JPH05150472A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 導電性基体上に、安定化剤として下記一般式
(1) 、(2)などでそれぞれ表される塩の少なくとも１種
を含有する感光層を設けた電子写真感光体である。 【化３３】 ［式中、Ｒ¹ ，Ｒ² は、同一または異なって水素原子、
アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Ｘ
は陰イオンを示す。］ 【効果】 上記安定化剤が、感光層の劣化を防止するの
で、高感度で、かつ耐久性に優れた電子写真感光体を得
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、静電式複写機、レーザ
ープリンタ等に使用される電子写真感光体に関し、より
詳しくは感光層中に特定の安定化剤を含有させて安定性
を向上させた電子写真感光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、複写機等の画像形成装置における
感光体として、加工性および経済性に優れ、機能設計の
自由度が大きい有機感光体が広く使用されている。ま
た、感光体を用いて複写画像を形成する場合には、カー
ルソンプロセスが広く利用されている。カールソンプロ
セスは、コロナ放電により感光体を均一に帯電させる帯
電工程と、帯電した感光体に原稿像を露光し、原稿像に
対応した静電潜像を形成する露光工程と、トナーを含有
する現像剤で静電潜像を現像してトナー像を形成する現
像工程と、トナー像を紙等に転写する転写工程と、転写
されたトナー像を定着させる定着工程と、転写工程後に
感光体上に残留するトナーを除去するクリーニング工程
とを含んでいる。このカールソンプロセスにおいて、高
品質の画像を形成するには、感光体が帯電特性および感
光特性に優れており、かつ露光後の残留電位が低いこと
が要求される。

【０００３】従来より、セレンや硫化カドミウム等の無
機光導電体が感光体材料として公知であるが、これらは
毒性があり、しかも生産コストが高いという欠点があ
る。そこで、これらの無機物質に代えて、種々の有機物
質を用いた、いわゆる有機感光体が提案されている。か
かる有機感光体は、露光により電荷を発生する電荷発生
材料と、発生した電荷を輸送する機能を有する電荷輸送
材料とからなる感光層を有する。有機感光体に望まれる
各種の条件を満足させるためには、これらの電荷発生材
料と電荷輸送材料との選択を適切に行う必要がある。電
荷発生材料としては、アゾ系化合物、ペリレン系化合
物、フタロシアニン系化合物、キナクリドン系化合物、
アンサンスロン系化合物等多くの化合物が提案されてい
る。

【０００４】また、画像形成装置等においては、帯電、
露光、除電等の画像形成プロセスを繰り返し行っている
うちに、感光層が疲労して帯電特性や感光特性等が低下
しないように、酸化防止剤、光安定剤等の安定化剤を感
光層に添加することが行われている。この感光体の安定
化剤としては、その安定化効果だけでなく、感光特性等
に悪影響を与えないことが要求され、これらの性能をあ
る程度備えた安定化剤が種々提案されている。例えば、
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール類、パラフ
ェニレンジアミン類、ハイドロキノン類、有機硫黄化合
物類、有機燐化合物類等が提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記安
定化剤は、何れも、感光層の酸化防止や光安定性等を付
与するには不十分であり、その結果、感光体の感光特性
を維持できないという問題があった。また、上記従来の
電荷発生材料は、何れも、繰り返し使用しているうち
に、帯電特性や感光特性等が低下し、これらの電荷発生
材料を用いた感光体は、感度や耐久性が不十分になると
いう問題があった。

【０００６】なかでも、電荷発生材料としてアゾ系化合
物またはペリレン系化合物を使用した感光体は、画像形
成装置運転時等において、これらの電荷発生材料が光や
オゾンによって容易に劣化し、表面電位の低下等を起こ
す。そこで、本発明の目的は、光やオゾンに対する安定
性が向上した高感度な電子写真感光体を提供することで
ある。

【０００７】

【課題を解決するための手段および作用】本発明の電子
写真感光体は、導電性基体上に、安定化剤として下記一
般式(1)、(2) 、(3) 、(4) 、(5) 、(6) 、(7) 、(8)
、(9) 、(10)および(11)でそれぞれ表される塩の少な
くとも１種を含有した感光層を設けたことを特徴とする
ものである。

