JPH05150466A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPH05150466A JPH05150466A JP33948891A JP33948891A JPH05150466A JP H05150466 A JPH05150466 A JP H05150466A JP 33948891 A JP33948891 A JP 33948891A JP 33948891 A JP33948891 A JP 33948891A JP H05150466 A JPH05150466 A JP H05150466A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 静電特性及び撮像性の改良された、特に液体
現像剤を用いての高精細な画像の再現性、低出力のレー
ザー光を用いたスキャニング露光方式による撮像性の優
れた、電子写真感光体を提供する。 【構成】 結着樹脂として、式（Ｉ）成分と極性基含有
成分をランダムに含有する高分子鎖を有機分子中に３個
以上結合するスタ−型共重合体〔Ａ〕と、式（II）成分
と極性基含有成分を各々ブロックで含有するＡＢブロッ
ク共重合体をグラフト部に有するグラフト型共重合体
〔Ｂ〕とを含有する電子写真感光体。〔式（Ｉ）又は
（II）中、ａ1 、ａ2 、ｂ1 、ｂ2 は水素、ハロゲン、
シアノ基又は炭化水素基、Ｒ11、Ｒ12は炭化水素基、Ｖ
1 は二価の基〕 【化１】 【化２】
現像剤を用いての高精細な画像の再現性、低出力のレー
ザー光を用いたスキャニング露光方式による撮像性の優
れた、電子写真感光体を提供する。 【構成】 結着樹脂として、式（Ｉ）成分と極性基含有
成分をランダムに含有する高分子鎖を有機分子中に３個
以上結合するスタ−型共重合体〔Ａ〕と、式（II）成分
と極性基含有成分を各々ブロックで含有するＡＢブロッ
ク共重合体をグラフト部に有するグラフト型共重合体
〔Ｂ〕とを含有する電子写真感光体。〔式（Ｉ）又は
（II）中、ａ1 、ａ2 、ｂ1 、ｂ2 は水素、ハロゲン、
シアノ基又は炭化水素基、Ｒ11、Ｒ12は炭化水素基、Ｖ
1 は二価の基〕 【化１】 【化２】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。
【０００３】支持体と少なくとも１つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット原版として電子写真感光体を用いる方
法が広く実用されている。特に近年、ダイレクト電子写
真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印
刷物を印刷する方式として重要となってきている。こう
した状況の中で、電子写真感光体の光導電層を形成する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であ
り、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減
衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且
つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保
持していることが必要である等の各種の静電特性および
優れた撮像性を具備する必要がある。
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット原版として電子写真感光体を用いる方
法が広く実用されている。特に近年、ダイレクト電子写
真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印
刷物を印刷する方式として重要となってきている。こう
した状況の中で、電子写真感光体の光導電層を形成する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であ
り、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減
衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且
つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保
持していることが必要である等の各種の静電特性および
優れた撮像性を具備する必要がある。
【０００４】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗中電荷保持率（Ｄ．Ｒ．
Ｒ．）や光感度が大きく左右される。
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗中電荷保持率（Ｄ．Ｒ．
Ｒ．）や光感度が大きく左右される。
【０００５】これに対し、酸性基を含有する比較的低分
子量（１０3〜１０4 程度）の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭６３−２１７３５４号に
は酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在す
る樹脂、同６４−７０７６１号には重合体主鎖の片末端
に酸性基を結合して成る樹脂、特開平２−６７５６３
号、同２−２３６５６１号、同２−２３８４５８号、同
２−２３６５６２号及び同２−２４７６５６号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同３−１８１９４８号には酸性基をブロック
で含有するＡＢ型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体の
分散を充分に行ない光導電体同志の凝集を抑制する効果
を有すること及び光導電体と分光増感色素との吸着を疎
外しないで該無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着するとともに光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆していることによると推定される。
子量（１０3〜１０4 程度）の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭６３−２１７３５４号に
は酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在す
る樹脂、同６４−７０７６１号には重合体主鎖の片末端
に酸性基を結合して成る樹脂、特開平２−６７５６３
号、同２−２３６５６１号、同２−２３８４５８号、同
２−２３６５６２号及び同２−２４７６５６号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同３−１８１９４８号には酸性基をブロック
で含有するＡＢ型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体の
分散を充分に行ない光導電体同志の凝集を抑制する効果
を有すること及び光導電体と分光増感色素との吸着を疎
外しないで該無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着するとともに光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆していることによると推定される。
【０００６】その作用機構により、無機光導電体の化学
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。なかで
も、グラフト型共重合体やＡＢ型ブロック共重合体を用
いると、環境が変動しても比較的安定した性能を得るこ
とができることが判っている。
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。なかで
も、グラフト型共重合体やＡＢ型ブロック共重合体を用
いると、環境が変動しても比較的安定した性能を得るこ
とができることが判っている。
【０００７】更に、これらの低分子量の樹脂のみでは不
充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために、
中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術あるいは硬化性
基を含有した樹脂を併用して成膜後に硬化する技術等が
種々検討されている。例えば、特開昭６４−５６４号、
同６３−２２０１４９号、同６３−２２０１４８号、特
開平１−２８０７６１号、同１−１１６６４３号、同１
−１６９４５５号、同１−２１１７６６号、同２−３４
８５９号、同２−５３０６４号、同２−５６５５８号、
同３−２９９５４号、同３−７７９５４号、同３−９２
８６１号、同３−５３２５７号、同３−１８１９４８号
各公報等に記載されている。
充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために、
中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術あるいは硬化性
基を含有した樹脂を併用して成膜後に硬化する技術等が
種々検討されている。例えば、特開昭６４−５６４号、
同６３−２２０１４９号、同６３−２２０１４８号、特
開平１−２８０７６１号、同１−１１６６４３号、同１
−１６９４５５号、同１−２１１７６６号、同２−３４
８５９号、同２−５３０６４号、同２−５６５５８号、
同３−２９９５４号、同３−７７９５４号、同３−９２
８６１号、同３−５３２５７号、同３−１８１９４８号
各公報等に記載されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用いても、
環境が高温・高湿から低温・低湿まで著しく変動した場
合における安定した性能の維持においてはいまだ不充分
であることが判った。半導体レーザー光を用いたスキャ
ンニング露光方式では、従来の可視光による全面同時露
光方式に比べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも
制約があることから、静電特性、特に暗電荷保持特性、
光感度に対して、より高い性能が要求される。
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用いても、
環境が高温・高湿から低温・低湿まで著しく変動した場
合における安定した性能の維持においてはいまだ不充分
であることが判った。半導体レーザー光を用いたスキャ
ンニング露光方式では、従来の可視光による全面同時露
光方式に比べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも
制約があることから、静電特性、特に暗電荷保持特性、
光感度に対して、より高い性能が要求される。
【０００９】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合，従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にＥ1/2 とＥ1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合，従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にＥ1/2 とＥ1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
【００１０】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。従来公知の技術において
は、低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂によ
って、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下することがあり、実際に前記した様なこれら公知の
樹脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写真感光体
は、前述の様な高精細な画像（特に連続階調画像）の忠
実な複写画像の再現性あるいは、低出力のレーザー光を
用いたスキャンニング露光方式による撮像性に対して、
問題を生じ得ることが明らかになった。
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。従来公知の技術において
は、低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂によ
って、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下することがあり、実際に前記した様なこれら公知の
樹脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写真感光体
は、前述の様な高精細な画像（特に連続階調画像）の忠
実な複写画像の再現性あるいは、低出力のレーザー光を
用いたスキャンニング露光方式による撮像性に対して、
問題を生じ得ることが明らかになった。
【００１１】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。
【００１２】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいＣＰＣ電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、電子写真
式平版印刷原版として、静電特性（特に暗電荷保持性及
び光感度）に優れ、原画（特に高精細な連続階調画像）
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することであ
る。
環境依存性の小さいＣＰＣ電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、電子写真
式平版印刷原版として、静電特性（特に暗電荷保持性及
び光感度）に優れ、原画（特に高精細な連続階調画像）
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することであ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記に示される樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種及び下
記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有して成る事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。 樹脂〔Ａ〕 １×１０3 〜２×１０4 の重量平均分子量を有し、下記
一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位からなる重合体成
分（イ）と−ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ1 〔Ｒ1 は炭化水素基又は−
ＯＲ2 （Ｒ2 は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
基を含有する重合体成分（ロ）とを少なくとも含有する
ことから成る高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個結
合して成り、該重合体成分（イ）が３０重量％以上及び
該重合体成分（ロ）が１〜２０重量％であるスター型共
重合体。
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記に示される樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種及び下
記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有して成る事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。 樹脂〔Ａ〕 １×１０3 〜２×１０4 の重量平均分子量を有し、下記
一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位からなる重合体成
分（イ）と−ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ1 〔Ｒ1 は炭化水素基又は−
ＯＲ2 （Ｒ2 は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
基を含有する重合体成分（ロ）とを少なくとも含有する
ことから成る高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個結
合して成り、該重合体成分（イ）が３０重量％以上及び
該重合体成分（ロ）が１〜２０重量％であるスター型共
重合体。
【００１４】
【化５】
【００１５】〔式（Ｉ）中、ａ1 及びａ2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
Ｒ11は炭化水素基を表わす。。〕 樹脂〔Ｂ〕 −ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−ＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 〔Ｒ3 は炭化水素基又は−
ＯＲ4 （Ｒ4 は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
基を含有する重合体成分を少なくとも１種含有するＡブ
ロックと、下記一般式（II）で示される重合体成分を少
なくとも含有するＢブロックとから構成されるＡＢブロ
ック共重合体のＢブロックの重合体主鎖の末端に重合性
二重結合基を結合して成る重量平均分子量１×１０3 〜
２×１０4 の一官能性マクロモノマー（Ｍ）を少なくと
も１種共重合成分として含有して成る重量平均分子量３
×１０4 〜１×１０6 のグラフト型共重合体。
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
Ｒ11は炭化水素基を表わす。。〕 樹脂〔Ｂ〕 −ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−ＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 〔Ｒ3 は炭化水素基又は−
ＯＲ4 （Ｒ4 は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
基を含有する重合体成分を少なくとも１種含有するＡブ
ロックと、下記一般式（II）で示される重合体成分を少
なくとも含有するＢブロックとから構成されるＡＢブロ
ック共重合体のＢブロックの重合体主鎖の末端に重合性
二重結合基を結合して成る重量平均分子量１×１０3 〜
２×１０4 の一官能性マクロモノマー（Ｍ）を少なくと
も１種共重合成分として含有して成る重量平均分子量３
×１０4 〜１×１０6 のグラフト型共重合体。
【００１６】
【化６】
【００１７】〔式（II）中、ｂ1 及びｂ2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
Ｖ1 は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ2 ）m ＯＣＯ
−、−（ＣＨ2 ）m ＣＯＯ−（ｍは１〜３の整数を表
す）、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ
（Ｔ1 ）−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｔ1 ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ
−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす
（ここで、Ｔ1 は水素原子又は炭化水素基を表す）。Ｒ
12は炭化水素基を表わす。但しＶ1 が−Ｃ6 Ｈ4 −を表
わす場合、Ｒ12は水素原子又は炭化水素基を表わす。〕
即ち、本発明の結着樹脂は、上記一般式（Ｉ）で示され
る重合体成分と上記特定の極性基含有成分とを含有する
高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個結合して成る低
分子量のスター型共重合体（樹脂〔Ａ〕）と、上記特定
の極性基含有成分を含有するＡブロックと上記一般式
（II）で示される重合体成分を含有するＢブロックとの
ＡＢ型共重合体のＢブロックの重合体主鎖末端に重合性
二重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー
（Ｍ）を共重合成分として少なくとも１種含有する高分
子量のグラフト型共重合体（樹脂〔Ｂ〕）とから少なく
とも構成される。
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
Ｖ1 は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ2 ）m ＯＣＯ
−、−（ＣＨ2 ）m ＣＯＯ−（ｍは１〜３の整数を表
す）、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ
（Ｔ1 ）−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｔ1 ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ
−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす
（ここで、Ｔ1 は水素原子又は炭化水素基を表す）。Ｒ
12は炭化水素基を表わす。但しＶ1 が−Ｃ6 Ｈ4 −を表
わす場合、Ｒ12は水素原子又は炭化水素基を表わす。〕
即ち、本発明の結着樹脂は、上記一般式（Ｉ）で示され
る重合体成分と上記特定の極性基含有成分とを含有する
高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個結合して成る低
分子量のスター型共重合体（樹脂〔Ａ〕）と、上記特定
の極性基含有成分を含有するＡブロックと上記一般式
（II）で示される重合体成分を含有するＢブロックとの
ＡＢ型共重合体のＢブロックの重合体主鎖末端に重合性
二重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー
（Ｍ）を共重合成分として少なくとも１種含有する高分
子量のグラフト型共重合体（樹脂〔Ｂ〕）とから少なく
とも構成される。
【００１８】前述の如く、光導電層の平滑性及び静電特
性を良化させるとして公知の酸性基含有結着樹脂の中で
低分子量体を用いるものとして、酸性基含有重合成分が
重合体主鎖にランダムに存在する樹脂、重合体主鎖の片
末端にのみ酸性基を結合して成る樹脂あるいはいわゆる
グラフト型共重合体が挙げられる。これに対し、本発明
の低分子量の結着樹脂〔Ａ〕は、公知の樹脂とは重合成
分の結合パタ−ンが異なる、極性基非含有成分と極性基
含有成分とを含有する高分子鎖を少なくとも３個有機分
子中に有する、著しくポリマー分子鎖の化学構造が特定
化されたスター型共重合体である。
性を良化させるとして公知の酸性基含有結着樹脂の中で
低分子量体を用いるものとして、酸性基含有重合成分が
重合体主鎖にランダムに存在する樹脂、重合体主鎖の片
末端にのみ酸性基を結合して成る樹脂あるいはいわゆる
グラフト型共重合体が挙げられる。これに対し、本発明
の低分子量の結着樹脂〔Ａ〕は、公知の樹脂とは重合成
分の結合パタ−ンが異なる、極性基非含有成分と極性基
含有成分とを含有する高分子鎖を少なくとも３個有機分
子中に有する、著しくポリマー分子鎖の化学構造が特定
化されたスター型共重合体である。
【００１９】本発明の樹脂〔Ａ〕は高分子鎖中に存在す
る極性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着し、高分子鎖を構成する他の成分（例えば式（Ｉ）
成分）は、無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に
被覆していると推定される。この無機光導電体表面への
充分な吸着と表面近傍の被覆の効果が公知の樹脂に比べ
より一層効果的に行なわれることにより、無機光導電体
の化学量論的な欠陥部が多少変動しても充分な吸着領域
をもつ事から、常に安定した無機光導電体と樹脂〔Ａ〕
との相互作用が保たれると推論される。換言すれば、本
発明の樹脂〔Ａ〕の効果により、光導電体粒子が充分に
分散され且つ凝集しない状態で存在し、更に分光増感色
素が光導電体粒子表面に充分に吸着されていること及び
光導電体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸
着してトラップを補償していること、また、光導電体粒
子に充分吸着して該粒子を均一に分散し、その高分子鎖
が非常に短いことにより凝集を抑制すること、分光増感
色素の吸着疎外を起こさないこと等の重要な作用を有す
るものと考えられる。このような種々の作用から、本発
明に従えば従来公知の極性基含有の低分子量樹脂に比べ
て一段と良好に光導電体のトラップを充分に補償すると
共に湿度特性を向上させる一方、光導電体の分散が充分
に行なわれ、凝集を抑制することを見出した。
る極性基群が無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着し、高分子鎖を構成する他の成分（例えば式（Ｉ）
成分）は、無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に
被覆していると推定される。この無機光導電体表面への
充分な吸着と表面近傍の被覆の効果が公知の樹脂に比べ
より一層効果的に行なわれることにより、無機光導電体
の化学量論的な欠陥部が多少変動しても充分な吸着領域
をもつ事から、常に安定した無機光導電体と樹脂〔Ａ〕
との相互作用が保たれると推論される。換言すれば、本
発明の樹脂〔Ａ〕の効果により、光導電体粒子が充分に
分散され且つ凝集しない状態で存在し、更に分光増感色
素が光導電体粒子表面に充分に吸着されていること及び
光導電体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸
着してトラップを補償していること、また、光導電体粒
子に充分吸着して該粒子を均一に分散し、その高分子鎖
が非常に短いことにより凝集を抑制すること、分光増感
色素の吸着疎外を起こさないこと等の重要な作用を有す
るものと考えられる。このような種々の作用から、本発
明に従えば従来公知の極性基含有の低分子量樹脂に比べ
て一段と良好に光導電体のトラップを充分に補償すると
共に湿度特性を向上させる一方、光導電体の分散が充分
に行なわれ、凝集を抑制することを見出した。
【００２０】更に、種々検討の結果、本発明に従う低分
子量の極性基含有樹脂〔Ａ〕を、極性基含有成分を一官
能性マクロモノマ−中にブロックで含有するグラフト型
共重合体〔Ｂ〕と組み合わせて用いることにより、上記
低分子量の樹脂で高性能化された静電特性を低下させる
ことなく、機械的強度を充分に保持することが判った。
子量の極性基含有樹脂〔Ａ〕を、極性基含有成分を一官
能性マクロモノマ−中にブロックで含有するグラフト型
共重合体〔Ｂ〕と組み合わせて用いることにより、上記
低分子量の樹脂で高性能化された静電特性を低下させる
ことなく、機械的強度を充分に保持することが判った。
【００２１】また、このグラフト型共重合体が、該光導
電層中で、光導電体、分光増感色素及び低分子量の樹脂
同志の相互作用に、更に適切に相互作用することも、予
想以上に重要な原因であることが明らかになってきた。
この事は、本発明の結着樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕との更
なる相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散され且
つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光導電
体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電体表
面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着してトラ
ップを補償していること等によるものと推定される。
電層中で、光導電体、分光増感色素及び低分子量の樹脂
同志の相互作用に、更に適切に相互作用することも、予
想以上に重要な原因であることが明らかになってきた。
この事は、本発明の結着樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕との更
なる相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散され且
つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光導電
体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電体表
面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着してトラ
ップを補償していること等によるものと推定される。
【００２２】即ち、特定の極性基を含有する低分子量体
の樹脂〔Ａ〕は、光導電体粒子に充分吸着して該粒子を
