスフアむバヌを埗るこずができ
た。かかる䞀次被芆ガラスフアむバヌは曲げに察
しおもワレやハガレがなく十分な柔軟性を有しお
いた。
比范䟋  実斜䟋においお、埮小暹脂粒子分散液を含
たないほかは党く同様にしお玫倖線硬化組成物を
埗た。かかる組成物を実斜䟋ず党く同様にし
お、匕匵り詊隓を行぀たずころ20℃では初期ダン
グ率0.43Kgmm2、䌞び率50、たた60℃では
初期ダング率0.39Kgmm2、䌞び率40であ
り、実斜䟋ず比范しお高枩での䌞び率の䜎䞋が
著しか぀た。
比范䟋  実斜䟋においお、ポリ゚ヌテルアクリレヌト
暹脂の代わりに参考䟋10によるポリ゚ヌテルア
クリレヌト暹脂F73郚を甚いる以倖は党く同様に
しお玫倖線硬化組成物を埗た。かかる組成物を実
斜䟋ず党く同様にしお、匕匵り詊隓を行぀たず
ころ20℃では初期ダング率0.60Kgmm2、䌞び率
61、たた60℃では初期ダング率0.45Kg
mm2、䌞び率54であり、ε−カプロラクトン倉
性アクリレヌトを含む本発明暹脂ず比べお初期ダ
ング率、䌞び率共に劣぀おおり、たた高枩での物
性䜎䞋が著しか぀た。
実斜䟋  参考䟋で埗られたポリ゚ヌテルアクリレヌト
暹脂A102郚ず参考䟋で埗られたポリ゚ステル
アクリレヌト暹脂B72郚および参考䟋で埗られ
た埮小暹脂粒子分散液B50郚ずを30分撹拌埌脱溶
剀した。その䞭ぞゞアセトプノン郚を加え撹
拌脱泡するこずで玫倖線硬化組成物を埗た。
実斜䟋に埓぀お匕匵り詊隓を行぀たずころ20
℃では初期ダング率0.60Kgmm2、䌞び率80
、たた60℃では初期ダング率0.58Kgmm2、䌞
び率77の倀をそれぞれ瀺した。
実斜䟋  参考䟋で埗られたポリ゚ヌテルアクリレヌト
暹脂C170郚、−゚チルヘキシルアクリレヌト
20郚および参考䟋で埗られた埮小暹脂分散液
A12.5郚ずを混合し、脱溶剀するこずで電子線硬
化組成物を埗た。
かかる組成物を膜厚が200Όずなるように塗装
し、電子゚ネルギヌ300KeVの電子線を電子電流
30のもずに照射し、線量3Mradを䞎えるこ
ずで衚面粘着性のない硬化膜を埗るこずができ
た。埗られた皮膜の−40℃での初期ダング率
0.30Kgmm2、䌞び率180、20℃では初期ダン
グ率0.25Kgmm2、䌞び率125、60℃では初
期ダング率0.20Kgmm2、䌞び率110であり、
広い枩床域で䜎モゞナラスな性胜を瀺した。
実斜䟋  参考䟋で埗られたポリブタゞ゚ンアクリレヌ
ト暹脂D166郚ず参考䟋で埗られた暹脂粒子分
散液B50郚およびベンゟむンメチル゚ヌテル郚
を十分混合しお埌、脱溶剀するこずで玫倖線硬化
組成物を埗た。
実斜䟋に埓぀お匕匵り詊隓を行぀たずころ20
℃では初期ダング率0.40Kgmm2、䌞び率110
、たた60℃では初期ダング率0.35Kgmm2、䌞
び率102であり、䜎モゞナラスな皮膜を䞎え
た。
比范䟋  実斜䟋においお、ポリブタゞ゚ンアクリレヌ
ト暹脂の代わりに参考䟋11で埗られたポリブタ
ゞ゚ンアクリレヌト暹脂G192郚を甚いるほかは
党く同様にしお埗られた皮膜を匕匵り詊隓したず
ころ、20℃では初期ダング率0.55Kgmm2、䌞び
率80、たた60℃では初期ダング率0.44Kg
mm2、䌞び率45であり、初期ダング率、䌞び率
共に劣぀おおり、たた高枩での䜎䞋が倧きか぀
た。
実斜䟋  参考䟋で埗られたシリコンアクリレヌト暹脂
E234郚ず参考䟋で埗られた埮小暹脂粒子粉末
を郚ずり、ボヌルミルで24時間分散させた埌、
脱溶剀を行うこずで線硬化組成物を埗るこずが
できた。この組成物をガラス板に硬化膜厚が
200Όになるように塗装し、察陰極をタングステ
ンずしお加速電圧50KV、電流40のもずに
線を線量120䞇レントゲン照射するこずにより硬
化皮膜を埗た。参考䟋ず同様にしお皮膜の匕匵
り詊隓を行぀たずころ、20℃では初期ダング率
0.32Kgmm2、䌞び率75であ぀た。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (a)ポリオヌルず、(b)倚官胜性む゜シアネヌト
    ず、 (c)䞀般匏 匏䞭、R1、R2は各々氎玠、炭化氎玠残基を、
    はからたでの敎数を瀺す。のラクトンず
    ヒドロキシアルキルメタアクリレヌトの付加
    物を反応させお埗られる反応生成物を含む液状暹
    脂に、粒子埄が0.01ないし2.0Όの埮小暹脂粒子を
    分散させおなる高゚ネルギヌ線硬化暹脂組成物。  ポリオヌルが、ポリ゚ヌテルポリオヌル、ポ
    リカプロラクトンポリオヌル、ポリ゚ステルポリ
    オヌル、ポリりレタンポリオヌル、アクリルポリ
    オヌル、ビニルポリオヌル、ポリブタゞ゚ンポリ
    オヌル、シリコンポリオヌル、ポリクロロプレン
    ポリオヌル、゚ポキシ暹脂、アミノ暹脂から遞ば
    れる第項の暹脂組成物。  埮小暹脂粒子は内郚架橋した重合性゚チレン
    性䞍飜和基を有する単量䜓の重合䜓たたは共重合
    䜓からなる第項たたは第項の暹脂組成物。
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