【０００８】

【化３】

【０００９】

【化４】

【００１０】〔式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ , Ｒ⁴ , Ｒ⁵ ,
Ｒ⁶ , Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ ，Ｒ⁹ ，Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹およびＲ¹²は、そ
れぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有してい
てもよいアルキル基、アリール基またはアラルキル基を
示し、Y はハロゲン原子、Ｘは陰イオンを示し、ｎは１
〜４の整数である。〕上記一般式(1) 〜(11)で表される
塩は、いずれも活性種の一重項酸素(¹Ｏ₂)または基底状
態の酸素〔ビラジカル（・Ｏ−Ｏ・）として反応性を有
する〕が酸化剤となって連鎖反応を起こして電荷発生材
料を劣化させるのを防止する作用を有する。

【００１１】例えば、電荷発生材料としてアゾ系化合物
を使用した場合は、アゾ型とヒドラゾン型との平衡が感
光体の光安定性に著しく影響を与えているが、上記一般
式(1) 〜(11)で表される塩は、ヒドラゾン型から一重項
酸素のニン型反応によって光退色生成物が単離されるの
を防止することができる。すなわち、一般式(1) 〜(11)
で表される塩は、酸化剤となる一重項酸素等のクエンチ
ングを行うことができる。なかでも、アゾ系化合物また
はペリレン系化合物の劣化を防止することができる。

【００１２】このため、電荷発生材料として、特にアゾ
系化合物またはペリレン系化合物を使用した感光体は、
繰返し使用しても表面電位の低下を防止することがで
き、長時間の露光や高温下での露光に対して、安定的に
高感度を維持できると共に、光安定性に優れたものが得
られる。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロプル基、ブチル基、イ
ソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
等の炭素数１〜６のアルキル基があげられる。アルキル
基が有していてもよい置換基としては、例えば炭素数1
〜6 のアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子、水酸
基などがあげられる。

【００１３】アリール基としては、例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、ア
ントリル基、フェナントリル基などがあげられる。アラ
ルキル基としては、例えばベンジル基、α─フェネチル
基、β─フェネチル基、３─フェニルプロピル基、ベン
ズヒドリル基、トリチル基などのアルキル部分の炭素数
が１〜６のアラルキル基があげられる。

【００１４】Ｘ^- で表される陰イオンとしては、例え
ば、ハロゲン原子、ハロゲン化酸素、ハロゲン化水素酸
等の陰イオンがあげられ、具体的にはＣｌ^- ，Ｆ^- ，Ｂ
ｒ^- ，Ｉ^- ，ＣｌＯ₄ ^- ，ＳｂＦ₆ ^- などがあげられ
る。上記一般式(1) 〜(11)で表わされる塩の具体例とし
ては、下記式(1a)〜(11a)で表される化合物が例示でき
る。

【００１５】

【化５】

【００１６】

【化６】

【００１７】感光体の安定化剤として使用される上記一
般式(1) 〜(11)で表される塩は、それぞれ単独でまたは
適宜混合して使用することができ、その添加量は、感光
層を形成する結着樹脂１００重量部に対して０．０１〜
１０重量部であるのが適当である。上記塩の配合割合が
１０部を超えると、上記塩が電荷の発生を阻害して感度
が悪くなり、逆に配合割合が０．０１部未満であると、
上記塩による一重項酸素等のクエンチング作用が不十分
になる。

【００１８】また、有機感光層には、上記一般式(1) 〜
(11)で表される塩に加えて、増感剤、フルオレン系化合
物、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの劣化防止剤や可塑
剤等の添加剤を含有させることができる。また、電荷発
生層の感度を向上させるために、例えば、ターフェニ
ル、ハロナフトキノン類、アセナフチレン等の公知の増
感剤を電荷発生材料と併用してもよい。

【００１９】本発明の構成は、いわゆる単層型及び積層
型の電子写真感光体のいずれにも適用することができ
る。単層型感光体とするには、安定化剤としての上記一
般式(Ia)、(Ib)および(Ic)で表される塩の少なくとも１
種と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、結着樹脂等と
を含有する感光層を塗布等の手段により導電性基体上に
形成すればよい。

【００２０】また、積層型の感光体とするには、導電性
基体上に、塗布等の手段にて上記一般式(Ia)、(Ib)およ
び(Ic)で表される塩の少なくとも１種および電荷発生材
料を含有する電荷発生層を形成し、この電荷発生層上
に、電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する電荷輸送層を
形成すればよい。また、上記とは逆に、導電性基体上に
上記と同様の電荷輸送層を形成し、次いで塗布等の手段
にて上記と同様の電荷発生層を形成してもよい。さら
に、電荷発生層は電荷発生材料と電荷輸送材料とを結着
樹脂中に分散して塗布することにより形成したものでも
よい。