均一に分散し、その高分子鎖が短いことにより凝集を抑
制すること、又、分光増感色素の吸着疎外を起こさない
こと等の重要な作用を有するとともに、これに特定の極
性基をマクロモノマ−中にブロックで含有するグラフト
型共重合体〔Ｂ〕が更に良好に作用し、且つ光導電層の
機械的強度が充分に保持される。これは、樹脂〔Ｂ〕中
の特定化された極性基部分が、光導電体粒子と樹脂
〔Ａ〕よりも弱い相互作用であること及び樹脂〔Ｂ〕に
おけるその他の部分同志の高分子鎖間の絡み合い効果等
によるものと考えられる。
の樹脂〔Ａ〕は、光導電体粒子に充分吸着して該粒子を
均一に分散し、その高分子鎖が短いことにより凝集を抑
制すること、又、分光増感色素の吸着疎外を起こさない
こと等の重要な作用を有するとともに、これに特定の極
性基をマクロモノマ−中にブロックで含有するグラフト
型共重合体〔Ｂ〕が更に良好に作用し、且つ光導電層の
機械的強度が充分に保持される。これは、樹脂〔Ｂ〕中
の特定化された極性基部分が、光導電体粒子と樹脂
〔Ａ〕よりも弱い相互作用であること及び樹脂〔Ｂ〕に
おけるその他の部分同志の高分子鎖間の絡み合い効果等
によるものと考えられる。
【００２３】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。
【００２４】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。本発
明の感光体を不感脂化処理すると、非画像部の親水化が
充分になされ、保水性が向上することから印刷枚数が飛
躍的に向上した。これは、上記した酸化亜鉛粒子が均一
に分散されていること及び酸化亜鉛粒子表面に存在する
結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化処理液との不感脂
化反応が疎外されず迅速に且つ効果的に進行することに
よるものと考えられる。
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。本発
明の感光体を不感脂化処理すると、非画像部の親水化が
充分になされ、保水性が向上することから印刷枚数が飛
躍的に向上した。これは、上記した酸化亜鉛粒子が均一
に分散されていること及び酸化亜鉛粒子表面に存在する
結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化処理液との不感脂
化反応が疎外されず迅速に且つ効果的に進行することに
よるものと考えられる。
【００２５】更には本発明において、樹脂〔Ａ〕とし
て、下記一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）で示され
る、２位に、及び／又は２位と６位に特定の置換基を有
するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する、
特定の置換基をもつメタクリレート成分と酸性基成分と
を含有する樹脂〔Ａ〕（以降この樹脂を特に樹脂
〔Ａ′〕と称する）であることが好ましい。
て、下記一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）で示され
る、２位に、及び／又は２位と６位に特定の置換基を有
するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する、
特定の置換基をもつメタクリレート成分と酸性基成分と
を含有する樹脂〔Ａ〕（以降この樹脂を特に樹脂
〔Ａ′〕と称する）であることが好ましい。
【００２６】
【化７】
【００２７】
【化８】
【００２８】〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ1 及びＡ
2 は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０
の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−ＣＯＲ14又は−
ＣＯＯＲ14（Ｒ14は炭素数１〜１０の炭化水素基を示
す）を表す。Ｂ1 及びＢ2 はそれぞれ−ＣＯＯ−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数１〜４個の連
結基を表わす。〕上記特定の樹脂〔Ａ′〕を用いると樹
脂〔Ａ〕の場合よりもより一層電子写真特性（特に
Ｖ10、Ｄ．Ｒ．Ｒ、Ｅ1/10）の向上が達成できる。この
ことの理由は不明であるが、１つの理由として、メタク
リレートのエステル成分である、オルト位に置換基を有
する平面性のベンゼン環又はナフタレン環の効果によ
り、膜中の光導電体界面でのこれらポリマー分子鎖の配
列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
2 は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０
の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−ＣＯＲ14又は−
ＣＯＯＲ14（Ｒ14は炭素数１〜１０の炭化水素基を示
す）を表す。Ｂ1 及びＢ2 はそれぞれ−ＣＯＯ−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数１〜４個の連
結基を表わす。〕上記特定の樹脂〔Ａ′〕を用いると樹
脂〔Ａ〕の場合よりもより一層電子写真特性（特に
Ｖ10、Ｄ．Ｒ．Ｒ、Ｅ1/10）の向上が達成できる。この
ことの理由は不明であるが、１つの理由として、メタク
リレートのエステル成分である、オルト位に置換基を有
する平面性のベンゼン環又はナフタレン環の効果によ
り、膜中の光導電体界面でのこれらポリマー分子鎖の配
列が適切に行なわれることによるものと考えられる。
【００２９】以下に、本発明の結着樹脂について更に詳
しく説明する。まず、本発明の樹脂〔Ａ〕について説明
する。樹脂〔Ａ〕は、上記一般式（Ｉ）で示される重合
体成分（イ）と特定の極性基含有の重合体成分（ロ）と
を少なくとも含有する高分子鎖を少なくとも３個同一有
機分子内に結合した、いわゆるスター型共重合体からな
る樹脂である。即ち、該重合体を模式的に示すと例えば
下記のように表される。
しく説明する。まず、本発明の樹脂〔Ａ〕について説明
する。樹脂〔Ａ〕は、上記一般式（Ｉ）で示される重合
体成分（イ）と特定の極性基含有の重合体成分（ロ）と
を少なくとも含有する高分子鎖を少なくとも３個同一有
機分子内に結合した、いわゆるスター型共重合体からな
る樹脂である。即ち、該重合体を模式的に示すと例えば
下記のように表される。
【００３０】
【化９】
【００３１】
【化１０】
【００３２】〔上記においてＸは有機分子を表し、〔Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ〕は高分子鎖を表す。〕ここで、有機分子
に結合した３個以上存在する高分子鎖は、それぞれ構造
的に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ少な
くとも一般式（Ｉ）で示される重合体成分と極性基含有
成分とを含有していればよい。またそれぞれの高分子鎖
の長さも同じであっても異なっていてもよい。また、か
かる高分子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多くても
１５個、通常１０個程度である。
ｏｌｙｍｅｒ〕は高分子鎖を表す。〕ここで、有機分子
に結合した３個以上存在する高分子鎖は、それぞれ構造
的に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ少な
くとも一般式（Ｉ）で示される重合体成分と極性基含有
成分とを含有していればよい。またそれぞれの高分子鎖
の長さも同じであっても異なっていてもよい。また、か
かる高分子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多くても
１５個、通常１０個程度である。
【００３３】樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量は１×１０3
〜２×１０4 、好ましくは３×１０3 〜１×１０4 であ
り、樹脂〔Ａ〕のガラス転移点は好ましくは−４０℃〜
１１０℃、より好ましくは−２０℃〜９０℃である。樹
脂〔Ａ〕の分子量が１×１０3 より小さくなると、皮膜
形成能が低下し充分な膜強度を保てず、一方分子量が２
×１０4 より大きくなると本発明の樹脂であっても、特
に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体において、
高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下での電子写真特
性（特に初期電位、暗減衰保持率及び光感度）の変動が
多少大きくなり、安定した複写画像が得られるいとう本
発明の効果が薄れてしまう。
〜２×１０4 、好ましくは３×１０3 〜１×１０4 であ
り、樹脂〔Ａ〕のガラス転移点は好ましくは−４０℃〜
１１０℃、より好ましくは−２０℃〜９０℃である。樹
脂〔Ａ〕の分子量が１×１０3 より小さくなると、皮膜
形成能が低下し充分な膜強度を保てず、一方分子量が２
×１０4 より大きくなると本発明の樹脂であっても、特
に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体において、
高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下での電子写真特
性（特に初期電位、暗減衰保持率及び光感度）の変動が
多少大きくなり、安定した複写画像が得られるいとう本
発明の効果が薄れてしまう。
【００３４】本発明の樹脂〔Ａ〕は、上記の様に枝分れ
したスター型共重合体となっているが、樹脂〔Ａ〕の高
分子鎖中に含有される極性基含有成分（ロ）の存在量
は、樹脂〔Ａ〕１００重量部中に１〜２０重量部である
ことが好ましく、より好ましくは３〜１５重量部であ
る。樹脂〔Ａ〕における極性基含有量が１重量％より少
ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得ることが
できない。一方、該極性基含有量が２０重量％よりも多
いと、いかに低分子量体といえども分散性が低下し、更
にオフセットマスターとして用いるときに地汚れが増大
する。
したスター型共重合体となっているが、樹脂〔Ａ〕の高
分子鎖中に含有される極性基含有成分（ロ）の存在量
は、樹脂〔Ａ〕１００重量部中に１〜２０重量部である
ことが好ましく、より好ましくは３〜１５重量部であ
る。樹脂〔Ａ〕における極性基含有量が１重量％より少
ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得ることが
できない。一方、該極性基含有量が２０重量％よりも多
いと、いかに低分子量体といえども分散性が低下し、更
にオフセットマスターとして用いるときに地汚れが増大
する。
【００３５】かかる特定の極性基を含有する重合体成分
は該高分子鎖中に２種以上含有されていてもよい。ま
た、樹脂〔Ａ〕の高分子鎖中における一般式（Ｉ）の繰
り返し単位に相当する重合体成分の存在割合は、樹脂
［Ａ］１００重量部中３０重量部以上、好ましくは３０
重量部〜９９．９５重量部、より好ましくは５０重量部
〜９９．５重量部である。
は該高分子鎖中に２種以上含有されていてもよい。ま
た、樹脂〔Ａ〕の高分子鎖中における一般式（Ｉ）の繰
り返し単位に相当する重合体成分の存在割合は、樹脂
［Ａ］１００重量部中３０重量部以上、好ましくは３０
重量部〜９９．９５重量部、より好ましくは５０重量部
〜９９．５重量部である。
【００３６】本発明のスタ−型共重合体（樹脂〔Ａ〕）
の高分子鎖を構成する各重合成分は以下の特徴を有す
る。前記一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を説明す
る。ａ1 及びａ2 は各々水素原子、ハロゲン原子（例え
ばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基又は
炭化水素基（例えば炭素数１〜８の脂肪族基；例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ベンジル基等、炭素数６〜１２の芳香
族基；例えばフェニル基等）を表す。ａ1 が水素原子を
表し、及びａ2 がメチル基を表す場合が好ましい。
の高分子鎖を構成する各重合成分は以下の特徴を有す
る。前記一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を説明す
る。ａ1 及びａ2 は各々水素原子、ハロゲン原子（例え
ばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基又は
炭化水素基（例えば炭素数１〜８の脂肪族基；例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ベンジル基等、炭素数６〜１２の芳香
族基；例えばフェニル基等）を表す。ａ1 が水素原子を
表し、及びａ2 がメチル基を表す場合が好ましい。
【００３７】Ｒ11は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。更に、Ｒ11は好ま
しくは炭素数１〜１８の置換されていてもよい炭化水素
基を表わす。置換基としては、例えば、ハロゲン原子
（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、−ＯＺ
1 、−ＣＯＯＺ1 、−ＯＣＯＺ1（Ｚ1 は炭素数１〜２
２のアルキル基を表わし、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等
である）等の置換基が挙げられる。好ましい炭化水素基
としては、炭素数１〜１８の置換されてもよいアルキル
基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−ク
ロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル
基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエ
チル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の
置換されてもよいアルケニル基（例えば２−メチル−１
−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ぺンテニル基、
３−メチル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１
−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−
ヘキセニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよい
アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、エ９ルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、
炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シ
クロヘキシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シ
クロぺンチルエチル基等）又は炭素数６〜１２の置換さ
れてもよい芳香族基（例えばフェニル基、ナフチル基、
トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフ
ェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフ
ェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフ
ェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカ
ルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピ
オアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等）等があげられる。
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。更に、Ｒ11は好ま
しくは炭素数１〜１８の置換されていてもよい炭化水素
基を表わす。置換基としては、例えば、ハロゲン原子
（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、−ＯＺ
1 、−ＣＯＯＺ1 、−ＯＣＯＺ1（Ｚ1 は炭素数１〜２
２のアルキル基を表わし、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等
である）等の置換基が挙げられる。好ましい炭化水素基
としては、炭素数１〜１８の置換されてもよいアルキル
基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−ク
ロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル
基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエ
チル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の
置換されてもよいアルケニル基（例えば２−メチル−１
−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ぺンテニル基、
３−メチル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１
−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−
ヘキセニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよい
アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、エ９ルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、
炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シ
クロヘキシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シ
クロぺンチルエチル基等）又は炭素数６〜１２の置換さ
れてもよい芳香族基（例えばフェニル基、ナフチル基、
トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフ
ェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフ
ェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフ
ェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカ
ルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピ
オアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等）等があげられる。
【００３８】Ｒ11の示す炭化水素基において、Ｒ11が脂
肪族基の場合には好ましくは炭素数１〜５の炭化水素基
を式（Ｉ）で表わされる成分中の６０重量％以上含有す
ることが好ましい。このような置換基Ｒ11を有する成分
である一般式（Ｉ）の繰り返し単位において、より好ま
しくは前記一般式（Ｉａ）及び／又は一般式（Ｉｂ）で
示される繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。
肪族基の場合には好ましくは炭素数１〜５の炭化水素基
を式（Ｉ）で表わされる成分中の６０重量％以上含有す
ることが好ましい。このような置換基Ｒ11を有する成分
である一般式（Ｉ）の繰り返し単位において、より好ま
しくは前記一般式（Ｉａ）及び／又は一般式（Ｉｂ）で
示される繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。
【００３９】式（Ｉａ）において、好ましいＡ1 及びＡ
2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数１〜１０の炭化水素基として、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数７〜９のアラ
ルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基）及びアリール基
（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基）、並びに−ＣＯＯＺ2 及び−ＣＯＯ
Ｚ2 （好ましいＺ2 としては上記の炭素数１〜１０の好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる）を挙げることができる。
2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数１〜１０の炭化水素基として、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数７〜９のアラ
ルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基）及びアリール基
（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基）、並びに−ＣＯＯＺ2 及び−ＣＯＯ
Ｚ2 （好ましいＺ2 としては上記の炭素数１〜１０の好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる）を挙げることができる。
【００４０】式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｂ1 及
びＢ2 は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合
又は−（ＣＨ2 ）a −（ａは１〜３の整数を表す）、−
ＣＨ 2 ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＯ−、−（ＣＨ2
Ｏ）b −（ｂは１又は２の整数を表す）、−ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ−等の如き連結原子数１〜４個の連結基であり、好
ましくは単結合又は結合原子数１〜２個の連結基を挙げ
ることができる。
びＢ2 は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合
又は−（ＣＨ2 ）a −（ａは１〜３の整数を表す）、−
ＣＨ 2 ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＯ−、−（ＣＨ2
Ｏ）b −（ｂは１又は２の整数を表す）、−ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ−等の如き連結原子数１〜４個の連結基であり、好
ましくは単結合又は結合原子数１〜２個の連結基を挙げ
ることができる。
【００４１】本発明の樹脂〔Ａ〕で用いられる式（Ｉ
ａ）又は（Ｉｂ）で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。また、以下の（ａ−１）〜（ａ−２０）
において、ｃは１〜４の整数、ｄは０又は１〜３の整
数、ｅは１〜３の整数、Ｒ21はいずれも−ＣｃＨ2c+1又
は−（ＣＨ2 ）d −Ｃ6 Ｈ5 （ただし、ｃ、ｄは上記と
同じ内容を表す）を表し、Ｄ1 及びＤ2 は同じでも異な
ってもよく、水素原子、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉのいずれ
かを表す。
ａ）又は（Ｉｂ）で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。また、以下の（ａ−１）〜（ａ−２０）
において、ｃは１〜４の整数、ｄは０又は１〜３の整
数、ｅは１〜３の整数、Ｒ21はいずれも−ＣｃＨ2c+1又
は−（ＣＨ2 ）d −Ｃ6 Ｈ5 （ただし、ｃ、ｄは上記と
同じ内容を表す）を表し、Ｄ1 及びＤ2 は同じでも異な
ってもよく、水素原子、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉのいずれ
かを表す。
【００４２】
【化１１】
【００４３】
【化１２】
【００４４】
【化１３】
【００４５】高分子鎖中に含有される極性基含有成分に
ついて説明する。該極性基は、−ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ
3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ1 基及び
環状酸無水物含有基のなかから選択される少なくとも１
種の極性基である。ここで、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ
1 は、下記化１４で表わされる基を示し、ここにおいて
該Ｒ1 は炭化水素基又は−ＯＲ2 基（Ｒ2 は炭化水素基
を表す）を表し、具体的にはＲ1 は炭素数１〜６の置換
されていてもよい炭化水素基（例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、２−クロロエチル基、２−
ブロムエチル基、２−フロロエチル基、３−クロロプロ
ピル基、３−メトキシプロピル基、２−メトキシブチル
基、ベンジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキシ
メチル基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル基）
等であり、Ｒ2 はＲ1 と同一の内容を表す。
ついて説明する。該極性基は、−ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ
3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ1 基及び
環状酸無水物含有基のなかから選択される少なくとも１
種の極性基である。ここで、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ
1 は、下記化１４で表わされる基を示し、ここにおいて
該Ｒ1 は炭化水素基又は−ＯＲ2 基（Ｒ2 は炭化水素基
を表す）を表し、具体的にはＲ1 は炭素数１〜６の置換
されていてもよい炭化水素基（例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、２−クロロエチル基、２−
ブロムエチル基、２−フロロエチル基、３−クロロプロ
ピル基、３−メトキシプロピル基、２−メトキシブチル
基、ベンジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキシ
メチル基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル基）
等であり、Ｒ2 はＲ1 と同一の内容を表す。
【００４６】
【化１４】
【００４７】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も１つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロぺンタン−
１，２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−１，
２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−１，２−
ジカルボン酸無水物環、２，３−ビシクロ〔２．２．
２〕オクタジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これら
の環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、
メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキ
ル基等が置換されていてもよい。
も１つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロぺンタン−
１，２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−１，
２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−１，２−
ジカルボン酸無水物環、２，３−ビシクロ〔２．２．
２〕オクタジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これら
の環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、
メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキ
ル基等が置換されていてもよい。