【００２１】上記電荷発生材料としては、アゾ系化合物
またはペリレン系化合物等が好ましく使用される。アゾ
系化合物としては、例えば、以下の一般式(a1)〜(a15)
で表される化合物があげられる。

【００２２】

【化７】

【００２３】

【化８】

【００２４】〔式中、Ｒ⁵ は置換基を有していてもよい
アルキル基またはアリール基を示し、Ｙ¹ およびＹ
² は、同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、アルキル基またはアルコキシ基を示し、Ａはカ
ップラー残基を示す。〕

【００２５】

【化９】

【００２６】〔式中、Ｙ¹ ，Ｙ² およびＹ³ は、同一ま
たは異なって水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アル
キル基またはアルコキシ基を示し、Ａは前記と同じであ
る。〕

【００２７】

【化１０】

【００２８】〔式中、Ｒ⁶ は置換基を有していてもよい
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはシアノ基を
示し、Ｄは酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を示し、
ｍは０または１の整数を示し、Ａは前記と同じであ
る。〕

【００２９】

【化１１】

【００３０】〔式中、Ｙ¹ およびＹ² は、同一または異
なって水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または置換基
を有していてもよいアルキル基を示し、Ａは前記と同じ
である。〕

【００３１】

【化１２】

【００３２】〔式中、Ｒ⁷ は水素置換基を有してよいア
ルキル基、置換基を有してよいアリール基または複素環
基を示し、ｍおよびＡは前記と同じである〕

【００３３】

【化１３】

【００３４】〔式中、Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、同一または異
なって水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有
してよいアルキル基、アリール基またはアルコキシ基を
示し、ＤおよびＡは前記と同じである。〕

【００３５】

【化１４】

【００３６】〔式中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、同一または異
なって水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有
してよいアルキル基、アリール基またはアルコキシ基を
示し、Ａは前記と同じである。〕

【００３７】

【化１５】

【００３８】〔式中、Ｒ¹²，Ｒ¹³，Ｒ¹⁴，Ｒ¹⁵，Ｒ¹⁶お
よびＲ¹⁷は、同一または異なって水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基またはアルコキシ基を示し、Ａは前記と
同じである。〕

【００３９】

【化１６】

【００４０】〔式中、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹は、同一または異
なって水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
置換基を有してよいアルキル基、アリール基またはアル
コキシ基を示し、Ａｒは置換基を有してよいアリール基
を示し、ｎは０または１を示し、Ａは前記と同じであ
る。〕

【００４１】

【化１７】

【００４２】〔式中、Ｒ²⁰，Ｒ²¹，Ｒ²²およびＲ²³は、
同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アリール基またはアルコキシ基を示し、Ａは前記と
同じである。〕

【００４３】

【化１８】

【００４４】〔式中、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は、同一または異
なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール
基またはアルコキシ基を示し、ＤおよびＡは前記と同じ
である。〕上記各式中、アリール基としては、前記と同
じ基が例示され、アルキル基としては、前記の基の他
に、例えば、オクチル基、tert−オクチル基、デシル
基、ヘキサデシル基、ドデシル基、２−ヒドロキシエチ
ル基、カルボキシメチル基、シアノメチル基、２−メト
キシエチル基、ベンジル基、２−フェニルメチル基、ト
リフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメ
チル基、ジシアノメチル基、アミノメチル基、Ｎ−メチ
ルアミノメチル基、メルカプトメチル基、メチルチオメ
チル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、クロロメチ
ル基、ブロモメチル基などがあげられる。

【００４５】置換基を有していてもよいアルコキシ基と
しては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキ
シ基、２−ヒドロキシエトキシ基、カルボキシメトシキ
基、シアノメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、ベン
ジルオキシ基、２−メチルフェノキシ基、トリフルオロ
メトキシ基、ヒドロキシメトキシ基、メトシキメトキシ
基、ジシアノメトキシ基、アミノメトキシ基、Ｎ−メチ
ルアミノメトキシ基、メルカプトメトキシ基、メチルチ
オメトキシ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ基、ク
ロロメトキシ基、ブロモメトキシ基などがあげられる。

【００４６】複素環基としては、例えば、チエニル基、
ピロリル基、ピロリジニル基、オキサゾリル基、イソオ
キサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミ
ダゾリル基、２Ｈ−イミダゾリル基、ピラゾリル基、ト
リアゾリル基、テトラゾリル基、ピラニル基、ピリジル
基、ピペリジル基、ピペリジノ基、３−モルホリニル
基、モルホリノ基などがあげられる。

【００４７】Ａで表されるカップラー残基としては、例
えば下記一般式(a)〜(g) で表される基があげられる。

【００４８】

【化１９】

【００４９】各式中Ｒ⁴ は、カルバモイル基、スルファ
モイル基、アロファノイル基、オキサモイル基、アント
ラニロイル基、カルバゾイル基、グリシル基、ヒダント
イル基、フタルアモイル基、および、スクシンアモイル
基を表す。これらの基は、ハロゲン原子、置換基を有し
ていてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナ
フチル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニ
ル基、カルボニル基、カルボキシル基等の置換基を有し
ていてもよい。

【００５０】Ｒ⁵ は、上記Ｒ⁴ および水酸基を有するベ
ンゼン環と縮合して芳香族環、多環式炭化水素または複
素環を形成するのに必要な原子団を表し、これらの環は
前記と同様な置換基を有してもよい。Ｒ⁶ は、酸素原
子、硫黄原子、または、イミノ基を表す。Ｒ⁷ は、２価
の鎖式炭化水素または芳香族炭化水素を表し、これらの
基は前記と同様な置換基を有してもよい。

【００５１】Ｒ⁸ は、アルキル基、アラルキル基、アリ
ール基、または、複素環基を表し、これらの基は前記と
同様な置換基を有してもよい。Ｒ⁹ は、２価の鎖式炭化
水素、芳香族炭化水素、または、上記一般式(e)(f)中
の、下記式(h) ：

【００５２】

【化２０】

【００５３】で表される部分とともに複素環を形成する
のに必要な原子団を表し、これらの環は前記と同様な置
換基を有してもよい。Ｒ¹⁰は、水素原子、アルキル基、
アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アロフ
ァノイル基、カルボキシル基、カルボキシル基のエステ
ル、アリール基、または、シアノ基を表し、水素原子以
外の基は前記と同様な置換基を有していてもよい。

【００５４】Ｒ¹¹は、アルキル基またはアリール基を表
し、これらの基は前記と同様な置換基を有してもよい。
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロプル基、ブチル基、イソブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の、炭素数１
〜６の低級アルキル基があげられる。

【００５５】アリール基としては、例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、ア
ントリル基、フェナントリル基などがあげられる。アル
ケニル基としては、例えばビニル基、アリル基、２−ブ
テニル基、３−ブテニル基、１−メチルアリル基、２−
ペンテニル基、２−ヘキセニル基等の、炭素数２〜６の
低級アルケニル基があげられる。

【００５６】ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子、フッ素原子があげられる。前記Ｒ⁵ に
おいて、Ｒ⁴ および水酸基を有するベンゼン環と縮合し
て芳香族環を形成するのに必要な原子団としては、例え
ばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基
等のアルキレン基があげられる。

【００５７】上記Ｒ⁵ と、Ｒ⁴ および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される芳香族環としては、
例えばナフタリン環、アントラセン環、フェナントレン
環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環等があげられ
る。前記Ｒ⁵ において、Ｒ⁴ および水酸基を有するベン
ゼン環と縮合して多環式炭化水素を形成するのに必要な
原子団としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基等の、炭素数１〜４のアルキレン
基があげられる。

【００５８】上記Ｒ⁵ と、Ｒ⁴ および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される多環式炭化水素とし
ては、例えばカルバゾール環、ベンゾカルバゾール環、
ジベンゾフラン環等があげられる。また、Ｒ⁵ におい
て、Ｒ⁴ および水酸基を有するベンゼン環と縮合して複
素環を形成するのに必要な原子団としては、例えばベン
ゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、インドリル基、
１Ｈ−インドリル基、ベゾオキサゾリル基、ベンゾチア
ゾリル基、１Ｈ−インダドリル基、ベンゾイミダゾリル
基、クロメニル基、クロマニル基、イソクロマニル基、
キノリニル基、イソキノリニル基、シンノリニル基、フ
タラジニル基、キナゾニリル基、キノキサリニル基、ジ
ベンゾフラニル基、カルバゾリル基、キサンテニル基、
アクリジニル基、フェナントリジニル基、フェナジニル
基、フェノキサジニル基、チアントレニル基等があげら
れる。