【００４８】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等）等が置換されていてもよい。
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等）等が置換されていてもよい。
【００４９】樹脂〔Ａ〕における極性基を含有する共重
合成分は、例えば一般式（Ｉ）〔一般式（Ｉａ）、（Ｉ
ｂ）も含む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体
と共重合し得る該極性基を含有するビニル系化合物であ
ればいずれでもよく、例えば高分子学会編「高分子デー
タ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館（１９８６年刊）
等に記載されている。具体的には、アクリル酸、α及び
／又はβ置換アクリル酸（例えばα−アセトキシ体、α
−アセトキシメチル体、α−（２−アミノ）メチル体、
α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリ
ブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブ
ロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α，β−ジクロ
ロ体等）、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エ
ステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、２−ア
ルケニルカルボン酸類（例えば２−ペンテン酸、２−メ
チル−２−ヘキセン酸、２−オクテン酸、４−メチル−
２−ヘキセン酸、４−エチル−２−オクテン酸等）、マ
レイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミ
ド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスル
ホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカル
ボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導
体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合
物等が挙げられる。
合成分は、例えば一般式（Ｉ）〔一般式（Ｉａ）、（Ｉ
ｂ）も含む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体
と共重合し得る該極性基を含有するビニル系化合物であ
ればいずれでもよく、例えば高分子学会編「高分子デー
タ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館（１９８６年刊）
等に記載されている。具体的には、アクリル酸、α及び
／又はβ置換アクリル酸（例えばα−アセトキシ体、α
−アセトキシメチル体、α−（２−アミノ）メチル体、
α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリ
ブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブ
ロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α，β−ジクロ
ロ体等）、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エ
ステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、２−ア
ルケニルカルボン酸類（例えば２−ペンテン酸、２−メ
チル−２−ヘキセン酸、２−オクテン酸、４−メチル−
２−ヘキセン酸、４−エチル−２−オクテン酸等）、マ
レイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミ
ド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスル
ホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカル
ボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導
体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合
物等が挙げられる。
【００５０】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、ｄ1 は−Ｈ又は−ＣＨ3 を示し、ｄ2
は−Ｈ、−ＣＨ3 又は−ＣＨＣＯＯＣＨ3 を示し、Ｒ22
は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ23は炭素数１〜
６のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、ｆ
は１〜３の整数を示し、ｇは２〜１１の整数を示し、ｈ
は１〜１１の整数を示し、ｉは２〜４の整数を示し、ｊ
は２〜１０の整数を示す。
示する。ここで、ｄ1 は−Ｈ又は−ＣＨ3 を示し、ｄ2
は−Ｈ、−ＣＨ3 又は−ＣＨＣＯＯＣＨ3 を示し、Ｒ22
は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ23は炭素数１〜
６のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、ｆ
は１〜３の整数を示し、ｇは２〜１１の整数を示し、ｈ
は１〜１１の整数を示し、ｉは２〜４の整数を示し、ｊ
は２〜１０の整数を示す。
【００５１】
【化１５】
【００５２】
【化１６】
【００５３】
【化１７】
【００５４】
【化１８】
【００５５】
【化１９】
【００５６】
【化２０】
【００５７】
【化２１】
【００５８】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該高分子鎖中に２種以上含有されていてもよい。該
高分子鎖中には上記極性基含有成分及び式（Ｉ）で示さ
れる成分以外の重合成分を含有していてもよく、含有さ
れ得る他の重合成分としては、例えば後述の一般式（I
I）で示される成分が挙げられる。
分は該高分子鎖中に２種以上含有されていてもよい。該
高分子鎖中には上記極性基含有成分及び式（Ｉ）で示さ
れる成分以外の重合成分を含有していてもよく、含有さ
れ得る他の重合成分としては、例えば後述の一般式（I
I）で示される成分が挙げられる。
【００５９】また、該高分子鎖中に、更に他の重合成分
を含有することができ、該含有され得る他の重合体成分
として、該式（II）の重合体成分と共重合しうる他の繰
り返し単位に相当する単量体、例えば一般式（Ｉ）で説
明した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に加
え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸
エステル類（例えばカルボン酸として、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸
等）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニル
エーテル類、イタコン酸エステル類（例えばジメチルエ
ステル、ジエチルエステル等）、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類（例えばスチレン、ビニ
ルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシカル
ボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビ
ニルナフタレン等）、ビニルスルホン含有化合物、ビニ
ルケトン含有化合物、複素環ビニル類（例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラ
ゾール、ビニルオキサジン等）等が挙げられる。これら
他の単量体は高分子鎖の全重合体成分１００重量部中２
０重量部を超えない範囲で用いられることが好ましい。
を含有することができ、該含有され得る他の重合体成分
として、該式（II）の重合体成分と共重合しうる他の繰
り返し単位に相当する単量体、例えば一般式（Ｉ）で説
明した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に加
え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸
エステル類（例えばカルボン酸として、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸
等）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニル
エーテル類、イタコン酸エステル類（例えばジメチルエ
ステル、ジエチルエステル等）、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類（例えばスチレン、ビニ
ルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシカル
ボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビ
ニルナフタレン等）、ビニルスルホン含有化合物、ビニ
ルケトン含有化合物、複素環ビニル類（例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラ
ゾール、ビニルオキサジン等）等が挙げられる。これら
他の単量体は高分子鎖の全重合体成分１００重量部中２
０重量部を超えない範囲で用いられることが好ましい。
【００６０】一方、本発明に従う、高分子鎖を少なくと
も３個以上結合してなる有機分子としては、該分子の分
子量が１０００以下のものであれば特に限定されるもの
ではない。例を挙げれば、下記化２２等の３価の炭化水
素残基が挙げられる。
も３個以上結合してなる有機分子としては、該分子の分
子量が１０００以下のものであれば特に限定されるもの
ではない。例を挙げれば、下記化２２等の３価の炭化水
素残基が挙げられる。
【００６１】
【化２２】
【００６２】〔ここで、ｒ1 〜ｒ6 はそれぞれ水素原子
又は炭化水素基を表す。但し、ｒ1 及びｒ2 又はｒ3 〜
ｒ6 のうちの少なくとも１つは高分子鎖に連結する。〕
これらの有機残基は、単独又はこれらの任意の組合せの
構成からなり、組合せの場合は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ
（ｒ7 ）−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮ（ｒ7 ）−、−ＳＯ
2 −、−ＳＯ2 Ｎ（ｒ7 ）−｛ここでｒ7 はそれぞれ水
素原子又は 炭化水素基を表す｝、−ＮＨＣＯＯ−、−
ＮＨＣＯＮＨ−、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等の
ヘテロ原子含有の複素環（例えばチオフェン環、ピリジ
ン環、ピラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール
環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール
環、ピペラジン環等）等の結合単位の組合せを含んでい
てもよい。
又は炭化水素基を表す。但し、ｒ1 及びｒ2 又はｒ3 〜
ｒ6 のうちの少なくとも１つは高分子鎖に連結する。〕
これらの有機残基は、単独又はこれらの任意の組合せの
構成からなり、組合せの場合は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ
（ｒ7 ）−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮ（ｒ7 ）−、−ＳＯ
2 −、−ＳＯ2 Ｎ（ｒ7 ）−｛ここでｒ7 はそれぞれ水
素原子又は 炭化水素基を表す｝、−ＮＨＣＯＯ−、−
ＮＨＣＯＮＨ−、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等の
ヘテロ原子含有の複素環（例えばチオフェン環、ピリジ
ン環、ピラン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール
環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロール
環、ピペラジン環等）等の結合単位の組合せを含んでい
てもよい。
【００６３】他の該高分子鎖を結合する有機分子の例と
しては、下記化２３又は化２４と上記結合単位との組合
せから構成されるものが挙げられる。しかしながら、本
発明に従う有機分子の具体例としては、これらに限定さ
れるものではない。
しては、下記化２３又は化２４と上記結合単位との組合
せから構成されるものが挙げられる。しかしながら、本
発明に従う有機分子の具体例としては、これらに限定さ
れるものではない。
【００６４】
【化２３】
【００６５】
【化２４】
【００６６】本発明のスター型共重合体は、従来公知の
極性基含有で且つ重合性二重結合基をもつ単量体のスタ
ー型ポリマーの合成法を利用して合成することができ
る。例えばその一つとしてカルバニオンを開始剤とする
重合反応が挙げられる。具体的には、Ｍ．Ｍｏｒｔｏ
ｎ、Ｔ．Ｅ．Ｈｅｌｍｉｎｉａｋ ｅｔａｌ、Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｓｃｉ．、５７、４７１（１９６２）、Ｂ．Ｇ
ｏｒｄｏｎＩＩＩ、Ｍ．Ｂｌｕｍｅｎｔｈａｌ、Ｊ．
Ｅ．Ｌｏｆｔｕｓ、ｅｔａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌ
ｌ．、１１、３４９（１９８４）、Ｒ．Ｂ．Ｂａｔｅ
ｓ、Ｗ．Ａ．Ｂｅａｖｅｒｓ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．、４４、３８００（１９７９）に記載の方法
に従って合成できる。
極性基含有で且つ重合性二重結合基をもつ単量体のスタ
ー型ポリマーの合成法を利用して合成することができ
る。例えばその一つとしてカルバニオンを開始剤とする
重合反応が挙げられる。具体的には、Ｍ．Ｍｏｒｔｏ
ｎ、Ｔ．Ｅ．Ｈｅｌｍｉｎｉａｋ ｅｔａｌ、Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｓｃｉ．、５７、４７１（１９６２）、Ｂ．Ｇ
ｏｒｄｏｎＩＩＩ、Ｍ．Ｂｌｕｍｅｎｔｈａｌ、Ｊ．
Ｅ．Ｌｏｆｔｕｓ、ｅｔａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌ
ｌ．、１１、３４９（１９８４）、Ｒ．Ｂ．Ｂａｔｅ
ｓ、Ｗ．Ａ．Ｂｅａｖｅｒｓ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．、４４、３８００（１９７９）に記載の方法
に従って合成できる。
【００６７】但し、本反応を用いる際には、本発明の
「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重合
させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の特
定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
（脱保護反応）については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、岩倉義男、栗田恵輔「反応
性高分子」（株）講談社刊（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．Ｇ
ｒｅｅｎｅ「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓｉｎ
Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」、Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（１９８１年）、Ｊ．Ｆ．
Ｗ．ＭｃＯｍｉｃ 「ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐ
ｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｐ
ｌｅｎｕｍＰｒｅｓｓ（１９７３年）等の総説に詳細に
記載されている方法を適宜選択して行なうことができ
る。他の方法としては、本発明の特定の極性基を保護し
ないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基を含有
する化合物及び／又はザンテート基を含有する化合物を
開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合成する
こともできる。例えば、大津隆行「高分子」３７、２４
８（１９８８）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌｙｍ．Ｒ
ｅｐ．Ｊａｐ．３７．３５０８（１９８８）、特開昭６
４−１１１号、特開昭６４−２６６１９号、東信行等、
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ、Ｊａｐａｎ、３
６（６）、１５１１（１９８７）、Ｍ．Ｎｉｗａ、Ｎ．
Ｈｉｇａｓｈｉ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓ
ｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ２４（５）、５６７（１９８７）等
に記載の合成方法に従って合成することができる。
「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重合
させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の特
定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
（脱保護反応）については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、岩倉義男、栗田恵輔「反応
性高分子」（株）講談社刊（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．Ｇ
ｒｅｅｎｅ「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓｉｎ
Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」、Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（１９８１年）、Ｊ．Ｆ．
Ｗ．ＭｃＯｍｉｃ 「ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐ
ｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｐ
ｌｅｎｕｍＰｒｅｓｓ（１９７３年）等の総説に詳細に
記載されている方法を適宜選択して行なうことができ
る。他の方法としては、本発明の特定の極性基を保護し
ないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基を含有
する化合物及び／又はザンテート基を含有する化合物を
開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合成する
こともできる。例えば、大津隆行「高分子」３７、２４
８（１９８８）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌｙｍ．Ｒ
ｅｐ．Ｊａｐ．３７．３５０８（１９８８）、特開昭６
４−１１１号、特開昭６４−２６６１９号、東信行等、
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ、Ｊａｐａｎ、３
６（６）、１５１１（１９８７）、Ｍ．Ｎｉｗａ、Ｎ．
Ｈｉｇａｓｈｉ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓ
ｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ２４（５）、５６７（１９８７）等
に記載の合成方法に従って合成することができる。
【００６８】本発明の樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量の調
整は、重合反応において従来公知の如く、重合に用いる
全単量体総量と各種重合開始剤量との使用割合あるいは
重合温度等によって容易に調整することができる。具体
的には、用いる単量体の種類及び開始剤の種類によって
任意に合成できるものである。次に樹脂〔Ｂ〕について
以下に説明する。
整は、重合反応において従来公知の如く、重合に用いる
全単量体総量と各種重合開始剤量との使用割合あるいは
重合温度等によって容易に調整することができる。具体
的には、用いる単量体の種類及び開始剤の種類によって
任意に合成できるものである。次に樹脂〔Ｂ〕について
以下に説明する。
【００６９】樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量は３×１０4
〜１×１０6 、好ましくは５×１０4 〜５×１０5 であ
る。樹脂〔Ｂ〕のガラス転移点は、好ましくは０℃〜１
１０℃、より好ましくは２０℃〜９０℃である。樹脂
〔Ｂ〕の分子量が３×１０4 より小さくなると、膜強度
が充分に保てず、一方分子量が１×１０6 より大きくな
ると、分散性が低下し膜平滑度が劣下し、複写画像の画
質（特に、細線・文字の再現性）が悪化し、更にオフセ
ットマスターとして用いる時に地汚れが著しくなってし
まう。
〜１×１０6 、好ましくは５×１０4 〜５×１０5 であ
る。樹脂〔Ｂ〕のガラス転移点は、好ましくは０℃〜１
１０℃、より好ましくは２０℃〜９０℃である。樹脂
〔Ｂ〕の分子量が３×１０4 より小さくなると、膜強度
が充分に保てず、一方分子量が１×１０6 より大きくな
ると、分散性が低下し膜平滑度が劣下し、複写画像の画
質（特に、細線・文字の再現性）が悪化し、更にオフセ
ットマスターとして用いる時に地汚れが著しくなってし
まう。
【００７０】次に樹脂〔Ｂ〕の好ましい態様について以
下説明する。本発明の樹脂〔Ｂ〕に供される一官能性マ
クロモノマー（Ｍ）について更に具体的に説明する。マ
クロモノマー（Ｍ）のＡブロックを構成する成分中に含
有される極性基としては、−ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＣＯＯＨ
基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3
〔Ｒ3 は炭化水素基又は−ＯＲ4 （Ｒ4 は炭化水素基を
表す）を表す〕又は環状酸無水物含有基が挙げられ、好
ましくは−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＯＨ基又は−
Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 基である。
下説明する。本発明の樹脂〔Ｂ〕に供される一官能性マ
クロモノマー（Ｍ）について更に具体的に説明する。マ
クロモノマー（Ｍ）のＡブロックを構成する成分中に含
有される極性基としては、−ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＣＯＯＨ
基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3
〔Ｒ3 は炭化水素基又は−ＯＲ4 （Ｒ4 は炭化水素基を
表す）を表す〕又は環状酸無水物含有基が挙げられ、好
ましくは−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＯＨ基又は−
Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 基である。
【００７１】−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 基及び環状酸無水
物含有基は、具体的には樹脂〔Ａ〕において説明したと
同様の内容を表わす。−ＯＨ基としては、ビニル基又は
アリル基含有のアルコール類( 例えばアリルアルコー
ル、メタクリル酸エステル、アクリルアミド等のエステ
ル置換基、Ｎ−置換基中に、−ＯＨ基を含有する化合物
等) 、ヒドロキシフェノール又はヒドロキシフェニル基
を置換基として含有するメタクリル酸エステルもしくは
アミド類等を挙げることができる。
物含有基は、具体的には樹脂〔Ａ〕において説明したと
同様の内容を表わす。−ＯＨ基としては、ビニル基又は
アリル基含有のアルコール類( 例えばアリルアルコー
ル、メタクリル酸エステル、アクリルアミド等のエステ
ル置換基、Ｎ−置換基中に、−ＯＨ基を含有する化合物
等) 、ヒドロキシフェノール又はヒドロキシフェニル基
を置換基として含有するメタクリル酸エステルもしくは
アミド類等を挙げることができる。
【００７２】更に上記特定の極性基を含有する重合成分
の具体例としては、前記樹脂〔Ａ〕で記載したものと同
様のものが挙げられる。上記の如き特定の極性基を含有
する重合成分は該ブロック中に２種以上含有されていて
もよく、その場合における該２種以上の極性基含有成分
は該ブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、該
極性基を含有しない成分がＡブロック中に含まれていて
もよく、該成分の例としては後述の一般式（II）で示さ
れる成分等が挙げられる。かかる極性基非含有成分の含
有量はＡブロック中好ましくは０〜５０重量％、より好
ましくは０〜２０重量％であり、最も好ましくは、かか
る極性基非含有成分はＡブロック中に含まれない。
の具体例としては、前記樹脂〔Ａ〕で記載したものと同
様のものが挙げられる。上記の如き特定の極性基を含有
する重合成分は該ブロック中に２種以上含有されていて
もよく、その場合における該２種以上の極性基含有成分
は該ブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、該
極性基を含有しない成分がＡブロック中に含まれていて
もよく、該成分の例としては後述の一般式（II）で示さ
れる成分等が挙げられる。かかる極性基非含有成分の含
有量はＡブロック中好ましくは０〜５０重量％、より好
ましくは０〜２０重量％であり、最も好ましくは、かか
る極性基非含有成分はＡブロック中に含まれない。
【００７３】次にグラフト型共重合体の一官能性マクロ
モノマーにおいて、Ｂブロック成分を構成する重合成分
について詳しく説明する。本発明では、Ｂブロックを構
成する成分として、少なくとも前記一般式（II）で表わ
される繰り返し単位が含まれる。一般式（II）におい
て、Ｘ1 は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ2 ）m Ｏ
ＣＯ−、−（ＣＨ2 ）m ＣＯＯ−（ｍは１〜３の整数を
表わす）、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ
（Ｔ1 ）−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｔ1 ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ
−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす。
モノマーにおいて、Ｂブロック成分を構成する重合成分
について詳しく説明する。本発明では、Ｂブロックを構
成する成分として、少なくとも前記一般式（II）で表わ
される繰り返し単位が含まれる。一般式（II）におい
て、Ｘ1 は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ2 ）m Ｏ
ＣＯ−、−（ＣＨ2 ）m ＣＯＯ−（ｍは１〜３の整数を
表わす）、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ
（Ｔ1 ）−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｔ1 ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ
−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす。
【００７４】ここで、Ｔ1 は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数１〜１８の置換されてもよ
いアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デジル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シ
アノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−
メトキシエチル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数
４〜１８の置換されてもよいアルケニル基（例えば、２
−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、１−ペン
テニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−
メチル−２−ヘキセニル基、等）、炭素数７〜１２の置
換されてもよいアラルキル基（例えば、べンジル基、フ
ェネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、２−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシべンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等）、炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式
基（例えば、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエ
チル基、２−シクロペンチルエチル基等）又は炭素数６
〜１２の置換されてもよい芳香族基（例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等）があげられる。
炭化水素基としては、炭素数１〜１８の置換されてもよ
いアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デジル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シ
アノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−
メトキシエチル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数
４〜１８の置換されてもよいアルケニル基（例えば、２
−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、１−ペン
テニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−
メチル−２−ヘキセニル基、等）、炭素数７〜１２の置
換されてもよいアラルキル基（例えば、べンジル基、フ
ェネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、２−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシべンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等）、炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式
基（例えば、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエ
チル基、２−シクロペンチルエチル基等）又は炭素数６
〜１２の置換されてもよい芳香族基（例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等）があげられる。
【００７５】Ｒ12は、炭化水素基を表わす。但し、一般
式（III)中のＸ1 が−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす場合、Ｒ12は
水素原子又は炭化水素基を表わす。好ましい炭化水素基
としては、炭素数１〜２２の置換されてもよいアルキル
基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、２−クロロエチル基、２−ブ
ロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカル
ボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−ブロモプ
ロピル基等）、炭素数４〜１８の置換されてもよいアル
ケニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、２
−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メチル−２−ぺ
ンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキセニル基、２
−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセニル基等）、
炭素数７〜１２の置換されてもよいアラルキル基（例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル
基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基、クロロ
ベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エ
チルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジ
ル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８の置換
されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘキシル基、２
−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺンチルエチル
基等）、炭素数６〜１２の置換されてもよい芳香族基
（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリ
ル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチ
ルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシル
オキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル
基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が挙げられる。
式（III)中のＸ1 が−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす場合、Ｒ12は
水素原子又は炭化水素基を表わす。好ましい炭化水素基
としては、炭素数１〜２２の置換されてもよいアルキル
基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、２−クロロエチル基、２−ブ
ロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカル
ボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−ブロモプ
ロピル基等）、炭素数４〜１８の置換されてもよいアル
ケニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、２
−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メチル−２−ぺ
ンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキセニル基、２
−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセニル基等）、
炭素数７〜１２の置換されてもよいアラルキル基（例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル
基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基、クロロ
ベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エ
チルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジ
ル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８の置換
されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘキシル基、２
−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺンチルエチル
基等）、炭素数６〜１２の置換されてもよい芳香族基
（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリ
ル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチ
ルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシル
オキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル
基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が挙げられる。
【００７６】Ｘ1 が−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば、塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキ
シ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ
基、ブトキシ基等）等が挙げられる。
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば、塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキ
シ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ
基、ブトキシ基等）等が挙げられる。
【００７７】ｂ1 及びｂ2 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子（例え
ば、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、炭素数１〜４
のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等）、−ＣＯＯＺ3 又は炭化水素を介した
−ＣＯＯＺ3 （Ｚ3 は、水素原子又は炭素数１〜１８の
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基ま
たはアリール基を表わし、これらは置換されていてもよ
く、具体的には、上記Ｔ1 について説明したものと同様
の内容を表わす）を表わす。
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子（例え
ば、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、炭素数１〜４
のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等）、−ＣＯＯＺ3 又は炭化水素を介した
−ＣＯＯＺ3 （Ｚ3 は、水素原子又は炭素数１〜１８の
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基ま
たはアリール基を表わし、これらは置換されていてもよ
く、具体的には、上記Ｔ1 について説明したものと同様
の内容を表わす）を表わす。
【００７８】上記炭化水素を介した−ＣＯＯＺ3 におけ
る炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピ
レン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式（II）
において、Ｘ1 は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 Ｏ
ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−
ＳＯ2 ＮＨ−又は−Ｃ6 Ｈ4 −を表わし、ｂ1 及びｂ2
は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、メチル
基、−ＣＯＯＺ3 又は−ＣＨ2 ＣＯＯＺ3 ｛Ｚ3 は好ま
しくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基（例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基等）を表わす｝を表わす。更により好ましくは、ｂ1
及びｂ2 においていずれか一方が水素原子を表わす。
る炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピ
レン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式（II）
において、Ｘ1 は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 Ｏ
ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−
ＳＯ2 ＮＨ−又は−Ｃ6 Ｈ4 −を表わし、ｂ1 及びｂ2
は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、メチル
基、−ＣＯＯＺ3 又は−ＣＨ2 ＣＯＯＺ3 ｛Ｚ3 は好ま
しくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基（例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基等）を表わす｝を表わす。更により好ましくは、ｂ1
及びｂ2 においていずれか一方が水素原子を表わす。
【００７９】前記の特定の極性基を含有する重合成分か
ら成るＡブロックとは別に構成されるＢブロックにおい
て、前記式（II）で示される繰り返し単位は２種以上含
有されていてもよく、更にこれら以外の他の重合成分を
含有していてもよい。極性基を含有しないＢブロックに
おいて２種以上の重合成分が含有される場合には、該共
重合成分は該Ｂブロック中においてランダム共重合又は
ブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい
が、ランダムに含有されることが好ましい。
ら成るＡブロックとは別に構成されるＢブロックにおい
て、前記式（II）で示される繰り返し単位は２種以上含
有されていてもよく、更にこれら以外の他の重合成分を
含有していてもよい。極性基を含有しないＢブロックに
おいて２種以上の重合成分が含有される場合には、該共
重合成分は該Ｂブロック中においてランダム共重合又は
ブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい
が、ランダムに含有されることが好ましい。
【００８０】前記した式（II）で示される繰り返し単位
から選ばれた重合成分とともに他のブロック中に含有さ
れ得る他の重合成分は、これらと共重合する成分であれ
ばいずれでもよい。該Ｂブロック中に含有される重合体
成分として、式（II）に示される重合体成分とともに共
重合しうる他の繰り返し単位に相当する単量体として、
例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、複素環
ビニル類（例えばビニルピリジン、ビニルイミダゾー
ル、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルピラ
ゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等）等が
挙げられる。これら他の単量体はＢブロックの全重合体
成分１００重量部中２０重量部を越えない範囲で用いら
れる。又、該Ｂブロック中には、該Ａブロックの構成成
分である極性基を含有する重合体成分を含有しない事が
好ましい。
から選ばれた重合成分とともに他のブロック中に含有さ
れ得る他の重合成分は、これらと共重合する成分であれ
ばいずれでもよい。該Ｂブロック中に含有される重合体
成分として、式（II）に示される重合体成分とともに共
重合しうる他の繰り返し単位に相当する単量体として、
例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、複素環
ビニル類（例えばビニルピリジン、ビニルイミダゾー
ル、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルピラ
ゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等）等が
挙げられる。これら他の単量体はＢブロックの全重合体
成分１００重量部中２０重量部を越えない範囲で用いら
れる。又、該Ｂブロック中には、該Ａブロックの構成成
分である極性基を含有する重合体成分を含有しない事が
好ましい。
【００８１】次に本発明のマクロモノマー（Ｍ）におい
て、上記した極性基を含有する成分を含有するＡブロッ
クと一般式（II）で示される重合体成分を含有するＢブ
ロックをＡＢ型で連結し且つＡブロックと連結するＢブ
ロックの他の末端に連結される重合性二重結合基につい
て説明する。例えば、具体的には下記一般式（III)で示
される重合性二重結合基が挙げられる。
て、上記した極性基を含有する成分を含有するＡブロッ
クと一般式（II）で示される重合体成分を含有するＢブ
ロックをＡＢ型で連結し且つＡブロックと連結するＢブ
ロックの他の末端に連結される重合性二重結合基につい
て説明する。例えば、具体的には下記一般式（III)で示
される重合性二重結合基が挙げられる。
【００８２】
【化２５】
【００８３】〔式（III)中、Ｖ2 は式（II）中のＶ1 と
同一の内容を表わす。ｃ1 、ｃ2 は、互いに異なっても
よく、式（II）中のｂ1 、ｂ2 と同一の内容を表わ
す。〕即ち、一般式（III)で示される重合性二重結合基
として、より具体的には、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ
2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ−、ＣＨ（ＣＨ3 ）＝ＣＨＣＯ
Ｏ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ2 ＣＯＯＣＨ3 ）ＣＯＯ−、Ｃ
Ｈ2 ＝Ｃ（ＣＨ2 ＣＯＯＨ）ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣ
ＯＮＨ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＮＨ−、Ｃ（ＣＨ
3 ）Ｈ＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＯＣＯ−、ＣＨ
2 ＝ＣＨＣＨ2 ＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＯ−、ＣＨ2 ＝
Ｃ（ＣＯＯＨ）ＣＨ2 ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＯＯＣ
Ｈ3 ）ＣＨ2 ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨ−Ｃ6 Ｈ4 −、Ｃ
Ｈ2 ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）2 ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯ
−、ＣＨ2 ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）2 ＯＣＯ−等を挙げること
ができる。
同一の内容を表わす。ｃ1 、ｃ2 は、互いに異なっても
よく、式（II）中のｂ1 、ｂ2 と同一の内容を表わ
す。〕即ち、一般式（III)で示される重合性二重結合基
として、より具体的には、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ
2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ−、ＣＨ（ＣＨ3 ）＝ＣＨＣＯ
Ｏ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ2 ＣＯＯＣＨ3 ）ＣＯＯ−、Ｃ
Ｈ2 ＝Ｃ（ＣＨ2 ＣＯＯＨ）ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣ
ＯＮＨ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＮＨ−、Ｃ（ＣＨ
3 ）Ｈ＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＯＣＯ−、ＣＨ
2 ＝ＣＨＣＨ2 ＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＯ−、ＣＨ2 ＝
Ｃ（ＣＯＯＨ）ＣＨ2 ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＯＯＣ
Ｈ3 ）ＣＨ2 ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨ−Ｃ6 Ｈ4 −、Ｃ
Ｈ2 ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）2 ＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯ
−、ＣＨ2 ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）2 ＯＣＯ−等を挙げること
ができる。
【００８４】本発明において供されるマクロモノマー
（Ｍ）は、上述の如きＢブロックの片末端に、一般式
（III)で示される重合性二重結合基が直接結合するか、
あるいは任意の連結基で結合された化学構造を有するも
のである。連結する基としては、炭素−炭素結合（単結
合又は二重結合）、炭素−ヘテロ原子結合（ヘテロ原子
としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケ
イ素原子等）、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の
任意の組合せで構成されるものである。
（Ｍ）は、上述の如きＢブロックの片末端に、一般式
（III)で示される重合性二重結合基が直接結合するか、
あるいは任意の連結基で結合された化学構造を有するも
のである。連結する基としては、炭素−炭素結合（単結
合又は二重結合）、炭素−ヘテロ原子結合（ヘテロ原子
としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケ
イ素原子等）、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の
任意の組合せで構成されるものである。
【００８５】即ち具体的には単なる結合または、−Ｃ
（ｐ1 )(ｐ2 ）−〔ｐ1 、ｐ2 は水素原子、ハロゲン原
子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シ
アノ基、ヒドロキシル基、アルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基等）等を示す〕、−（ＣＨ＝
ＣＨ）−、−Ｃ6 Ｈ10−、−Ｃ6 Ｈ4 −、−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＣＯ−、−Ｎ（ｐ3 ）−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝
Ｓ）−、−ＳＯ2 −、−ＣＯＮ（ｐ3 ）−、−ＳＯ
2 （ｐ3 ）−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−
Ｓｉ（ｐ3 )(ｐ4 ）−〔ｐ3 、ｐ4 は各々水素原子又は
前記式（II）におけるＲ12と同様の内容を表わす炭化水
素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基も
しくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。
（ｐ1 )(ｐ2 ）−〔ｐ1 、ｐ2 は水素原子、ハロゲン原
子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シ
アノ基、ヒドロキシル基、アルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基等）等を示す〕、−（ＣＨ＝
ＣＨ）−、−Ｃ6 Ｈ10−、−Ｃ6 Ｈ4 −、−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＣＯ−、−Ｎ（ｐ3 ）−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝
Ｓ）−、−ＳＯ2 −、−ＣＯＮ（ｐ3 ）−、−ＳＯ
2 （ｐ3 ）−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−
Ｓｉ（ｐ3 )(ｐ4 ）−〔ｐ3 、ｐ4 は各々水素原子又は
前記式（II）におけるＲ12と同様の内容を表わす炭化水
素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基も
しくは任意の組合せで構成された連結基を表わす。
【００８６】マクロモノマー（Ｍ）の重量平均分子量が
２×１０4 を超えると、他の単量体との共重合性が低下
するため好ましくない。他方、重量平均分子量が小さす
ぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなる
ため、１×１０3 以上であることが好ましい。本発明の
マクロモノマー（Ｍ）は、従来公知の合成方法によって
製造することができる。例えば、該特定の極性基を含有
する重合体成分に相当する単量体において、極性基を予
め保護した官能基としておき、有機金属化合物（例えば
アルキルリチウム類、リチウムジイソピルアミド類、ア
ルキルマグネシウムハライド類等）あるいはヨウ化水素
／ヨウ素系等によるイオン重合反応、ポルフィリン金属
錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ移動重
合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でＡＢブロ
ック共重合体を合成した後、このリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基を導入す
る。
２×１０4 を超えると、他の単量体との共重合性が低下
するため好ましくない。他方、重量平均分子量が小さす
ぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなる
ため、１×１０3 以上であることが好ましい。本発明の
マクロモノマー（Ｍ）は、従来公知の合成方法によって
製造することができる。例えば、該特定の極性基を含有
する重合体成分に相当する単量体において、極性基を予
め保護した官能基としておき、有機金属化合物（例えば
アルキルリチウム類、リチウムジイソピルアミド類、ア
ルキルマグネシウムハライド類等）あるいはヨウ化水素
／ヨウ素系等によるイオン重合反応、ポルフィリン金属
錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグループ移動重
合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応でＡＢブロ
ック共重合体を合成した後、このリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合基を導入す
る。
【００８７】この後、極性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解
反応等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させ
る方法が挙げられる。その１つの例を下記の反応スキー
ム（１）に示した。
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解
反応等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させ
る方法が挙げられる。その１つの例を下記の反応スキー
ム（１）に示した。
【００８８】
【化２６】
【００８９】例えば、Ｐ．Ｌｕｔｚ、Ｐ．Ｍａｓｓｏｎ
ｅｔ ａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．、１２、７９
（１９８４）、Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ、Ｇ．Ｄ．Ａ
ｎｄｒｅｗｓ ｅｔ ｅｌ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌ
ｅｓ、１４、１６０１（１９８１）、Ｋ．Ｈａｔａｄ
ａ、Ｋ．Ｕｔｅ ｅｔ ａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１７、