【００５９】上記Ｒ⁵ と、Ｒ⁴ および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される芳香族性複素環基と
しては、例えばチエニル基、フリル基、ピロリル基、オ
キサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イ
ソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリ
アゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、チアゾリル
基があげられる。また、さらに他の芳香族環と縮合した
複素環基（例えばベンゾフラニル基、ベンゾイミダゾリ
ル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、キ
ノリル基など）であってもよい。

【００６０】前記Ｒ⁷ ，Ｒ⁹ において、２価の鎖式炭化
水素としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基
等があげられ、２価の芳香族炭化水素としては、フェニ
レン基、ナフチレン基、フェナントリレン基等があげら
れる。前記Ｒ⁸ において、複素環基としては、ピリジル
基、ピラジル基、チエニル基、ピラニル基、インドリル
基等があげられる。

【００６１】前記Ｒ⁹ において、前記式(h) で表される
部分とともに複素環を形成するのに必要な原子団として
は、例えばフェニレン基、ナフチレン基、フェナントリ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等があ
げられる。上記Ｒ⁹ と、前記式(h) で表される部分とに
より形成される芳香族性複素環基としては、例えばベン
ゾイミダゾール基、ベンゾ［ｆ］ベンゾイミダゾール
基、ジベンゾ［ｅ，ｇ］ベンゾイミダゾール基、ベンゾ
ピリミジン基等があげられる。これらの基は前記と同様
な置換基を有してもよい。

【００６２】前記Ｒ¹⁰において、カルボキシル基のエス
テルとしては、メチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、ブチルエステル等があげられる。上記一
般式(a) 〜(g) で表わされるカップラー残基Ａの具体例
としては、以下のような基があげられる。

【００６３】

【化２１】

【００６４】

【化２２】

【００６５】

【化２３】

【００６６】

【化２４】

【００６７】上記アゾ系化合物の具体例としては、例え
ば、下記式(b1)〜(b12) に示す化合物があげられる。

【００６８】

【化２５】

【００６９】

【化２６】

【００７０】

【化２７】

【００７１】

【化２８】

【００７２】また、ペリレン系化合物の具体例として
は、例えば、下記式(c1)〜(c7)に示す化合物があげられ
る。

【００７３】

【化２９】

【００７４】

【化３０】

【００７５】

【化３１】

【００７６】本発明の電子写真感光体においては、安定
化剤としての前記一般式(I) で表される塩と、電荷発生
材料としての上記アゾ系化合物または上記ペリレン系化
合物をそれぞれ単独で用いる他に、従来公知の電荷発生
材料と組み合わせて使用することができる。他の電荷発
生材料としては、例えば、アモルファスシリコン、アン
サンスロン系顔料、フタロシアニン系顔料、インジゴ系
顔料、トリフェニルメタン系顔料、スレン系顔料、トル
イジン系顔料、ピラゾリン系顔料、キナクリドン系顔料
等があげられる。これらの電荷発生材料は、所望の領域
に吸収波長域を有するように、１種または２種以上混合
して用いられる。

【００７７】電荷輸送材料としては、従来公知の材料を
用いることができ、例えば２，５−ジ（４−メチルアミ
ノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキ
サジアゾール系化合物、９−（４−ジエチルアミノスチ
リル）アントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニル
カルバゾール等のカルバゾール系化合物、１−フェニル
−３−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリン等の
ピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化合物、トリフェニ
ルアミン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール
系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化
合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合
物、ピラゾール系化合物、トリアゾール系化合物等の含
窒素環式化合物、縮合多環式化合物があげられる。これ
らの電荷輸送材料は、１種または２種以上混合して用い
られる。なお、ポリビニルカルバゾール等の成膜性を有
する電荷輸送材料を用いる場合には、結着樹脂は必ずし
も必要ではない。