９７７（１９８５）、１８、１０３７（１９８６）、右
手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６、３６６（１９８
７）、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４６、１８
９（１９８９）、Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ、Ｔ．Ａｉｄａ、
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１０９、４７３７（１９
８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４３、３
００（１９８５）、Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇｏｈ、Ｗ．Ｒ．Ｈｅ
ｒｔｌｅｒ ｅｔａｌ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ
ｓ、２０、１４７３（１９８７）等に記載の合成方法に
従って容易にリビングポリマーを合成することができ
る。又、該リビングポリマーの末端に重合性二重結合基
を導入する方法としては、従来公知のマクロモノマー法
の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマーとする
ことができる。
ｅｔ ａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．、１２、７９
（１９８４）、Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ、Ｇ．Ｄ．Ａ
ｎｄｒｅｗｓ ｅｔ ｅｌ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌ
ｅｓ、１４、１６０１（１９８１）、Ｋ．Ｈａｔａｄ
ａ、Ｋ．Ｕｔｅ ｅｔ ａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１７、
９７７（１９８５）、１８、１０３７（１９８６）、右
手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６、３６６（１９８
７）、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４６、１８
９（１９８９）、Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ、Ｔ．Ａｉｄａ、
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１０９、４７３７（１９
８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４３、３
００（１９８５）、Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇｏｈ、Ｗ．Ｒ．Ｈｅ
ｒｔｌｅｒ ｅｔａｌ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ
ｓ、２０、１４７３（１９８７）等に記載の合成方法に
従って容易にリビングポリマーを合成することができ
る。又、該リビングポリマーの末端に重合性二重結合基
を導入する方法としては、従来公知のマクロモノマー法
の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマーとする
ことができる。
【００９０】具体的には、Ｐ．Ｄｒｅｙｆｕｓｓ ａｎ
ｄ Ｒ．Ｐ．Ｑｕｉｒｋ、Ｅｎｃｙｃｌ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．、７、５５１（１９８７）、Ｐ．Ｆ．
Ｒｅｍｐｐ、Ｅ．Ｆｒａｎｔａ、Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．、５８、１（１９８４）、Ｖ．Ｐｅｒｃｅｃ、
Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．、２８５、９５（１９
８４）、Ｒ．Ａｓａｍｉ、Ｍ．Ｔａｋａｒｉ、Ｍａｋｒ
ａｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌ．、１２、１６３（１
９８５）、Ｐ．Ｒｅｍｐｐｅｔ ａｌ、Ｍａｋｒａｍｏ
ｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌ．、８、３（１９８４）、川
上雄資、化学工業、３８、５６（１９８７）、山下雄
也、高分子、３１、９８８（１９８２）、小林四郎、高
分子、３０、６２５（１９８１）、東村敏延、日本接着
協会誌１８、５３６（１９８２）、伊藤浩一、高分子加
工、３５、２６２（１９８６）、東貴四郎、津田隆、機
能材料、１９８７、Ｎｏ．１０、５等の総説及びそれに
引例の文献、特許等に記載の方法に従って合成すること
ができる。
ｄ Ｒ．Ｐ．Ｑｕｉｒｋ、Ｅｎｃｙｃｌ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．、７、５５１（１９８７）、Ｐ．Ｆ．
Ｒｅｍｐｐ、Ｅ．Ｆｒａｎｔａ、Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．、５８、１（１９８４）、Ｖ．Ｐｅｒｃｅｃ、
Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．、２８５、９５（１９
８４）、Ｒ．Ａｓａｍｉ、Ｍ．Ｔａｋａｒｉ、Ｍａｋｒ
ａｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌ．、１２、１６３（１
９８５）、Ｐ．Ｒｅｍｐｐｅｔ ａｌ、Ｍａｋｒａｍｏ
ｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌ．、８、３（１９８４）、川
上雄資、化学工業、３８、５６（１９８７）、山下雄
也、高分子、３１、９８８（１９８２）、小林四郎、高
分子、３０、６２５（１９８１）、東村敏延、日本接着
協会誌１８、５３６（１９８２）、伊藤浩一、高分子加
工、３５、２６２（１９８６）、東貴四郎、津田隆、機
能材料、１９８７、Ｎｏ．１０、５等の総説及びそれに
引例の文献、特許等に記載の方法に従って合成すること
ができる。
【００９１】又、本発明の特定の極性基を保護する保護
基及びその保護基の脱離（脱保護反応）については、従
来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。例
えば前記した引用文献にも種々記載されており、更に
は、岩倉義男、栗田恵輔「反応性高分子」（株）講談社
刊（１９７７年) 、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ「Ｐｒｏｔｅ
ｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ」Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎ
ｓ（１９８１）、Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ「Ｐｒｏｔ
ｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ（１９
７３）等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択
して行なうことができる。
基及びその保護基の脱離（脱保護反応）については、従
来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。例
えば前記した引用文献にも種々記載されており、更に
は、岩倉義男、栗田恵輔「反応性高分子」（株）講談社
刊（１９７７年) 、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ「Ｐｒｏｔｅ
ｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ」Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎ
ｓ（１９８１）、Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ「Ｐｒｏｔ
ｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ（１９
７３）等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択
して行なうことができる。
【００９２】他のＡＢ型ブロック共重合体〔Ｂ〕の合成
法としては、ジシオカーバメイト化合物を開始剤とした
光イニファーター重合法によって合成することもでき
る。例えば、大津隆行、高分子、３７、２４８（１９８
８年）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊ
ａｐ．３７、３５０８（１９８８年）、特開昭６４−１
１１号、特開昭６４−２６６１９号等に記載の合成方法
に従って合成され、これを上記したマクロモノマー合成
法を利用して本発明のマクロモノマーを得ることができ
る。
法としては、ジシオカーバメイト化合物を開始剤とした
光イニファーター重合法によって合成することもでき
る。例えば、大津隆行、高分子、３７、２４８（１９８
８年）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊ
ａｐ．３７、３５０８（１９８８年）、特開昭６４−１
１１号、特開昭６４−２６６１９号等に記載の合成方法
に従って合成され、これを上記したマクロモノマー合成
法を利用して本発明のマクロモノマーを得ることができ
る。
【００９３】本発明のマクロモノマー（Ｍ）は、具体的
には、下記の化合物を例として挙げることができる。但
し、本発明の範囲は、これらに限定されるものではな
い。以下の各例において、Ｑ1 、Ｑ2 及びＱ3 は各々−
Ｈ、−ＣＨ3 又は−ＣＨ2 ＣＯＯＣＨ3 を示し、Ｑ4 は
−Ｈ又は−ＣＨ3 を示し、Ｒ31は−Ｃn Ｈ2n+1（ｎは１
〜１８の整数を示す）、−（ＣＨ2 ）m −Ｃ6 Ｈ5 （ｍ
は１〜３の整数を示す）、−Ｃ6 Ｈ4 −（Ｘ1 ）（Ｘ1
は−Ｈ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 又は
−ＣＯＣＨ3 を示す）又は−（ＣＨ2 ） p−Ｃ10Ｈ
7 （ｐは０又は１〜３の整数を示す）を示し、Ｒ32は−
Ｃq Ｈ2q+1（ｑは１〜８の整数を示す）又は−（Ｃ
Ｈ2 ）m −Ｃ6 Ｈ5 を示し、Ｙ1 は−ＯＨ、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＳＯ3 Ｈ、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）ＯＨ又は−Ｐ（＝
Ｏ)(ＯＨ）ＯＣＨ3 を示し、Ｙ2 は−ＣＯＯＨ、−ＳＯ
3 Ｈ、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）ＯＨ又は−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）
ＯＣＨ3 を示し、ｒは２〜１２の整数を示し、ｓは２〜
６の整数を示す。
には、下記の化合物を例として挙げることができる。但
し、本発明の範囲は、これらに限定されるものではな
い。以下の各例において、Ｑ1 、Ｑ2 及びＱ3 は各々−
Ｈ、−ＣＨ3 又は−ＣＨ2 ＣＯＯＣＨ3 を示し、Ｑ4 は
−Ｈ又は−ＣＨ3 を示し、Ｒ31は−Ｃn Ｈ2n+1（ｎは１
〜１８の整数を示す）、−（ＣＨ2 ）m −Ｃ6 Ｈ5 （ｍ
は１〜３の整数を示す）、−Ｃ6 Ｈ4 −（Ｘ1 ）（Ｘ1
は−Ｈ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 又は
−ＣＯＣＨ3 を示す）又は−（ＣＨ2 ） p−Ｃ10Ｈ
7 （ｐは０又は１〜３の整数を示す）を示し、Ｒ32は−
Ｃq Ｈ2q+1（ｑは１〜８の整数を示す）又は−（Ｃ
Ｈ2 ）m −Ｃ6 Ｈ5 を示し、Ｙ1 は−ＯＨ、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＳＯ3 Ｈ、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）ＯＨ又は−Ｐ（＝
Ｏ)(ＯＨ）ＯＣＨ3 を示し、Ｙ2 は−ＣＯＯＨ、−ＳＯ
3 Ｈ、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）ＯＨ又は−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）
ＯＣＨ3 を示し、ｒは２〜１２の整数を示し、ｓは２〜
６の整数を示す。
【００９４】
【化２７】
【００９５】
【化２８】
【００９６】
【化２９】
【００９７】
【化３０】
【００９８】樹脂〔Ｂ〕において、前記したマクロモノ
マー（Ｍ）と共重合する単量体は下記一般式（IV）で示
されるものが好ましい。
マー（Ｍ）と共重合する単量体は下記一般式（IV）で示
されるものが好ましい。
【００９９】
【化３１】
【０１００】〔式（IV）において、ｄ1 、ｄ2 、Ｖ3 及
びＲ13は式（II）中のｂ1 、ｂ2 、Ｖ1 及びＲ12とそれ
ぞれ同一の内容を表わす。〕特に好ましくはｄ1 は水素
原子を表わし、ｄ2 はメチルを表わし、Ｖ3 は−ＣＯＯ
−を表わす。本発明の樹脂〔Ｂ〕において、Ａブロック
／Ｂブロック比は１〜３０／９９〜７０（重量比）であ
ることが好ましく、また樹脂〔Ｂ〕中における極性基含
有成分の存在量は、０．１〜２０重量％、特に０．５〜
１０重量％であることが好ましい。また、マクロモノマ
ー（Ｍ）を繰り返し単位とする共重合成分の重合体中に
おける存在割合は、好ましくは１〜６０重量％、より好
ましくは５〜５０重量％である。更に、一般式（IV）で
示される単量体を繰り返し単位とする共重合成分の存在
割合は、好ましくは４０〜９９重量％、より好ましくは
５０〜９５重量％である。
びＲ13は式（II）中のｂ1 、ｂ2 、Ｖ1 及びＲ12とそれ
ぞれ同一の内容を表わす。〕特に好ましくはｄ1 は水素
原子を表わし、ｄ2 はメチルを表わし、Ｖ3 は−ＣＯＯ
−を表わす。本発明の樹脂〔Ｂ〕において、Ａブロック
／Ｂブロック比は１〜３０／９９〜７０（重量比）であ
ることが好ましく、また樹脂〔Ｂ〕中における極性基含
有成分の存在量は、０．１〜２０重量％、特に０．５〜
１０重量％であることが好ましい。また、マクロモノマ
ー（Ｍ）を繰り返し単位とする共重合成分の重合体中に
おける存在割合は、好ましくは１〜６０重量％、より好
ましくは５〜５０重量％である。更に、一般式（IV）で
示される単量体を繰り返し単位とする共重合成分の存在
割合は、好ましくは４０〜９９重量％、より好ましくは
５０〜９５重量％である。
【０１０１】樹脂〔Ｂ〕におけるマクロモノマー含有量
が１重量％より少ないと電子写真特性（特に暗減衰率、
光感度）が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動
が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにお
いて、大きくなる。これはグラフト部となるマクロモノ
マーが微かとなることで結果として従来のホモポリマー
あるいはランダム共重合体と殆んど同じ組成になってし
まうことによると考えられる。マクロモノマーの含有量
が６０重量％を越えると、他の共重合成分に相当する単
量体と本発明に従うマクロモノマーとの共重合性が充分
でなくなり、結着樹脂として用いても充分な電子写真特
性が得られなくなってしまう。
が１重量％より少ないと電子写真特性（特に暗減衰率、
光感度）が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動
が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにお
いて、大きくなる。これはグラフト部となるマクロモノ
マーが微かとなることで結果として従来のホモポリマー
あるいはランダム共重合体と殆んど同じ組成になってし
まうことによると考えられる。マクロモノマーの含有量
が６０重量％を越えると、他の共重合成分に相当する単
量体と本発明に従うマクロモノマーとの共重合性が充分
でなくなり、結着樹脂として用いても充分な電子写真特
性が得られなくなってしまう。
【０１０２】更に、重合体主鎖中に熱及び／又は光硬化
性官能基を含有する共重合成分を含有せさることがで
き、その含有量は０．１〜２０重量％が好ましい。ここ
で「熱及び／又は光硬化性官能基」とは、熱及び光のう
ちの少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう
官能基をいう。光硬化性官能基として具体的には、乾英
夫、永松元太郎「感光性高分子」(講談社、１９７７年
刊）、角田隆弘「新感光性樹脂」（印刷学会出版部、１
９８１年刊）、Ｇ．Ｅ．Ｇｒｅｅｎ ａｎｄ Ｂ．Ｐ．
Ｓｔｒａｋ、Ｊ．Ｍａｃｒｏ．Ｓｃｉ．Ｒｅａｓ．Ｍａ
ｃｒｏ．Ｃｈｅｍ．Ｃ２１（２）、１８７〜２７３（１
９８１〜８２）、Ｃ．Ｇ．Ｒａｔｔｅｙ「Ｐｈｏｔｏｐ
ｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｓｕｒｆａｃｅ
Ｃｏａｔｉｎｇｓ」（Ａ．Ｗｉｌｅｙ ＩｎｔｅｒＳｃ
ｉｅｎｃｅＰｕｂ．１９８２年刊) 等の総説に引例され
た光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等に用いら
れる官能基が用いられる。
性官能基を含有する共重合成分を含有せさることがで
き、その含有量は０．１〜２０重量％が好ましい。ここ
で「熱及び／又は光硬化性官能基」とは、熱及び光のう
ちの少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう
官能基をいう。光硬化性官能基として具体的には、乾英
夫、永松元太郎「感光性高分子」(講談社、１９７７年
刊）、角田隆弘「新感光性樹脂」（印刷学会出版部、１
９８１年刊）、Ｇ．Ｅ．Ｇｒｅｅｎ ａｎｄ Ｂ．Ｐ．
Ｓｔｒａｋ、Ｊ．Ｍａｃｒｏ．Ｓｃｉ．Ｒｅａｓ．Ｍａ
ｃｒｏ．Ｃｈｅｍ．Ｃ２１（２）、１８７〜２７３（１
９８１〜８２）、Ｃ．Ｇ．Ｒａｔｔｅｙ「Ｐｈｏｔｏｐ
ｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｓｕｒｆａｃｅ
Ｃｏａｔｉｎｇｓ」（Ａ．Ｗｉｌｅｙ ＩｎｔｅｒＳｃ
ｉｅｎｃｅＰｕｂ．１９８２年刊) 等の総説に引例され
た光硬化性樹脂として従来公知の感光性樹脂等に用いら
れる官能基が用いられる。
【０１０３】また本発明における「熱硬化性官能基」
は、前記特定の極性基以外の官能基であって、例えば、
遠藤剛「熱硬化性高分子の精密化」（Ｃ．Ｍ．Ｃ．
（株）、１９８６年刊）、原崎勇次「最新バインダー技
術便覧」第II−Ｉ章（総合技術センター、１９８５年
刊）、大津隆行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開
発」（中部経営開発センター出版部、１９８５年刊）、
大森英三「機能性アクリル系樹脂」（テクノシステム、
１９８５年刊）等の総説に引例の官能基を用いることが
できる。
は、前記特定の極性基以外の官能基であって、例えば、
遠藤剛「熱硬化性高分子の精密化」（Ｃ．Ｍ．Ｃ．
（株）、１９８６年刊）、原崎勇次「最新バインダー技
術便覧」第II−Ｉ章（総合技術センター、１９８５年
刊）、大津隆行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開
発」（中部経営開発センター出版部、１９８５年刊）、
大森英三「機能性アクリル系樹脂」（テクノシステム、
１９８５年刊）等の総説に引例の官能基を用いることが
できる。
【０１０４】例えば−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＮＨ2 基、
−ＮＨＺ4 基〔Ｚ4 は炭化水素基を表わし、例えば炭素
数１〜１０の置換されてもよいアルキル基（例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、２−クロロエチル基、２−メト
キシエチル基、２−シアノエチル基等）、炭素数４〜８
の置換されてもよいシクロアルキル基（例えばシクロヘ
プチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数７〜１２の置
換されてもよいアラルキル基（例えばベンジル基、フェ
ネチル基、３−フェニルプロピル基、クロロベンジル
基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基等）、置換
されてもよいアリール基（例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、メトキシフェニル基、ナフチル基等）等が挙げられ
る〕、下記化３２で示される基、−ＣＯＮＨＣＨ2 ＯＺ
5 〔Ｚ5 は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、へキ
シル基、オクチル基等）を表わす〕、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ基及
び−Ｃ（ｑ1 ）＝Ｃ（ｑ2 ）Ｈ基｛ｑ1 、ｑ2 は各々水
素原子、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）
又は炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、エチ
ル基等）を表わす｝等を挙げることができる。
−ＮＨＺ4 基〔Ｚ4 は炭化水素基を表わし、例えば炭素
数１〜１０の置換されてもよいアルキル基（例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、２−クロロエチル基、２−メト
キシエチル基、２−シアノエチル基等）、炭素数４〜８
の置換されてもよいシクロアルキル基（例えばシクロヘ
プチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数７〜１２の置
換されてもよいアラルキル基（例えばベンジル基、フェ
ネチル基、３−フェニルプロピル基、クロロベンジル
基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基等）、置換
されてもよいアリール基（例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、メトキシフェニル基、ナフチル基等）等が挙げられ
る〕、下記化３２で示される基、−ＣＯＮＨＣＨ2 ＯＺ
5 〔Ｚ5 は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、へキ
シル基、オクチル基等）を表わす〕、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ基及
び−Ｃ（ｑ1 ）＝Ｃ（ｑ2 ）Ｈ基｛ｑ1 、ｑ2 は各々水
素原子、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）
又は炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、エチ
ル基等）を表わす｝等を挙げることができる。
【０１０５】
【化３２】
【０１０６】また、該重合性二重結合基として、具体的
にはＣＨ2 ＝ＣＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 −、ＣＨ2 ＝
ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ−、Ｃ（Ｃ
Ｈ3 ）Ｈ＝ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＮＨ−、Ｃ
Ｈ2＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＮＨ−、Ｃ（ＣＨ3 ）Ｈ＝ＣＨ
ＣＯＮＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ
3 ）ＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 ＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝
ＣＨＮＨＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 ＮＨＣＯ−、ＣＨ
2 ＝ＣＨＳＯ2 −、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨ
Ｏ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＳ−等を挙げることができる。
にはＣＨ2 ＝ＣＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 −、ＣＨ2 ＝
ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ−、Ｃ（Ｃ
Ｈ3 ）Ｈ＝ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＮＨ−、Ｃ
Ｈ2＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＮＨ−、Ｃ（ＣＨ3 ）Ｈ＝ＣＨ
ＣＯＮＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ
3 ）ＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 ＯＣＯ−、ＣＨ2 ＝
ＣＨＮＨＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 ＮＨＣＯ−、ＣＨ
2 ＝ＣＨＳＯ2 −、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯ−、ＣＨ2 ＝ＣＨ
Ｏ−、ＣＨ2 ＝ＣＨＳ−等を挙げることができる。
【０１０７】本発明において、樹脂〔Ｂ〕に該硬化性官
能基の群から選択される少なくとも１種の官能基を含有
させる方法として、重合体に高分子反応で導入する方
法、又は該官能基を１種又はそれ以上含有する１種又は
それ以上の単量体と、前記した一般式（II）の繰り返し
単位に相当する単量体及び任意の「極性基含有の共重合
体成分」に相当する単量体とを共重合反応する方法等に
より得られる。
能基の群から選択される少なくとも１種の官能基を含有
させる方法として、重合体に高分子反応で導入する方
法、又は該官能基を１種又はそれ以上含有する１種又は
それ以上の単量体と、前記した一般式（II）の繰り返し
単位に相当する単量体及び任意の「極性基含有の共重合
体成分」に相当する単量体とを共重合反応する方法等に
より得られる。
【０１０８】高分子反応は従来公知の低分子合成反応の
方法をそのまま用いることができ、例えば、日本化学会
編「新実験化学講座１４巻、有機化合物の合成と反応
〔Ｉ〕〜〔Ｖ〕」（丸善株式会社刊）、岩倉義男、栗田
恵輔著「反応性高分子」等の総説引例の公知文献等に詳
細に記載されている。一方、該「光及び／又は熱硬化反
応を行なう官能基」を含有する単量体の例としては、例
えば一般式（II）の繰り返し単位に相当する単量体と共
重合し得る、該官能基を含有するビニル系化合物を挙げ
ることができる。具体的には、前記した「極性基含有の
化合物」と同様の化合物の置換基中に該官能基を含有す
るもの等が挙げられる。
方法をそのまま用いることができ、例えば、日本化学会
編「新実験化学講座１４巻、有機化合物の合成と反応
〔Ｉ〕〜〔Ｖ〕」（丸善株式会社刊）、岩倉義男、栗田
恵輔著「反応性高分子」等の総説引例の公知文献等に詳
細に記載されている。一方、該「光及び／又は熱硬化反
応を行なう官能基」を含有する単量体の例としては、例
えば一般式（II）の繰り返し単位に相当する単量体と共
重合し得る、該官能基を含有するビニル系化合物を挙げ
ることができる。具体的には、前記した「極性基含有の
化合物」と同様の化合物の置換基中に該官能基を含有す
るもの等が挙げられる。
【０１０９】「熱及び／又は光硬化性官能基」含有の繰
り返し単位について例示する。ここで、Ｒ41は前記Ｒ21
と同様の内容を示し、ｈ3 およびｈ4 は各々−Ｈ又は−
ＣＨ3 を示し、Ｒ42は−ＣＨ＝ＣＨ2 又は−ＣＨ2 ＣＨ
＝ＣＨ2 を示し、Ｒ43は−ＣＨ＝ＣＨ2 、−Ｃ（Ｃ
Ｈ3 ）＝ＣＨ2 又は−ＣＨ＝ＣＨＣＨ3を示し、Ｒ44は
−ＣＨ＝ＣＨ2 、−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 、−Ｃ（Ｃ
Ｈ3 ）＝ＣＨ2 又はＣ6 Ｈ5 −ＣＨ＝ＣＨ2 を示し、Ｒ
45はＯＨ又はＮＨ2 を示し、ＺはＳ又はＯを示し、ｗは
１〜４の整数を示し、ｘは２〜１１の整数を示し、ｕは
１〜１１の整数を示し、ｖは１〜１０の整数を示す。
り返し単位について例示する。ここで、Ｒ41は前記Ｒ21
と同様の内容を示し、ｈ3 およびｈ4 は各々−Ｈ又は−
ＣＨ3 を示し、Ｒ42は−ＣＨ＝ＣＨ2 又は−ＣＨ2 ＣＨ
＝ＣＨ2 を示し、Ｒ43は−ＣＨ＝ＣＨ2 、−Ｃ（Ｃ
Ｈ3 ）＝ＣＨ2 又は−ＣＨ＝ＣＨＣＨ3を示し、Ｒ44は
−ＣＨ＝ＣＨ2 、−ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 、−Ｃ（Ｃ
Ｈ3 ）＝ＣＨ2 又はＣ6 Ｈ5 −ＣＨ＝ＣＨ2 を示し、Ｒ
45はＯＨ又はＮＨ2 を示し、ＺはＳ又はＯを示し、ｗは
１〜４の整数を示し、ｘは２〜１１の整数を示し、ｕは
１〜１１の整数を示し、ｖは１〜１０の整数を示す。
【０１１０】
【化３３】
【０１１１】
【化３４】
【０１１２】
【化３５】
【０１１３】又、重合体主鎖中には、−ＰＯ3 Ｈ2 基、
−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−ＯＨ基、−ＳＨ基及び
−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 基のいずれかの極性基を含有す
る共重合成分を含有しないものが好ましい。本発明の結
着樹脂〔Ｂ〕は、相当する一官能性重合性化合物を所望
の割合で共重合させることによって製造することができ
る。重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈澱重合、
乳化重合等の公知の方法を用いることにより製造するこ
とができる。例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等
の溶媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化
合物、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合
せしめ共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥ま
たは貧溶剤に添加することにより所望の共重合体を得る
ことができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体
を懸濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せし
め共重合体を得ることができる。
−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−ＯＨ基、−ＳＨ基及び
−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 基のいずれかの極性基を含有す
る共重合成分を含有しないものが好ましい。本発明の結
着樹脂〔Ｂ〕は、相当する一官能性重合性化合物を所望
の割合で共重合させることによって製造することができ
る。重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈澱重合、
乳化重合等の公知の方法を用いることにより製造するこ
とができる。例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等
の溶媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化
合物、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合
せしめ共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥ま
たは貧溶剤に添加することにより所望の共重合体を得る
ことができる。また、懸濁重合ではポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体
を懸濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せし
め共重合体を得ることができる。
【０１１４】更には、樹脂〔Ｂ〕の分子量は、従来公知
の如く、開始剤の種類（温度により半減期が異なる）、
開始剤の量、重合開始温度あるいは連鎖移動剤の併用等
の方法により容易に調節することができる。更に、本発
明の樹脂〔Ｂ〕は、マクロモノマー（Ｍ）に相当する重
合成分及び前記一般式（IV）で示される重合体成分とと
もに、これらの重合成分と重合可能な他の重合体成分を
更に含有してもよい。具体的には、樹脂〔Ａ〕で他の重
合体成分として例示したと同様の化合物が挙げられる。
但し、これらの他の重合体成分の樹脂〔Ｂ〕中に存在す
る割合は３０重量％以下、好ましくは２０重量％以下で
ある。
の如く、開始剤の種類（温度により半減期が異なる）、
開始剤の量、重合開始温度あるいは連鎖移動剤の併用等
の方法により容易に調節することができる。更に、本発
明の樹脂〔Ｂ〕は、マクロモノマー（Ｍ）に相当する重
合成分及び前記一般式（IV）で示される重合体成分とと
もに、これらの重合成分と重合可能な他の重合体成分を
更に含有してもよい。具体的には、樹脂〔Ａ〕で他の重
合体成分として例示したと同様の化合物が挙げられる。
但し、これらの他の重合体成分の樹脂〔Ｂ〕中に存在す
る割合は３０重量％以下、好ましくは２０重量％以下で
ある。
【０１１５】本発明に用いる樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の
使用量の割合は５〜６０対９５〜４０（重量比）であ
り、好ましくは１０〜５０対９０〜５０（重量比）であ
る。また、本発明において樹脂〔Ｂ〕が光及び／又は熱
硬化性官能基を含有する場合には、膜中での架橋を促進
させるために架橋剤を併用してもよい。用いられる架橋
剤としては、通常架橋剤として用いられる化合物を使用
することができる。
使用量の割合は５〜６０対９５〜４０（重量比）であ
り、好ましくは１０〜５０対９０〜５０（重量比）であ
る。また、本発明において樹脂〔Ｂ〕が光及び／又は熱
硬化性官能基を含有する場合には、膜中での架橋を促進
させるために架橋剤を併用してもよい。用いられる架橋
剤としては、通常架橋剤として用いられる化合物を使用
することができる。
【０１１６】本発明の結着樹脂において用いられる架橋
剤の使用量は、全結着樹脂量に対し０．５〜３０重量
％、特に１〜１０重量％であることが好ましい。本発明
では、感光層膜中での架橋反応を促進させるために、結
着樹脂に必要に応じて反応促進剤を添加してもよい。架
橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様式の場合
には、例えば有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸、ベン
ゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等）等が挙げ
られる。
剤の使用量は、全結着樹脂量に対し０．５〜３０重量
％、特に１〜１０重量％であることが好ましい。本発明
では、感光層膜中での架橋反応を促進させるために、結
着樹脂に必要に応じて反応促進剤を添加してもよい。架
橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様式の場合
には、例えば有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸、ベン
ゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等）等が挙げ
られる。
【０１１７】架橋反応が重合性反応様式の場合には、重
合開始剤（過酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ、
好ましくは、アゾビス系重合開始剤である）、多官能重
合性含有の単量体（例えばビニルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、エチレングリコールアクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ジビニルコハ
ク酸エステル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリル
コハク酸エステル、２−メチルビニルメタクリレート、
ジビニルベンゼン等）等が挙げられる。
合開始剤（過酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ、
好ましくは、アゾビス系重合開始剤である）、多官能重
合性含有の単量体（例えばビニルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、エチレングリコールアクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ジビニルコハ
ク酸エステル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリル
コハク酸エステル、２−メチルビニルメタクリレート、
ジビニルベンゼン等）等が挙げられる。
【０１１８】本発明の結着樹脂は、樹脂〔Ｂ〕にて光及
び／又は熱硬化性官能基を含有する場合には、感光層形
成物を塗布した後、架橋又は熱硬化される。架橋又は熱
硬化を行なうためには、例えば、乾燥条件を従来の感光
体作製時の乾燥条件より厳しくする。例えば、乾燥条件
を高温度及び／又は長時間とするか、あるいは塗布溶剤
の乾燥後、更に加熱処理することが好ましい。例えば６
０〜１２０℃で５〜１２０分間処理する。上述の反応促
進剤を併用すると、より穏やかな条件で処理することが
できる。
び／又は熱硬化性官能基を含有する場合には、感光層形
成物を塗布した後、架橋又は熱硬化される。架橋又は熱
硬化を行なうためには、例えば、乾燥条件を従来の感光
体作製時の乾燥条件より厳しくする。例えば、乾燥条件
を高温度及び／又は長時間とするか、あるいは塗布溶剤
の乾燥後、更に加熱処理することが好ましい。例えば６
０〜１２０℃で５〜１２０分間処理する。上述の反応促
進剤を併用すると、より穏やかな条件で処理することが
できる。
【０１１９】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂１０
０重量部中３０重量％を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。
て、本発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂１０
０重量部中３０重量％を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。
【０１２０】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
【０１２１】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第１７巻、第２７８頁（１９６８年）、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」１９７３（Ｎｏ．８）第９
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
１０章、Ｃ．Ｈ．Ｃ．出版（１９８５年刊）、Ｄ．Ｄ．
Ｔａｔｔ、Ｓ．Ｃ．Ｈｅｉｄｅｃｋｅｒ、Ｔａｐｐｉ、
４９（Ｎｏ．１０）、４３９（１９６６）、Ｅ．Ｓ．Ｂ
ａｌｔａｚｚｉ、Ｒ．Ｇ．Ｂｌａｎｃｌｏｔｔｅ ｅｔ
ａｌ、Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１６（Ｎｏ．
５）、３５４（１９７２）、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌１８（Ｎｏ．２）、
２８（１９８０）、特公昭５０−３１０１１号、特開昭
５３−５４０２７号、同５４−２０７３５号、同５７−
２０２５４４号、同５８−６８０４６号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。
子」第１７巻、第２７８頁（１９６８年）、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」１９７３（Ｎｏ．８）第９
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
１０章、Ｃ．Ｈ．Ｃ．出版（１９８５年刊）、Ｄ．Ｄ．
Ｔａｔｔ、Ｓ．Ｃ．Ｈｅｉｄｅｃｋｅｒ、Ｔａｐｐｉ、
４９（Ｎｏ．１０）、４３９（１９６６）、Ｅ．Ｓ．Ｂ
ａｌｔａｚｚｉ、Ｒ．Ｇ．Ｂｌａｎｃｌｏｔｔｅ ｅｔ
ａｌ、Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１６（Ｎｏ．
５）、３５４（１９７２）、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌１８（Ｎｏ．２）、
２８（１９８０）、特公昭５０−３１０１１号、特開昭
５３−５４０２７号、同５４−２０７３５号、同５７−
２０２５４４号、同５８−６８０４６号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。
【０１２２】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体１００重量部に対して、１
０重量部〜１００重量部であることが好ましく、より好
ましくは１５重量部〜５０重量部である。本発明の樹脂
〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割合は、樹脂〔Ａ〕／樹脂
〔Ｂ〕の重量比で０．０５〜０．８／０．９５〜０．２
０であることが好ましく、より好ましくは０．１０〜
０．５０／０．９０〜０．５０である。
樹脂の総量は、無機光導電体１００重量部に対して、１
０重量部〜１００重量部であることが好ましく、より好
ましくは１５重量部〜５０重量部である。本発明の樹脂
〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割合は、樹脂〔Ａ〕／樹脂
〔Ｂ〕の重量比で０．０５〜０．８／０．９５〜０．２
０であることが好ましく、より好ましくは０．１０〜
０．５０／０．９０〜０．５０である。
【０１２３】結着樹脂の総量比が１０重量部以下となる
と、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又１００重
量部以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性に
おいても複写画像の悪化を生じてしまう。又、本発明の
樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割合において樹脂〔Ａ〕
の重量比が０．０５以下になると、静電特性向上の効果
が薄れてしまう。一方０．８以上になると光導電層の膜
強度が充分維持できなくなる場合（特に電子写真式平版
印刷用原版として）が生じる。
と、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又１００重
量部以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性に
おいても複写画像の悪化を生じてしまう。又、本発明の
樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割合において樹脂〔Ａ〕
の重量比が０．０５以下になると、静電特性向上の効果
が薄れてしまう。一方０．８以上になると光導電層の膜
強度が充分維持できなくなる場合（特に電子写真式平版
印刷用原版として）が生じる。
【０１２４】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。本発明に
使用する分光増感色素としては、必要に応じて各種の色
素を単独又は併用して用いる。例えば、宮本晴視、武井
英彦、イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１２頁、
Ｃ．Ｊ．Ｙｏｕｎｇ等、ＲＣＡ Ｒｅｖｉｅｗ １５、
４６９（１０５４）、清田航平等、電気通信学会論文誌
Ｊ６３−Ｃ（Ｎｏ．２）、９７（１９８０）、原崎勇次
等、工業科学雑誌６６、７８及び１８８（１９６３）、
谷忠昭、日本写真学会誌３５、２０８（１９７２）等の
総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色
素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタ
レイン系色素、ポリメチン色素（例えば、オキソノール
色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダシアニン
色素、スチリル色素等）、フタロシアニン色素（金属を
含有してもよい）等が挙げられる。
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。本発明に
使用する分光増感色素としては、必要に応じて各種の色
素を単独又は併用して用いる。例えば、宮本晴視、武井
英彦、イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１２頁、
Ｃ．Ｊ．Ｙｏｕｎｇ等、ＲＣＡ Ｒｅｖｉｅｗ １５、
４６９（１０５４）、清田航平等、電気通信学会論文誌
Ｊ６３−Ｃ（Ｎｏ．２）、９７（１９８０）、原崎勇次
等、工業科学雑誌６６、７８及び１８８（１９６３）、
谷忠昭、日本写真学会誌３５、２０８（１９７２）等の
総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色
素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタ
レイン系色素、ポリメチン色素（例えば、オキソノール
色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダシアニン
色素、スチリル色素等）、フタロシアニン色素（金属を
含有してもよい）等が挙げられる。
【０１２５】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭５１−４５
２号、特開昭５０−９０３３４号、同５０−１１４２２
７号、同５３−３９１３０号、同５３−８２３５３号、
米国特許第３，０５２，５４０号、同４，０５４，４５
０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のものが挙げ
られる。
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭５１−４５
２号、特開昭５０−９０３３４号、同５０−１１４２２
７号、同５３−３９１３０号、同５３−８２３５３号、
米国特許第３，０５２，５４０号、同４，０５４，４５
０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のものが挙げ
られる。
【０１２６】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｍｅｒ 「Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉ
ｎｅＤｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕ
ｎｄ」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第３，０４７，３８４号、同３，１１
０，５９１号、同３，１２１，００８号、同３，１２
５，４４７号、同３，１２８，１７９号、同３，１３
２，９４２号、同３，６２２，３１７号、英国特許第
１，２２６，８９２号、同１，３０９，２７４号、同
１，４０５，８９８号、特公昭４８−７８１４号、同５
５−１８８９２号等に記載の色素が挙げられる。
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｍｅｒ 「Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉ
ｎｅＤｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕ
ｎｄ」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第３，０４７，３８４号、同３，１１
０，５９１号、同３，１２１，００８号、同３，１２
５，４４７号、同３，１２８，１７９号、同３，１３
２，９４２号、同３，６２２，３１７号、英国特許第
１，２２６，８９２号、同１，３０９，２７４号、同
１，４０５，８９８号、特公昭４８−７８１４号、同５
５−１８８９２号等に記載の色素が挙げられる。
【０１２７】更に７００ｎｍ以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭４
７−８４０号、同４７−４４１８０号、特公昭５１−４
１０６１号、特開昭４９−５０３４号、同４９−４５１
２２号、同５７−４６２４５号、同５６−３５１４１
号、同５７−１５７２５４号、同６１−２６０４４号、
同６１−２７５５１号、米国特許第３，６１９，１５４
号、同４，１７５，９５６号、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ」１９８２年、２１６、第１１７〜
１１８頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説：イメージング、１９７３（Ｎｏ．８）第
１２頁等の総説引例の電子受容性化合物（例えばハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等）、小門宏等「細菌の光導電材料と感光体の開発・
実用化」第４章〜第６章・日本科学情報（株）出版部
（１９８６年）の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、ｐ−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭４
７−８４０号、同４７−４４１８０号、特公昭５１−４
１０６１号、特開昭４９−５０３４号、同４９−４５１
２２号、同５７−４６２４５号、同５６−３５１４１
号、同５７−１５７２５４号、同６１−２６０４４号、
同６１−２７５５１号、米国特許第３，６１９，１５４
号、同４，１７５，９５６号、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ」１９８２年、２１６、第１１７〜
１１８頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説：イメージング、１９７３（Ｎｏ．８）第
１２頁等の総説引例の電子受容性化合物（例えばハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等）、小門宏等「細菌の光導電材料と感光体の開発・
実用化」第４章〜第６章・日本科学情報（株）出版部
（１９８６年）の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、ｐ−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。
【０１２８】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体１００重量部に対して０．０
００１〜２．０重量部である。光導電層の厚さは１〜１
００μ、特に１０〜５０μが好適である。また、電荷発
生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層として光
導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは０．０１〜
１μ、特に０．０５〜０．５μが好適である。感光体の
保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目的として
絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶縁層は比較
的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プロセスに用
いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設定される。
後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０μ、特には、１
０〜５０μに設定される。
ではないが、通常光導電体１００重量部に対して０．０
００１〜２．０重量部である。光導電層の厚さは１〜１
００μ、特に１０〜５０μが好適である。また、電荷発
生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層として光
導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは０．０１〜
１μ、特に０．０５〜０．５μが好適である。感光体の
保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目的として
絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶縁層は比較
的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プロセスに用
いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設定される。
後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０μ、特には、１
０〜５０μに設定される。
【０１２９】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては５〜４０μ、特には１０〜３０μが
好適である。絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の
熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては５〜４０μ、特には１０〜３０μが
好適である。絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の
熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
【０１３０】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面（感光層を設け
る面と反対面）に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも１層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも１層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Ａｌ等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面（感光層を設け
る面と反対面）に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも１層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも１層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Ａｌ等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
【０１３１】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、１４（Ｎｏ．１）
第２〜１１頁（１９７５）、森賀弘之「入門特殊紙の化
学」高分子刊行会（１９７５）、Ｍ．Ｆ．Ｈｏｏｖｅ
ｒ、Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ−４
（６）、第１３２７〜第１４１７頁（１９７０）等に記
載されているもの等を用いる。
の例としては、坂本幸男、電子写真、１４（Ｎｏ．１）
第２〜１１頁（１９７５）、森賀弘之「入門特殊紙の化
学」高分子刊行会（１９７５）、Ｍ．Ｆ．Ｈｏｏｖｅ
ｒ、Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ−４
（６）、第１３２７〜第１４１７頁（１９７０）等に記
載されているもの等を用いる。
【０１３２】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はＰＰＣ方式お
よびＣＰＣ方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。特に、高精細なオリジ
ナルの忠実な複写画像形成が可能なことから、液体現像
剤との組合せで利用すると、本発明の効果がより発揮さ
れる。
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はＰＰＣ方式お
よびＣＰＣ方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。特に、高精細なオリジ
ナルの忠実な複写画像形成が可能なことから、液体現像
剤との組合せで利用すると、本発明の効果がより発揮さ
れる。
【０１３３】また、カラー現像剤との組合せとすること
で、黒白複写画像のみならず、カラー複写画像にも応用
することができる（例えば、滝沢九郎「写真工業」３
３、３４（１９７５年）、安西正保「電子通信学会技術
研究報告」７７、１７（１９７７年）等に記載の方
法）。更に近年の電子写真プロセスを利用した他の用途
への利用のシステムにおいても有効である。例えば、光