【００７８】また、上記単層型や積層型の感光体におい
て使用される結着樹脂としては、種々の樹脂を使用する
ことができ、例えばスチレン系重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合
体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル系重合
体、スチレン−アクリル系共重合体、ポリエチレン、エ
チレン酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリ
塩化ビニル、ポリプロピレン、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリエステル、アルキッド樹脂、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリスルホン、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂等の
熱可塑性樹脂や、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、その他架橋性の
熱硬化性樹脂、さらにエポキシアクリレート、ウレタン
−アクリレート等の光硬化性樹脂等の種々の重合体があ
げられる。これらの結着樹脂は１種または２種以上混合
して用いられる。

【００７９】また、塗布手法等により電荷発生層および
電荷輸送層を形成する場合には溶剤が使用される。この
溶剤としては、種々の有機溶剤を使用することが可能で
あり、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、オク
タン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジ
メチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル
等のエステル類、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の種々の溶剤が
あげられる。これらの溶剤は１種または２種以上混合し
て用いることができる。

【００８０】また、電荷発生材料や電荷輸送材料の分散
性、染工性等をよくするために界面活性剤、レベリング
剤等を使用してもよい。導電性基体としては、導電性を
有する種々の材料を使用することができる。例えば、ア
ルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀、バナジウム、モ
リブデン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パ
ラジウム、インジウム、ステンレス鋼、真鍮等の金属単
体や、上記金属が蒸着またはラミネートされたプラスチ
ック材料、ヨウ化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジ
ウム等で被覆されたガラス等があげられる。

【００８１】上記導電性基体は、シート状またはドラム
状のいずれでもよく、基体自体が導電性を有するか、あ
るいは基体の表面が導電性を有していればよい。この基
体としては、使用に際し、十分な機械的強度を有するも
のが好ましい。単層型の感光層における電荷発生材料の
添加量は、結着樹脂１００重量部に対して０．１〜５０
重量部、好ましくは０．５〜３０重量部であるのが適当
である。また、単層型の感光層における電荷輸送材料の
添加量は、結着樹脂１００重量部に対して４０〜２００
重量部、好ましくは５０〜１００重量部であるのが適当
である。

【００８２】積層型の電荷輸送層における前記電荷輸送
材料の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して１０〜
５００重量部、好ましくは２５〜２００重量部であるの
が適当である。また、積層型の電荷発生層における前記
電荷発生材料の添加量は、結着樹脂１００重量部に対し
て５〜５００重量部、好ましくは１０〜３００重量部で
あるのが適当である。

【００８３】形成される感光層の膜厚は、単層型の場合
で５〜１００μm 程度、特に１５〜５０μｍ程度である
のが好ましい。積層型の場合は、電荷発生層の膜厚が
０．０１〜５μｍ程度、特に０．１〜３μｍ程度である
のが好ましく、電荷輸送層の膜厚が２〜１００μｍ程
度、特に５〜５０μｍ程度であるのが好ましい。

【００８４】上記電荷発生層及び電荷輸送層を、塗布の
方法により形成する場合には、電荷発生材料等と結着樹
脂などを公知の方法、例えば、ロールミル、ボールミ
ル、アトライタ、ペイントシェーカーあるいは超音波分
散器等を用いて分散混合して調製し、これを公知の手段
により塗布、乾燥すればよい。また、電荷発生層は上記
電荷発生材料を蒸着することにより形成してもよい。

【００８５】なお、単層型電子写真用感光体にあって
は、上記導電性基体と感光層との間、積層型電子写真用
感光体にあっては、上記導電性基体と電荷発生層との間
や導電性基体と電荷輸送層との間および電荷発生層と電
荷輸送層との間に、感光体の特性を阻害しない範囲でバ
リア層が形成されていてもよい。また、感光体の表面に
は、保護層が形成されていてもよい。

【００８６】

【実施例】以下、実施例および比較例をあげて本発明を
詳細に説明する。実施例１〜１１ 安定化剤として前記式(1a)〜(11a) で表される塩をそれ
ぞれ３重量部と、電荷発生材料としての前記式(b1)で表
されるアゾ顔料を８重量部と、電荷輸送材料として下記
式(B) で表されるＰＤＡを８０重量部と、結着樹脂とし
てポリカーボネートを１００重量部と、溶媒として塩化
メチレンの所定量とをペイントシェーカを用いて混合分
散し、各単層型感光層用塗布液を調製した。