導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感光体
はオフセット平版印刷用原版に、無公害で白色度の良好
な光導電性酸化亜鉛又は光導電性酸化チタンを用いた感
光体は、オフセット印刷プロセスで用いられる版下用記
載材料又はカラープループ等に用いることができる。
で、黒白複写画像のみならず、カラー複写画像にも応用
することができる（例えば、滝沢九郎「写真工業」３
３、３４（１９７５年）、安西正保「電子通信学会技術
研究報告」７７、１７（１９７７年）等に記載の方
法）。更に近年の電子写真プロセスを利用した他の用途
への利用のシステムにおいても有効である。例えば、光
導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感光体
はオフセット平版印刷用原版に、無公害で白色度の良好
な光導電性酸化亜鉛又は光導電性酸化チタンを用いた感
光体は、オフセット印刷プロセスで用いられる版下用記
載材料又はカラープループ等に用いることができる。
【０１３４】
【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔Ａ〕の合成〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１：〔Ａ−１〕 メチルメタクリレート６６ｇ、メチルアクリレート３０
ｇ、アクリル酸４ｇ及び下記構造の開始剤〔Ｉ−１〕２
８ｇ及びテトラヒドロフラン１５０ｇの混合溶液を窒素
気流下に温度５０℃に加温した。
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔Ａ〕の合成〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１：〔Ａ−１〕 メチルメタクリレート６６ｇ、メチルアクリレート３０
ｇ、アクリル酸４ｇ及び下記構造の開始剤〔Ｉ−１〕２
８ｇ及びテトラヒドロフラン１５０ｇの混合溶液を窒素
気流下に温度５０℃に加温した。
【０１３５】
【化３６】
【０１３６】この溶液に４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃ
ｍの距離からガラスフィルターを通して１０時間光照射
し光重合した。得られた反応物をメタノール１ｌ中に再
沈し、沈殿物を補集し乾燥して、収量７２ｇで重量平均
分子量（Ｍｗ：樹脂〔Ａ〕にいうＭｗはポリスチレン換
算によるＧＰＣ法による値）８×１０3 の重合体を得
た。
ｍの距離からガラスフィルターを通して１０時間光照射
し光重合した。得られた反応物をメタノール１ｌ中に再
沈し、沈殿物を補集し乾燥して、収量７２ｇで重量平均
分子量（Ｍｗ：樹脂〔Ａ〕にいうＭｗはポリスチレン換
算によるＧＰＣ法による値）８×１０3 の重合体を得
た。
【０１３７】
【化３７】
【０１３８】樹脂〔Ａ〕の合成例２：〔Ａ−２〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１において、開始剤〔Ｉ−１〕２８
ｇの代わりに、下記構造の開始剤〔Ｉ−２〕３６．３ｇ
を用いた他は、樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様の条件で操
作した。得られた重合体の収量は７５ｇでＭｗ７．５×
１０3 であった。
ｇの代わりに、下記構造の開始剤〔Ｉ−２〕３６．３ｇ
を用いた他は、樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様の条件で操
作した。得られた重合体の収量は７５ｇでＭｗ７．５×
１０3 であった。
【０１３９】
【化３８】
【０１４０】
【化３９】
【０１４１】樹脂〔Ａ〕の合成例３〜９：〔Ａ−３〕〜
〔Ａ−９〕 ２−クロロフェニルメタクリレート９５ｇ、メタクリル
酸５ｇ、下記表−Ａの開始剤０．１０モル及びテトラヒ
ドロフラン１００ｇの混合溶液とした他は、樹脂〔Ａ〕
の合成例１と同様の条件で操作し、各重合体を得た。得
られた各重合体のＭｗは６×１０3 〜８×１０3 の範囲
であった。
〔Ａ−９〕 ２−クロロフェニルメタクリレート９５ｇ、メタクリル
酸５ｇ、下記表−Ａの開始剤０．１０モル及びテトラヒ
ドロフラン１００ｇの混合溶液とした他は、樹脂〔Ａ〕
の合成例１と同様の条件で操作し、各重合体を得た。得
られた各重合体のＭｗは６×１０3 〜８×１０3 の範囲
であった。
【０１４２】
【表１】
【０１４３】
【表２】
【０１４４】
【表３】
【０１４５】樹脂〔Ａ〕の合成例１０〜２５：〔Ａ−１
０〕〜〔Ａ−２５〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１において、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート及びアクリル酸の代わりに、表
−Ｂに記載の重合成分に相当する各単量体を用いた他
は、樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様の条件で操作して各重
合体を得た。得られた各重合体のＭｗは６×１０3 〜９
×１０3 の範囲であった。
０〕〜〔Ａ−２５〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１において、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート及びアクリル酸の代わりに、表
−Ｂに記載の重合成分に相当する各単量体を用いた他
は、樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様の条件で操作して各重
合体を得た。得られた各重合体のＭｗは６×１０3 〜９
×１０3 の範囲であった。
【０１４６】
【表４】
【０１４７】
【表５】
【０１４８】
【表６】
【０１４９】樹脂〔Ａ〕の合成例２６〜３０：〔Ａ−２
６〕〜〔Ａ−３０〕 前記開始剤〔Ｉ−２〕３３．９ｇ、及び下記表−Ｃに示
される各重合体成分に相当する単量体の混合物を、窒素
気流下、温度４０℃に加温した。以下の操作を合成例１
と同様にして、光照射し、重合させた後、固形分を取り
出し、テトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶解した後、メ
タノール１．５ｌ中に再沈し、沈殿物を濾集・乾燥し
た。各重合体の収量は６０〜７５ｇでＭｗ６×１０3 〜
８×１０3 の範囲であった。
６〕〜〔Ａ−３０〕 前記開始剤〔Ｉ−２〕３３．９ｇ、及び下記表−Ｃに示
される各重合体成分に相当する単量体の混合物を、窒素
気流下、温度４０℃に加温した。以下の操作を合成例１
と同様にして、光照射し、重合させた後、固形分を取り
出し、テトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶解した後、メ
タノール１．５ｌ中に再沈し、沈殿物を濾集・乾燥し
た。各重合体の収量は６０〜７５ｇでＭｗ６×１０3 〜
８×１０3 の範囲であった。
【０１５０】
【表７】
【０１５１】
【表８】
【０１５２】〔樹脂〔Ｂ〕に用いるマクロモノマ−の合
成〕 マクロモノマー（Ｍ）の合成例１：（ＭＭ−１） トリフェニルメチルメタクリレート１０ｇ及びトルエン
１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−２０
℃に冷却した。１，１−ジフェニルブチルリチウム０．
０２ｇを加え１０時間反応した。更にこの混合溶液に、
エチルメタクリレート９０ｇ及びトルエン１００ｇの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に１
０時間反応した。この混合物を０℃にした後、炭酸ガス
を毎分６０mlの流量で３０分間通気し、重合反応を停止
させた。得られた反応液を、攪拌下に、温度２５℃と
し、２−ヒドロキシエチルメタクリレート６ｇを加え、
更にジシクロヘキシルカルボジイミド１０ｇ、４−Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ及び塩化メチレン
３０ｇの混合溶液を３０分間で滴下し、そのまま３時間
攪拌した。
成〕 マクロモノマー（Ｍ）の合成例１：（ＭＭ−１） トリフェニルメチルメタクリレート１０ｇ及びトルエン
１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−２０
℃に冷却した。１，１−ジフェニルブチルリチウム０．
０２ｇを加え１０時間反応した。更にこの混合溶液に、
エチルメタクリレート９０ｇ及びトルエン１００ｇの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に１
０時間反応した。この混合物を０℃にした後、炭酸ガス
を毎分６０mlの流量で３０分間通気し、重合反応を停止
させた。得られた反応液を、攪拌下に、温度２５℃と
し、２−ヒドロキシエチルメタクリレート６ｇを加え、
更にジシクロヘキシルカルボジイミド１０ｇ、４−Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ及び塩化メチレン
３０ｇの混合溶液を３０分間で滴下し、そのまま３時間
攪拌した。
【０１５３】析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に
３０重量％塩化水素・エタノール溶液１０ｍｌを加え１
時間攪拌した。次に減圧下に反応混合物を全体量が半分
になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル１ｌ中に再
沈した。沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体
は、Ｍｗ６．５×１０3 で収量５６ｇであった。
３０重量％塩化水素・エタノール溶液１０ｍｌを加え１
時間攪拌した。次に減圧下に反応混合物を全体量が半分
になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル１ｌ中に再
沈した。沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体
は、Ｍｗ６．５×１０3 で収量５６ｇであった。
【０１５４】
【化４０】
【０１５５】マクロモノマー（Ｍ）の合成例２：（ＭＭ
−２） ベンジルメタクリレート５ｇ、（テトラフェニルポルフ
ィナート）アルミニウムメチル０．０１ｇ及び塩化メチ
レン６０ｇの混合溶液を窒素気流下に温度３０℃とし
た。これに３００Ｗ−キセノンランプ光をガラスフィル
ターを通して２５ｃｍの距離から光照射し、１２時間反
応した。この混合物に更にブチルメタクリレート４５ｇ
を加え、同様に８時間光照射した後、この反応混合物に
４−ブロモメチルスチレン５ｇを加え３０分間攪拌し反
応を停止させた。
−２） ベンジルメタクリレート５ｇ、（テトラフェニルポルフ
ィナート）アルミニウムメチル０．０１ｇ及び塩化メチ
レン６０ｇの混合溶液を窒素気流下に温度３０℃とし
た。これに３００Ｗ−キセノンランプ光をガラスフィル
ターを通して２５ｃｍの距離から光照射し、１２時間反
応した。この混合物に更にブチルメタクリレート４５ｇ
を加え、同様に８時間光照射した後、この反応混合物に
４−ブロモメチルスチレン５ｇを加え３０分間攪拌し反
応を停止させた。
【０１５６】次にこの反応混合物にＰｄ−Ｃを加え、温
度２５℃で１時間接触還元反応を行なった。不溶物を濾
別した後、石油エーテル５００ｍｌ中に再沈し、沈澱物
を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量３３ｇでＭｗ
７×１０3であった。
度２５℃で１時間接触還元反応を行なった。不溶物を濾
別した後、石油エーテル５００ｍｌ中に再沈し、沈澱物
を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量３３ｇでＭｗ
７×１０3であった。
【０１５７】
【化４１】
【０１５８】マクロモノマー（Ｍ）の合成例３：（ＭＭ
−３） ４−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン２０ｇ及び
トルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
し、０℃に冷却した。１，１−ジフェニル−３−メチル
ペンチルリチウム０．１ｇを加え、６時間攪拌した。更
にこの混合物に２−クロロ−６−メチルフェニルメタク
リレート８０ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を窒素
気流下に充分脱気した後添加して８時間反応した。この
反応混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを
３０ｍｌ／分の流量で３０分間通気した後、温度１５℃
に冷却しメタクリル酸クロライド８ｇを３０分間で滴下
し、更にそのまま３時間攪拌した。
−３） ４−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン２０ｇ及び
トルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
し、０℃に冷却した。１，１−ジフェニル−３−メチル
ペンチルリチウム０．１ｇを加え、６時間攪拌した。更
にこの混合物に２−クロロ−６−メチルフェニルメタク
リレート８０ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を窒素
気流下に充分脱気した後添加して８時間反応した。この
反応混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを
３０ｍｌ／分の流量で３０分間通気した後、温度１５℃
に冷却しメタクリル酸クロライド８ｇを３０分間で滴下
し、更にそのまま３時間攪拌した。
【０１５９】次にこの反応混合物に３０重量％塩化水素
エタノール溶液１０ｍｌを加え、２５℃で１時間攪拌し
た後、石油エーテル１ｌ中に再沈し、捕集した沈澱物を
ジエチルエーテル３００ｍｌで２回洗浄し乾燥した。得
られた重合体は、収量５５ｇでＭｗ７．８×１０3 であ
った。
エタノール溶液１０ｍｌを加え、２５℃で１時間攪拌し
た後、石油エーテル１ｌ中に再沈し、捕集した沈澱物を
ジエチルエーテル３００ｍｌで２回洗浄し乾燥した。得
られた重合体は、収量５５ｇでＭｗ７．８×１０3 であ
った。
【０１６０】
【化４２】
【０１６１】マクロモノマー（Ｍ）の合成例４：（ＭＭ
−４） トリフェニルメチルアクリレート１５ｇ及びトルエン１
００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−２０℃
に冷却した。ｓｅｃ−ブチルリチウム０．１ｇを加え、
１０時間反応した。次に、この混合溶液にスチレン８５
ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を充分に窒素気流下
で脱気した後添加し１２時間反応した。この混合物を０
℃にした後、ベンジルブロマイド８ｇを加え１時間反応
し、温度２５℃で更に２時間反応させた。この反応混合
物に３０％塩化水素含有エタノール溶液１０ｍｌを加え
２時間攪拌した。不溶物を濾別後、ｎ−ヘキサン１ｌ中
に再沈し、沈澱物を捕集して減圧乾燥した。得られた重
合体の収量は５８ｇで、Ｍｗ４．５×１０3 であった。
−４） トリフェニルメチルアクリレート１５ｇ及びトルエン１
００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−２０℃
に冷却した。ｓｅｃ−ブチルリチウム０．１ｇを加え、
１０時間反応した。次に、この混合溶液にスチレン８５
ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を充分に窒素気流下
で脱気した後添加し１２時間反応した。この混合物を０
℃にした後、ベンジルブロマイド８ｇを加え１時間反応
し、温度２５℃で更に２時間反応させた。この反応混合
物に３０％塩化水素含有エタノール溶液１０ｍｌを加え
２時間攪拌した。不溶物を濾別後、ｎ−ヘキサン１ｌ中
に再沈し、沈澱物を捕集して減圧乾燥した。得られた重
合体の収量は５８ｇで、Ｍｗ４．５×１０3 であった。
【０１６２】
【化４３】
【０１６３】マクロモノマー（Ｍ）の合成例５：（ＭＭ
−５） フェニルメタクリレート８０ｇ、ベンジル−Ｎ−ヒドロ
キシルエチル−Ｎ−エチルジチオカーバメート４．８ｇ
の混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度６０℃に
加温した。これに４００Ｗの高圧水銀灯で１０cmの距離
からガラスフィルターを通して１０時間光照射し光重合
した。これにアクリル酸２０ｇ及びメチルエチルケトン
１８０ｇを加えた後、窒素置換し再び１０時間光照射し
た。
−５） フェニルメタクリレート８０ｇ、ベンジル−Ｎ−ヒドロ
キシルエチル−Ｎ−エチルジチオカーバメート４．８ｇ
の混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度６０℃に
加温した。これに４００Ｗの高圧水銀灯で１０cmの距離
からガラスフィルターを通して１０時間光照射し光重合
した。これにアクリル酸２０ｇ及びメチルエチルケトン
１８０ｇを加えた後、窒素置換し再び１０時間光照射し
た。
【０１６４】得られた反応混合物に、２−イソシアナー
トエチルメタクリレート６ｇを温度３０℃で１時間で滴
下し更に２時間攪拌した。得られた反応物をヘキサン
１．５ｌに再沈し、捕集し乾燥した。得られた重合体の
収量は、６８ｇでＭｗ６．０×１０3 であった。
トエチルメタクリレート６ｇを温度３０℃で１時間で滴
下し更に２時間攪拌した。得られた反応物をヘキサン
１．５ｌに再沈し、捕集し乾燥した。得られた重合体の
収量は、６８ｇでＭｗ６．０×１０3 であった。
【０１６５】
【化４４】
【０１６６】〔樹脂〔Ｂ〕の合成〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例１：〔Ｂ−１〕 エチルメタクリレート８０ｇ、前記マクロモノマー（Ｍ
Ｍ−１）２０ｇ、トルエン１５０ｇの混合溶液を窒素気
流下に温度８５℃に加温した。１，１−アゾビス（シロ
クヘキサン−１−カルボニトリル)(A.B.C.C.）０．８ｇ
を加え５時間反応し、更にA.B.C.C.を０．５ｇ加え５時
間反応した。得られた共重合体のＭｗは１．０×１０5
であった。
Ｍ−１）２０ｇ、トルエン１５０ｇの混合溶液を窒素気
流下に温度８５℃に加温した。１，１−アゾビス（シロ
クヘキサン−１−カルボニトリル)(A.B.C.C.）０．８ｇ
を加え５時間反応し、更にA.B.C.C.を０．５ｇ加え５時
間反応した。得られた共重合体のＭｗは１．０×１０5
であった。
【０１６７】
【化４５】
【０１６８】樹脂〔Ｂ〕の合成例２：〔Ｂ−２〕 ブチルメタクリレート７０ｇ、マクロモノマー（ＭＭ−
１）３０ｇ、トルエン１５０ｇの混合溶液を窒素気流下
に温度７０℃に加温した。A.I.B.N.を０．５ｇ加え６時
間反応し、更に４時間毎にA.I.B.N.を０．３ｇ加え８時
間反応した。得られた共重合体のＭｗは８．５×１０4
であった。
１）３０ｇ、トルエン１５０ｇの混合溶液を窒素気流下
に温度７０℃に加温した。A.I.B.N.を０．５ｇ加え６時
間反応し、更に４時間毎にA.I.B.N.を０．３ｇ加え８時
間反応した。得られた共重合体のＭｗは８．５×１０4
であった。
【０１６９】
【化４６】
【０１７０】樹脂〔Ｂ〕の合成例３〜９：〔Ｂ−３〕〜
〔Ｂ−９〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例２と同様の重合条件で、下記表−Ｄ
の各共重合体を合成した。得られた重合体のＭｗは、各
々７×１０4 〜９×１０4 であった。
〔Ｂ−９〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例２と同様の重合条件で、下記表−Ｄ
の各共重合体を合成した。得られた重合体のＭｗは、各
々７×１０4 〜９×１０4 であった。
【０１７１】
【表９】
【０１７２】
【表１０】
【０１７３】樹脂〔Ｂ〕の合成例１０〜２６：〔Ｂ−１
０〕〜〔Ｂ−２６〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同様の重合条件で、下記表−Ｅ
の各共重合体を合成した。得られた重合体のＭｗは、各
々９×１０4 〜２×１０5 であった。
０〕〜〔Ｂ−２６〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同様の重合条件で、下記表−Ｅ
の各共重合体を合成した。得られた重合体のＭｗは、各
々９×１０4 〜２×１０5 であった。
【０１７４】
【表１１】
【０１７５】
【表１２】
【０１７６】
【表１３】
【０１７７】実施例１並びに比較例１及び２ 樹脂〔Ａ−３〕６ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−２
４〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のシアニン色素〔Ｉ〕０．０１８ｇ、サ
リチル酸０．１５ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホ
モジナイザー（日本精機（株）製）中、回転数６×１０
3 ｒ．ｐ．ｍ．で６分間分散し、更に無水フタル酸０．
２０ｇ及びｏ−クロロフェノール０．００３ｇを添加
し、回転数１×１０3 ｒ．ｐ．ｍ．で１分間分散した。
この様にして調製した感光層形成物を導電処理した紙
に、乾燥付着量が２２ｇ／ｍ2となる様に、ワイヤーバ
ーで塗布し、１１０℃で１０秒間乾燥し、更に１４０℃
で３０分間加熱した。ついで暗所で２０℃、６５％ＲＨ
の条件下で２４時間放置することにより、電子写真感光
材料を作製した。
４〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のシアニン色素〔Ｉ〕０．０１８ｇ、サ
リチル酸０．１５ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホ
モジナイザー（日本精機（株）製）中、回転数６×１０
3 ｒ．ｐ．ｍ．で６分間分散し、更に無水フタル酸０．
２０ｇ及びｏ−クロロフェノール０．００３ｇを添加
し、回転数１×１０3 ｒ．ｐ．ｍ．で１分間分散した。
この様にして調製した感光層形成物を導電処理した紙
に、乾燥付着量が２２ｇ／ｍ2となる様に、ワイヤーバ
ーで塗布し、１１０℃で１０秒間乾燥し、更に１４０℃
で３０分間加熱した。ついで暗所で２０℃、６５％ＲＨ
の条件下で２４時間放置することにより、電子写真感光
材料を作製した。
【０１７８】
【化４７】
【０１７９】比較例１：実施例１において、樹脂〔Ａ−
３〕６ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ−１〕６ｇを用
いた他は、実施例１と同様に操作して電子写真感光材料
を作製した。
３〕６ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ−１〕６ｇを用
いた他は、実施例１と同様に操作して電子写真感光材料
を作製した。
【０１８０】
【化４８】
【０１８１】比較例２：実施例１において、樹脂〔Ａ−
３〕６ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ−２〕６ｇを用
いた他は、実施例１と同様に操作して電子写真感光材料
を作製した。
３〕６ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ−２〕６ｇを用
いた他は、実施例１と同様に操作して電子写真感光材料
を作製した。
【０１８２】
【化４９】
【０１８３】これらの感光材料について、撮像性、印刷
性及び環境条件を（２０℃、６５％ＲＨ）、（３０℃、
８０％ＲＨ）及び（１５℃、３０％ＲＨ）とした時の撮
像性及び印刷性を調べた。以上の結果を表−Ｆに示す。
性及び環境条件を（２０℃、６５％ＲＨ）、（３０℃、
８０％ＲＨ）及び（１５℃、３０％ＲＨ）とした時の撮
像性及び印刷性を調べた。以上の結果を表−Ｆに示す。
【０１８４】
【表１４】
【０１８５】表−Ｆに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注１）表面層の平滑性：得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機（熊谷理工（株）製）を用い、空気容量１ｃ
ｃの条件にて、その平滑度（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定し
た。 注２）撮像性：各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放
置した後、各感光材料を−６ｋＶで帯電し、光源として
２．８ｍＷ出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導
体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）を用いて、感光材料
表面上で６４ｅｒｇ／ｃｍ2 の照射量下で、ピッチ２５
μｍ及びスキャニング速度３００ｍ／ｓｅｃのスピード
露光後液体現像剤として、ＥＬＰ−Ｔ（富士写真フィル
ム（株）製）を用いて現像し、イソパラフィンアイソパ
ーＧ（エッソ化学（株）製）溶媒のリンス液で洗浄後定
着することで得られた複写画像（カブリ、画像の画質）
を目視評価した。
下の通りである。 注１）表面層の平滑性：得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機（熊谷理工（株）製）を用い、空気容量１ｃ
ｃの条件にて、その平滑度（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定し
た。 注２）撮像性：各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放
置した後、各感光材料を−６ｋＶで帯電し、光源として
２．８ｍＷ出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導
体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）を用いて、感光材料
表面上で６４ｅｒｇ／ｃｍ2 の照射量下で、ピッチ２５
μｍ及びスキャニング速度３００ｍ／ｓｅｃのスピード
露光後液体現像剤として、ＥＬＰ−Ｔ（富士写真フィル
ム（株）製）を用いて現像し、イソパラフィンアイソパ
ーＧ（エッソ化学（株）製）溶媒のリンス液で洗浄後定
着することで得られた複写画像（カブリ、画像の画質）
を目視評価した。
【０１８６】撮像時の環境条件は２０℃、６５％ＲＨ
（Ｉ）、３０℃、８０％ＲＨ（II）及び１５℃、３０％
ＲＨ（III)で実施した。 注３）生版保水性：感光材料を印刷用原版として用いる
際の不感脂化処理による親水化の程度を、下記の強制条
件で処理して調べた。
（Ｉ）、３０℃、８０％ＲＨ（II）及び１５℃、３０％
ＲＨ（III)で実施した。 注３）生版保水性：感光材料を印刷用原版として用いる
際の不感脂化処理による親水化の程度を、下記の強制条
件で処理して調べた。
【０１８７】各感光材料そのもの（製版しない原版：即
ち、生版と略称）を富士写真フィルム（株）製不感脂化
処理液ＥＬＰ−ＥＸを蒸留水を５倍に希釈した水溶液を
用いて、エッチングマシーンを１回通した。次に、これ
らの版をハマダスター（株）製ハマダスター８００５Ｘ
型を用いて印刷し、刷り出しから５０枚目の印刷物の地
汚れの有無を目視で評価した。 注４）印刷物の地汚れ：各感光材料を上記注２）と同一
の操作で製版した後、ＥＬＰ−ＥＸを用いて、エッチン
グマシーンを１回通した後、印刷物の地汚れが目視で判
別できるまでの印刷枚数を調べた。
ち、生版と略称）を富士写真フィルム（株）製不感脂化
処理液ＥＬＰ−ＥＸを蒸留水を５倍に希釈した水溶液を
用いて、エッチングマシーンを１回通した。次に、これ
らの版をハマダスター（株）製ハマダスター８００５Ｘ
型を用いて印刷し、刷り出しから５０枚目の印刷物の地
汚れの有無を目視で評価した。 注４）印刷物の地汚れ：各感光材料を上記注２）と同一
の操作で製版した後、ＥＬＰ−ＥＸを用いて、エッチン
グマシーンを１回通した後、印刷物の地汚れが目視で判
別できるまでの印刷枚数を調べた。
【０１８８】表−Ｆに示す様に、本発明の感光材料は、
実際の複写画像で、地カブリがなく、細線・細文字ある
いは連続階調の網点部分等高精細な画像部分が非常に鮮
明な画像が得られた。且つ、撮像時の環境条件が、低温
・低湿あるいは高温・高湿といった過酷な条件下でも、
安定した鮮明な複写画像が得られた。他方、比較例１及
び２は、常温・常湿（Ｉ）の環境条件では、良好な複写
画像が得られたが、環境条件が変動すると、いずれも高
精細な画像部分（特に連続階調の中間濃度部分）に濃度
のムラが発生してしまった。
実際の複写画像で、地カブリがなく、細線・細文字ある
いは連続階調の網点部分等高精細な画像部分が非常に鮮
明な画像が得られた。且つ、撮像時の環境条件が、低温
・低湿あるいは高温・高湿といった過酷な条件下でも、
安定した鮮明な複写画像が得られた。他方、比較例１及
び２は、常温・常湿（Ｉ）の環境条件では、良好な複写
画像が得られたが、環境条件が変動すると、いずれも高
精細な画像部分（特に連続階調の中間濃度部分）に濃度
のムラが発生してしまった。
【０１８９】次にオフセットマスター用印刷原版とし
て、不感脂化処理して、印刷原版としての性能を調べ
た。まず、製版をしない前の各感材を、注３）の不感脂
化力を弱めた強制条件下に不感脂化処理し、実際に印刷