【００８７】

【化３２】

【００８８】この塗布液を、アルミニウム箔表面にワイ
ヤーバーを用いて塗布したシート状のものと、外径７８
mm×長さ３５０mmのアルミニウム素管の表面に浸漬法に
て塗布したドラム状のものとを、暗所において、６０℃
で１２０分間加熱乾燥させて、それぞれ膜厚２０μｍの
単層型感光層を有する正帯電型電子写真感光体を作製し
た。

【００８９】比較例１ 安定化剤を添加しなかったほかは、実施例１〜１１と同
様にして、単層型感光体を作製した。実施例１２〜２３ 安定化剤として前記式(1a)〜(11a) で表される塩のうち
表１に示すものをそれぞれ３重量部と、電荷発生材料と
しての前記式(c4)で表されるペリレン顔料を８重量部
と、電荷輸送材料として前記式(B) で表されるＰＤＡを
８０重量部と、結着樹脂としてポリカーボネートを１０
０重量部と、溶媒として塩化メチレンの所定量とをペイ
ントシェーカを用いて混合分散し、各単層型感光層用塗
布液を調製したほかは、実施例１〜１１と同様にして膜
厚２０μｍの単層型感光層を有する正帯電型電子写真感
光体を作製した。

【００９０】比較例２ 安定化剤を添加しなかったほかは、実施例１２〜２３と
同様にして、単層型感光体を作製した。上記各実施例、
比較例で得た電子写真感光体について、以下の試験を行
いその特性を評価した。

【００９１】初期表面電位の測定 静電式複写試験装置（川口電気社製、ＥＰＡ−８１０
０）を用いて、各電子写真感光体に印加電圧を加えてそ
の表面を正に帯電させ、それぞれ初期表面電位Ｖs.p.
（Ｖ）を測定した。半減露光量および残留電位の測定 上記初期表面電位の測定で帯電状態となった電子写真感
光体を、静電式複写試験装置の露光光源である白色ハロ
ゲンランプを用いて、露光強度１０lux の条件で露光し
て、その表面電位が１／２となるまでの時間を求め半減
露光量Ｅ1/2 （lux ・sec ）を算出した。

【００９２】また、上記露光開始後、０．５秒を経過し
た時点の表面電位を測定し、残留電位Ｖr.p.（Ｖ）とし
た。光安定性の測定 上記ドラム状の電子写真感光体を、静電式複写機（三田
工業社製の型番ＤＣ−１１１）に装填して、帯電、露
光、除電プロセスを１０００回サイクル繰り返した後、
上記と同様にして、繰り返し露光後の初期表面電位Ｖ１
s.p.（Ｖ）および残留電位Ｖ１r.p.（Ｖ）を測定した。

【００９３】以上の結果を表１および表２に示す。な
お、使用した安定化剤は、前記式の番号で示す。

【００９４】

【表１】

【００９５】

【表２】

【００９６】上記表１，表２の結果より、本発明の構成
である実施例１〜８の電子写真感光体は、表面電位〔Ｖ
s.p.〕、半減露光量〔Ｅ1/2 〕および残留電位〔Ｖr.
p.〕については、各比較例１〜８の従来の感光体とほと
んど差はないものの、光安定性〔Ｖ１s.p.およびＶ１r.
p.〕については、比較例の感光体と比べて小さいことか
ら、繰り返し使用しても感光体の表面電位変化が小さ
く、いずれも耐久性に優れたものであることが判った。

【００９７】

【発明の効果】以上のように、本発明の電子写真感光体
は、感光層中に、光やオゾンによる劣化を防止すること
のできる安定化剤を含有しているので、高感度を有し、
かつ耐久性に優れたものが得られる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】導電性基体上に、安定化剤として下記一般
   式(1) 、(2) 、(3) 、(4) 、(5) 、(6) 、(7) 、(8) 、
   (9) 、(10)および(11)でそれぞれ表される塩の少なくと
   も１種を含有した感光層を設けたことを特徴とする電子
   写真感光体。 【化１】 【化２】 〔式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ , Ｒ⁴ , Ｒ⁵ , Ｒ⁶ , Ｒ⁷ ，
   Ｒ⁸ ，Ｒ⁹ ，Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹およびＲ¹²は、それぞれ同一ま
   たは異なって水素原子、置換基を有していてもよいアル
   キル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Y はハ
   ロゲン原子、Ｘは陰イオンを示し、ｎは１〜４の整数で
   ある。〕