して、インキの付着程度を観察した所、本発明の原版の
みが良好で、比較例１及び２ともインキ付着の発生が見
られた。
て、不感脂化処理して、印刷原版としての性能を調べ
た。まず、製版をしない前の各感材を、注３）の不感脂
化力を弱めた強制条件下に不感脂化処理し、実際に印刷
して、インキの付着程度を観察した所、本発明の原版の
みが良好で、比較例１及び２ともインキ付着の発生が見
られた。
【０１９０】更に、注４）の様に実際に製版した感材
を、通常の不感脂化条件で処理し、印刷した所、本発明
の原版は、地汚れの発生がなく、画像の忠実な再現が認
められる印刷物を８千枚得ることができた。他方、比較
例１は４千枚又比較例２は６千枚であった。更に、環境
条件が過酷な（II）及び（III)で製版した原版は、複写
画像の再現不良のため、刷り出しより印刷物の画像も不
良となった。
を、通常の不感脂化条件で処理し、印刷した所、本発明
の原版は、地汚れの発生がなく、画像の忠実な再現が認
められる印刷物を８千枚得ることができた。他方、比較
例１は４千枚又比較例２は６千枚であった。更に、環境
条件が過酷な（II）及び（III)で製版した原版は、複写
画像の再現不良のため、刷り出しより印刷物の画像も不
良となった。
【０１９１】以上の事は、本発明の樹脂〔Ａ〕が適切に
酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処理液による不感
脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い状態を形成して
いる事及び樹脂〔Ｂ〕の働きによる膜強度の著しい向上
を達成していることを示すものと考えられる。 実施例２ 樹脂〔Ａ−１２〕６ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
２〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のメチン色素〔II〕０．０２０ｇ、Ｎ−
ヒドロキシマレインイミド０．２０ｇ及びトルエン３０
０ｇの混合物を、実施例１と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。
酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処理液による不感
脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い状態を形成して
いる事及び樹脂〔Ｂ〕の働きによる膜強度の著しい向上
を達成していることを示すものと考えられる。 実施例２ 樹脂〔Ａ−１２〕６ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
２〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のメチン色素〔II〕０．０２０ｇ、Ｎ−
ヒドロキシマレインイミド０．２０ｇ及びトルエン３０
０ｇの混合物を、実施例１と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。
【０１９２】
【化５０】
【０１９３】この感光材料の皮膜性（表面の平滑度）、
静電特性、撮像性及び環境条件を３０℃、８０％ＲＨと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。それ
らの結果を表−Ｇに示す。
静電特性、撮像性及び環境条件を３０℃、８０％ＲＨと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。それ
らの結果を表−Ｇに示す。
【０１９４】
【表１５】
【０１９５】表−Ｇに示した評価項目の静電特性の実施
の態様は以下の通りである。 注５）静電特性：温度２０℃、６５％ＲＨの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー（川口電機（株）製
ペーパーアナライザーＳＰ−４２８型）を用いて、−６
ｋＶで２０秒間コロナ放電させた後、１０秒間放置し、
この時の表面電位Ｖ10を測定した。次いでそのまま暗中
で１２０秒間静置させた後の電位Ｖ130 を測定し、１２
０秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保
持率〔ＤＲＲ（％）〕を〔（Ｖ130 ／Ｖ10〕×１００
（％）〕で求めた。
の態様は以下の通りである。 注５）静電特性：温度２０℃、６５％ＲＨの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー（川口電機（株）製
ペーパーアナライザーＳＰ−４２８型）を用いて、−６
ｋＶで２０秒間コロナ放電させた後、１０秒間放置し、
この時の表面電位Ｖ10を測定した。次いでそのまま暗中
で１２０秒間静置させた後の電位Ｖ130 を測定し、１２
０秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保
持率〔ＤＲＲ（％）〕を〔（Ｖ130 ／Ｖ10〕×１００
（％）〕で求めた。
【０１９６】また、コロナ放電により光導電層表面を−
５００Ｖに帯電させた後、波長７８０ｎｍの単色光で照
射し、表面電位（Ｖ10）が１／１０に減衰するまでの時
間を求め、これから露光量Ｅ1/10（ｅｒｇ／ｃｍ2 ）を
算出する。更にＥ1/10測定と同様にコロナ放電により−
５００Ｖに帯電させた後、波長７８０ｎｍの単色光で照
射し、表面電位（Ｖ10）が１／１００に減衰するまでの
時間を求め、これから露光量Ｅ1/100 ( ｅｒｇ／ｃ
ｍ2 ）を算出する。撮像時の環境条件はＩ（２０℃、６
５％ＲＨ）、II（３０℃、８０％ＲＨ）及びIII(１５
℃、３０％ＲＨ）で実施した。
５００Ｖに帯電させた後、波長７８０ｎｍの単色光で照
射し、表面電位（Ｖ10）が１／１０に減衰するまでの時
間を求め、これから露光量Ｅ1/10（ｅｒｇ／ｃｍ2 ）を
算出する。更にＥ1/10測定と同様にコロナ放電により−
５００Ｖに帯電させた後、波長７８０ｎｍの単色光で照
射し、表面電位（Ｖ10）が１／１００に減衰するまでの
時間を求め、これから露光量Ｅ1/100 ( ｅｒｇ／ｃ
ｍ2 ）を算出する。撮像時の環境条件はＩ（２０℃、６
５％ＲＨ）、II（３０℃、８０％ＲＨ）及びIII(１５
℃、３０％ＲＨ）で実施した。
【０１９７】本発明の感光材料は、平滑性は良好で充分
に均一な分散状態になっていた。又環境条件を変えて静
電特性を調べた所、条件が変動しても安定で且つ良好な
値を示した。実際の撮像性においても、原稿に対して忠
実な複写画像を再現し、且つ地カブリも認められなかっ
た。また、オフセットマスター用原版として、不感脂化
処理して、印刷した所良好な印刷物が８千枚得られた。 実施例３〜２２ 実施例２において、樹脂〔Ａ−１２〕及び樹脂〔Ｂ−
２〕に代えて、下記表−Ｈの各樹脂〔Ａ〕及び各樹脂
〔Ｂ〕に代えた他は、実施例１と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。実施例２と同様にして静電特
性を測定した。結果を表−Ｈに示す。
に均一な分散状態になっていた。又環境条件を変えて静
電特性を調べた所、条件が変動しても安定で且つ良好な
値を示した。実際の撮像性においても、原稿に対して忠
実な複写画像を再現し、且つ地カブリも認められなかっ
た。また、オフセットマスター用原版として、不感脂化
処理して、印刷した所良好な印刷物が８千枚得られた。 実施例３〜２２ 実施例２において、樹脂〔Ａ−１２〕及び樹脂〔Ｂ−
２〕に代えて、下記表−Ｈの各樹脂〔Ａ〕及び各樹脂
〔Ｂ〕に代えた他は、実施例１と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。実施例２と同様にして静電特
性を測定した。結果を表−Ｈに示す。
【０１９８】
【表１６】
【０１９９】これらの感光材料の実際の撮像性を調べた
所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生もな
い、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得られ
た。又、オフセットマスター原版として用いて、実施例
２と同様にして印刷した所、いずれも少なくとも、８千
枚以上印刷することができた。以上から、本発明の各感
光材料は光電導層の平滑性、静電特性及び印刷性の全て
の点において良好なものであった。 実施例２３〜２６ 実施例１において用いた、メチン色素〔Ｉ〕の代わりに
下記表−Ｉの色素に代えた他は、実施例１と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生もな
い、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得られ
た。又、オフセットマスター原版として用いて、実施例
２と同様にして印刷した所、いずれも少なくとも、８千
枚以上印刷することができた。以上から、本発明の各感
光材料は光電導層の平滑性、静電特性及び印刷性の全て
の点において良好なものであった。 実施例２３〜２６ 実施例１において用いた、メチン色素〔Ｉ〕の代わりに
下記表−Ｉの色素に代えた他は、実施例１と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
【０２００】
【表１７】
【０２０１】
【表１８】
【０２０２】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿
（３０℃、８０％ＲＨ）及び低温・低湿（１５℃、３０
％ＲＨ）の過酷な条件においても、地カブリの発生のな
い鮮明な画像を与えた。 実施例２７及び２８並びに比較例３ 樹脂〔Ａ−１７〕６ｇと樹脂〔Ｂ−８〕３４ｇ（実施例
２７）あるいは樹脂〔Ａ−３０〕６ｇと樹脂〔Ｂ−１
３〕３４ｇ（実施例２８）と、酸化亜鉛２００ｇ、ウラ
ニン０．０２ｇ、下記構造のメチン色素〔VII 〕０．０
３ｇ、下記構造のメチン色素〔VIII〕０．０３ｇ、ｐ−
ヒドロキシ安息香酸０．１８ｇ及びトルエン３００ｇの
混合物をホモジナイザー中で回転数７×１０3 ｒ．ｐ．
ｍ．で１０分間分散して感光層形成物を調整し、これを
導電処理した紙に、乾燥付着量が１８ｇ／ｍ2 となる様
にワイヤーバーで塗布し、１１０℃で２０秒間乾燥し
た。次いで暗所で２０℃、６５％ＲＨの条件下で２４時
間放置することにより各電子写真感光体を作製した。
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿
（３０℃、８０％ＲＨ）及び低温・低湿（１５℃、３０
％ＲＨ）の過酷な条件においても、地カブリの発生のな
い鮮明な画像を与えた。 実施例２７及び２８並びに比較例３ 樹脂〔Ａ−１７〕６ｇと樹脂〔Ｂ−８〕３４ｇ（実施例
２７）あるいは樹脂〔Ａ−３０〕６ｇと樹脂〔Ｂ−１
３〕３４ｇ（実施例２８）と、酸化亜鉛２００ｇ、ウラ
ニン０．０２ｇ、下記構造のメチン色素〔VII 〕０．０
３ｇ、下記構造のメチン色素〔VIII〕０．０３ｇ、ｐ−
ヒドロキシ安息香酸０．１８ｇ及びトルエン３００ｇの
混合物をホモジナイザー中で回転数７×１０3 ｒ．ｐ．
ｍ．で１０分間分散して感光層形成物を調整し、これを
導電処理した紙に、乾燥付着量が１８ｇ／ｍ2 となる様
にワイヤーバーで塗布し、１１０℃で２０秒間乾燥し
た。次いで暗所で２０℃、６５％ＲＨの条件下で２４時
間放置することにより各電子写真感光体を作製した。
【０２０３】
【化５１】
【０２０４】
【化５２】
【０２０５】比較例３ 実施例２８において、樹脂〔Ａ−３０〕の代わりに、前
記樹脂〔Ｒ−１〕６ｇを用いた他は、実施例２８と同様
にして、感光材料を作製した。実施例１と同様に、各感
光材料の各特性を調べた。その結果を下記表−Ｊにまと
めた。
記樹脂〔Ｒ−１〕６ｇを用いた他は、実施例２８と同様
にして、感光材料を作製した。実施例１と同様に、各感
光材料の各特性を調べた。その結果を下記表−Ｊにまと
めた。
【０２０６】
【表１９】
【０２０７】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例１と同様の
操作で行なった。 注６）静電特性のＥ1/10及びＥ1/100 の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−４００Ｖに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度２．０ルックスの可視光で
照射し、表面電位（Ｖ10）が１／１０又はＥ1/100 に減
衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ1/10又はＥ
1/100 （ルックス・秒）を算出する。 注７）撮像性 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、全自
動製版機ＥＰＬ−４０４Ｖ（富士写真フイルム（株）
製）でＥＰＬ−Ｔをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。撮
像時の環境条件は、２０℃、６５％ＲＨ（Ｉ）３０℃、
８０％ＲＨ（II）及び１５℃、３０％ＲＨ（III)で実施
した。但し、複写用の原稿（即ち、版下原稿）には、ほ
かの原稿を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したも
のを用いた。
については下記の操作に従った他は、実施例１と同様の
操作で行なった。 注６）静電特性のＥ1/10及びＥ1/100 の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−４００Ｖに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度２．０ルックスの可視光で
照射し、表面電位（Ｖ10）が１／１０又はＥ1/100 に減
衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ1/10又はＥ
1/100 （ルックス・秒）を算出する。 注７）撮像性 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、全自
動製版機ＥＰＬ−４０４Ｖ（富士写真フイルム（株）
製）でＥＰＬ−Ｔをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。撮
像時の環境条件は、２０℃、６５％ＲＨ（Ｉ）３０℃、
８０％ＲＨ（II）及び１５℃、３０％ＲＨ（III)で実施
した。但し、複写用の原稿（即ち、版下原稿）には、ほ
かの原稿を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したも
のを用いた。
【０２０８】各感光材料は、光導電層の平滑性、静電特
性においては、ともに良好な性能を示した。実際の撮像
性を調べて見ると、比較例３は、過酷条件下で複写画像
として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠（即
ち、貼り込み跡）が非画像部の地汚れとしてあるいはベ
タ画像部に白ヌケのムラの発生が認められた。しかし、
本発明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮明な画像
のものが得られた。
性においては、ともに良好な性能を示した。実際の撮像
性を調べて見ると、比較例３は、過酷条件下で複写画像
として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠（即
ち、貼り込み跡）が非画像部の地汚れとしてあるいはベ
タ画像部に白ヌケのムラの発生が認められた。しかし、
本発明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮明な画像
のものが得られた。
【０２０９】更に、これらをオフセット印刷用原版とし
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が８千枚以上得られ
た。しかし、比較例３は、過酷条件下で製版した原版で
は上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去されず、
刷り出しの印刷物から発生してしまうか、あるいは製版
画像のムラが印刷物に発生した。
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が８千枚以上得られ
た。しかし、比較例３は、過酷条件下で製版した原版で
は上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去されず、
刷り出しの印刷物から発生してしまうか、あるいは製版
画像のムラが印刷物に発生した。
【０２１０】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。 実施例２９ 樹脂〔Ａ−２９〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ−２１〕３５ｇ、酸
化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、ローズベンガル
０．０４ｇ、ブロムフェノールブルー０．０３ｇ、無水
フタル酸０．４０ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を、
ホモジナイザー中回転数８×１０3 ｒ．ｐ．ｍ．で５分
間分散し、更にジアセチルアセトンジルコニウム塩０．
００６ｇを加え、回転数１×１０3 ｒ．ｐ．ｍ．で１分
間分散した。この分散物をワイヤーバーで導電処理した
紙に、乾燥付着量が２６ｇ／ｍ2 となる様にワイヤーバ
ーで塗布し、１１０℃で１０秒間乾燥し、更に１４０℃
で２０分間加熱した。次いで、暗所で２０℃６５％ＲＨ
の条件下で２４時間放置することにより、電子写真感光
材料を作製した。
が、良好な特性を与えることができた。 実施例２９ 樹脂〔Ａ−２９〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ−２１〕３５ｇ、酸
化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、ローズベンガル
０．０４ｇ、ブロムフェノールブルー０．０３ｇ、無水
フタル酸０．４０ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を、
ホモジナイザー中回転数８×１０3 ｒ．ｐ．ｍ．で５分
間分散し、更にジアセチルアセトンジルコニウム塩０．
００６ｇを加え、回転数１×１０3 ｒ．ｐ．ｍ．で１分
間分散した。この分散物をワイヤーバーで導電処理した
紙に、乾燥付着量が２６ｇ／ｍ2 となる様にワイヤーバ
ーで塗布し、１１０℃で１０秒間乾燥し、更に１４０℃
で２０分間加熱した。次いで、暗所で２０℃６５％ＲＨ
の条件下で２４時間放置することにより、電子写真感光
材料を作製した。
【０２１１】本発明の感光材料を、実施例２８と同様に
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿（３
０℃、８０％ＲＨ）あるいは低温・低湿（１５℃、３０
％ＲＨ）の過酷な条件においても、地カブリ、画像部の
ムラの発生のない、鮮明な画像を与えた。更に、これを
オフセットマスターの原版として用いて印刷した所、１
万枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得た。 実施例３０〜３９ 実施例２９において、樹脂〔Ａ−２９〕５ｇの代わり
に、下記表−Ｋの樹脂〔Ａ〕５ｇを用いた他は、実施例
２９と同様にして各感光材料を作製した。
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿（３
０℃、８０％ＲＨ）あるいは低温・低湿（１５℃、３０
％ＲＨ）の過酷な条件においても、地カブリ、画像部の
ムラの発生のない、鮮明な画像を与えた。更に、これを
オフセットマスターの原版として用いて印刷した所、１
万枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得た。 実施例３０〜３９ 実施例２９において、樹脂〔Ａ−２９〕５ｇの代わり
に、下記表−Ｋの樹脂〔Ａ〕５ｇを用いた他は、実施例
２９と同様にして各感光材料を作製した。
【０２１２】
【表２０】 これらの感光材料の実際の撮像性を調べた所、細線・文
字の再現性良好で中間調のムラの発生もない、地カブリ
の全くない鮮明な複写画像のものが得られた。又、オフ
セットマスター原版として用いて、実施例２９と同様に
して印刷した所、いずれも少なくとも８千枚以上印刷す
ることができた。
字の再現性良好で中間調のムラの発生もない、地カブリ
の全くない鮮明な複写画像のものが得られた。又、オフ
セットマスター原版として用いて、実施例２９と同様に
して印刷した所、いずれも少なくとも８千枚以上印刷す
ることができた。
【０２１３】以上から、本発明の各感光材料は光電導層
の平滑性、静電特性及び印刷性の全ての点において良好
なものであった。 実施例４０〜４５ 実施例２９において、樹脂〔Ｂ〕３５ｇ及びジアセチル
アセトンジルコニウム塩０．００３ｇの代わりに下記表
ーＬの各化合物を用いたほかは、実施例２９と同様に操
作して電子写真感光材料を作製した。
の平滑性、静電特性及び印刷性の全ての点において良好
なものであった。 実施例４０〜４５ 実施例２９において、樹脂〔Ｂ〕３５ｇ及びジアセチル
アセトンジルコニウム塩０．００３ｇの代わりに下記表
ーＬの各化合物を用いたほかは、実施例２９と同様に操
作して電子写真感光材料を作製した。
【０２１４】
【表２１】
【０２１５】これらの感光材料について、撮像性、印刷
性及び環境条件を（２０℃、６５％ＲＨ）、（３０℃、
８０％ＲＨ）及び（１５℃、３０％ＲＨ）とした時の撮
像性及び印刷性を実施例２８と同様にして調べた。本発
明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、光感度
に優れ、実際の複写画像も高温・高湿（３０℃、８０％
ＲＨ）、低温・低湿（１５℃、３０％ＲＨ）の過酷な条
件においても地カブリ又は画像部のムラの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
性及び環境条件を（２０℃、６５％ＲＨ）、（３０℃、
８０％ＲＨ）及び（１５℃、３０％ＲＨ）とした時の撮
像性及び印刷性を実施例２８と同様にして調べた。本発
明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、光感度
に優れ、実際の複写画像も高温・高湿（３０℃、８０％
ＲＨ）、低温・低湿（１５℃、３０％ＲＨ）の過酷な条
件においても地カブリ又は画像部のムラの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
【０２１６】更にオフセットマスター原版として印刷し
た所、１万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質
の印刷物が得られた。
た所、１万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質
の印刷物が得られた。
【０２１７】
【発明の効果】本発明によれば、静電特性（とくに厳し
い条件下での静電特性）に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。
い条件下での静電特性）に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。
【０２１８】式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で示される特定の
メタクリレート成分を含有する繰り返し単位を本発明の
樹脂に用いることにより、更に静電特性が向上する。
メタクリレート成分を含有する繰り返し単位を本発明の
樹脂に用いることにより、更に静電特性が向上する。
Claims (3)
- 【請求項１】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔Ａ〕の少なく
とも１種及び下記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有し
て成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔Ａ〕 １×１０3 〜２×１０4 の重量平均分子量を有し、下記
一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位からなる重合体成
分（イ）と−ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ1 〔Ｒ1 は炭化水素基又は−
ＯＲ2 （Ｒ2 は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
基を含有する重合体成分（ロ）とを少なくとも含有する
ことから成る高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個結
合して成り、該重合体成分（イ）が３０重量％以上及び
該重合体成分（ロ）が１〜２０重量％であるスター型共
重合体。 【化１】 〔式（Ｉ）中、ａ1 及びａ2 は各々水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。Ｒ11は炭化水
素基を表わす。〕 樹脂〔Ｂ〕 −ＰＯ3 Ｈ2 基、−ＳＯ3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−ＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ3 〔Ｒ3 は炭化水素基又は−
ＯＲ4 （Ｒ4 は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
基を含有する重合体成分を少なくとも１種含有するＡブ
ロックと、下記一般式（II）で示される重合体成分を少
なくとも含有するＢブロックとから構成されるＡＢブロ
ック共重合体のＢブロックの重合体主鎖の末端に重合性
二重結合基を結合して成る重量平均分子量１×１０3 〜
２×１０4 の一官能性マクロモノマー（Ｍ）を少なくと
も１種共重合成分として含有して成る重量平均分子量３
×１０4 〜１×１０6 のグラフト型共重合体。 【化２】 〔式（II）中、ｂ1 及びｂ2 は各々水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。Ｖ1 は−ＣＯ
Ｏ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ2 ）m ＯＣＯ−、−（ＣＨ
2 ）m ＣＯＯ−（ｍは１〜３の整数を表す）、−Ｏ−、
−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｔ1 ）−、−ＳＯ2
Ｎ（Ｔ1 ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣＯＮ
Ｈ−又は−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす（ここで、Ｔ1 は水素原
子又は炭化水素基を表す）。Ｒ12は炭化水素基を表わ
す。但しＶ1 が−Ｃ6 Ｈ4 −を表わす場合、Ｒ12は水素
原子又は炭化水素基を表わす。〕 - 【請求項２】 上記樹脂〔Ａ〕が、一般式（Ｉ）で示さ
れる共重合体成分として下記一般式（Ｉａ）及び下記一
般式（Ｉｂ）で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも１つを含有することを特徴と
する請求項１記載の電子写真感光体。 【化３】 【化４】 〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ1 及びＡ2 は互いに独
立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、塩素
原子、−ＣＯＲ14又は−ＣＯＯＲ14（Ｒ14は炭素数１〜
１０の炭化水素基を表す）を表し、Ｂ1 及びＢ2 は各々
−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子
数１〜４個の連結基を表す。〕 - 【請求項３】 樹脂〔Ｂ〕が更に熱及び／又は光硬化性
官能基を含有することを特徴とする請求項１〜３のいず
れかに記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33948891A JPH05150466A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33948891A JPH05150466A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05150466A true JPH05150466A (ja) | 1993-06-18 |
Family
ID=18327943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33948891A Pending JPH05150466A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05150466A (ja) |
-
1991
- 1991-11-29 JP JP33948891A patent/JPH05150466A/ja active Pending
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